JPS60189856A - X線マイクロアナライザー - Google Patents

X線マイクロアナライザー

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JPS60189856A
JPS60189856A JP59045776A JP4577684A JPS60189856A JP S60189856 A JPS60189856 A JP S60189856A JP 59045776 A JP59045776 A JP 59045776A JP 4577684 A JP4577684 A JP 4577684A JP S60189856 A JPS60189856 A JP S60189856A
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JP
Japan
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sample
image
signal
circuit
optical
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JP59045776A
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Yoshio Makita
蒔田 吉生
Tadashi Watanabe
正 渡辺
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Jeol Ltd
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Jeol Ltd
Nihon Denshi KK
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野1 本発明は分析づべぎ試料を正確にX線分光器の焦点位置
に一1スさせることのでさるX線ンイクロノ’)−ライ
9゛−及び妊l似装(行に関する。
[1;L来技術] 1θ′C′1の表面分析を行なうためにX線マイクロア
ノーソイザーが広く使用されている。このX線マイクl
]ノIナライリ゛−は試料に集束電子線を照射する電r
光学系と、該試A′31を電子線に対して任意に移動さ
ける試料)ξ置と、電子線の試料照射により試filか
ら発生したR性X線を分光するX線分光器と、課分光器
の検出出力を4数し表示又は記録りる装置電゛ど、前記
電子線光学系に組込まれた光学顕微鏡とから414成さ
れU i13す、該光学顕微鏡はX線源となる誠お1表
面の電子線照射位置を正確にX線分光器の焦点位fi’
i(l]−ランド円上)に合けるために使用される。即
ら、X線マイクロアナライザーにおいてはX線分光器と
電子光学系とは機械的に位h′関係が決っているので、
所定の電子線光軸上の位1こ1′に試1.81を設置り
”るためは試料を試料?ν内に設「イした後、オペレー
タが光学顕微鏡の接眼レンズを覗きながら課光学顕微鏡
による像が最もNY明(ジ1?スト)A−カス)に4に
るJ、うに試お1十下装置を操作しでいる。
しかし、このJ、うな操作は大変に煩わしく旧つ個人差
が入りやすいので、正確な位置設定が行なえず分411
′誤差を生ずる原因になっている。
[発明の目的] 本発明は上記従来の欠点を除去し、個人〉f−の(2い
常に正確な試料位置設定を可能にするX線マイク1」ア
ナライザーを得ることを目的に覆−るもので゛ある。
[発明の4i1.j成] 上記目的達成のために本件の第1の発明の(1?i成は
試料に集束電子線を照射する電子光学系と、M配電子線
の照射により試料から元31−′71るX線を分析Jる
手段と、前記試別を前記電子線の光軸方向に移動させる
試料上下装置と、前記電子光学系に組込まれた光学顕微
鏡とを有する装置において、前記光学顕微鏡の結I象面
に該光学顕微鏡にJ、る試料の光学像を踊@する装置を
設け、該111i像装置から前記試オ81光学像の任な
ラインに治った映像15号を取出し、該映1”44 f
+’i >;を前記試料像の)A−カス状態を現わすC
Ij号に変換する回路を設け、該回路にJ:る前後2回
のフィン走f目こよる変換15号に基づき前記試A′+
1が前記光学顕微鏡のジャズ1−フA−力スイ1′lt
i“′1にくるj、うに前記試お1上下装買を制御する
装置を備えls X 線マイクロアナライザー及び類似
装置1りに特i1Mがある。
又、本件の第2の発明の構成は試別に集束電子線を照射
ツる電子光学系と、前記電子線の照射により試)’jl
から発生りるX線を分析する手段と、前記試13+を前
記電子線の光軸方向に移動さける試料上下装置ど、前記
電子光学系に組込まれた光学顕微鏡とを右りる装置にお
いて、前記光学顕微鏡の結像面に該光学顕微鏡による試
別の光学像を踊像りる装置を設(プ、該1i、i像装置
から前記試料光学像のイ■意ラインに沿った映像信号を
取出し、該映像(i;1号を前記試料像の〕A−カス状
態を現わづ一信号に変換ζる回路を設け、該回路による
前後2回のツイン走査による変換信号に基づき前記試料
が前記光学顕微鏡のジャストフA−カス位置にくるよう
に前記試お1−シ下装行をa+1j611する装置を備
え、更に前記x$2分析手段を一定角度領域(111引
し、その時の特定角U(り近にJ3けるX線検出GL号
強rvの変化状態に応じ(前記試料上下装置の移動lJ
向を判別する回路を備えたxFi!マイクロアナライザ
ー及び類似装置に特徴がある。
[実施例] 以下本発明の一実施例を図面に基づき4工細に6シ)明
する。
第1図は本発明の一実施例のブIJツク線図であり、1
は電子銃である。該電子銃からの電子線は集束レンズ2
:ECび対物レンズ3により細くす、束されて試別4上
に照射される。該試料はX、Y試料移動機構5の上に載
置されており、又該試料移動機構は試料上下機構61に
搭載されている。該試料上下tl構はパルスモータ7に
より駆動され、X。
Y移動機構5′及び試料4を電子線の光軸方向に移動す
る。8はX線分光器であり、分光結晶9及びX線検出器
10を有し、駆動装置11ににり分光f(+の(1i1
引が可能である。前記分光結晶9、X線検出器10〈実
際Llぞの入用スリット)はローランド円の」−にH,
5かれており、又X線源である前記試第314の電」′
霧;、11B!、(、用点乙該1」−ランド円上に置か
れ[1つX線源と分光結晶との間の角度Oと分光結晶と
検出器の間の角度0は常に等しくなるように駆動)装置
11により(11)引される。前記電子光学系の中に光
学顕微鏡′12の対物レンズ13が組込まれている。該
対物レンズの焦点位置は前記分光結晶9及びX線検出器
10が置かれたローランド円の−F−のX線源に正確に
一致するように機械的に調整されている。
14は光δ;:で該ンし源からの光束は集光レンズ1]
)、半透明鏡′16及び反041117を介して前記対
1bJレンズに尋かれ、試料4に投射される。試料がら
反Q・1シた光束はnl記対物レンズ13により結像さ
れ、反射鏡17、半透明鏡16及び接眼レンズ18を介
して固体l1TJ像装置やビジコン等の画像装置ii 
19の結像ir+1に経血どして投影される。該撮像装
置19はi、制御装置20によって制御され、11■像
装置の結像面上の任意なラインの映像信号を選択的に取
り出り°1)がnJ能である。又、該制御具;7i I
よ該画像装置を制御して該画像装置から二次元的な映像
信(〕を取り出し、陰イセ線管等の表示装置f、921
に心入することもでき、前記光学顕微鏡により有られ、
脂血された試料の光学顕微鏡走査画顛を観察り゛ること
がil能である。前記1j1)像装(619からの任意
ラインの映像信号は微分回路22に送られ、映像信号の
変化の程度を表わす(7号に変j襲され、その波ハji
iが記憶回路23に−11、ン記憶される。該波高値の
信号は前記11す御装置20 km >9人され、同一
ライン上の相+iii ID覆る2つの波高飴信号から
撮像装置19」二の光学顕微鏡像の〕A−カス状態が判
断され、若し両信号から未だフォーカスが合っていない
と判断された場合には、試料上下装置1″Hのパルスモ
ータ7の駆動回路24に試料上下位iη調整用の指令信
号を送る。25は前記X線分光器8の検出器10の出力
を計数する回路であり、該iI数回路からの信号は図示
しない記録装置や表示装置に供給され、X線スペクトル
ガ111られる。又、該;il fi1回路力目らの信
号は判別回路26に送られ、111u′+14が大きく
フォーカスずれしていた場合には、詠判別回路が1劫さ
、パルスモータの駆動回路24に試J’i+を1一方に
移動り−るか、又は下方向に移動すイ;)かの判別信シ
シを供給する。
次に、このJ、うイJ:構成の装置の動作を第2図乃′
1゛第4図4参照しく説明づる。試料4を試料移動(浅
(l’l !J−l−に載置した状fさでc8L該試料
の面がX線分光z:(の焦点Kt iMiにあるかどう
が解らない。そこで、光゛¥・顕微鏡12の光源14を
点灯し、対物レンズ13をjiシて試料/l 、J−を
照明する。該試料への照明により試1′+1から反射し
た光は再び対物レンズに人l′4・1シ、結像されて反
射鏡17及び半透明鏡16を通過し、接眼レンズ18に
より拡大された後、l1i5像装置ζrJ19の結像面
に試料の光学顕微鏡像を結ぶ。該11Q像装バlxの光
学像は電気信号に変換されるが、その晶六出し1」制御
具H20によってコントロールされる。即ち、光学像の
走査画像を得たい場合には、該撮像装置がら2次元的な
映像174号が冑られるように該画像装置に制御信号を
送り、その出力は陰極線管21に尋人されて、試料の光
学(像が再現される。
一方、X線分光器の焦点合せ、′っまり′n1〜料の上
下位四合ぜを行なう場合には、前記制御装置20から撮
像装置19にライン走査の制御信号を送り、第2図(a
)、(a)−に示すように韻(へ;装置の結像面19a
の任意なライン[に治って走査し、その信号を取出り“
。第2図中、(a)、(b)。
(C)は光学顕微鏡にj、る試料像の一ノA−カスがあ
っていない場合を、又(a)′、(b)−。
(C)−は丁j哀フA−カスのあった作が1最イ象装置
δ上に投影されでいる場合である。先ず、最初のライン
走査のどきん(料4がif規の(1′/置に配gQされ
ておらず、従って第2図(a)のようなぼけた像が偏像
装゛防19上に投影されていlことする。このライン走
査により該画像装置より発生した映像信号は第2図(1
))のJ:うになり、その信号は微分回路22において
微分され、第2図(C)に示すようにその映像信号の変
化に応じた波畠旧を右J°る信号に変換される。この波
高値h1は一旦記憶回路23に記憶され、次の走査によ
る信号との比較に供される。第1のライン走査が終了J
るど、制御)(置20はパルスモータ24の駆動回路2
4に信)シをjスリ、パルスを一夕7をいずれかの方向
に一定角疫回転さIJ、試石上十機構6を駆動して試料
を上、又は下方向に移動させる。この試1”1位置のゆ
化した状態の光学顕微鏡像が撮像装置19上に投1.;
;されるのぐ、再び制御装置20は1最像装置19にラ
イン走査の指令(A号を送り、第1回目の走査ど同一の
ライン1−に沿った映像信号を取出り−。
イの1i号も前述と同様微分回路22により微分し、く
の波11“:+ (+i’j l+2を記憶回路23に
送る。該記憶回路1、を前記記憶された第1回目の走査
の波高値111と第2同1−1の走査の波高1+/+ 
1+2とを比較し、制御具「1にその結果を送り込む。
若し、第2回目の波高値h2の力が第1回[]の波高&
i t+ 1 、)、り大きい場合は、フォーカスが合
う方向にあるので、制御具@20は更に駆動回路2/I
に指令を送り、試料を同じ方向に移動させる。同時にI
ln像装置19に前述の第2回L1の走査ど同一のライ
ンLの走査を指令し、微分回路から第3回目の波高値信
号113を117る。+”+fi−記記憶回路には比較
後人ぎい方の信号のみが記1dされており、従って今度
は第2回目の波高(IQ l+2と第3回目の波IJ値
113が比較され、その結束が制御装置20にン!2人
される。、第3回目の波X’M (ll′l h3が人
さい場合には、更に同様な操作が繰返されていく。
イして第2図(51)−のように搬像装置19に投影さ
れIζ光学顕微鏡像がジャストフォーカスの状態になっ
た場合、微分信号は(C)′のようになりその波if+
+ 1tlJは最高のi)を示す。この最高の波4“1
11自が寄られIこIDのライン走”fr7にJ:る波
1島11自11nはi6 hより小さくなり、その時点
でフォーカス点を通り越したことが解る。そこで、制御
装置(,1駆動回路24に指令信号を送り、最11の波
高値が得られた試料位置に1ステップ逆戻りさゼる。か
くして、試料はX線分光器の焦点位置に正確に設置され
ることになる。
ところC1光学レンズの焦点測置は通常非常に浅いので
、上記の動作は試料が有る範囲内に存イ1する場合に限
られ、試料が所定の位置から人さくfれている場合には
、多少試料位置を上−1・1)でも9fHんど光学顕微
鏡像のシ17−プさには変化が発生I!す”、従っC2
回のライン走査による微分信号の波高4+’+聞には夕
jH7υと差が生じない。その結果、試オニ1を十(1
)1ノ向に移動しIこら良いか、1・の方向に移動した
ら良いかa+1011装首20が指令できない場合があ
る。このJ、うな場合には、X線分光器8を−)1f角
1身範囲保引しCそのときの特定角度付近の検出器IL
tの変化を判別回路26にJζり検知し、駆動回路24
に方向を指示する信号を送る。第3図はX線分光器を1
.11引しく得られる特定元素の特性X線強1良スペク
トルー〔・あり、実線で示ずPlは試料が−J1α5)
光器の焦1j、!位買に存在りる場合、1〕2は試料が
該位置J、り上方にある場合で特定の角度θ1では強度
も小さく且つピーク位置もずれている。
又、P34よ試料が上記規定の位置より下方にずれ(い
る場合であり、1−)2ど同様に01では強度が小さく
且つピーク位置がずれている。P2とP3【よ°図から
解るようにピーク位置がPlを挾んで反り・1側にあり
、第121(a)に示すようにP2では角C1刊近−(
・上y?傾向にあるに対し、(b)図′に示り−ように
1」3では角C1付近で下降傾向にある。
従って、第4図におい(、C1を秋lυでC2及びC3
を指定し、イの角度位置の検出細石を比較1)れば、試
オ′31が上方にずれているか、下方にずれでいるかが
判別′Cさる。判別回路26Iよ上記の判別をする回路
であり、X線分光器のX線検出器10からのイ:1号と
分光器の駆動装置11からの角)復fiE号が供給され
でおり、制御装置20の指令により上記第4図の02と
C3の信罰強痘の比較を行4Tい、何れが大ぎな信号強
度であるか判別している。
そしく、もし、03が人さい場合に1よ試料は上方に大
きくずれているので、駆動回路24は試料を一ト降する
ような15号をパルスモータ7に供給する。
逆に02が大きい場合には試料4を上方に移動り゛るよ
うな指令が駆動回路24に供給される。このようにして
、試料が所定の範囲に人ったら前述した撮@装置19、
微分回路22及び記憶回路23を使用して正確な焦点合
せが行なわれる。
[効果] 以上訂細に説明したような構成となせば、オペレーウの
肉Ill! lご頼ること【よなくなり、常に同一の条
4f−1でif(firな焦点合I!(試料上下位置調
整)が可(iことイrす、X線分析に個人的なJI差か
入る恐れは解除される。又、光学顕微鏡の焦点深度を越
えて試λ′:1が土、又は1・にり゛れていた場合でも
、X線分)を器を使用しC試A:E+の移動方向を容易
に判定することがTJ能ぐ、迅速に正確な位置l\の調
整ができる。
尚、−[記はA発明の例示であり、実際には種々の窃史
が可fit: ”Cある。例えば、上記ではlid像装
向19からのシrン走杏による映(Φ(ij号を微分し
て−との波高値11の大きさで光学顕微1!像の]A−
力、ス:1人態を判定覆るようにしたが、このフォーカ
ス状態の判定にはに記微分した信号のうち、一定値以−
Lのパルスをh1放し、その泪数値により判定するよう
にしても良く。又、微分回路に代えて映像ji−i ′
i’jのピークツーピークを積分する回路を設り、その
積分11αの大小によりフォーカス状態を判定するよう
にJるもの、更には信号の高周波成分を取出し、その周
波数分イ11により判定勺るもの等、両像装置のライン
定食により寄られる映像信号から光学像の)−fi−カ
ス状態が判別できるよう4f方〕(、手段であればとの
にうなものでも良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示寸ブロック線図、第2図
乃至第4図は第1図の装置の動作説明図(゛ある。 1:電子銃 2:集束レンズ 3:λ」物レンズ 4;試お1 6:試別上下機構 7:パルスモータ 8:X線分光器 9:分光結晶 10:X線検出器 11:分光器駆動製画12:光学顕
微鏡 13:光学顕微鏡の対物レンズ 14:光8≦(18:接眼レンズ 19:1最像装置R20: il+’制御装置21:表
示装置 22:微分回路 23:配信回路 2/I:パルスし−9駆動回路 2 J ’ +jl故回路 26二判別回路第2図(a
)゛ 第2図(b)゛

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)試料に集束電子線を照射する電子光学系と、nl
    I記電予電子線q・1により試料から発生するX線を5
    ) +1i する手段ど、i:!l記試料を前記電子線
    の光軸方向に移動させる試(′)1上下装置と、前記電
    子光学系に組込、LれlζソC学和黴鏡どを右する装置
    において、前記光うC−顕1a21ζ)、の結像面に該
    光学顕微鏡による試1′11の光学像を罷1/i、−,
    lる装置を設(J、該撮像装置か−)前記試別光学(へ
    :の任意ラインに沿った映像信号を取出し、該訣1′々
    Iff: ”iを前記試料像のフォーカス状態を現わす
    15月に変換゛りる回路を設け、該回路にJ、る前後2
    回のライン走査にJ、る変換信号に基づき前記試1が前
    記光学顕微鏡のジャストフォーカス位置にくるように前
    記試料上下装置を制御する装置を備え(いることを特徴
    とするX線マイク1’、l i’ナライザー及び類似%
    xe。
  2. (2)試わ1に集束電子線を照射する電子光学系と、n
    +j記電了線の照射により試料から発生づるX線を分析
    する手段と、前記試料を前記電子線の光軸lJ向に移動
    させる試料上下装置と、前記電子光学系に組込まれlこ
    光学顕微鏡とを有り−る装置におい−(,11q記光学
    顕微鏡の結像面に該光学顕微鏡による試料の光学像を1
    最像する装置を設(〕、該而面装置から前記試料光学像
    の任意ラインに治った映像信号を取出し、晶映像仏シ3
    を前記試料(へ;のフォーカス状態を現ねり”信号に変
    換り〜る回路を段り、該回路による前後2回のライン走
    査にJ、る変換信号に基づき前記試わIが前記光学顕微
    鏡のジャストフォーカス位置にくるにうに前記試1’l
    十下装置をai!I 011りる装置を備え、更に前記
    X線分析手段を一定角瓜領域棉引し、その11.1の特
    定角度イ」近におりるX線検出信号強1臭の変化状態に
    応じて前記試料上下装置の移動方向を判別する回路を備
    えていることを特徴とり゛るXPl!マイクロアナライ
    リ゛−及び類似装置。
JP59045776A 1984-03-10 1984-03-10 X線マイクロアナライザー Granted JPS60189856A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62241246A (ja) * 1986-04-11 1987-10-21 Jeol Ltd X線マイクロアナライザ−等に使用する光学顕微鏡の自動焦点合わせ装置
JPS6391947A (ja) * 1986-10-03 1988-04-22 Jeol Ltd X線マイクロアナライザ−
JPS63149058U (ja) * 1987-03-20 1988-09-30
JPS6457557A (en) * 1987-08-28 1989-03-03 Hitachi Ltd Electron microscope

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS48100190A (ja) * 1972-03-31 1973-12-18
JPS5231755A (en) * 1975-09-05 1977-03-10 Hitachi Ltd Automatic forcusing device
JPS5546463A (en) * 1978-09-29 1980-04-01 Shimadzu Corp Particle beam irradiating analyzer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS48100190A (ja) * 1972-03-31 1973-12-18
JPS5231755A (en) * 1975-09-05 1977-03-10 Hitachi Ltd Automatic forcusing device
JPS5546463A (en) * 1978-09-29 1980-04-01 Shimadzu Corp Particle beam irradiating analyzer

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62241246A (ja) * 1986-04-11 1987-10-21 Jeol Ltd X線マイクロアナライザ−等に使用する光学顕微鏡の自動焦点合わせ装置
JPS6391947A (ja) * 1986-10-03 1988-04-22 Jeol Ltd X線マイクロアナライザ−
JPH0528466B2 (ja) * 1986-10-03 1993-04-26 Nippon Electron Optics Lab
JPS63149058U (ja) * 1987-03-20 1988-09-30
JPS6457557A (en) * 1987-08-28 1989-03-03 Hitachi Ltd Electron microscope

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