JP3672728B2 - 透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置 - Google Patents

透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置 Download PDF

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線を試料に照射し、試料を透過した透過電子により試料の像を得る透過型電子顕微鏡の技術分野に属し、特に、試料を所望の傾斜に傾斜させる透過型電子顕微鏡における自動傾斜装置の技術分野に属する。
【0002】
【従来の技術】
透過型顕微鏡(以下、TEMともいう)は、電子線を試料に照射し、試料を透過した透過電子により試料の高分解能の透過電子像を得て試料の観察を行うばかりでなく、結晶性材料の分子や原子の配列を調べることができる電子回折像、走査透過像あるいはエネルギロス像を得て元素分析をも行うものである。また、近年では、この透過型電子顕微鏡を用いて、透過電子による像だけではなく、試料から反射した反射電子、試料から生じた二次電子やオージェ電子あるいはX線等により、試料表面の形状および構造の観察や試料の元素分析等の種々の分析も行われている。
【0003】
ところで、このTEMにおいては、電子回折パターン等の観察を行う際に、観察試料の入射電子線に対する向き(方位)を調整する必要がある。これは、1つの試料を、異なる方位で観察することにより、試料の結晶構造の知見が得られるからである。この試料の方位合わせは、従来、試料を機械的にx、yの各2軸方向に独立して傾斜する機構(ゴニオメータ)により行われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、試料が傾斜軸上に乗っていないと、試料のこの傾斜軸まわりの傾斜時に、試料の位置ずれが生じるようになる。このため、試料の傾斜時に、目的試料が観察視野よりずれてしまい、方位合わせには多大な手間がかかっている。特に、数十nm程度の微小結晶粒子の方位合わせはきわめて困難になっている。そこで、このような試料の位置の補正を行う必要があるが、従来、透過型顕微鏡には、この位置ずれを積極的に補正する手段が備えられてはいなかった。
【0005】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、試料の結晶の異なる方位のなす角および試料の傾斜により生じる試料の位置ずれを、それぞれ数学的に求め、求めた試料の結晶の異なる方位のなす角に基づいて、試料を、所望の傾斜に自動的に傾斜させるとともにこの試料の傾斜により生じた試料の位置ずれが解消するように自動的にかつ簡単に移動させることのできる透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
前述の課題を解決するために、請求項1の発明は、試料を前後左右方向および上下方向に移動させる試料移動機構と、試料を所定の傾斜角に傾斜する試料傾斜機構と、これらの試料移動機構および試料傾斜機構をそれぞれ制御する電子制御装置とを少なくとも備え、前記試料移動機構により前記試料を前後左右方向および上下方向に移動させて試料の位置を調節するとともに、前記試料傾斜機構により前記試料を所定の傾斜角に傾斜し、この試料に電子ビームを照射して、試料を透過した透過電子を偏向コイルで偏向制御して撮像手段に結像させ、この撮像手段で試料の像を撮影することにより、試料の高分解能の像を得る透過型電子顕微鏡において、前記電子制御装置が、前記撮像手段からの像信号に基づいて、試料の現在の結晶方位で得られる電子回折パターンを得る像認識手段と、この像認識手段からの電子回折パターンの強度分布を解析することにより、現在の結晶方位を計算するとともに、観察しようとする目的の結晶方位に移行するために必要な、前記試料傾斜機構の傾斜方向および傾斜値を計算し、更にこの計算した傾斜方向および傾斜値に基づく前記試料傾斜機構による試料傾斜制御後に生じた位置ずれを計算する解析手段と、前記撮像手段からの像信号に基づいて試料の像を表示する像表示手段と、前記解析手段により計算された前記傾斜方向および前記傾斜値に基づいて前記試料傾斜機構を、前記試料の結晶方位が観察しようとする目的の結晶方位となるように制御するとともに、前記解析手段により計算された前記位置ずれに基づいて前記試料移動機構および前記偏向コイルの少なくとも一方を、この位置ずれが解消するように位置補正制御する位置補正手段とを備え、更に、前記電子制御装置は、前記解析手段によって計算された前記試料傾斜機構の傾斜方向および傾斜値にもとづいて、前記試料傾斜機構によって前記像表示手段の像表示画面から試料の像が外れない程度に試料を微小傾斜させるとともに、この傾斜により生じ、前記解析手段によって計算された試料の前記位置ずれに基づいて前記試料移動機構および前記偏向コイルの少なくとも一方によって試料の前記位置補正制御を行い、これらの試料の微小傾斜および位置補正制御を、前記解析手段によって計算された前記試料傾斜機構の傾斜方向および傾斜値となるまで、繰り返し行うことを特徴としている。
【0007】
また、請求項2の発明は、前記位置補正手段による位置補正制御が、所定精度より粗い精度の位置補正制御のときは前記試料移動機構によって行うとともに、前記所定精度以下の細かい精度の位置補正制御のときは前記偏向コイルによって行うことを特徴としている。
【0009】
【作用】
このような構成をした本発明の透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置においては、TEMにより試料の電子回折パターンの観察を行う際、結晶方位合わせに必要な試料傾斜角が数学的に計算される。この計算された試料傾斜角に基づいて試料が傾斜されるが、このとき、この試料傾斜によって生じた試料の位置ずれが数学的に計算される。そして、この計算された試料の位置ずれが解消するように、試料が自動的に移動される。
その場合、試料の位置ずれが、像表示手段の像表示画面から試料の像が外れない程度となるように、試料の傾斜が微小に制御されるとともに、この微小試料傾斜によって生じた試料の位置ずれが解消するように位置補正制御が行われる。そして、これらの微小試料傾斜および位置補正制御が繰り返し行われることにより、試料の像が像表示手段の像表示画面から外れることなく、試料の傾斜制御および位置補正制御が自動的にかつ簡単に行われるようになる。
【0010】
特に、請求項2の発明においては、試料の比較的大きな位置ずれの場合は、試料移動機構によって所定精度より粗い精度で位置補正制御が機械的に行われるとともに、試料の微少な位置ずれの場合は、偏向コイルによって所定精度以下の細かい精度で位置補正制御が電気的に行われる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明にかかる透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置の実施の形態の一例を模式的に示す図である。
【0013】
図1に示すように、この例の透過型電子顕微鏡1は、従来公知の透過型電子顕微鏡と同様に、鏡筒2の中に電子線を放射する電子銃3と、試料4を載置支持する試料載置台5と、試料4を透過した透過電子を撮像用テレビ(TV)7にフォーカスさせる偏向コイル6と、試料4が所望の位置となるように試料載置台5を水平面内のx、y方向および上下のz方向に移動させる試料移動機構8と、試料4が所望の方向に所望の傾斜角度傾斜するように試料載置台5をx、y軸まわりに傾斜させる試料傾斜機構9とを備えている。
【0014】
更に、この例の透過型電子顕微鏡1には、制御用コンピュータ10が付設されている。この制御コンピュータ10は、撮影用TV7からの像信号に基づいて試料4の像を認識する像認識手段11と、この像認識手段11からの像認識信号に基づいて、方位の角度を算出する解析手段12と、像認識手段11からの像認識信号および解析手段12からの解析信号に基づいて試料像および方位角度を表示する像表示手段13と、解析手段12からの解析信号に基いて試料4の位置補正を行うために、位置補正信号を偏光コイル6、試料移動機構8および試料傾斜機構9にそれぞれ出力して、これらを制御する位置補正手段14とからなっている。
【0015】
次に、このように構成された透過型電子顕微鏡1を用いて電子回折パターンの観察を行う際の自動試料傾斜の動作について説明する。
(1) 現在の結晶方位での電子回折パターンの認識を行う。
すなわち、従来と同様に現在の結晶方位で得られる電子回折パターンを撮影用TV7に撮影するとともに、この撮影用TV7から制御用コンピュータ10の像認識手段11のメモリに取り込み、電子回折パターンを認識する。この電子回折パターンの取込は、図示しないがA/D変換器を備えたハードウェアにより行われるようになっている。また、ここで取り込まれた電子回折パターンは、一般的には不特定の結晶方位からのものであり、観察しようとする目的の結晶方位からではないものとなっている。
【0016】
(2) 現在の結晶方位の計算を行う。
すなわち、像認識手段11は電子回折パターンを認識すると解析手段12へ像認識信号を出力し、解析手段12は電子回折パターンの強度分布を解析することにより、現在の結晶方位を数学的に計算する。この計算方法は種々あるが、例えば、ブラッグ反射を満たす3つのスポットを操作者が指示することにより、方位ベクトルvおよび各反射ベクトルg間の次の数式1
【0017】
【数1】
Figure 0003672728
【0018】
を適用して現在の結晶方位を計算することができる。各反射ベクトルについては、格子定数、加速電圧、カメラ長をもとに電子回折パターンから指数付けを行うことにより、向きと大きさ計算する。
【0019】
(3) 観察に必要な傾斜角の計算を行う。
すなわち、数式1の関係より現在の結晶方位を特定した後、観察目的の結晶方位に移行するために必要な、試料傾斜機構(ゴニオメータ)9の方向および傾斜角を数学的に計算する。
【0020】
(4) 試料4の実像の第1の取込を行う。
すなわち、観察中の試料4の実像を、撮影用TV7を介して制御用コンピュータ10の像認識手段11のメモリに取り込んで画像1(IMG1)とするとともに、この画像1を像表示手段13に表示する。
【0021】
(5) 試料傾斜制御を行う。
すなわち、目的方位に向かって、微小角度(1度〜3度)の試料傾斜を行う。この際、一般的に試料4が機械軸上にないため、この試料傾斜に伴い、試料4の実像は像表示手段13の観察画面上を移動するが、この移動量が微小角度(1度〜3度)の傾斜のため、観察画面から完全に外れない程度の移動量であるので、試料4の実像は像表示手段13の観察画面上に表示された状態が保持される。
【0022】
(6) 試料4の実像の第2の取込を行う。
すなわち、この微小角度(1度〜3度)の試料傾斜により、位置ずれを起こした観察試料4の画像を、前述と同様に撮影用TV7を介して制御用コンピュータ10の像認識手段11のメモリに取り込んで画像2(IMG2)とする。
【0023】
(7) 画像位置ずれの計算を行う。
すなわち、画像1と画像2との相関関数XCF(r)を計算することにより、傾斜に起因する試料の位置ずれ(向き、量)を数学的に計算する。この相関関数は、次の数式2の関係を利用したフーリエ変換で計算する。
【0024】
【数2】
Figure 0003672728
【0025】
このように計算された相関関数に現れるピーク(P(r))の最大点を相当する位置ベクトルRが画像1と画像2との位置ずれ量および方向に対応するようになる。
【0026】
(8) 位置ずれの補正を行う。
すなわち、試料4の移動を、得られた位置ベクトルR、つまり試料傾斜による位置ずれがキャンセルするように、補正に要求される精度に応じて行う。その場合、0.1μ程度の精度で十分な場合は、機械的な試料移動機構8を作動させて、試料4を粗動させるとともに、0.1μ程度以下の精度が必要な場合は、電気的な偏向コイル6によるビーム偏向機能を用いて、試料4を微動する。
【0027】
(9) 自動傾斜シーケンスを行う。
すなわち、前述の(4)〜(8)の各処理を、観察目的方位への移行に必要な傾斜角になるまで繰り返し行う。
このようにして、試料の結晶方位が観察目的方位となるように、試料4が自動的に傾斜制御される。
【0028】
この例の透過型顕微鏡1における自動試料傾斜装置によれば、試料傾斜に起因する試料4の位置ずれをコンピュータによる画像解析で計算し、計算した位置ずれに基づいて、段階的に微小傾斜と位置補正を繰り返すことにより、目的方位を得るために必要な傾斜角まで、試料4が像表示手段13の観察画面から外れることなく、試料傾斜を自動的にかつ簡単に行うことができるようになる。そして、従来非常に困難であった、数十nmの微小結晶の方位合わせがこのように容易となることにより、この例の自動試料傾斜装置は電子回折研究分野においてきわめて有益なものとなる。
【0029】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の透過型顕微鏡における自動試料傾斜装置によれば、結晶方位合わせに必要な試料傾斜角および試料傾斜によって生じた試料の位置ずれを数学的に計算し、計算した試料傾斜角に基づいて試料を自動的に傾斜するとともに、計算した試料の位置ずれが解消するように試料を自動的に移動させているので、目的方位への試料の傾斜および位置ずれ解消のための位置補正制御を自動的にかつ簡単に行うことができるようになる。これにより、従来非常に困難であった、数十nmの微小結晶の方位合わせが容易に可能となることから、本願発明の透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置は、電子回折研究分野においてきわめて有益なものとなる。
その場合、試料の像が像表示手段の観察画面から外れることなく、試料の傾斜制御および位置補正制御を自動的に行うようにしているので、試料の方位合わせおよび位置ずれ補正制御に手間がほとんどかからなくなり、しかもより正確に試料の方位合わせおよび位置ずれ補正制御を行うことができる。
【0030】
特に、請求項2の発明によれば、試料の比較的大きな位置ずれの場合には、試料移動機構により位置補正制御を機械的に行うとともに、試料の微少な位置ずれの場合には、偏向コイルにより位置補正制御を電気的に行うようにしているので、位置補正制御がより効率よく行うことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明にかかる透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置の実施の形態の一例を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1…透過型電子顕微鏡、2…電子銃、4…試料、5…試料載置台、6…偏向コイル、7…撮像用TV、8…試料移動機構、9…試料傾斜機構、10…制御コンピュータ、11…像認識手段、12…解析手段、13…像表示手段、14…位置補正手段

Claims (2)

  1. 試料を前後左右方向および上下方向に移動させる試料移動機構と、試料を所定傾斜角に傾斜する試料傾斜機構と、これらの試料移動機構および試料傾斜機構をそれぞれ制御する電子制御装置とを少なくとも備え、前記試料移動機構により前記試料を前後左右方向および上下方向に移動させて試料の位置を調節するとともに、前記試料傾斜機構により前記試料を所定の傾斜角に傾斜し、この試料に電子ビームを照射して、試料を透過した透過電子を偏向コイルで偏向制御して撮像手段に結像させ、この撮像手段で試料の像を撮影することにより、試料の高分解能の像を得る透過型電子顕微鏡において、
    前記電子制御装置は、前記撮像手段からの像信号に基づいて、試料の現在の結晶方位で得られる電子回折パターンを得る像認識手段と、この像認識手段からの電子回折パターンの強度分布を解析することにより、現在の結晶方位を計算するとともに、観察しようとする目的の結晶方位に移行するために必要な、前記試料傾斜機構の傾斜方向および傾斜値を計算し、更にこの計算した傾斜方向および傾斜値に基づく前記試料傾斜機構による試料傾斜制御後に生じた位置ずれを計算する解析手段と、前記撮像手段からの像信号に基づいて試料の像を表示する像表示手段と、前記解析手段により計算された前記傾斜方向および前記傾斜値に基づいて前記試料傾斜機構を、前記試料の結晶方位が観察しようとする目的の結晶方位となるように制御するとともに、前記解析手段により計算された前記位置ずれに基づいて前記試料移動機構および前記偏向コイルの少なくとも一方を、この位置ずれが解消するように位置補正制御する位置補正手段とを備え
    更に、前記電子制御装置は、前記解析手段によって計算された前記試料傾斜機構の傾斜方向および傾斜値にもとづいて、前記試料傾斜機構によって前記像表示手段の像表示画面から試料の像が外れない程度に試料を微小傾斜させるとともに、この傾斜により生じ、前記解析手段によって計算された試料の前記位置ずれに基づいて前記試料移動機構および前記偏向コイルの少なくとも一方によって試料の前記位置補正制御を行い、これらの試料の微小傾斜および位置補正制御を、前記解析手段によって計算された前記試料傾斜機構の傾斜方向および傾斜値となるまで、繰り返し行うことを特徴とする透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置。
  2. 前記位置補正手段による位置補正制御は、所定精度より粗い精度の位置補正制御のときは前記試料移動機構によって行うとともに、前記所定精度以下の細かい精度の位置補正制御のときは前記偏向コイルによって行うことを特徴とする請求項1記載の透過型電子顕微鏡における自動試料傾斜装置。
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JP2007242514A (ja) * 2006-03-10 2007-09-20 Univ Of Tokyo 透過型電子顕微鏡及びその制御方法
JP5268324B2 (ja) * 2007-10-29 2013-08-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線顕微装置及び顕微方法
KR100995877B1 (ko) 2008-07-23 2010-11-22 한국기계연구원 투과전자현미경의 고니오미터를 이용한 이웃하는 결정립의결정학적 방위관계 측정장치 및 그에 의한 결정립계 특성규명 방법
JP5296578B2 (ja) * 2009-03-10 2013-09-25 日本電子株式会社 電子顕微鏡の自動試料傾斜装置
JP6261178B2 (ja) * 2013-03-27 2018-01-17 株式会社日立ハイテクサイエンス 荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置を用いた試料の加工方法、及び荷電粒子ビーム装置を用いた試料の加工コンピュータプログラム
CN104183453B (zh) * 2014-07-17 2016-08-24 胜科纳米(苏州)有限公司 样品台及显微镜系统
JP6994897B2 (ja) * 2017-10-17 2022-01-14 日本電子株式会社 電子顕微鏡および試料傾斜角の調整方法
WO2024024108A1 (ja) * 2022-07-29 2024-02-01 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法

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