JPS6019455B2 - 有機レベリング剤の有効量を決定する方法 - Google Patents
有機レベリング剤の有効量を決定する方法Info
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- JPS6019455B2 JPS6019455B2 JP52156305A JP15630577A JPS6019455B2 JP S6019455 B2 JPS6019455 B2 JP S6019455B2 JP 52156305 A JP52156305 A JP 52156305A JP 15630577 A JP15630577 A JP 15630577A JP S6019455 B2 JPS6019455 B2 JP S6019455B2
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/416—Systems
- G01N27/42—Measuring deposition or liberation of materials from an electrolyte; Coulometry, i.e. measuring coulomb-equivalent of material in an electrolyte
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
A 発明の分野
この発明はめつきの分野に関するものでありかつ、特に
、露気めつき格の品質管理の分野に関するものである。
、露気めつき格の品質管理の分野に関するものである。
B 先行技術の説明電気めつきは、めつき俗に多数の成
分を含む複雑な工程である。
分を含む複雑な工程である。
これらの成分のいくつかの濃度は、高品質析出物を得る
ために、密な公差内に保たれなければならない。ある場
合には、個々の成分の化学分析は規則正しくなされるこ
とができ(たとえば酸含量に対するpH測定)、かつ付
加が要求される。しかしながら、レベリング(leve
ling)剤(光沢剤)および不純物は、商業的なめつ
き工場では、経済的または適時に、個別的に分析される
ことができない。
ために、密な公差内に保たれなければならない。ある場
合には、個々の成分の化学分析は規則正しくなされるこ
とができ(たとえば酸含量に対するpH測定)、かつ付
加が要求される。しかしながら、レベリング(leve
ling)剤(光沢剤)および不純物は、商業的なめつ
き工場では、経済的または適時に、個別的に分析される
ことができない。
それらの濃度は低くかつそれらの定量分析は複雑であり
かつ誤りを受けやすい。電気めつき俗の成分を制御する
先行技術の方法は、経験によって確立される経験法に基
づいて特定の成分の規則的な付加を行なうのが簡単であ
る。
かつ誤りを受けやすい。電気めつき俗の成分を制御する
先行技術の方法は、経験によって確立される経験法に基
づいて特定の成分の規則的な付加を行なうのが簡単であ
る。
しかしながら、特定の成分の消耗は時間とともにまたは
浴の使用とともに一定ではない。したがって、浴内の成
分の濃度は偶然に公差を減らしまたは公差から確立する
。めつき裕管理のさらに他の先行技術方法は、品物また
はサンプルをめつきしかつ格が満足して遂行しているか
どうかを決定するようにめつき品質を可視的に評価する
ことである。
浴の使用とともに一定ではない。したがって、浴内の成
分の濃度は偶然に公差を減らしまたは公差から確立する
。めつき裕管理のさらに他の先行技術方法は、品物また
はサンプルをめつきしかつ格が満足して遂行しているか
どうかを決定するようにめつき品質を可視的に評価する
ことである。
標準的なH肌セルおよびrボーンパターン」テストにお
いて、特別に形作られたテスト試料がめつさされ、かつ
、それから、その形状に沿って析出物の品質を決定する
ように評価される。これらは、裕内の成分の濃度のおお
ざつばな近似のみを与える時間狼費するテストである。
多層プリント回路板の製造におけるスルーホール相互接
続の露気めつきは、高品質めつきが要求される一例であ
る。
いて、特別に形作られたテスト試料がめつさされ、かつ
、それから、その形状に沿って析出物の品質を決定する
ように評価される。これらは、裕内の成分の濃度のおお
ざつばな近似のみを与える時間狼費するテストである。
多層プリント回路板の製造におけるスルーホール相互接
続の露気めつきは、高品質めつきが要求される一例であ
る。
レベリング剤、または光沢剤の濃度は、プリント回路板
上の受容可能な析出物を得るために、低い肌範囲内に維
持されなければならない。光沢剤の濃度は、アノードの
酸化、カソードの還元および混在物、および化学的劣化
のため変動する。光沢剤レベルが十分でないとき、析出
物は燃焼されかつ粉末状になり、これに対して、過剰な
光沢剤はもろさおよび不均一析出物(「魚眼」)を譲起
する。Hullセルテスト、「ボーンパターン」テスト
、および引張りテストは、新鮮な光沢剤の周期的な付加
とともに組合わされ、この発明がなされるまでは、制御
された光沢剤濃度を維持するために利用できる唯−の方
法であった。これらの方法は信頼性がないので、回路板
品質は損害を受けかつ拒絶速さは高い。発明の概要 この発明の主たる目的は、竜気めつき俗におけるしべリ
ング剤の有効量を決定するための方法を提供することで
ある。
上の受容可能な析出物を得るために、低い肌範囲内に維
持されなければならない。光沢剤の濃度は、アノードの
酸化、カソードの還元および混在物、および化学的劣化
のため変動する。光沢剤レベルが十分でないとき、析出
物は燃焼されかつ粉末状になり、これに対して、過剰な
光沢剤はもろさおよび不均一析出物(「魚眼」)を譲起
する。Hullセルテスト、「ボーンパターン」テスト
、および引張りテストは、新鮮な光沢剤の周期的な付加
とともに組合わされ、この発明がなされるまでは、制御
された光沢剤濃度を維持するために利用できる唯−の方
法であった。これらの方法は信頼性がないので、回路板
品質は損害を受けかつ拒絶速さは高い。発明の概要 この発明の主たる目的は、竜気めつき俗におけるしべリ
ング剤の有効量を決定するための方法を提供することで
ある。
この発明によれば、作用電極は、既知のめつき品質の少
なくとも2個の俗およびその品質が評価されるべきであ
る1つの浴ごとに、金属めつき範囲および金属ストリッ
ピング範囲を含むボルタンメトリックサィクルによって
掃引される。
なくとも2個の俗およびその品質が評価されるべきであ
る1つの浴ごとに、金属めつき範囲および金属ストリッ
ピング範囲を含むボルタンメトリックサィクルによって
掃引される。
金属ストリッピング範囲の間に用いられる集積されたま
たはピークの電流は、既知の品質の格の品質と相関され
る。未知の品質の格における金属をストリップするため
用いられる集積されたまたはピークの電流は、相関およ
びその評価された品質と比較される。好ましい実施例で
は、不活性作用電極はボルタンメトリックサィクルを通
じて関数発生器によって掃引される。めつき格に浸潰さ
れる反対側電極は関数発生器および露量計に直列に結合
されてサイクルのストリッピング部分の間にその電荷を
測定する。この発明の他の目的ならびに特徴は、添付図
面を参照して行なう以下の詳細な説明からより一層明ら
かとなろう。
たはピークの電流は、既知の品質の格の品質と相関され
る。未知の品質の格における金属をストリップするため
用いられる集積されたまたはピークの電流は、相関およ
びその評価された品質と比較される。好ましい実施例で
は、不活性作用電極はボルタンメトリックサィクルを通
じて関数発生器によって掃引される。めつき格に浸潰さ
れる反対側電極は関数発生器および露量計に直列に結合
されてサイクルのストリッピング部分の間にその電荷を
測定する。この発明の他の目的ならびに特徴は、添付図
面を参照して行なう以下の詳細な説明からより一層明ら
かとなろう。
好ましい実施例の説明
これらの機能を行なう際に、露気めつき浴への多数の添
加剤は、与えられた電極電位で金属の露着析出物の早さ
に多少影響を与える。
加剤は、与えられた電極電位で金属の露着析出物の早さ
に多少影響を与える。
この発明は、溶液における特定の添加剤の濃度を決定す
るようにこの効果を利用する。少量の金属は、電極電位
および溶液内の物質輸送の制御された条件のもとで不活
性電極(たとえば、Pt,Auなど)上に電着される。
析出された金属の量は、電極電位が既知の速さでアノー
ドに掃引されるとき表面から、析出された金属の再溶解
または「ストリッピング」から生じる電流ピークを集め
ることによって決定される。析出され、かつ続いて再溶
解される金属の量は、析出の速さもこ影響を与える添加
剤の濃度に関連する。金属を析出するのに必要とされる
カソード電流はまた析出速さを表わすが、しかしそれは
、ボルタンメトリツクサイクルのカソード部分の間に生
じる他の還元反応(たとえば裕内の水素または有機化合
物の還元)のため本来的にあまり正確ではない。この発
明は、裕内のしべリング剤および光沢剤の濃度を決定す
るために特に価値あるということを証明した、なぜなら
ばこれらの添加剤はピーク時に析出を禁止することによ
ってその析出物のしべリングを誘起し、その濃度は高い
ままであり、かつくぼみ内の析出を向上させ、その濃度
はそれが析出物に含まれるにしたがって減少される。
るようにこの効果を利用する。少量の金属は、電極電位
および溶液内の物質輸送の制御された条件のもとで不活
性電極(たとえば、Pt,Auなど)上に電着される。
析出された金属の量は、電極電位が既知の速さでアノー
ドに掃引されるとき表面から、析出された金属の再溶解
または「ストリッピング」から生じる電流ピークを集め
ることによって決定される。析出され、かつ続いて再溶
解される金属の量は、析出の速さもこ影響を与える添加
剤の濃度に関連する。金属を析出するのに必要とされる
カソード電流はまた析出速さを表わすが、しかしそれは
、ボルタンメトリツクサイクルのカソード部分の間に生
じる他の還元反応(たとえば裕内の水素または有機化合
物の還元)のため本来的にあまり正確ではない。この発
明は、裕内のしべリング剤および光沢剤の濃度を決定す
るために特に価値あるということを証明した、なぜなら
ばこれらの添加剤はピーク時に析出を禁止することによ
ってその析出物のしべリングを誘起し、その濃度は高い
ままであり、かつくぼみ内の析出を向上させ、その濃度
はそれが析出物に含まれるにしたがって減少される。
もちろん、この発明は任意の変量または成分の効果を決
定するのにも応用することができ、その強度または濃度
は格の析出速さを減少させまたは増加させる。この発明
の方法は従来のボルタンメトリック分析とは異なり、従
来のボルタンメトリック分析では、決定されるべき物質
は、それ自体、吸収されかつそれから電極表面から剥離
される。
定するのにも応用することができ、その強度または濃度
は格の析出速さを減少させまたは増加させる。この発明
の方法は従来のボルタンメトリック分析とは異なり、従
来のボルタンメトリック分析では、決定されるべき物質
は、それ自体、吸収されかつそれから電極表面から剥離
される。
これによって、電解質が、分析されている物質とともに
、吸収される他の成分から遊離していることが必要とさ
れる。これは、めつき格における低濃度の添加剤の量を
決定するためには通した方法ではない、なぜならば添加
剤の量は多量の析出されている金属から分離されること
ができないからである。第1図は、この発明の方法を実
施するための装置を示す概略的結線図である。
、吸収される他の成分から遊離していることが必要とさ
れる。これは、めつき格における低濃度の添加剤の量を
決定するためには通した方法ではない、なぜならば添加
剤の量は多量の析出されている金属から分離されること
ができないからである。第1図は、この発明の方法を実
施するための装置を示す概略的結線図である。
作用電極1および反対側電極3はセル5内の格に浸渡さ
れる。反対側電極は、評価されている特定の裕内で容易
に分極されないように選択されかつ設計されている。こ
れは、作用電極に関して反対側電極を大きく作ることに
よってかつそれを作用電極に近づけて置くことによって
、一部分、達成される。関数発生器7は、特別な速さで
電圧対時間サイクルを通じて作用電極1を掃引し、他方
、露量計9は、ボルタンメトリックサイクルの金属スト
リツピング部分の間に、反対側電極3および作用電極1
間に流れるクーロン(アンペア‐秒)を測定する。
れる。反対側電極は、評価されている特定の裕内で容易
に分極されないように選択されかつ設計されている。こ
れは、作用電極に関して反対側電極を大きく作ることに
よってかつそれを作用電極に近づけて置くことによって
、一部分、達成される。関数発生器7は、特別な速さで
電圧対時間サイクルを通じて作用電極1を掃引し、他方
、露量計9は、ボルタンメトリックサイクルの金属スト
リツピング部分の間に、反対側電極3および作用電極1
間に流れるクーロン(アンペア‐秒)を測定する。
亀量計は電流計であってもよく、その電流計の出力は、
サイクルのストリッピング部分の間に用いられるクーロ
ンを決定するためx−yレコーダへ与えられることがで
き、またはその出力は用いられるクーロンの直接相関お
よび比較のためマイクロプロセサまたはミニコンピュー
8へ直接行くことができる。第2図はこの発明を実施す
るためのより丁寧な装置のための概略的結線図を示す。
3個の電極、すなわち、作用電極13、反対側電極15
、および基準電極17がセル19の裕内に浸潰される。
サイクルのストリッピング部分の間に用いられるクーロ
ンを決定するためx−yレコーダへ与えられることがで
き、またはその出力は用いられるクーロンの直接相関お
よび比較のためマイクロプロセサまたはミニコンピュー
8へ直接行くことができる。第2図はこの発明を実施す
るためのより丁寧な装置のための概略的結線図を示す。
3個の電極、すなわち、作用電極13、反対側電極15
、および基準電極17がセル19の裕内に浸潰される。
作用電極13および格闘の相対運動を確立するために、
モー夕21は作用電極13を回転させるため用いられ、
その作用電極13への接続はスリップブラシによってな
される。山実施例では、作用電極13は白金でありかつ
反対側電極15は白金−10%ロジウムであるが、しか
しながら、特定の浴内において不活性である任意の導露
材料、たとえば金が用いられることができる。
モー夕21は作用電極13を回転させるため用いられ、
その作用電極13への接続はスリップブラシによってな
される。山実施例では、作用電極13は白金でありかつ
反対側電極15は白金−10%ロジウムであるが、しか
しながら、特定の浴内において不活性である任意の導露
材料、たとえば金が用いられることができる。
回転自在な作用電極13は偏平な0.13地の面積を有
する研磨された表面を有し、1.27伽の直径のKel
−Fシリンダの端部同一平面に設けられる。基準電極1
7は、都合よくは、飽和されたカロメル基準電極(SC
E)である。関数発生器23および電子ポテンショスタ
ット25が基準電極17に対する電位を制御するために
用いられる。
する研磨された表面を有し、1.27伽の直径のKel
−Fシリンダの端部同一平面に設けられる。基準電極1
7は、都合よくは、飽和されたカロメル基準電極(SC
E)である。関数発生器23および電子ポテンショスタ
ット25が基準電極17に対する電位を制御するために
用いられる。
ディジタル電量計27は、ボルタンメトリックサィクル
のストリッピング部分の間に流れるクーロンを測定する
。その方法の実験室テストのために関数発生器2 3は
PrincetonAppliedResearch
Corporation(PAR)モデル175ユニバ
ーサルプログラマであり、ポテンシヨスタツト25はP
ARモデル173ポテンシヨスタツト/ガルバノスタッ
トであり、かつ電量計27はサイクリツクなボルタモグ
ラム(アンペア対ボルト)を得るためのPAR179デ
ィジタル電量計またはx−yレコーダであった。マイク
ロプロセサまたはミニコンピユータ29は、測定された
クーロンと、前に確立された相関とを比較するようにデ
ィジタル電量計に結合されることができる。
のストリッピング部分の間に流れるクーロンを測定する
。その方法の実験室テストのために関数発生器2 3は
PrincetonAppliedResearch
Corporation(PAR)モデル175ユニバ
ーサルプログラマであり、ポテンシヨスタツト25はP
ARモデル173ポテンシヨスタツト/ガルバノスタッ
トであり、かつ電量計27はサイクリツクなボルタモグ
ラム(アンペア対ボルト)を得るためのPAR179デ
ィジタル電量計またはx−yレコーダであった。マイク
ロプロセサまたはミニコンピユータ29は、測定された
クーロンと、前に確立された相関とを比較するようにデ
ィジタル電量計に結合されることができる。
マイクロプロセサまたはミニコンピュータ8,29(第
1図および第2図に示される)は、回路に結合されるこ
とができるのでそれらは関数発生器7,23からのまた
は作用電極1,13からの適当な信号によってまたは手
動的にトリガされる。第3図は第2図の装置におけるx
−yレコーダを用いて得られた2個のサイクリックなボ
ルタモグラフを示す。
1図および第2図に示される)は、回路に結合されるこ
とができるのでそれらは関数発生器7,23からのまた
は作用電極1,13からの適当な信号によってまたは手
動的にトリガされる。第3図は第2図の装置におけるx
−yレコーダを用いて得られた2個のサイクリックなボ
ルタモグラフを示す。
作用電極13の電位0.050ボルト/秒の線形速さで
関数発生器23によって駆動されるので、ボルタモグラ
フの横軸がボルトまたは秒のいずれかとして読まれるこ
とができ、1つの大きさの単位31は0.2ボルトまた
は4秒のいずれかに等しい。したがって、曲線37,3
9の下の面積33,35はアンペア一秒、またはクーロ
ンに等しい、曲線37は、以下に議論されるように、格
の1つの条件に対して得られ、かつ曲線39は浴のもう
1つの条件に対して得られる。矢印は、電圧が掃引して
いる方向を示す。第3図に示されるピークの位置は異な
る組成物の格のためずらされるけれども、ポルタモグラ
フの一般的な形は、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、
金、銀、鉛、およびカドミウムのような普通の金属の任
意のものをめつきするための浴に対するものと同じであ
る。・第3図の特定のボルタモグラフは次の組成物を有
するピロリン酸銅を用いて得られた。
関数発生器23によって駆動されるので、ボルタモグラ
フの横軸がボルトまたは秒のいずれかとして読まれるこ
とができ、1つの大きさの単位31は0.2ボルトまた
は4秒のいずれかに等しい。したがって、曲線37,3
9の下の面積33,35はアンペア一秒、またはクーロ
ンに等しい、曲線37は、以下に議論されるように、格
の1つの条件に対して得られ、かつ曲線39は浴のもう
1つの条件に対して得られる。矢印は、電圧が掃引して
いる方向を示す。第3図に示されるピークの位置は異な
る組成物の格のためずらされるけれども、ポルタモグラ
フの一般的な形は、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、
金、銀、鉛、およびカドミウムのような普通の金属の任
意のものをめつきするための浴に対するものと同じであ
る。・第3図の特定のボルタモグラフは次の組成物を有
するピロリン酸銅を用いて得られた。
銅、Cu+2 22−滋夕/そピロ
リン酸塩、(P2Q)−4 150一250夕/そ
オルソピロリン酸塩(HP04)‐2 <110タノク
ァンモニァ、Nは 1−3夕/そ硝酸塩、
NQ‐ 5−10夕/そ有機物添加
剤 所要どおりPH
8.0−8.8温度
50−60℃用いられる有
機添加剤はM&TChemicaICc「porati
onから得られる専売しべリング剤または光沢剤PY6
1−日であり、その活性成分はジメルカプトチアジアゾ
−ルである。
リン酸塩、(P2Q)−4 150一250夕/そ
オルソピロリン酸塩(HP04)‐2 <110タノク
ァンモニァ、Nは 1−3夕/そ硝酸塩、
NQ‐ 5−10夕/そ有機物添加
剤 所要どおりPH
8.0−8.8温度
50−60℃用いられる有
機添加剤はM&TChemicaICc「porati
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1−日であり、その活性成分はジメルカプトチアジアゾ
−ルである。
曲線37に対して用いられる裕内では、有機添加剤の濃
度は1.0の‘/そであって、それに対して曲線39に
対する浴内では濃度は2.0松と/そであった。
度は1.0の‘/そであって、それに対して曲線39に
対する浴内では濃度は2.0松と/そであった。
線41の下のボルタモグラフの部分は、金属めつき(カ
ソード)部分でありかつ線43の下の部分はボルタンメ
トリックサィクルの金属ストリツピング(アノード)部
分である。線43の右の部分は、すべての金属が不活性
電極から剥離されたあと、サイクルの酸化部分の継続で
ある。電極の酸化および裕内の有機化合物の酸化によっ
て生じるこの部分にはわずかな電流の流れがある。銅ス
トリツピングは−0.050ボルトによって完了される
けれども、掃引は1.0ボルトまで延びる。なぜならば
この延ばされた掃引はより再現自在な結果を与えかつ約
5掃引サイクル後に、定常状態の条件を達成する。0.
05ボルト/秒よりも早い掃引速さで、ストリッピング
ピークがより幅広くかつより少ない再現可能性を有し、
これに対して、よりゆるやかな掃引は不必要に時間を浪
費する。
ソード)部分でありかつ線43の下の部分はボルタンメ
トリックサィクルの金属ストリツピング(アノード)部
分である。線43の右の部分は、すべての金属が不活性
電極から剥離されたあと、サイクルの酸化部分の継続で
ある。電極の酸化および裕内の有機化合物の酸化によっ
て生じるこの部分にはわずかな電流の流れがある。銅ス
トリツピングは−0.050ボルトによって完了される
けれども、掃引は1.0ボルトまで延びる。なぜならば
この延ばされた掃引はより再現自在な結果を与えかつ約
5掃引サイクル後に、定常状態の条件を達成する。0.
05ボルト/秒よりも早い掃引速さで、ストリッピング
ピークがより幅広くかつより少ない再現可能性を有し、
これに対して、よりゆるやかな掃引は不必要に時間を浪
費する。
−0.7ボルト以上のカソード限界への掃引によって、
より幅広いストリツピングピークが生じる。最高の感度
を達成するために、電極面でめつき成分の均一な供給を
維持するように作用電極および浴間に十分な相対運動が
なければならない。
より幅広いストリツピングピークが生じる。最高の感度
を達成するために、電極面でめつき成分の均一な供給を
維持するように作用電極および浴間に十分な相対運動が
なければならない。
そのような運動なしでは、格は表面で消耗されることに
なりかつ得られた析出遠さ‘ま総総液のための修正速さ
を反映しない。第2図に示される実施例においては、作
用電極13はモータ21によって回転されてそれとめつ
き格との間の制御された相対運動を得る。相対運動を得
る他の手段、たとえば電極の横切って格を移動させるた
めのポンプが用いられることができる。この発明の方法
によれば、ボルタンメトリックサイクル(第3図)は、
サイクルのストリツピング範囲43の間に電流またはク
ーロンを得るように、既知の品質のまたは既知の添加剤
の濃度の格のための溶液において電極電位および物質輸
送の制御された条件のもとでまず駆動される。
なりかつ得られた析出遠さ‘ま総総液のための修正速さ
を反映しない。第2図に示される実施例においては、作
用電極13はモータ21によって回転されてそれとめつ
き格との間の制御された相対運動を得る。相対運動を得
る他の手段、たとえば電極の横切って格を移動させるた
めのポンプが用いられることができる。この発明の方法
によれば、ボルタンメトリックサイクル(第3図)は、
サイクルのストリツピング範囲43の間に電流またはク
ーロンを得るように、既知の品質のまたは既知の添加剤
の濃度の格のための溶液において電極電位および物質輸
送の制御された条件のもとでまず駆動される。
それから、濃度の品質は、ピークストリッピング電流と
、またはストリツピングクーロンと相関されて、ピーク
ストリツピング電流またはストリツピングクーロンの関
数として濃度を得る。ある場合には、ストリツピング電
流の重要な変形が特定の裕組成物に対して日ごとに見ら
れ、かつ多分制御されない変量によって生じるものであ
り、そのような変形はたとえば、作用電極表面の変化で
ある。
、またはストリツピングクーロンと相関されて、ピーク
ストリツピング電流またはストリツピングクーロンの関
数として濃度を得る。ある場合には、ストリツピング電
流の重要な変形が特定の裕組成物に対して日ごとに見ら
れ、かつ多分制御されない変量によって生じるものであ
り、そのような変形はたとえば、作用電極表面の変化で
ある。
そのような変形は、所望の測定をする直前または直後に
固定標準によって用いられるストリッピング電流を測定
し、かつそれから2個の測定の比を用いて成分のストリ
ッピング電流および濃度間の相関を得ることによって、
緩和されることができる。この発明のさらに他の実施例
では、制御されない変量によって生じたストリッピング
電流の変形は、同じ浴内の静的作用電極によって設けら
れる内部基準を用いることによって緩和される。
固定標準によって用いられるストリッピング電流を測定
し、かつそれから2個の測定の比を用いて成分のストリ
ッピング電流および濃度間の相関を得ることによって、
緩和されることができる。この発明のさらに他の実施例
では、制御されない変量によって生じたストリッピング
電流の変形は、同じ浴内の静的作用電極によって設けら
れる内部基準を用いることによって緩和される。
前述したように、浴および作用電極の表面間に何の相対
運動もないときは、定常状態レベルが確立されるまで表
面の添加剤の濃度は、続けられる電位サイクルとともに
減少する。確立されたレベルは、裕内の添加剤の拡散の
速さによって決定される。前述のピロリン酸鋼格に用い
られるジメルカプトチァジアゾール光沢剤に対しては、
静的作用電極とともに得られるストリッピング電流はゼ
ロの光沢剤濃度に近い俗に相当する。第4図はピロリン
酸銅の格に対するしべリング剤の有効濃度の関数として
ストリッピングクーロンの相関関係を示す。
運動もないときは、定常状態レベルが確立されるまで表
面の添加剤の濃度は、続けられる電位サイクルとともに
減少する。確立されたレベルは、裕内の添加剤の拡散の
速さによって決定される。前述のピロリン酸鋼格に用い
られるジメルカプトチァジアゾール光沢剤に対しては、
静的作用電極とともに得られるストリッピング電流はゼ
ロの光沢剤濃度に近い俗に相当する。第4図はピロリン
酸銅の格に対するしべリング剤の有効濃度の関数として
ストリッピングクーロンの相関関係を示す。
この相関関係はしべリング剤の絶対量のためには必要で
はない。たとえば、その相関関係Q,およびQ2によっ
て示されるように、特定の品質レベルのためのものであ
るはずである。Q,およびQ2間に示される距離44は
、2個の品質極端Q,およびQ2間で特定形式の欠点(
後述されるような折り重ね)に対する受容可能な品質の
俗を表わす。制御されない変量を緩和するために、静止
電極(250仇pm回転電極に対して比較される)が、
縦座標上に示される比を得るように内部標準として用い
られていた。前述したように、別々の外部標準もまた比
を得るために用いられることができた。ある場合には、
十分な精度が直接ストリッピングクーロンをプロットす
ることによって、またはピークストリツピング電流をプ
ロットすることによって得られることができた。任意の
場合において、曲線の一般的な形状は第4図に示される
曲線に以ている。第4図に示される相関関係は、未知の
俗におけるしべリング材の品質または濃度を決定するた
めに用いられる。
はない。たとえば、その相関関係Q,およびQ2によっ
て示されるように、特定の品質レベルのためのものであ
るはずである。Q,およびQ2間に示される距離44は
、2個の品質極端Q,およびQ2間で特定形式の欠点(
後述されるような折り重ね)に対する受容可能な品質の
俗を表わす。制御されない変量を緩和するために、静止
電極(250仇pm回転電極に対して比較される)が、
縦座標上に示される比を得るように内部標準として用い
られていた。前述したように、別々の外部標準もまた比
を得るために用いられることができた。ある場合には、
十分な精度が直接ストリッピングクーロンをプロットす
ることによって、またはピークストリツピング電流をプ
ロットすることによって得られることができた。任意の
場合において、曲線の一般的な形状は第4図に示される
曲線に以ている。第4図に示される相関関係は、未知の
俗におけるしべリング材の品質または濃度を決定するた
めに用いられる。
ストリツピングクーロンの同様な比は、未知の格のため
決定されかつそれから第4図の相関関係と比較されて相
当する品質または濃度を得る。この方法は比較に基づく
ので、相関を得るために用いられる標準は、既知の格の
条件を表わすべきものであり、または裕間の任意の変形
が説明されるべきである。同様に、未知の俗は電極電位
の同様な条件のもとに操作されるべきでありかつ動作に
おける標準、または任意の変形のためのものとしての物
質輸送(温度、雰囲気、かきまぜ、等)が説明されるべ
きである。既知の格のための約1.0よ・りも大きなク
ーロン比のために、濃度の2個の値は第4図の曲線にお
けるピークのために得られる。
決定されかつそれから第4図の相関関係と比較されて相
当する品質または濃度を得る。この方法は比較に基づく
ので、相関を得るために用いられる標準は、既知の格の
条件を表わすべきものであり、または裕間の任意の変形
が説明されるべきである。同様に、未知の俗は電極電位
の同様な条件のもとに操作されるべきでありかつ動作に
おける標準、または任意の変形のためのものとしての物
質輸送(温度、雰囲気、かきまぜ、等)が説明されるべ
きである。既知の格のための約1.0よ・りも大きなク
ーロン比のために、濃度の2個の値は第4図の曲線にお
けるピークのために得られる。
しかしながら、修正濃度も簡単に選ばれることができる
、なぜならばボルタンメトリピークは0.5の上/Z以
下の濃度のため0.2ボルトの大きさだけカソード的に
ずらされる。さらに、ほとんどの実際的な目的のため、
Q,(1.2地/夕)以下のしべリング剤の任意の密度
は最小の品質レベルに対しては十分でない濃度を示して
おり、したがって付加的なしべリング材が要求されると
いうことを示している。この発明を導く作業において、
レベリング剤の濃度が、回路板のスルーホールの銅めつ
きをしている間に得られる折り重なりの欠点の量に強い
影響を与えるということが発見された。第5図は、レベ
リング剤(PY61一H)の1.2地/そ以下の有効濃
度が裕内に用いられたとき、銅の析出物51における莫
大な折り重なり欠点49を含む回路板47のスルーホー
ル45を示す。しかしながら、同様な回路板53は1.
2−2.0叫/そからしべリング剤の濃度で銅めつきさ
れるとき、折り重なりの欠点は銅めつき55のため第6
図に示されるように生じなかった。したがって、めつき
速さに関連される折り重なり欠点および他のめつきの問
題は、この発明の方法および装置を用いるめつき俗にお
いて添加剤の濃度を制御することによって簡単に克服す
ることができる。銅、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、鉛
、金、銀、およびカドミウムを含む種々のめつき金属の
ための広範囲にわたるめつき格があるけれども、同じ科
学的原理はそれらの応用に含まれている。
、なぜならばボルタンメトリピークは0.5の上/Z以
下の濃度のため0.2ボルトの大きさだけカソード的に
ずらされる。さらに、ほとんどの実際的な目的のため、
Q,(1.2地/夕)以下のしべリング剤の任意の密度
は最小の品質レベルに対しては十分でない濃度を示して
おり、したがって付加的なしべリング材が要求されると
いうことを示している。この発明を導く作業において、
レベリング剤の濃度が、回路板のスルーホールの銅めつ
きをしている間に得られる折り重なりの欠点の量に強い
影響を与えるということが発見された。第5図は、レベ
リング剤(PY61一H)の1.2地/そ以下の有効濃
度が裕内に用いられたとき、銅の析出物51における莫
大な折り重なり欠点49を含む回路板47のスルーホー
ル45を示す。しかしながら、同様な回路板53は1.
2−2.0叫/そからしべリング剤の濃度で銅めつきさ
れるとき、折り重なりの欠点は銅めつき55のため第6
図に示されるように生じなかった。したがって、めつき
速さに関連される折り重なり欠点および他のめつきの問
題は、この発明の方法および装置を用いるめつき俗にお
いて添加剤の濃度を制御することによって簡単に克服す
ることができる。銅、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、鉛
、金、銀、およびカドミウムを含む種々のめつき金属の
ための広範囲にわたるめつき格があるけれども、同じ科
学的原理はそれらの応用に含まれている。
リン酸縮めつき俗に用いられるジメルカプトチアジアゾ
ールおよび錫または錫−鉛フッ化ホウ素酸塩格に用いら
れるべプトンのようなしべリング剤は金属析出速さもこ
影響を与える。したがって、この発明はしべリング剤の
品質または濃度ならびにそのようなめつき俗のすべてに
おけるめつき速さに影響を与える他の添加剤を評価する
ため、かつめつき速さに基づく効果を有するすべての添
加剤または変量のために応用することができるというこ
とが明らかである。多くの変形および修正がこの発明か
ら逸脱することなくなされる。
ールおよび錫または錫−鉛フッ化ホウ素酸塩格に用いら
れるべプトンのようなしべリング剤は金属析出速さもこ
影響を与える。したがって、この発明はしべリング剤の
品質または濃度ならびにそのようなめつき俗のすべてに
おけるめつき速さに影響を与える他の添加剤を評価する
ため、かつめつき速さに基づく効果を有するすべての添
加剤または変量のために応用することができるというこ
とが明らかである。多くの変形および修正がこの発明か
ら逸脱することなくなされる。
したがって、上述されかつ添付図面に示されるこの発明
の形式は例示的なものに過ぎずかっこの発明の範囲を限
定するものとして意図されたものでないことは明らかに
理解されるべきである。
の形式は例示的なものに過ぎずかっこの発明の範囲を限
定するものとして意図されたものでないことは明らかに
理解されるべきである。
第1図はこの発明の実施例による装置の概略的結線図で
ある。 第2図はこの発明の第2の実施例による装置の概略的結
線図である。第3図は第2図の装置を用いる方法を示す
2個のサィクリックなボルタモグラフを示す。第4図は
ストリッピング範囲(内部基準に対して用いられる)の
間に用いられるクーロンとしべリング剤の濃度との間の
相関関係を示す曲線である。第5図は十分でない量のし
べリング剤を有する格でめつきされたプリント回路板に
おけるスルーホールの部分的断面を表わす概略図である
。第6図は十分な量のしべリング剤でめつきされた回路
板を除いて第5図と類似する断面の概略図である。図に
おいて、1,13は作用電極、3および15は反対側電
極、17は基準電極、5および19はセル、7および2
3は関数発生器、9および27は電量計、21はモータ
、8および29はマイクロプロセサまたはミニコンピュ
ータを示す。 斤′G/.‘′G,2. 「′G,3. ‘丁G,4. ‘′G.5. ^丁G.6.
ある。 第2図はこの発明の第2の実施例による装置の概略的結
線図である。第3図は第2図の装置を用いる方法を示す
2個のサィクリックなボルタモグラフを示す。第4図は
ストリッピング範囲(内部基準に対して用いられる)の
間に用いられるクーロンとしべリング剤の濃度との間の
相関関係を示す曲線である。第5図は十分でない量のし
べリング剤を有する格でめつきされたプリント回路板に
おけるスルーホールの部分的断面を表わす概略図である
。第6図は十分な量のしべリング剤でめつきされた回路
板を除いて第5図と類似する断面の概略図である。図に
おいて、1,13は作用電極、3および15は反対側電
極、17は基準電極、5および19はセル、7および2
3は関数発生器、9および27は電量計、21はモータ
、8および29はマイクロプロセサまたはミニコンピュ
ータを示す。 斤′G/.‘′G,2. 「′G,3. ‘丁G,4. ‘′G.5. ^丁G.6.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属を電気めつきするための浴における有機レベリ
ング剤の有効量を決定する方法であつて、各々が異なる
有効量の有機レベリング剤を有する複数個のめつき浴を
得るステツプと、前記複数のめつき浴の各々ごとに、定
常状態の条件が得られるまで複数個のボルタンメトリツ
クサイクルを通じて予め定められる速度で不活性の作用
電極を掃引するステツプとを備え、前記ボルタンメトリ
ツクサイクルの各々は、前記複数個のめつき浴の各々ご
とに、金属めつきをする範囲および金属ストリツピング
をする範囲を含み、前記ボルタンメトリツクサイクルの
各々は一方極性方向へ電圧を掃引し、その後続いて、前
記サイクルを完了するため前記一方極性の逆極性方向へ
前記電圧を掃引することを含み、前記複数個のめつき浴
の各々ごとに前記サイクルの前記金属ストリツピングを
する範囲の間に用いられる電気量を測定し、それによつ
て有機レベリング剤の有効量と、前記金属ストリツピン
グをする範囲の間に用いられる前記電気量との間の相関
関係を得るステツプと、未知の量の有機レベリング剤を
有する浴を得るステツプと、前記未知の浴に対して、定
常状態の条件が得られるまで複数個のボルタンメトリツ
クサイクルを通じて前記予め定められる速度で不活性の
作用電極を掃引するステツプとをさらに備え、前記ボル
タンメトリツクサイクルの各々は、前記未知の量の有機
レベリング剤を有する前記浴に対して、金属めつきをす
る範囲および金属ストリツピングをする範囲を含み、前
記ボルタンメトリツクサイクルの各々は一方極性方向へ
電圧を掃引し続いて前記サイクルを完成するため前記一
方極性の逆極性方向へ前記電圧を掃引することを含み、
未知の量のレベリング剤を有する前記浴に対して前記サ
イクルの前記金属ストリツピングをする範囲の間に用い
られる電気量を測定するステツプと、前記相関関係から
、未知の量の有機レベリング剤を有する前記浴のために
用いられる前記電気量に対応する有機レベリング剤の量
を選ぶステツプとをさらに備えた、方法。 2 作用電極を掃引する前記ステツプは、前記浴と前記
作用電極との間に相対的運動がない間および相対的運動
がある間、作用電極を掃引するステツプを含み、かつ電
気量を測定する前記ステツプは、相対運動のない状態で
用いられる電気量を、相対運動のない状態で用いられる
電気量で割つた比を得るステツプを含む、特許請求の範
囲第1項に記載の方法。 3 作用電極を掃引する前記ステツプは、前記浴と前記
作用電極との間に相対運動がある間作用電極を掃引する
ステツプを含む、特許請求の範囲第1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/754,476 US4132605A (en) | 1976-12-27 | 1976-12-27 | Method for evaluating the quality of electroplating baths |
US754476 | 1976-12-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5393130A JPS5393130A (en) | 1978-08-15 |
JPS6019455B2 true JPS6019455B2 (ja) | 1985-05-16 |
Family
ID=25034958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52156305A Expired JPS6019455B2 (ja) | 1976-12-27 | 1977-12-24 | 有機レベリング剤の有効量を決定する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4132605A (ja) |
JP (1) | JPS6019455B2 (ja) |
CA (1) | CA1072632A (ja) |
DE (1) | DE2757458A1 (ja) |
GB (1) | GB1541335A (ja) |
NL (1) | NL189146B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS628245U (ja) * | 1985-06-29 | 1987-01-19 | ||
JP2706206B2 (ja) * | 1992-07-08 | 1998-01-28 | 三菱電機株式会社 | 用紙カセット |
Families Citing this family (87)
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