JPS60181300A - 酸性鋼浴かやの鋼被覆層の電着を自動制御する方法 - Google Patents
酸性鋼浴かやの鋼被覆層の電着を自動制御する方法Info
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- JPS60181300A JPS60181300A JP60015669A JP1566985A JPS60181300A JP S60181300 A JPS60181300 A JP S60181300A JP 60015669 A JP60015669 A JP 60015669A JP 1566985 A JP1566985 A JP 1566985A JP S60181300 A JPS60181300 A JP S60181300A
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- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/416—Systems
- G01N27/42—Measuring deposition or liberation of materials from an electrolyte; Coulometry, i.e. measuring coulomb-equivalent of material in an electrolyte
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、最大電流密度を測定し、かつ設定値からの偏
差を検出した時に光沢剤を連続的に自動調量することに
よって、酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制御する
方法に関する。
差を検出した時に光沢剤を連続的に自動調量することに
よって、酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制御する
方法に関する。
従来技術
メッキ浴で電気メッキを行なう場合、次のような成分が
定常的に消費される。つまり、メッキ条件を均一に保持
し、従って所望品質のメッキ層を得るため定常的に調量
される成分である。
定常的に消費される。つまり、メッキ条件を均一に保持
し、従って所望品質のメッキ層を得るため定常的に調量
される成分である。
その場合、過小調量ないし過大調量を避けるために、各
成分のその都度の濃度を前もって検出しなければならな
い。金属イオンの濃度検出の問題は、分析的方法および
導電度測定によって既に解決されている。これに対して
、光沢剤ないし抑制剤として極めて重要な役割を果たす
成分の濃度を監視し、補充するといつ問題は５寸だ解決
されていない。このような物質は、電流を流している間
に定常的に消費されるが、その監視は困難である。なぜ
なら、これらの物質は圧倒的に多数の有機物質の混合物
から成るからである。つまり、これらの物質の濃度は非
常に低い上に場合によって異なっており、またその分解
ないし解体も状況によって異なるのである。
成分のその都度の濃度を前もって検出しなければならな
い。金属イオンの濃度検出の問題は、分析的方法および
導電度測定によって既に解決されている。これに対して
、光沢剤ないし抑制剤として極めて重要な役割を果たす
成分の濃度を監視し、補充するといつ問題は５寸だ解決
されていない。このような物質は、電流を流している間
に定常的に消費されるが、その監視は困難である。なぜ
なら、これらの物質は圧倒的に多数の有機物質の混合物
から成るからである。つまり、これらの物質の濃度は非
常に低い上に場合によって異なっており、またその分解
ないし解体も状況によって異なるのである。
発明の解決すべき問題点
このような物質の実際の状態を分析的方法により検出す
ることは、以前から提案されている。
ることは、以前から提案されている。
その場合、特性図の直線を評価し、かつ周期的な電量計
による測定を行なう（［メッキと表面仕上げ（Ｐｌａｔ
ｉｎｇ ａｎｄ ５ｕｒｆａｃｅ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ
） Ｊ第６５巻１９７８年５月号６０頁以下、および
第６９巻１９８２年３月号６２頁以下を参照）。
による測定を行なう（［メッキと表面仕上げ（Ｐｌａｔ
ｉｎｇ ａｎｄ ５ｕｒｆａｃｅ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ
） Ｊ第６５巻１９７８年５月号６０頁以下、および
第６９巻１９８２年３月号６２頁以下を参照）。
このような方法の使用は、ドイツ連邦共和国特許出願公
開第２７５７４５８号公報にも記載されている。しかし
この場合は、断続的な処理しか行なえず、また付加的に
２つの基準電解質を必要とする。
開第２７５７４５８号公報にも記載されている。しかし
この場合は、断続的な処理しか行なえず、また付加的に
２つの基準電解質を必要とする。
公知の方法では、連続作動を行なうことができない。
本発明の課題は、測定しかつ光沢剤を連続的に調量する
ことによって、最適の物理特性を有する銅被覆層の電着
全自動制御する方法を提供することである。
ことによって、最適の物理特性を有する銅被覆層の電着
全自動制御する方法を提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明によればこの課題は、特許請求の範囲第１項記載
の方法によって解決される。
の方法によって解決される。
実施態様環には、本発明の有利な実施態様が記載されて
いる。
いる。
（５）
本発明の方法によれば、陰極および陽極の材料とは無関
係に、最適の物理特性および電気特性を有する銅被覆層
を電着することができる。
係に、最適の物理特性および電気特性を有する銅被覆層
を電着することができる。
この方法における技術的な利点は、被覆層の品質に影響
を与えることなく、陰極の種類および陰極面を連続的に
交換できることである。また本発明の方法によって、光
沢剤を自動で調量することができる。
を与えることなく、陰極の種類および陰極面を連続的に
交換できることである。また本発明の方法によって、光
沢剤を自動で調量することができる。
本発明の方法は周期的な電量的測定によって実；１１！
！ｉされる。この場合関数発生器によって、有利には銀
／塩化銀電極である基準電極と回転する白金円板電極と
の間の電位を、転換点−０，２ｖ〜＋１．８ｖの間で１
００ ｍＶ／ｓの速度で周期的に変化させる。
！ｉされる。この場合関数発生器によって、有利には銀
／塩化銀電極である基準電極と回転する白金円板電極と
の間の電位を、転換点−０，２ｖ〜＋１．８ｖの間で１
００ ｍＶ／ｓの速度で周期的に変化させる。
銅の酸性電解浴では、銀／塩化銀電極に対して約＋０．
３Ｖである場合に、目標値としてのピークが陽極領域に
生じる。このピークの大きさは電気制御装置によって監
視され、場合によっては相応の調量パルスが所望の光沢
剤を有する調量ポンプへ送られる。電解を行なっている
間（６） にピークが小さくなると、光沢剤の調量によって再び定
常値へ復帰させる。
３Ｖである場合に、目標値としてのピークが陽極領域に
生じる。このピークの大きさは電気制御装置によって監
視され、場合によっては相応の調量パルスが所望の光沢
剤を有する調量ポンプへ送られる。電解を行なっている
間（６） にピークが小さくなると、光沢剤の調量によって再び定
常値へ復帰させる。
電子制御装置、つ捷りコンパレータは、増幅器つまりポ
テンシオスタットにより最大値で発生した電圧を、はぼ
２つのサイクルの時間、有利には１分の間に比較する。
テンシオスタットにより最大値で発生した電圧を、はぼ
２つのサイクルの時間、有利には１分の間に比較する。
この２つのサイクルの間に、所望の極性を有する所望電
圧が短時間で発生しない場合には、本発明によって調量
ポンプに対する調量パルスを発生する。
圧が短時間で発生しない場合には、本発明によって調量
ポンプに対する調量パルスを発生する。
この場合、系を安定化するため、比較によって新たな測
定を行う前に、また目標値からの偏差がある場合には新
しく光沢剤を調量する前に、約２分間の待ち時間を置く
。
定を行う前に、また目標値からの偏差がある場合には新
しく光沢剤を調量する前に、約２分間の待ち時間を置く
。
本発明の方法によれば、極めて均一な銅の被着を行なう
ことができる。従来の方法につきものであった障害、つ
捷り、いわゆるパネルメッキやパターンメッキで陽極の
種類を交換する時に生じる障害や、動作休止期間の後あ
るいは陽極を清浄にした後に生じる障害は、防止される
。
ことができる。従来の方法につきものであった障害、つ
捷り、いわゆるパネルメッキやパターンメッキで陽極の
種類を交換する時に生じる障害や、動作休止期間の後あ
るいは陽極を清浄にした後に生じる障害は、防止される
。
電子的な情報処理の速度が速いので、浴の組成変化を即
座に検出し、補償することができる。
座に検出し、補償することができる。
それによって、しｌえば従来の方法によりプリント回路
を製造する際に発生していた使用不能プリント回路板の
数を大幅に減らすことができる。
を製造する際に発生していた使用不能プリント回路板の
数を大幅に減らすことができる。
本発明の方法を実施するために、公知のＶＡ検出器およ
びＶＡスキャナ、ならびにポーラログラフイーおよび電
量測定を行なう通常の装置を、電気制御および調量装置
と組合わせて用いることができる。
びＶＡスキャナ、ならびにポーラログラフイーおよび電
量測定を行なう通常の装置を、電気制御および調量装置
と組合わせて用いることができる。
酸性銅浴としては、公知の組成を有するあらゆる電解液
を用いることができるが、一般的には次の基本的な組成
の電解液が使用される。
を用いることができるが、一般的には次の基本的な組成
の電解液が使用される。
硫酸銅（０口８０４・５Ｈ２０） ５０〜２５０グ／を
有利には ６０〜８０ グ／を 硫酸 ５０〜２５０ ｆ／を 有利には １８０〜２５ Ｏｆ／／を 塩ｆヒナトリウム ０．０５〜０．２５ ｆ／を有利に
は ０．０６〜ｏ、ｔｏｙ／ｚ 硫酸銅の代わりに、他の銅塩を少くとも部分的１に使用
することができる。硫酸の一部寸たは全部を弗化ホウ酸
その他の酸と置換えてもよい。
有利には ６０〜８０ グ／を 硫酸 ５０〜２５０ ｆ／を 有利には １８０〜２５ Ｏｆ／／を 塩ｆヒナトリウム ０．０５〜０．２５ ｆ／を有利に
は ０．０６〜ｏ、ｔｏｙ／ｚ 硫酸銅の代わりに、他の銅塩を少くとも部分的１に使用
することができる。硫酸の一部寸たは全部を弗化ホウ酸
その他の酸と置換えてもよい。
浴はこれ以外に通常の光沢剤を含んでいる。
銅浴の動作条件は以下の通りである。
ｐＨ値 ：１以下
温度 ＝１５〜３５℃、有利には２５℃電流密度：０．
５〜ｇ Ａ／ｄｒｒ？ 有利ては２〜４ Ａ／ｄｒｒ？ 電解液は空気を吹込んで攪拌される。
５〜ｇ Ａ／ｄｒｒ？ 有利ては２〜４ Ａ／ｄｒｒ？ 電解液は空気を吹込んで攪拌される。
本発明の制御方法には次のノ（ラメータが有利に用いら
れる。
れる。
第１の転換点： −０，１Ｖ 〜−０，４Ｖ第２の転換
点： ＋１．６ Ｖ〜＋２．Ｏｖ以上の例では銀／塩化
銀電極が用いられる。
点： ＋１．６ Ｖ〜＋２．Ｏｖ以上の例では銀／塩化
銀電極が用いられる。
電位変化の速度：１０〜１０１００Ｏ／Ｓ有利には１０
０ｍＶ／ｓ ピークの最大値： ＋ ０．３３５ Ｖ±０．０７ Ｖ
また直流電圧が使用される。ｄｘｌＯＡの電流が１ｖの
電圧に増幅され、評価され−る。
０ｍＶ／ｓ ピークの最大値： ＋ ０．３３５ Ｖ±０．０７ Ｖ
また直流電圧が使用される。ｄｘｌＯＡの電流が１ｖの
電圧に増幅され、評価され−る。
動作成極および対向電極は白金または白金の合金とする
のが有利である。ただし対向電極は（９） 銅または銅合金としてもよい。動作電極の回転速度は５
００〜３０００ ｒ、ｐ、ｍ、有利には２５００ｒ＝ｐ
＋ｍである。プラチナコアの直径は約３．ｍｍである。
のが有利である。ただし対向電極は（９） 銅または銅合金としてもよい。動作電極の回転速度は５
００〜３０００ ｒ、ｐ、ｍ、有利には２５００ｒ＝ｐ
＋ｍである。プラチナコアの直径は約３．ｍｍである。
実施例
次に、実施例を参照しながら本発明について詳しく説明
する。
する。
第１図は、本発明の方法に用いられるコン・々レータの
ブロック図を示している。
ブロック図を示している。
第１図の参照数字は次の素子を意味している１：コンパ
レータ ２：第１タイマ（４０〜９０Ｓ） ３：第２タイマ（３０ｓ） ４：第３タイマ（１，５ｓ） ５：第４タイマ（２ｍｉｎ ） ６：第１調量ポンプ ７：第２調量ポンプ ８：スキャナＳ 図に示す電圧値がｌ ’ｅｉｎ Ｉ＞ＩＵ、ｅｌ １で
ある間（１０） は、三角電圧が加わるたびにパルスが発生し、このパル
スによって第１タイマ２がリセットされる。
レータ ２：第１タイマ（４０〜９０Ｓ） ３：第２タイマ（３０ｓ） ４：第３タイマ（１，５ｓ） ５：第４タイマ（２ｍｉｎ ） ６：第１調量ポンプ ７：第２調量ポンプ ８：スキャナＳ 図に示す電圧値がｌ ’ｅｉｎ Ｉ＞ＩＵ、ｅｌ １で
ある間（１０） は、三角電圧が加わるたびにパルスが発生し、このパル
スによって第１タイマ２がリセットされる。
電圧値が１−Ｕｅ、ｎ＋＜１０ｒｅ（＋になると、この
パルスは現われない。そのため、第１タイマ２が動作を
開始し、第２タイマ３、第３タイマ４が相応の時間で調
量を開始させる。
パルスは現われない。そのため、第１タイマ２が動作を
開始し、第２タイマ３、第３タイマ４が相応の時間で調
量を開始させる。
このコンパレータ１にｌｄ、２つの異なる調量時間がセ
ットされている。従って、種類の異なる第１調量ポンプ
６および第２調量ポンプ７が設けられている。スイッチ
Ｓによって調量時間が選択される。この調量時間が経過
した後第４タイマ５が動作を開始する。これによって、
時間Ｔ４の量刑の調量が行なわれることは防止され、調
量系の安定化がはかられる。この点については第２図に
基いて説明する。
ットされている。従って、種類の異なる第１調量ポンプ
６および第２調量ポンプ７が設けられている。スイッチ
Ｓによって調量時間が選択される。この調量時間が経過
した後第４タイマ５が動作を開始する。これによって、
時間Ｔ４の量刑の調量が行なわれることは防止され、調
量系の安定化がはかられる。この点については第２図に
基いて説明する。
第２図に示す測定装置は次の素子から成っている。
２１：関数発生器（ＶＡスキャナ６１２）２２：ポテン
シオスタッ）（Ｖ４検出器６１１）２３：コンパレータ ２４：調量ポンプ 第３図は第１図のコンパレータを用いた別の測定装置が
示されている。ここでは、光沢剤の一部が積算電流計を
介して調量される。
シオスタッ）（Ｖ４検出器６１１）２３：コンパレータ ２４：調量ポンプ 第３図は第１図のコンパレータを用いた別の測定装置が
示されている。ここでは、光沢剤の一部が積算電流計を
介して調量される。
第３図の参照番号は次の素子を意味している。
３１：関数発生器
３２：ポテンシオスタット
３３：コンパレータ
３４：第１調量ポンプ
３５：第２調量ポンプ
３６：積算電流計
第４図は本発明で使用される別のコンパレータのブロッ
ク図である。ここでは２段コンパレータが使用される。
ク図である。ここでは２段コンパレータが使用される。
第４図の参照数字は次の素子を表わしている。
４１ココンパレータ
４２：第１タイマ
４３：第２タイマ
４４：第３タイマ
４５：第４タイマ
４６：第１調量ポンプ
４７：第２調量ポンプ
４８：スイッチＳ
この実施例では２つの基準電圧が設定され、両者の間に
はＩＵｒｅｆｌｌ＜１Ｕｒｅｆ２１の関係がある。
はＩＵｒｅｆｌｌ＜１Ｕｒｅｆ２１の関係がある。
１Ｕｒｅｆ１１を下回ると、第１調量ポンプ４６が制御
される。これに対して” ｒｅｆ２ ’を上回ると、第
２調量ポンプ４７が制御され、２つの光沢剤が調量され
る。との点については第５図を見れば明らかである。
される。これに対して” ｒｅｆ２ ’を上回ると、第
２調量ポンプ４７が制御され、２つの光沢剤が調量され
る。との点については第５図を見れば明らかである。
第５図に示す測定装置は次の素子を有している。
５１：関数発生器
（１３）
５２：ポテンシオスタット
５３：２段コンパレータ
５４：第１調量ポンプ
５５：第２調量ポンプ
第６図は測定セルの断面図を示している。ここで参照番
号は次の素子を示している。
号は次の素子を示している。
６１：排出管および供給管を有する容器６２：回転円板
電極 ６３：対向電極（白金〕 ６４：基準電極（銀／塩化銀） いくつかの場合には、連続的に希釈された状態で本発明
による測定を行なうのが有利なこともある。その場合、
１：９までは水によって希釈し、１：９９９までは添加
剤を含んでいない ７銅の電解質、希硫酸、あるいはア
ルカリ塩またはアルカリ土類塩の水溶液によって希釈す
る。
電極 ６３：対向電極（白金〕 ６４：基準電極（銀／塩化銀） いくつかの場合には、連続的に希釈された状態で本発明
による測定を行なうのが有利なこともある。その場合、
１：９までは水によって希釈し、１：９９９までは添加
剤を含んでいない ７銅の電解質、希硫酸、あるいはア
ルカリ塩またはアルカリ土類塩の水溶液によって希釈す
る。
例１
（１４）
硫酸鋼（０ｕＳＯ４・５ Ｈ２Ｏ） ８０ ｆｌ／１硫
酸（濃） １８０ ｆ／を 塩化ナトリウム ０．０８ ｆｌｔ 上のような組成の銅浴に、２硫化物／ポリグリコールを
主成分とする通常の光沢剤を添加する。
酸（濃） １８０ ｆ／を 塩化ナトリウム ０．０８ ｆｌｔ 上のような組成の銅浴に、２硫化物／ポリグリコールを
主成分とする通常の光沢剤を添加する。
陽極としては直径１２謹の銅球を用いる。この銅球は０
．０４％のリンを含み、チタン製の籠の中に入っている
。
．０４％のリンを含み、チタン製の籠の中に入っている
。
浴には、２ｘｈ／ｚの電流が給電され、通常の方法に従
い、１００００Ａｈに対して上述の光沢剤を３ ｋｇ調
量する。１０ Ａｈ／ｌに達した時、清浄にするため陽
極を電解液から取出す。その後、以前と同じようにして
処理を続行する。
い、１００００Ａｈに対して上述の光沢剤を３ ｋｇ調
量する。１０ Ａｈ／ｌに達した時、清浄にするため陽
極を電解液から取出す。その後、以前と同じようにして
処理を続行する。
品質判定のだめのパラメータとしては、外観、破断延び
率、穿孔内における被着層の均一性、および限界電流密
度が選ばれている。
率、穿孔内における被着層の均一性、および限界電流密
度が選ばれている。
その結果を次表に示す。
八ｈ／ｌ 外観 破断延び率 均一性 限界電流密度％
Ａ／ｄｉ Ｏ無光沢 ５ 不良 ６．０ ２ 良 １８ 可 ５．５ ４ 無光沢 ２４ 良 ４．５ ６ 良 ２０ 良 ５．５ ８ 良 ２０ 良 ６．０ １０ 良 ２２ 良 ６．０ 清浄 １２ 無光沢 ７ 不良 ６．０ １４ 良 １７ 可 ５．５ １６ 無光沢 ２５ 良 ４．５ １８ 良 ２０ 良 ５．５ ２０ 良 ２１ 良 ６．０ 上のテストを、本発明の方法によってもう１度行なう。
Ａ／ｄｉ Ｏ無光沢 ５ 不良 ６．０ ２ 良 １８ 可 ５．５ ４ 無光沢 ２４ 良 ４．５ ６ 良 ２０ 良 ５．５ ８ 良 ２０ 良 ６．０ １０ 良 ２２ 良 ６．０ 清浄 １２ 無光沢 ７ 不良 ６．０ １４ 良 １７ 可 ５．５ １６ 無光沢 ２５ 良 ４．５ １８ 良 ２０ 良 ５．５ ２０ 良 ２１ 良 ６．０ 上のテストを、本発明の方法によってもう１度行なう。
ピークの大きさは＋３５０ｍＶに固定される。また調量
は自動的に行なわれ、光沢剤の量は３．３ ｋＶ／ １
００００Ａｈである。清浄にした後における電解液の一
時的変動は補償される。
は自動的に行なわれ、光沢剤の量は３．３ ｋＶ／ １
００００Ａｈである。清浄にした後における電解液の一
時的変動は補償される。
その結果を次に示す。
Ａｈ／ｌ 外観 破断延び率 均一性 限界電流密度チ
ｋ／ｄｄ Ｏ無光沢 ５ 不良 ６．０ ２ 良 １８ 可 ５．５ ４ 良 ２２ 良 ６．０ ６ 良 ２２ 良 ６．０ ８ 良 ２２ 良 ６．０ １０ 良 ２２ 良 ６．０ 清浄 １２ 良 １７ 可 ５．５ １４ 良 ２２ 良 ６．０ １６ 良 ２３ 良 ６．０ １８ 良 ２２ 良 ６．０ ２０ 良 ２３ 良 ６．０ この表から分るように、本発明の方法によれば生産物の
品質は極めて均一になる。不良品は出ない。またこの場
合、第２図の測定装置を使用した。
ｋ／ｄｄ Ｏ無光沢 ５ 不良 ６．０ ２ 良 １８ 可 ５．５ ４ 良 ２２ 良 ６．０ ６ 良 ２２ 良 ６．０ ８ 良 ２２ 良 ６．０ １０ 良 ２２ 良 ６．０ 清浄 １２ 良 １７ 可 ５．５ １４ 良 ２２ 良 ６．０ １６ 良 ２３ 良 ６．０ １８ 良 ２２ 良 ６．０ ２０ 良 ２３ 良 ６．０ この表から分るように、本発明の方法によれば生産物の
品質は極めて均一になる。不良品は出ない。またこの場
合、第２図の測定装置を使用した。
例２
硫酸銅（０ｕＳＯ４・５Ｈ２０） ２００ ｆ／１（１
７〕 硫酸 ６０ ｆ／を 塩化ナトリウム ０．１９／を 上のような組成の銅浴に、２硫化物／ポリグリコールを
主成分とする通常の光沢剤と、サフラニン染料を主成分
とする通常の光沢剤を添加する。陽極としては、０．０
４％のリンを含むビレット状の陽極が用いられる。
７〕 硫酸 ６０ ｆ／を 塩化ナトリウム ０．１９／を 上のような組成の銅浴に、２硫化物／ポリグリコールを
主成分とする通常の光沢剤と、サフラニン染料を主成分
とする通常の光沢剤を添加する。陽極としては、０．０
４％のリンを含むビレット状の陽極が用いられる。
電解液には、まず通常の方法によってｌ ＱＫＡｈ当り
０．５に９の光沢剤が調量される。５６時間の使用時間
の後、調量が再開される。品質の判定は、外観、平滑度
、限界電流密度によって行なわれる。
０．５に９の光沢剤が調量される。５６時間の使用時間
の後、調量が再開される。品質の判定は、外観、平滑度
、限界電流密度によって行なわれる。
実験の結果を次表に示す。
Ａｈ／Ｌ 外観 平滑度 限界電流密度％ Ｉ’ｙ／ｄ
ｄ Ｏ良 ６０ １０ ２ 良 ６０ １０ ５６時間の使用時間 やや不良になる ４０ ６ ４ はぼ良 ５０ ８ ６ 良 ６０ １０ （１８） 以上と同じ試験を、本発明の方法によってもう１度行な
う。浴は、通常のように水で１：９の比で希釈され、第
５図の測定装置によって調量される。第１調量ポンプ５
４で第１の光沢剤が使用され、第２調量ポンプ５５では
第２の光沢剤が使用される。第１の基準電圧の大きさは
＋１５００ｍＶであり、第２の基準電圧は１７００ｍＶ
に調整される。
ｄ Ｏ良 ６０ １０ ２ 良 ６０ １０ ５６時間の使用時間 やや不良になる ４０ ６ ４ はぼ良 ５０ ８ ６ 良 ６０ １０ （１８） 以上と同じ試験を、本発明の方法によってもう１度行な
う。浴は、通常のように水で１：９の比で希釈され、第
５図の測定装置によって調量される。第１調量ポンプ５
４で第１の光沢剤が使用され、第２調量ポンプ５５では
第２の光沢剤が使用される。第１の基準電圧の大きさは
＋１５００ｍＶであり、第２の基準電圧は１７００ｍＶ
に調整される。
最初のうち、光沢剤の調量は約０．５ ｋｇ／ １０ｋ
Ａ、ｈに調整されている。５６時間の使用時間の後、本
発明の電量監視方法によって、２つの光沢剤の不足が検
出される。その結果、約０．２ｍｌ／ｌの第１の光沢剤
と、 ０ 、１ ｍｌ／ｌの第１の光沢剤が自動的に調
量される。この時初めて、調量速度が約０．５ｋＶ／１
０ ｋＡＩ＋に調整される。この調量の結果は次表に示
されている。
Ａ、ｈに調整されている。５６時間の使用時間の後、本
発明の電量監視方法によって、２つの光沢剤の不足が検
出される。その結果、約０．２ｍｌ／ｌの第１の光沢剤
と、 ０ 、１ ｍｌ／ｌの第１の光沢剤が自動的に調
量される。この時初めて、調量速度が約０．５ｋＶ／１
０ ｋＡＩ＋に調整される。この調量の結果は次表に示
されている。
Ａｈ／ｌ 外観 平滑度 限界電流密度チ Ａ／ｄ ｎ
？ ０ 良 ６０ １０ ２ 良 ６０ １０ 使用時間５６１１ 良 ６０ １０ ４ 良 ６０ １０ ６ 良 ６０ １０ 上の表から分るように、本発明の方法によって外観、平
滑度、および限界電流密度のいずれについても改善が見
られる。
？ ０ 良 ６０ １０ ２ 良 ６０ １０ 使用時間５６１１ 良 ６０ １０ ４ 良 ６０ １０ ６ 良 ６０ １０ 上の表から分るように、本発明の方法によって外観、平
滑度、および限界電流密度のいずれについても改善が見
られる。
列３
次に、Ｆ１２で説明した試験を第３図の装置によって実
施する。この場合、第２の光沢剤は積算電流計により第
１調量ポンプ３４を介して調量する。第１の光沢剤は、
本発明の電量監視方法に従って第２調量ポンプ３５を介
して調量される。ここでの基準電圧は＋１５００ｍＶで
ある。
施する。この場合、第２の光沢剤は積算電流計により第
１調量ポンプ３４を介して調量する。第１の光沢剤は、
本発明の電量監視方法に従って第２調量ポンプ３５を介
して調量される。ここでの基準電圧は＋１５００ｍＶで
ある。
この試験の結果を次表に示す。
ｈｈ／ｉ 外観 平滑度 限界電流密度チ Ｎ／ｄｔｒ
？ ０ 良 ６０ １０ ２ 良 ６０ １０ 使用時間５６ｈ はぼ良 ５０ ８ ４ 良 ６０ １０ ６ 良 ６０ １０ 上の表から分るように、第３図に示す簡単な装置を用い
ても、例２の第１の試験結果と比べて著しい改善が見ら
れる。
？ ０ 良 ６０ １０ ２ 良 ６０ １０ 使用時間５６ｈ はぼ良 ５０ ８ ４ 良 ６０ １０ ６ 良 ６０ １０ 上の表から分るように、第３図に示す簡単な装置を用い
ても、例２の第１の試験結果と比べて著しい改善が見ら
れる。
発明の効果
本発明の方法によれば、陰極および陽極の材料とは無関
係に、最適の物理特性および電気特性を有する銅被覆層
を電着することができる。
係に、最適の物理特性および電気特性を有する銅被覆層
を電着することができる。
第１図は本発明の方法に用いられるコンノくレータを示
す図、第２図は本発明の方法を実施する測定装置を示す
ブロック図、第３図は第１図のコンパレータを用いた別
の測定装置を示すフ゛（２１） ロック図、第４図は本発明の方法に用いられる別のコン
パレータのブロック図、第５図は測定装置の別の実施例
を示すブロック図、第６図は測定セルの断面を示す図で
ある。 １．２３，３３，４１．５３・・・コンパレータ、２
、３ 、４ 、５ 、４２ 、４３ 、４４ 、４．５
・・・タイマ％ ６，７，２４，３４．．３５，４６，
４７゜５４．５５・・・調量ポンプ、２１，３１，５］
・・・関数発生器、２２，３２．５２・・・ポテンシオ
スタット、２５，３７．５６・・・電子的セル、３６・
・・積算電流計、６１・・・容器、６２，６３．６４・
・・電極。 （２２１
す図、第２図は本発明の方法を実施する測定装置を示す
ブロック図、第３図は第１図のコンパレータを用いた別
の測定装置を示すフ゛（２１） ロック図、第４図は本発明の方法に用いられる別のコン
パレータのブロック図、第５図は測定装置の別の実施例
を示すブロック図、第６図は測定セルの断面を示す図で
ある。 １．２３，３３，４１．５３・・・コンパレータ、２
、３ 、４ 、５ 、４２ 、４３ 、４４ 、４．５
・・・タイマ％ ６，７，２４，３４．．３５，４６，
４７゜５４．５５・・・調量ポンプ、２１，３１，５］
・・・関数発生器、２２，３２．５２・・・ポテンシオ
スタット、２５，３７．５６・・・電子的セル、３６・
・・積算電流計、６１・・・容器、６２，６３．６４・
・・電極。 （２２１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 最大電流密度を測定し、かつ設定値からの偏差を検
出した時に光沢剤を連続的に自動調量することによって
、酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制御する方法に
おいて、周期的な電量測定によって最大電流密度を測定
し、電子調量装置を用いた自動調量によって設定値から
の偏差を補償する、ことを特徴とする酸性銅浴からの銅
被覆層の電着を自動制御する方法。 ２ 測定のために関数発生器を使用し、該関数発生器に
よって基準電極と回転白金円板電極との間の電位を、転
換点−〇、２■および＋１．８Ｖの間で１００ ｍＶ／
ｓの速度で周期的に変化させる特許請求の範囲第１項
記載の酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制御する方
法。 ３ 銀／塩化銀電極に対して設定値が＋〇、３ Ｖであ
る特許請求の範囲第１項記載の酸性銅浴からの銅被覆層
の電着を自動制御する方法。 ４ 電子制御装置によって設定値を監視し、設定値から
の偏差を検出した時に前記電気制御装置によって調量ポ
ンプへ調量パルスを伝送し、該調量ポンプを作動させる
特許請求の範囲第１項記載の酸性銅浴からの銅被覆層の
電着を自動制御する方法。 ５ 電子制御装置がコンパレータであり、該コンパレー
タによって、はぼ２サイクルの時間の間にその最大値で
発生した電圧を相互に比較する特許請求の範囲第１項記
載の酸性鋼浴からの銅被覆層の電着を自動制御する方法
。 ６ 系を安定化させるために、調量を行った後で次の測
定を行なう前に、約２分の待ち時間を置く特許請求の範
囲第１項記載の酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制
御する方法。 ７、ｐＨ値が１以下の酸性銅浴を使用する特許請求の範
囲第１項記載の酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制
御する方法。 ８ 付加光沢剤として通常の光沢剤を使用する特許請求
の範囲第１項記載の酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自
動制御する方法。 ９ 使用陽極または陰極の材料と無関係に、最適の物理
特性を有する銅被覆層を形成し、プリント回路板上の導
体路を強化し、導体または不導体上に金属層を形成する
特許請求の範囲第１項から第８項のいずれか１項記載の
酸性銅浴からの銅被覆層の電着を自動制御する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3404267.9 | 1984-02-03 | ||
| DE19843404267 DE3404267A1 (de) | 1984-02-03 | 1984-02-03 | Verfahren zur vollautomatischen steuerung der galvanischen abscheidung von kupferueberzuegen aus sauren kupferbaedern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60181300A true JPS60181300A (ja) | 1985-09-14 |
Family
ID=6227011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60015669A Pending JPS60181300A (ja) | 1984-02-03 | 1985-01-31 | 酸性鋼浴かやの鋼被覆層の電着を自動制御する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4624857A (ja) |
| EP (1) | EP0154705B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60181300A (ja) |
| DE (2) | DE3404267A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3737489A1 (de) * | 1987-11-02 | 1989-05-18 | Schering Ag | Verfahren zur kontrolle und/oder steuerung von metallisierungsprozessen und vorrichtung hierfuer |
| DE3813429A1 (de) * | 1988-04-18 | 1989-10-26 | Schering Ag | Chronoamperometrische und chronopotentiometrische messungen zur kontrolle und steuerung von galvanischen kupferabscheidungen |
| US5117370A (en) * | 1988-12-22 | 1992-05-26 | Ford Motor Company | Detection system for chemical analysis of zinc phosphate coating solutions |
| US5124011A (en) * | 1989-10-24 | 1992-06-23 | Inco Limited | Cyclic voltammetry |
| KR100201377B1 (ko) * | 1995-10-27 | 1999-06-15 | 김무 | 다성분 도금용액의 농도조절장치 |
| DE19911447C2 (de) * | 1999-03-08 | 2001-10-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum analytischen Ermitteln der Konzentration von Zusatzstoffen in galvanischen Metallabscheidebädern |
| US6627066B1 (en) | 1999-08-30 | 2003-09-30 | Ebara Corporation | Method of measuring the concentration of a leveler in a plating liquid |
| CN107447237B (zh) * | 2016-05-30 | 2021-04-20 | 史莱福灵有限公司 | 具有降低的接触噪声的滑环 |
| CL2018003073A1 (es) * | 2018-10-29 | 2018-11-30 | Gallegos Riedemann Alejo | Proceso de reducción redox de metales disueltos mediante el control del potencial catódico y/o cociente adimensional, variando flujos y corrientes |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS57149499A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-16 | C Uyemura & Co Ltd | Method of automatic supplying brightner for plating |
| JPS58217700A (ja) * | 1982-06-10 | 1983-12-17 | Toshiba Corp | 電気めっき液添加剤補充装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3506546A (en) * | 1966-01-03 | 1970-04-14 | Honeywell Inc | Copper coating |
| GB1476180A (en) * | 1973-06-26 | 1977-06-10 | Skf Cie Applic Mecanique | Determination of mechanical properties at each position on a member and the field of residual or elastic stresses occuring there |
| US4132605A (en) * | 1976-12-27 | 1979-01-02 | Rockwell International Corporation | Method for evaluating the quality of electroplating baths |
| DE2746938C2 (de) * | 1977-10-17 | 1987-04-09 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und rißfreien Kupferüberzügen und Verwendung dieses Bades |
| JPS6016517B2 (ja) * | 1979-12-29 | 1985-04-25 | 上村工業株式会社 | 無電解めつき制御方法 |
| DE3004149A1 (de) * | 1980-02-05 | 1981-08-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur reproduzierbaren herstellung metallischer schichten |
| US4315518A (en) * | 1980-06-30 | 1982-02-16 | Western Electric Company, Inc. | Methods of and system for controlling copper concentration in a solution |
-
1984
- 1984-02-03 DE DE19843404267 patent/DE3404267A1/de not_active Ceased
- 1984-12-13 EP EP84115374A patent/EP0154705B1/de not_active Expired
- 1984-12-13 DE DE8484115374T patent/DE3479823D1/de not_active Expired
-
1985
- 1985-01-31 JP JP60015669A patent/JPS60181300A/ja active Pending
- 1985-02-04 US US06/698,422 patent/US4624857A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57149499A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-16 | C Uyemura & Co Ltd | Method of automatic supplying brightner for plating |
| JPS58217700A (ja) * | 1982-06-10 | 1983-12-17 | Toshiba Corp | 電気めっき液添加剤補充装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0154705A2 (de) | 1985-09-18 |
| DE3404267A1 (de) | 1985-08-08 |
| EP0154705A3 (en) | 1986-11-12 |
| EP0154705B1 (de) | 1989-09-20 |
| DE3479823D1 (en) | 1989-10-26 |
| US4624857A (en) | 1986-11-25 |
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