JPH057822B2 - - Google Patents
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- JPH057822B2 JPH057822B2 JP59045776A JP4577684A JPH057822B2 JP H057822 B2 JPH057822 B2 JP H057822B2 JP 59045776 A JP59045776 A JP 59045776A JP 4577684 A JP4577684 A JP 4577684A JP H057822 B2 JPH057822 B2 JP H057822B2
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- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 3
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は分析すべき試料を正確にＸ線分光器の
焦点位置に一致させることのできるＸ線マイクロ
アナライザーに関する。
焦点位置に一致させることのできるＸ線マイクロ
アナライザーに関する。
［従来技術］
物質の表面分析を行なうためにＸ線マイクロア
ナライザーが広く使用されている。このＸ線マイ
クロアナライザーは試料に集束電子線を照射する
電子光学系と、該試料を電子線に対して任意に移
動させる試料装置と、電子線の試料照射により試
料から発生した特性Ｘ線を分光するＸ線分光器
と、該分光器の検出出力を計数し表示又は記録す
る装置と、前記電子線光学系に組込まれた光学顕
微鏡とから構成されており、該光学顕微鏡はＸ線
源となる試料表面の電子線照射位置を正確にＸ線
分光器の焦点位置（ローランド円上）に合せるた
めに使用される。即ち、Ｘ線マイクロアナライザ
ーにおいてはＸ線分光器と電子光学系とは機械的
に位置関係が決つているので、所定の電子線光軸
上の位置に試料を設置するためは試料を試料室内
に設置した後、オペレータが光学顕微鏡の接眼レ
ンズを覗きながら該光学顕微鏡による像が最も鮮
明（ジヤストフオーカス）になるように試料上下
装置を操作している。
ナライザーが広く使用されている。このＸ線マイ
クロアナライザーは試料に集束電子線を照射する
電子光学系と、該試料を電子線に対して任意に移
動させる試料装置と、電子線の試料照射により試
料から発生した特性Ｘ線を分光するＸ線分光器
と、該分光器の検出出力を計数し表示又は記録す
る装置と、前記電子線光学系に組込まれた光学顕
微鏡とから構成されており、該光学顕微鏡はＸ線
源となる試料表面の電子線照射位置を正確にＸ線
分光器の焦点位置（ローランド円上）に合せるた
めに使用される。即ち、Ｘ線マイクロアナライザ
ーにおいてはＸ線分光器と電子光学系とは機械的
に位置関係が決つているので、所定の電子線光軸
上の位置に試料を設置するためは試料を試料室内
に設置した後、オペレータが光学顕微鏡の接眼レ
ンズを覗きながら該光学顕微鏡による像が最も鮮
明（ジヤストフオーカス）になるように試料上下
装置を操作している。
しかし、このような操作は大変に煩わしく且つ
個人差が入りやすいので、正確な位置設定が行な
えず分析誤差を生ずる原因になつている。
個人差が入りやすいので、正確な位置設定が行な
えず分析誤差を生ずる原因になつている。
［発明の目的］
本発明は上記従来の欠点を除去し、個人差のな
い常に正確な試料位置設定を可能にするＸ線マイ
クロアナライザーを得ることを目的にするもので
ある。
い常に正確な試料位置設定を可能にするＸ線マイ
クロアナライザーを得ることを目的にするもので
ある。
［発明の構成］
上記目的を達成する本発明のＸ線マイクロアナ
ライザーは、試料に集束電子線を照射する電子光
学系と、前記電子線の照射により試料から発生す
るＸ線を分析する手段と、前記試料を前記電子線
の光軸方向に移動させる試料上下装置と、前記電
子光学系に組込まれた光学顕微鏡と、該光学顕微
鏡像の撮像信号を処理して合焦点の程度を表わす
信号を得る手段と、該手段よりの信号に基づいて
前記試料が前記光学顕微鏡のジヤストフオーカス
位置にくるように前記試料上下装置を制御する装
置とを備えたＸ線マイクロアナライザーにおい
て、試料位置を単位量変えても前記合焦点の程度
を表わす信号に差が無いことを判定して、前記Ｘ
線分析手段を特定波長位置を挟む２波長位置θ2，
θ3に順次位置づけるように制御する手段と、前記
Ｘ線分析手段の位置θ2，θ3におけるＸ線検出信号
強度の大小に応じて前記試料上下装置の移動方向
を判別し該判別信号を前記試料上下装置に供給す
る回路とを備えていることを特徴とする。
ライザーは、試料に集束電子線を照射する電子光
学系と、前記電子線の照射により試料から発生す
るＸ線を分析する手段と、前記試料を前記電子線
の光軸方向に移動させる試料上下装置と、前記電
子光学系に組込まれた光学顕微鏡と、該光学顕微
鏡像の撮像信号を処理して合焦点の程度を表わす
信号を得る手段と、該手段よりの信号に基づいて
前記試料が前記光学顕微鏡のジヤストフオーカス
位置にくるように前記試料上下装置を制御する装
置とを備えたＸ線マイクロアナライザーにおい
て、試料位置を単位量変えても前記合焦点の程度
を表わす信号に差が無いことを判定して、前記Ｘ
線分析手段を特定波長位置を挟む２波長位置θ2，
θ3に順次位置づけるように制御する手段と、前記
Ｘ線分析手段の位置θ2，θ3におけるＸ線検出信号
強度の大小に応じて前記試料上下装置の移動方向
を判別し該判別信号を前記試料上下装置に供給す
る回路とを備えていることを特徴とする。
［実施例］
以下本発明の一実施例を図面に基づき詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例のブロツク線図であ
り、１は電子銃である。該電子銃からの電子線は
集束レンズ２及び対物レンズ３により細く集束さ
れて試料４上に照射される。該試料はX.Y試料移
動機構５の上に載置されており、又該試料移動機
構は試料上下機構６上に搭載されている。該試料
上下機構はパルスモータ７により駆動され、Ｘ，
Ｙ移動機構５及び試料４を電子線の光軸方向に移
動する。８はＸ線分光器であり、分光結晶９及び
Ｘ線検出器１０を有し、駆動装置１１により分光
角の掃引が可能である。前記分光結晶９、Ｘ線検
出器１０（実際はその入射スリツト）はローラン
ド円の上に置かれており、又Ｘ線源である前記試
料４の電子線照射点も該ローランド円上に置かれ
且つＸ線源と分光結晶との間の角度と分光結晶
と検出器の間の角度は常に等しくなるように駆
動装置１１により掃引される。前記電子光学系の
中に光学顕微鏡１２の対物レンズ１３が組込まれ
ている。該対物レンズの焦点位置は前記分光結晶
９及びＸ線検出器１０が置かれたローランド円の
上にＸ線源に正確に一致するように機械的に調整
されている。
り、１は電子銃である。該電子銃からの電子線は
集束レンズ２及び対物レンズ３により細く集束さ
れて試料４上に照射される。該試料はX.Y試料移
動機構５の上に載置されており、又該試料移動機
構は試料上下機構６上に搭載されている。該試料
上下機構はパルスモータ７により駆動され、Ｘ，
Ｙ移動機構５及び試料４を電子線の光軸方向に移
動する。８はＸ線分光器であり、分光結晶９及び
Ｘ線検出器１０を有し、駆動装置１１により分光
角の掃引が可能である。前記分光結晶９、Ｘ線検
出器１０（実際はその入射スリツト）はローラン
ド円の上に置かれており、又Ｘ線源である前記試
料４の電子線照射点も該ローランド円上に置かれ
且つＸ線源と分光結晶との間の角度と分光結晶
と検出器の間の角度は常に等しくなるように駆
動装置１１により掃引される。前記電子光学系の
中に光学顕微鏡１２の対物レンズ１３が組込まれ
ている。該対物レンズの焦点位置は前記分光結晶
９及びＸ線検出器１０が置かれたローランド円の
上にＸ線源に正確に一致するように機械的に調整
されている。
１４は光源で該光源からの光束は集光レンズ１
５、半透明鏡１６及び反射鏡１７を介して前記対
物レンズに導かれ、試料４に投射される。試料か
ら反射した光束は前記対物レンズ１３により結像
され、反射鏡１７、半透明鏡１６及び接眼レンズ
１８を介して固体撮像装置やビジコン等の撮像装
置１９の結像面に終像として投影される。該撮像
装置１９は制御装置２０によつて制御され、撮像
装置の結像面上の任意なラインの映像信号を選択
的に取り出す事が可能である。又、該制御装置は
該撮像装置を制御して該撮像装置から二次元的な
映像信号を取り出し、陰極線管等の表示装置２１
に導入することもでき、前記光学顕微鏡により得
られ、撮像された試料の光学顕微鏡走査画像を観
察することが可能である。前記撮像装置１９から
の任意ラインの映像信号は微分回路２２に送ら
れ、映像信号の変化の程度を表わす信号に変換さ
れ、その波高値が記憶回路２３に一時記憶され
る。該波高値の信号は前記制御装置２０に導入さ
れ、同一ライン上の相前後する２つの波高値信号
から撮像装置１９上の光学顕微鏡像のフオーカス
状態が判断され、若し両信号から未だフオーカス
が合つていないと判断された場合には、試料上下
装置のパルスモータ７の駆動回路２４に試料上下
位置調整用の指令信号を送る。２５は前記Ｘ線分
光器８の検出器１０の出力を計数する回路であ
り、該計数回路からの信号は図示しない記録装置
や表示装置に供給され、Ｘ線スペクトルガ得られ
る。又、該計数回路からの信号は判別回路２６に
送られ、試料４が大きくフオーカスずれしていた
場合には、該判別回路が働き、パルスモータの駆
動回路２４に試料を上方に移動するか、又下方向
に移動するかの判別信号を供給する。
５、半透明鏡１６及び反射鏡１７を介して前記対
物レンズに導かれ、試料４に投射される。試料か
ら反射した光束は前記対物レンズ１３により結像
され、反射鏡１７、半透明鏡１６及び接眼レンズ
１８を介して固体撮像装置やビジコン等の撮像装
置１９の結像面に終像として投影される。該撮像
装置１９は制御装置２０によつて制御され、撮像
装置の結像面上の任意なラインの映像信号を選択
的に取り出す事が可能である。又、該制御装置は
該撮像装置を制御して該撮像装置から二次元的な
映像信号を取り出し、陰極線管等の表示装置２１
に導入することもでき、前記光学顕微鏡により得
られ、撮像された試料の光学顕微鏡走査画像を観
察することが可能である。前記撮像装置１９から
の任意ラインの映像信号は微分回路２２に送ら
れ、映像信号の変化の程度を表わす信号に変換さ
れ、その波高値が記憶回路２３に一時記憶され
る。該波高値の信号は前記制御装置２０に導入さ
れ、同一ライン上の相前後する２つの波高値信号
から撮像装置１９上の光学顕微鏡像のフオーカス
状態が判断され、若し両信号から未だフオーカス
が合つていないと判断された場合には、試料上下
装置のパルスモータ７の駆動回路２４に試料上下
位置調整用の指令信号を送る。２５は前記Ｘ線分
光器８の検出器１０の出力を計数する回路であ
り、該計数回路からの信号は図示しない記録装置
や表示装置に供給され、Ｘ線スペクトルガ得られ
る。又、該計数回路からの信号は判別回路２６に
送られ、試料４が大きくフオーカスずれしていた
場合には、該判別回路が働き、パルスモータの駆
動回路２４に試料を上方に移動するか、又下方向
に移動するかの判別信号を供給する。
次に、このような構成の装置の動作を第２図乃
至第４図を参照して説明する。試料４を試料移動
機構５上に載置した状態では該試料の面がＸ線分
光器の焦点位置にあるかどうか解らない。そこ
で、光学顕微鏡１２の光源１４を点灯し、対物レ
ンズ１３を通して試料４上を照明する。該試料へ
の照明により試料から反射した光は再び対物レン
ズに入射し、結像されて反射鏡１７及び半透明鏡
１６を通過し、接眼レンズ１８により拡大された
後、撮像装置１９の結像面に試料の光学顕微鏡像
を結ぶ。該撮像装置上の光学像は電気信号に変換
されるが、その読出しは制御装置２０によつてコ
ントロールされる。即ち、光学像の走査画像を得
たい場合には、該撮像装置から２次元的な映像信
号が得られるように該撮像装置に制御信号を送
り、その出力は陰極線管２１に導入されて、試料
の光学像が再現される。
至第４図を参照して説明する。試料４を試料移動
機構５上に載置した状態では該試料の面がＸ線分
光器の焦点位置にあるかどうか解らない。そこ
で、光学顕微鏡１２の光源１４を点灯し、対物レ
ンズ１３を通して試料４上を照明する。該試料へ
の照明により試料から反射した光は再び対物レン
ズに入射し、結像されて反射鏡１７及び半透明鏡
１６を通過し、接眼レンズ１８により拡大された
後、撮像装置１９の結像面に試料の光学顕微鏡像
を結ぶ。該撮像装置上の光学像は電気信号に変換
されるが、その読出しは制御装置２０によつてコ
ントロールされる。即ち、光学像の走査画像を得
たい場合には、該撮像装置から２次元的な映像信
号が得られるように該撮像装置に制御信号を送
り、その出力は陰極線管２１に導入されて、試料
の光学像が再現される。
一方、Ｘ線分光器の焦点合せ、つまり試料の上
下位置合せを行なう場合には、前記制御装置２０
から撮像装置１９にライン走査の制御信号を送
り、第２図ａ，a′に示すように撮像装置の結像面
１９ａの任意なラインＬに沿つて走査し、その信
号を取出す。第２図中、ａ，ｂ，ｃは光学顕微鏡
による試料像のフオーカスがあつていない場合
を、又a′，b′，c′は丁度フオーカスのあつた像が
撮像装置上に投影されている場合である。先ず、
最初のライン走査のとき試料４が正規の位置に配
置されておらず、従つて第２図ａのようなぼけた
像が撮像装置１９上に投影されていたとする。こ
のライン走査により該撮像装置より発生した映像
信号は第２図ｂのようになり、その信号は微分回
路２２において微分され、第２図ｃに示すように
その映像信号の変化に応じた波高ｈ１を有する信
号に変換される。この波高値ｈ１は一旦記憶回路
２３に記憶され、次の走査による信号との比較に
供される。第１のライン走査が終了すると、制御
装置２０はパルスモータ２４の駆動回路２４に信
号を送り、パルスモータ７をいずれかの方向に一
定角度回転させ、試料上下機構６を駆動して試料
を上、又は下方向に移動させる。この試料位置の
変化した状態の光学顕微鏡像が撮像装置１９上に
投影されるので、再び制御装置２０は撮像装置１
９にライン走査の指令信号を送り、第１回目の走
査と同一のラインＬに沿つた映像信号を取出す。
その信号も前述と同様微分回路２２により微分
し、その波高値ｈ２を記憶回路２３に送る。該記
憶回路は前記記憶された第１回目の走査の波高値
ｈ１と第２回目の走査の波高値ｈ２とを比較し、
制御装置にその結果を送り込む。若し、第２回目
の波高値ｈ２の方が第１回目の波高値ｈ１より大
きい場合は、フオーカスが合う方向にあるので、
制御装置２０は更に駆動回路２４に指令を送り、
試料を同じ方向に移動させる。同時に撮像装置１
９に前述の第２回目の走査と同一のラインＬの走
査を指令し、微分回路から第３回目の波高値信号
ｈ３を得る。前記記憶回路には比較後大きい方の
信号のみが記憶されており、従つて今度は第２回
目の波高値ｈ２と第３回目の波高値ｈ３が比較さ
れ、その結果が制御装置２０に導入される。第３
回目の波高値ｈ３が大きい場合には、更に同様な
操作が繰返されていく。そして第２図a′のように
撮像装置１９に投影された光学顕微鏡像がジヤス
トフオーカスの状態になつた場合、微分信号は
c′のようになりその波高値は最高のｈを示す。こ
の最高の波高値が得られた後のライン走査による
波高値hoは該ｈより小さくなり、その時点でフオ
ーカス点を通り越したことが解る。そこで、制御
装置は駆動回路２従つてに指令信号を送り、最高
の波高値が得られた試料位置１ステツプ逆戻りさ
せる。かくして、試料はＸ線分光器の焦点位置に
正確に設置されることになる。
下位置合せを行なう場合には、前記制御装置２０
から撮像装置１９にライン走査の制御信号を送
り、第２図ａ，a′に示すように撮像装置の結像面
１９ａの任意なラインＬに沿つて走査し、その信
号を取出す。第２図中、ａ，ｂ，ｃは光学顕微鏡
による試料像のフオーカスがあつていない場合
を、又a′，b′，c′は丁度フオーカスのあつた像が
撮像装置上に投影されている場合である。先ず、
最初のライン走査のとき試料４が正規の位置に配
置されておらず、従つて第２図ａのようなぼけた
像が撮像装置１９上に投影されていたとする。こ
のライン走査により該撮像装置より発生した映像
信号は第２図ｂのようになり、その信号は微分回
路２２において微分され、第２図ｃに示すように
その映像信号の変化に応じた波高ｈ１を有する信
号に変換される。この波高値ｈ１は一旦記憶回路
２３に記憶され、次の走査による信号との比較に
供される。第１のライン走査が終了すると、制御
装置２０はパルスモータ２４の駆動回路２４に信
号を送り、パルスモータ７をいずれかの方向に一
定角度回転させ、試料上下機構６を駆動して試料
を上、又は下方向に移動させる。この試料位置の
変化した状態の光学顕微鏡像が撮像装置１９上に
投影されるので、再び制御装置２０は撮像装置１
９にライン走査の指令信号を送り、第１回目の走
査と同一のラインＬに沿つた映像信号を取出す。
その信号も前述と同様微分回路２２により微分
し、その波高値ｈ２を記憶回路２３に送る。該記
憶回路は前記記憶された第１回目の走査の波高値
ｈ１と第２回目の走査の波高値ｈ２とを比較し、
制御装置にその結果を送り込む。若し、第２回目
の波高値ｈ２の方が第１回目の波高値ｈ１より大
きい場合は、フオーカスが合う方向にあるので、
制御装置２０は更に駆動回路２４に指令を送り、
試料を同じ方向に移動させる。同時に撮像装置１
９に前述の第２回目の走査と同一のラインＬの走
査を指令し、微分回路から第３回目の波高値信号
ｈ３を得る。前記記憶回路には比較後大きい方の
信号のみが記憶されており、従つて今度は第２回
目の波高値ｈ２と第３回目の波高値ｈ３が比較さ
れ、その結果が制御装置２０に導入される。第３
回目の波高値ｈ３が大きい場合には、更に同様な
操作が繰返されていく。そして第２図a′のように
撮像装置１９に投影された光学顕微鏡像がジヤス
トフオーカスの状態になつた場合、微分信号は
c′のようになりその波高値は最高のｈを示す。こ
の最高の波高値が得られた後のライン走査による
波高値hoは該ｈより小さくなり、その時点でフオ
ーカス点を通り越したことが解る。そこで、制御
装置は駆動回路２従つてに指令信号を送り、最高
の波高値が得られた試料位置１ステツプ逆戻りさ
せる。かくして、試料はＸ線分光器の焦点位置に
正確に設置されることになる。
ところで、光学レンズの焦点深度は通常非常に
浅いので、上記の動作は試料が有る範囲内に存在
する場合に限られ、試料が所定の位置から大きく
ずれている場合には、多少試料位置を上下しても
殆んど光学顕微鏡像のシヤープさには変化が発生
せず、従つて２回のライン走査による微分信号の
波高値間には殆んど差が生じない。その結果、試
料を上の方向に移動したら良いか、下の方向に移
動したら良いか制御装置２０が指令できない場合
がある。このような場合である事を制御装置２０
が判定すると、制御装置２０は分光器駆動装置１
１に駆動信号を供給する。分光供給駆動装置１１
は，Ｘ線分光器８を後述するθ1を挟むθ2とθ3間に
わたつて一定角度範囲掃引させる。判別回路２６
は、分光器８の特定角度付近の検出強度の大小を
判定し、駆動回路２４にパルスモータ７の回転方
向を指示する信号を送る。第３図はＸ線分光器を
掃引して得られる特定元素の特性Ｘ線強度スペク
トルであり、実線で示すＰ１は試料が丁度分光器
の焦点位置に存在する場合、Ｐ２は試料が該位置
よりも上方にある場合で特定の角度１では強度
も小さく且つピーク位置もずれている。又、Ｐ３
は試料が上記規定の位置より下方にずれている場
合であり、Ｐ２と同様に１では強度が小さく且
つピーク位置がずれている。Ｐ２とＰ３は図から
解るおうにピーク位置がＰ１を挟んで反対側にあ
り、第４図ａに示すようにＰ２では角１付近で
上昇傾向にあるに対し、ｂ図に示すようにＰ３で
は角１付近で下降傾向にある。従つて、第４図
において、１を挟んで２及び３を指定し、
その角度位置の検出強度を比較すれば、試料が上
方にずれているか、下方にずれているかが判別で
きる。判別回路２６は上記の判別をする回路であ
り、Ｘ線分光器のＸ線検出器１０からの信号と分
光器の駆動装置１１からの角度信号が供給されて
おり、制御装置２０の指令により上記第４図の
２と３の信号強度の比較を行ない、何れが大き
な信号強度であるか判別している。そして、も
し、３が大きい場合には試料は上方に大きくず
れているので、駆動回路２４は試料を下降するよ
な信号をパルスモータ７に供給する。逆に２が
大きい場合には試料４を上方に移動するような指
令が駆動回路２４に供給される。このようにし
て、試料が所定の範囲に入つたら前述した撮像装
置１９、微分回路２２及び記憶回路２３を使用し
て正確な焦点合せが行なわれる。
浅いので、上記の動作は試料が有る範囲内に存在
する場合に限られ、試料が所定の位置から大きく
ずれている場合には、多少試料位置を上下しても
殆んど光学顕微鏡像のシヤープさには変化が発生
せず、従つて２回のライン走査による微分信号の
波高値間には殆んど差が生じない。その結果、試
料を上の方向に移動したら良いか、下の方向に移
動したら良いか制御装置２０が指令できない場合
がある。このような場合である事を制御装置２０
が判定すると、制御装置２０は分光器駆動装置１
１に駆動信号を供給する。分光供給駆動装置１１
は，Ｘ線分光器８を後述するθ1を挟むθ2とθ3間に
わたつて一定角度範囲掃引させる。判別回路２６
は、分光器８の特定角度付近の検出強度の大小を
判定し、駆動回路２４にパルスモータ７の回転方
向を指示する信号を送る。第３図はＸ線分光器を
掃引して得られる特定元素の特性Ｘ線強度スペク
トルであり、実線で示すＰ１は試料が丁度分光器
の焦点位置に存在する場合、Ｐ２は試料が該位置
よりも上方にある場合で特定の角度１では強度
も小さく且つピーク位置もずれている。又、Ｐ３
は試料が上記規定の位置より下方にずれている場
合であり、Ｐ２と同様に１では強度が小さく且
つピーク位置がずれている。Ｐ２とＰ３は図から
解るおうにピーク位置がＰ１を挟んで反対側にあ
り、第４図ａに示すようにＰ２では角１付近で
上昇傾向にあるに対し、ｂ図に示すようにＰ３で
は角１付近で下降傾向にある。従つて、第４図
において、１を挟んで２及び３を指定し、
その角度位置の検出強度を比較すれば、試料が上
方にずれているか、下方にずれているかが判別で
きる。判別回路２６は上記の判別をする回路であ
り、Ｘ線分光器のＸ線検出器１０からの信号と分
光器の駆動装置１１からの角度信号が供給されて
おり、制御装置２０の指令により上記第４図の
２と３の信号強度の比較を行ない、何れが大き
な信号強度であるか判別している。そして、も
し、３が大きい場合には試料は上方に大きくず
れているので、駆動回路２４は試料を下降するよ
な信号をパルスモータ７に供給する。逆に２が
大きい場合には試料４を上方に移動するような指
令が駆動回路２４に供給される。このようにし
て、試料が所定の範囲に入つたら前述した撮像装
置１９、微分回路２２及び記憶回路２３を使用し
て正確な焦点合せが行なわれる。
［効果］
以上詳細に説明したような構成となせば、オペ
レータの肉眼に頼ることはなくなり、常に同一の
条件で正確な焦点合せ（試料上下位置調整）が可
能となり、Ｘ線分析に個人的な誤差が入る恐れは
解除される。又、光学顕微鏡の焦点深度を越えて
試料が上、又は下にずれていた場合でも、Ｘ線分
光器を使用して試料の移動方向を容易に判定する
ことが可能で、迅速に正確な位置への調整ができ
る。
レータの肉眼に頼ることはなくなり、常に同一の
条件で正確な焦点合せ（試料上下位置調整）が可
能となり、Ｘ線分析に個人的な誤差が入る恐れは
解除される。又、光学顕微鏡の焦点深度を越えて
試料が上、又は下にずれていた場合でも、Ｘ線分
光器を使用して試料の移動方向を容易に判定する
ことが可能で、迅速に正確な位置への調整ができ
る。
尚、上記は本発明の例示であり、実際には種々
の変更が可能である。例えば、上記では撮像装置
１９からのライン走査による映像信号を微分して
その波高値ｈの大きさで光学顕微鏡像のフオーカ
ス状態を判定するようにしたが、このフオーカス
状態の判定には上記微分した信号のうち、一定値
以上のパルスを計数し、その計数値により判定す
るようにしても良く。又、微分回路に代えて映像
信号のピークツーピークを積分する回路を設け、
その積分値の大小によりフオーカス状態を判定す
るようにするもの、更には信号の高周波成分を取
出し、その周波数分布により判定するもの等、撮
像装置のライン走査により得られる映像信号から
光学像のフオーカス状態が判別できるような方
式、手段であればどのようなものでも良い。
の変更が可能である。例えば、上記では撮像装置
１９からのライン走査による映像信号を微分して
その波高値ｈの大きさで光学顕微鏡像のフオーカ
ス状態を判定するようにしたが、このフオーカス
状態の判定には上記微分した信号のうち、一定値
以上のパルスを計数し、その計数値により判定す
るようにしても良く。又、微分回路に代えて映像
信号のピークツーピークを積分する回路を設け、
その積分値の大小によりフオーカス状態を判定す
るようにするもの、更には信号の高周波成分を取
出し、その周波数分布により判定するもの等、撮
像装置のライン走査により得られる映像信号から
光学像のフオーカス状態が判別できるような方
式、手段であればどのようなものでも良い。
第１図は本発明の一実施例を示すブロツク線
図、第２図乃至第４図は第１図の装置の動作説明
図である。 １……電子銃、２……集束レンズ、３……対物
レンズ、４……試料、６……試料上下機構、７…
…パルスモータ、８……Ｘ線分光器、９……分光
結晶、１０……Ｘ線検出器、１１……分光器駆動
装置、１２……光学顕微鏡、１３……光学顕微鏡
の対物レンズ、１４……光源、１８……接眼レン
ズ、１９……撮像装置、２０……制御装置、２１
……表示装置、２２……微分回路、２３……記憶
回路、２４……パルスモータ駆動回路、２５……
計数回路、２６……判別回路。
図、第２図乃至第４図は第１図の装置の動作説明
図である。 １……電子銃、２……集束レンズ、３……対物
レンズ、４……試料、６……試料上下機構、７…
…パルスモータ、８……Ｘ線分光器、９……分光
結晶、１０……Ｘ線検出器、１１……分光器駆動
装置、１２……光学顕微鏡、１３……光学顕微鏡
の対物レンズ、１４……光源、１８……接眼レン
ズ、１９……撮像装置、２０……制御装置、２１
……表示装置、２２……微分回路、２３……記憶
回路、２４……パルスモータ駆動回路、２５……
計数回路、２６……判別回路。
Claims (1)
- １ 試料に集束電子線を照射する電子光学系と、
前記電子線の照射により試料から発生するＸ線を
分析する手段と、前記試料を前記電子線の光軸方
向に移動させる試料上下装置と、前記電子光学系
に組込まれた光学顕微鏡と、該光学顕微鏡像の撮
像信号を処理して合焦点の程度を表わす信号を得
る手段と、該手段よりの信号に基づいて前記試料
が前記光学顕微鏡のジヤストフオーカス位置にく
るように前記試料上下装置を制御する装置とを備
えたＸ線マイクロアナライザーにおいて、試料位
置を単位量変えても前記合焦点の程度を表わす信
号に差が無いことを判定して、前記Ｘ線分析手段
を特定波長位置を挟む２波長位置θ2，θ3に順次位
置づけるように制御する手段と、前記Ｘ線分析手
段の位置θ2，θ3におけるＸ線検出信号強度の大小
に応じて前記試料上下装置の移動方向を判別し該
判別信号を前記試料上下装置に供給する回路とを
備えていることを特徴とするＸ線マイクロアナラ
イザー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59045776A JPS60189856A (ja) | 1984-03-10 | 1984-03-10 | Ｘ線マイクロアナライザー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59045776A JPS60189856A (ja) | 1984-03-10 | 1984-03-10 | Ｘ線マイクロアナライザー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60189856A JPS60189856A (ja) | 1985-09-27 |
| JPH057822B2 true JPH057822B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=12728692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59045776A Granted JPS60189856A (ja) | 1984-03-10 | 1984-03-10 | Ｘ線マイクロアナライザー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60189856A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0616402B2 (ja) * | 1986-04-11 | 1994-03-02 | 日本電子株式会社 | Ｘ線マイクロアナライザ−等に使用する光学顕微鏡の自動焦点合わせ装置 |
| JPS6391947A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-22 | Jeol Ltd | Ｘ線マイクロアナライザ− |
| JPS63149058U (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-30 | ||
| JPH0754684B2 (ja) * | 1987-08-28 | 1995-06-07 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48100190A (ja) * | 1972-03-31 | 1973-12-18 | ||
| JPS5231755A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-10 | Hitachi Ltd | Automatic forcusing device |
| JPS5546463A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-01 | Shimadzu Corp | Particle beam irradiating analyzer |
-
1984
- 1984-03-10 JP JP59045776A patent/JPS60189856A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48100190A (ja) * | 1972-03-31 | 1973-12-18 | ||
| JPS5231755A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-10 | Hitachi Ltd | Automatic forcusing device |
| JPS5546463A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-01 | Shimadzu Corp | Particle beam irradiating analyzer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60189856A (ja) | 1985-09-27 |
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