JPS6016517B2 - 無電解めつき制御方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無電解ニッケルめつき等の無電解めつきの制御
方法に関し、更に詳述すれば長期間に亘り安定して蓮続
めつき作業を行なうことを可能にした無電解めつき制御
方法に関する。

無電鱗めつき液はその使用により金属塩、還元剤等がわ
ずかな時間で消耗し、液組成の変動が激しいため、ひん
ぱんに消耗薬品の補給を行なって析出速度、めつき被膜
の性状等を一定にする必要があり、このため種々の無電
鱗めつき液自動制御乃至補給装置もしくは方法が提案さ
れている（特開昭５３−４４４３４号、同５３一４５６
３１号、同５４−８１２３号等）。

しかし、無電解めつき液、例えば高温用酸性無電解ニッ
ケルめつき液や無電解銅めつき液は、液寿命が短かく、
上述した自動補給法によるにせよ、或いは必要時に手に
より補給液を補給する方法によるにせよ、比較的短時間
で液が老化し、金属イオン濃度や還元剤濃度等を建浴初
期と同じ濃度になるように補給しても析出速度が建浴初
期と比べて著しく低下し、まためつき被膜の性状もかな
り変化したものになる。

こうなると液を廃棄し、新たな液を蓬浴しなければなら
ない。このため、上述した無電解めつき液の自動制御法
を採用して補給液を自動補給する場合にあっても、これ
とは別個に液の老化度を絶えず監視し、それに応じた対
策を鰭じる必要があり、従って従来の無電解めつき法は
前記自動制御法を採用したとしても比較的短期間でめつ
き液を廃棄しなければならず、またその管理面でも十分
満足し得るものではなかった。

本発明は上記事情を改善するためになされたもので、長
期間の安定した蓮続めつき作業が可能であり、液の建て
換えの必要を殆んど無くすることができ、少なくとも従
来に比べて液の建て換え期間を著しく遅らせることがで
き、廃液、廃水処理の面でも有利であると共に、析出速
度、めつき被膜の性状等を長期に亘りほぼ一定に保持し
得、液管理を簡単かつ確実に行なうことができて、無電
解ニッケルめつき、無電解コバルトめつき、無電解ニッ
ケルーコバルト合金めつき、無電鍵鋼めつき、その他無
電鱗錫、金、銀めつきなどの実施に好適な無電解めつき
制御方法を提供することを目的とする。

即ち、本発明者らは従来の欠点を解決するため種々検討
を行なった結果、無電解めつき液の濃度を測定すること
により、めつきによる薬品消耗量を検知し、その測定値
に応じてめつきによる消耗成分を自動的に補給すると共
に、無電解めつき液の所定の成分、例えば金属イオンの
消費量を検知し、この成分が所定量消費する毎にめつき
液の一部を汲み出し、めつき液の老化の原因であるめつ
き液中の反応生成物の一部をめつき液から排出すると共
に、その汲み出しにより失われるめつき液の必要成分を
自動的に補給することにより、めつき液が自動的に少し
づつ更新され、めつき液を長期間連続的に使用すること
ができ、しかも長期連続使用する間において析出速度、
析出物の性状等をほぼ一定化し得「上述した目的が達成
されることを知見し、本発明をなすに至ったものである
。

以下、本発明の一実施例につき図面を参照して説明する
。第１図は無電解めつきに使用する装置の一例を示すも
ので、図中１はめつき槽であり、図示してし、ないがこ
のめつき糟１には所用の装置（例えば、必要によりヒー
ター、スチームパイプ等の無電解めつき液２を所定温度
に加熱するための加熱装置、めつき終了後めつき液２を
室温付近にまで冷却するための冷却装置、炉過機、櫨梓
機など）を付帯している。

前詰めつき糟１には、濃度検知器３及びマイクロチュー
ブポンプ等の液循環ポンプ４を介装する循環パイプ５の
一端が蓮通し、前記ポンプ４の作動によりめつき槽１内
のめつき液２がこのパイプ５の一端からパイプ５内に流
入し、パイプ５内を流れる間に濃度検知器３にてめつき
液２の濃度（例えば金属イオン濃度）が測定された後、
前記パイプ５の池端からめつき液２がめつき糟１内に戻
されるようになっている。

第２図乃至第４図は濃度検知器３の一例を示すものでｔ
この例にあっては前記パイプ５にバイパス管６を配設
し、このバイパス管６に流通形セル７ａを備えた分光光
度計７を介菱してあり、めつき液２がバイパス管６内を
通って分光光度計７の流通形セル７ａを流れる際にめつ
き液２の光の透過率を測定することによりめつき液２中
の金属イオン量が測定され（なお、めつきによる金属消
耗を敏感にとらえるためにはめつき液中の金属錯体の吸
光度を検知することが好ましく、この金属銭体の吸収波
長におけるめつき液透過率を電圧に変換する機構を採用
することが好ましい。

）、これによりめつき液２の濃度が検知されるようにな
っている。これを第３図及び第４図を参照して更に詳述
すると、まず第３図に示すように、光度計７内の光源８
より発せられた光２が熱線吸収フィル夕９、波長選別フ
ィル夕１０、集光レンズ１１を順次透過した後、めつき
液２が連続的に流れる流通形セル７ａを透過し、めつき
液２で吸収された光の変化分が受光素子１２により検出
されるようになっている。なお、前記流通形セル７ａに
隣接して標準液用セル７ｂが切換可能に（第３図におい
てセル７ａ，７ｂが矢印方向移動可能に）設けられてお
り、必要により流通形セル７ａを標準液用セル７ｂに切
換え、標準液用セル７ｂ内の標準液の吸光度を測定し得
るようになっている。前記光度計７は制御装置１３に連
絡されており、この装置１３において、第４図に示すよ
うに入力端子１４に伝えられた前記受光素子１２からの
微小電流が増幅器１５で増幅され、吸光度に対応した電
圧変化として電圧計１６に標示されると共に、電圧設定
回路１７において予め設定しておいた電圧値との比較が
行なわれ、設定電圧に達した場合、出力端子２０ａより
信号Ａを発するようになっている。即ち、めつき液の金
属イオンがある濃度まで消費した場合、その濃度の吸光
度に対応した電圧値を設定しておくことにより、その濃
度を感知したことを知らせるＡ信号が発せられ、このＡ
信号が第１図に示す補給剤タンク２１と、一端がこのタ
ンク２１に連結している補給液供給管２２と、及びこの
供給管２２に介装されている電磁バルブ２３とからなる
消耗薬品用補給剤補給機構２４の前記電磁バルブ２３に
伝えられ、これにより電磁バルブ２３が所定時間開き、
めつきによる薬品の消耗に対応して所定の補給剤、例え
ば金属塩、環元剤、ｐＨ調整剤等が一定量めつき糟１内
に供給されるようになっている。（なお、第１図におい
てはタンク２１を１個設置しているだけであるが、補給
用の金属塩、還元剤、ｐＨ調整剤等をそれぞれ別個に収
容するため、それに応じて複数個のタンクを設置し、か
つそれぞれに供Ｖ給管、電磁バルフを配設するようにし
てもよい。）更に、前記制御装置１３には、上記電磁バ
ルフ２３の開放を指令する信号Ａの指令回数を標示する
カウンター８が設けられ、これにより電磁バルブ２３の
開閉回数、従って消耗薬品用補給剤の補給回数が検知さ
れるようになっていると共に、上記信号Ａの指令回数（
消耗薬品用補給剤の補給回数）が予め設定された回数に
達する毎にこれらを検知する回教設定回路１９が設けら
れ、上記信号Ａの指令回数が一定の回数に達した場合、
出力端子２０ｂから信号Ｂが発せられるようになってい
る。

２５は汲み出し機構で、一端がめつさ槽１内に蓮適する
汲み出し管２６と、この汲み出し管２６に介装され、前
記制御装置１３からの信号Ｂにより所定時間作動してめ
つき糟１中のめつき液２を所定量吸い上げる制御ポンプ
２７からなり、制御装置１３からの信号Ｂによってポン
プ２７が所定時間作動し、めつき糟】から一定量のめつ
き液２が排出されるようになっている。

更に、２８は汲み出し消費薬品用補給剤補給機構で、補
給剤タンク２９と、一端がこのタンク２９に連結してい
る補給剤供給管３０と、及びこの供給管３川こ介装され
ている電磁バルブ３１とからなり、この電磁バルブ３１
が制御装置１３からの信号Ｂを受け、前記ポンプ２７の
作動が停止した後所定時間開き、前記めつき液２の汲み
出し‘こ応じて一定量の汲み出し消費薬品用補給剤がめ
つさ槽１内に供給されるようになっている。（なお、こ
の補給機構２８の場合においても、補給剤の種類等に応
じ、複数個のタンクを設置しそれぞれに供給管、電磁バ
ルブを配設することもできる。）なお、第１図中３２は
冷却器で、めつき糟１内からパイプ５内に流入しためつ
き液２の温度がほぼ室温まで冷却されるようになってい
る。

また、３３は炉過器で、パイプ５内を流れるめつき液中
の微小不溶粒子が除去されるようになっている。次に、
上記構成の装置を用いて無電糠ニッケルめつきの制御を
行なう方法につき説明する。まず、無電解ニッケルめつ
きは、被めつき物に対し所定の前処理を行なった後、こ
れを所定温度、例えば９０ｏｏに加熱してあるめつき槽
１内のめつき液２中に浸糟することによって行なう。一
方、このようなめつきの実施と共に、ポンプ４を作動さ
せてめつき槽１内のめつき液２の一部をパイプ５内に導
入し、濃度検知器３に導いてめつき液２の濃度（第２図
の濃度検知器３に従った場合はニッケルイオン濃度）を
測定する。そして、めつきの進行によりめつき槽１内の
めつき液２の濃度、特にニッケルイオン濃度、還元剤（
例えば次亜リン酸ソーダ）の濃度が低下し、また次亜リ
ン酸塩を環元剤とする無電鱗ニッケルめつき液の場合に
はめつき液２のｐＨが低下してくるが、このような濃度
変化が生じ、例えば第２図に示す濃度検知器３を用いた
場合であれば分光光度計７により測定されたニッケルイ
オン濃度が所定の濃度設定値以下に低下すると、制御装
置１３から信号Ａが発される。

即ち、めつき液２の吸光度測定の前に、予め流通形セル
７ａを標準液用セル７ｂに切換え、このセル７ｂ内の標
準液のニッケルの吸光度を測定し、これにより得られた
標準吸光度値に基いて電圧設定回路１７を操作し、濃度
設定値を定めておくが、光度計７で測定されためつき液
の吸光度（ニッケルの吸光度）の値により得られるめつ
き液の濃度（ニッケルの濃度）が上記濃度設定値以下に
低下した場合（ニッケル濃度が予め設定された標準濃度
以下に低下した場合）、電圧設定回路１７がこれを検知
し、信号Ａを発して消耗薬品用補給剤補給機構２４の電
磁バルブ２３に伝え、バルブ２３を所定時間開く。これ
によりタンク２１内の補給剤（この補給剤は、王として
めつきにより消耗されるニッケル塩、還元剤、それにｐ
Ｈ調整剤からなり、更に必要に応じて少量の鍔化剤、安
定剤、光沢剤等が添加される。なお、一般にはニッケル
塩、還元剤、母調整剤はそれぞれ別個に隔離して収容し
ておくことが好ましい。この場合、鏡化剤、安定剤、光
沢剤等は上記三者のうち互に反応し合わない成分と混合
しておくことが好ましい。）の所定量がめつさ槽１内の
めつき液２に加えられ、めつきで消耗したニッケルイオ
ン「還元剤等が補給され、まためつき液２のｐＨが調整
される。このような補給剤の補給により、めつき液２の
濃度はほぼ一定化され、従ってめつき速度（析出速度）
がほぼ一定に保持される。

また、上記電磁バルブ２３に対する信号Ａの指令数、即
ちバルブ２３の作動（開閉）回数、従って消耗薬品用補
給剤の補給回数がカウンター１８に標示されると共に、
回数設定回路１９がこれを検知し、信号Ａがバルブ２３
に所定回数指令を与える毎に出力端子２０ｂから汲み出
し機構２５のポンプ２７に信号が与えられ、ポンプ２７
が所定時間作動し、めつき糟１内のめつき液２が所定量
汲み出し管２６を通って排出される。

（この排出液は廃液処理装置に送るのが望ましく、創生
物の除去を行なった後、有効成分を再利用しても良い。
）ポンプ２７の作動が停止すると、汲み出し消費薬品用
補給剤補給機構２８の電磁バルブ３１が所定時間開き、
タンク２９の補給剤（この補給剤は前記汲み出しにより
失なわれた成分を補給するもので、主として錆化剤であ
り、通常めつき液２の蓬裕時の組成と同じ組成のもの、
もしくはその濃縮液、又はめつきにより殆んど消耗する
ことのない鈴化剤を主体とするものからなる。なお、補
給すべき成分が例えば金属塩と還元剤のように互に反応
するおそれがるものの場合、これらは別々に隔離して収
容しておくことが好ましい。）がめつさ槽１内のめつき
液２に供給される。従って、このようなめつき液２の汲
み出し、及び汲み出し１こ対応する補給剤の補給により
、めつき液２中の反応生成物の蓄積が防止され、反応生
成物量がほぼ一定にコントロールされる。このため、反
応生成物の蓄積によるめつき速度の低下が防止され、長
期間に亘り連続使用してもめつき液２が絶えず更新され
た状態となるので、長期の使用にかかわらずめつき速度
がほぼ一定に保持され、めつき被膜の性状（例えば次亜
リン酸塩を還元剤とする場合であればＮｊ−Ｐ合金組成
、或し、はめつき被膜の硬度など）もほぼ一定に保たれ
る。この点につき更に詳述すると、長時間に亘りめつき
を行なっていると、めつき液２中に反応生成物が蓄積し
、この反応生成物がめつさ速度等に影響を与え、上述し
たようにめつきによる消耗成分を補給してもめつき速度
を低下させることになると共に、場合によりめつき被膜
の性状を変化させる原因ともなるが、本発明者らは検討
によれば、このような反応生成物は、めつき液中の金属
イオンが還元剤により金属に還元されて析出する際の還
元剤の分解生成物及びこの反応の中和塩を主なものとす
るものであり、この場合一定量の金属イオンを金属とし
て還元、析出させる還元剤量はほぼ一定であり、またこ
の時生成する反応生成物量もほぼ一定であり、一定量の
金属イオン、或いは還元剤の消費はほぼ一定量の反応生
成物の生成に対応し、このようなめつき液のある成分の
消費量はめつき液中の反応生成物の蓄積の度合をあらわ
すものであって、従ってめつき液の所定成分の消費量（
例えば金属イオン、還元剤等の消費量、次亜リン酸塩を
還元剤とする無電解ニッケルめつきの場合にはニッケル
イオン、次亜リン酸塩、場合によっては苛性アルカリ等
の消費量）を検知することにより、反応生成物の蓄積、
換言すれば液の老化の度合を確実に検知し得ること、そ
して本例の場合バルブ２３の開閉回数を検知することは
めつき消耗薬品用補給剤の補給回数を検知することであ
り、これはとりもなおさずめつき液成分の消費量を検知
することであり、従ってバルブ２３の開閉回数が予め設
定された一定の回数に達する毎に（即ち、めつき液の所
定成分、この実施例の場合はニッケルイオンが一定量消
費される毎に）、めつき液２の一部を排出し、かつこれ
に呼応した補給（主として汲み出し‘こより失なわれる
必要成分の補給）を行なうことにより、めつき液２中の
反応生成物量をほぼ一定に保持し、めつき液２の寿命を
ほぼ半永久的に、少なくとも従来法に比較して格段に液
寿命を伸ばすことができたものであり、しかもこのよう
な長期連続使用の間において、めつき速度、めつき被膜
の性状等をほぼ一定に保持し得たものである。

また、上述しためつき方法によれば、めつき液２が簡単
かつ確実に自動制御、自動管理され、亀気めつきに比較
して従来管理の面倒であった無電解めつきが非常に容易
に管理され得る。

更にまた、上述したようにめつき液２の濃度が補給によ
り常時ほぼ一定値に保持されるので、めつきの進行によ
るニッケル濃度の減少に基づく析出速度の低下を補償す
るためめつき前のニッケル濃度を高くしておくような操
作は必要とせず、めつき液２のニッケル濃度を低くする
ことができると共に、めつき液の更新は前記汲み出し機
構２５により自動的に少しづつ行なわれるため、廃水、
廃液処理の負担が激減する。なお、上記実施例において
はめつき液２中のニッケルイオン量の測定法として上述
したように直鞍めつき液の吸光度を測定する方法を採用
したが、これに限られることはなく、めつき液にＥＤＴ
Ａ等の適当な試薬、試示薬を加えて所定の色に発色させ
、その発色の程度によりニッケルイオン量を測定する方
法も採用することができる。

しかしこの場合、濃度測定後のめつき液は、第２図に示
すようにバイパス管６からパイプ５に戻すことはできず
、廃棄のため別途に廃液処理設備に送ることが必要であ
る。なおまた、このようにめつき液の吸光度を測定する
以外に他の適宜な濃度検知法、例えば電位差測定法など
が採用可能である。しかしながら、上述しためつき液の
吸光度を直接測定する方法が装置が複雑化せず、かつ測
定しためつき液をめつき糟１内に戻すことができる等の
点から最も有利である。また、ｐＨ変化を測定すること
によりめつき液の濃度変化を検知することも可能である
。更に、上述したニッケルイオン濃度の測定とｐＨ測定
を組合せ、めつき液のＰＨはこのｐＨ測定値により自動
制御する等の方法も採用できる。また、めつき成分の消
費量を検知する方法として、上記実施例では信号Ａの指
令回数を検知することによりバルブ２３の開閉回数を検
知する方法を採用したが、めつき消耗薬品用補給剤の補
給を定量ポンプを用いて行なう場合には、定量ポンプの
作動回数を検知することにより、めつき成分の消費量を
検知することができ、その他補給方法の相違により適宜
な検知法を採用し得る。

更に、金属析出量を検知することによってもめつき成分
の消費量を検知することができ、例えば被めつき物の面
積がいつもほぼ同じであり、かつめつき時間（要求する
めつき膜厚）がいつもほぼ同じである場合には、本発明
法においては−回のめつき操作で常にほぼ一定量の金属
が還元、析出し、従ってほぼ一定量の金属イオンが消費
するので、めつき糟に被めつき物が出入するたびに動く
リミットスイッチからの信号回数を検知する方法が採用
し得、或いは被めつき物の面積がいつもほぼ一定である
が、めつき時間が必ずしも一定しない場合には、めつき
時間を検知することにより析出金属量を検知し得、従っ
てこれよりめつき液成分の消費量を検知することができ
るので、一定めつき時間に上述しためつきの汲み出し、
補給を行なう等の方法を採用できる。更に、上記実施例
では濃度検知機構をバイパス管に組み入れたが、このよ
うなバイパス管を設けず、直接循環パイプに組入れるよ
うにしてもよく、まためつき糟内に濃度検知機構を設け
ることもできる。

なおまた、汲み出し機構として第１図に２点鎖線で示し
たようにオーバーフロー管３４をめつき槽１に設け、制
御装置１３からの信号Ｂを補給機構２８に伝えて汲み出
し薬品用補給剤をめつき糟１内のめつき液２に供給し、
補給剤の添加によるめつき液２の増量分を前記オーバー
フロ−管３４から排出することにより、めつき液２を汲
み出す等の構成とすることもできる。

更に、上記実施例は無電鱗ニッケルめつきの制御につき
説明したが、無電鱗コバルトめつき、無電解コバルトー
ニツケル合金めつき、ホルマリンや次亜リン酸塩などを
還元剤とする無電機銅めつき等も同様に制御し得、その
他の構成についても本発明の要旨を逸脱しない範囲で種
々変更して差支えない。以上説明したように、本発明に
よれば、無電解めつき液の濃度を自動的に検知すること
により、めつきによる消耗量を検知し、それに応じてめ
つきによる消耗成分を自動的に補給すると共に、めつき
液中の反応生成物の蓄積を防止するため、無電解めつき
液の所定成分の消費量を検知することにより、めつき液
の老化度を検知し、めつき液の所定成分が一定量消費さ
れる毎にめつき液の一部を自動的に汲み出してめつき液
中の反応生成物の一部をめつき液から排出すると共に、
その汲み出し‘こより失われるめつき液の必要成分を自
動的に補給するようにしたので、これにより液の更新が
自動的に少量づつ行なわれるため液の建てかえの必要が
殆んどなくなり、少なくとも従来に比較して液寿命を著
しく伸ばすことができる。

かつ、めつき液中の金属分、還元剤等がほぼ一定濃度で
保持される上、めつきによる反応生成物量が限度内に維
持されるため、析出速度や析出被膜の物性等がほぼ一定
化され、安定性の高い裕条件を長期維持することができ
ると共に、従釆とほぼ同一析出速度を保持しつつ従来よ
り低い金属濃度でめつき液を管理することもでき、廃液
、廃水処理の点からも有利である。以下、実施例を示す
。

〔実施例 １〕 下記組成 硫酸ニッケル １８夕／Ｚ（ニッケ
ルイオン ４ 〃次亜ＩＪン酸ソーダ
２４ 〃コハク酸ソーダ １６
〃リンゴ酸 １８ 〃 安定剤（Ｐぜ＋） ０．００３ 〃ＰＨ
５．６ 〃の無
電解ニッケルめつき１００そを９０ｑｏに加溢し、第１
図〜第４図に示すような制御装置を使用し、自動的かつ
連続的にニッケルイオン濃度（６７仇皿の光の透過率を
測定することにより行なった）を測定しつつめつきを行
なった。

この場合、ニッケルイオン設定値を４夕／夕とし、めつ
き液のニッケルイオン濃度がこれ以下になった場合、信
号Ａを発して消耗薬品用補給剤として下記組成の補給液
‘１１，■，【３’をそれぞれ１回につき４００の【（
Ｎｉ２十０．２タノそ相当）添加した。（なお、これら
補給液｛１１，■，‘３’はそれぞれ補給管、電磁バル
フを備えた３個のタンクに収容し、信号Ａが発せられた
場合、各電磁バルブが同時に所定時間開いて同量の補給
液をめつき糟内に同時に供給できるようにした。）また
、ニッケルイオンが１夕／そ消費する毎に信号Ｂを発し
て１回当り５そのめつき液を汲み出した後、汲み出し消
費薬品用補給剤として下記組成の補給液‘４１５そを添
加するようにした（本発明法）。また比較のため、液の
汲み出し及び補給液‘４）の補給を行なわない以外は上
記と同様にしてめつきを行なった。

（ニッケルイオン濃度のみ測定し、それに応じて補給液
‘１１，｛２），｛３１のみを添加した。：比較法）。
所定ターン数（なお、１ターンとは、連続的にめつきを
行なった場合、めつき液１のこ対してニッケルイオンが
４タ消耗した場合をいう。

）毎に析出速度、Ｎｉ−Ｐ合金組成を調べ、第１表に示
す結果を得た。補給液｛１１ 硫酸ニッケル ２２５タノ夕安定剤（
Ｐザ十） ０．０７５ 〃補給液【２１次
亜リン酸ソーダ ２７０夕／そ補給液■水
酸ナトリウム ６８タノそ補給液‘４
｝：建浴液と同じ組成のものコハク酸ソーダ
１６夕／そりンゴ酸 １８
〃硫酸ニッケル １８ 〃次亜リン酸
ソーダ ２４ ″安定剤（Ｐぜ＋）
０．００３ ク第１‐〔実施例 ２〕 下記組成 硫酸コバルト（ＣＯＳＱ・７日２０） ２２．５多／〆
次亜リン酸ソーダ ２２．５ ″酒石酸ソ
ーダ １１５．０ 〃ホウ酸
８．４ 〃チオ尿素
０．０１ 〃ｐＨ
９．０の無電解コバルトめつきを９０ｏ
Ｃに加溢し、第１図〜第４図に示すような制御装置を使
用し、自動的かつ連続的にコバルトイオン濃度を測定し
つつめつきを行なった。

この場合、コバルトイオンの設定値を４夕／夕とし、め
つき液のコバルトイオン濃度がこれ以下になった場合、
信号Ａを発して消耗薬品用補給剤として下記組成の補給
液【５’，‘６’，‘７｝をそれぞれ１回につき２泌／
そ添加した。（なお、これら補給液棚，■，‘机まそれ
ぞれ補給管、電磁バルブを備えた３個のタンクに収容し
、信号Ａが発せられた場合、各電磁バルブが同時に所定
時間開いて同量の補給液をめつき糟内に同時に供給でき
るようにした。）また、コバルトイオンが１夕／そ消費
する毎に信号Ｂを発して１回当り５０のＺ／夕のめつき
液を汲み出した後、汲み出し消費薬品用補給剤として下
記組成の補給液８を汲み出し量と同量添加するようにし
た（本発明法）。また比較のため、液の汲み出し及び補
給液８の補給を行なわない以外は上記と同様にしてめつ
きを行なった（コバルトイオン濃度のみを測定し、それ
に応じて補給液‘５１，‘６１，‘７｝のみを添加した
。：比較法）。所定ターン数（なお、１ターンとは、連
続的にめつきを行なった場合、めつき液１れこ対してコ
バルトイオンが４タ消耗した場合をいう。

）毎に析出速度、Ｃｏ−Ｐ合金組成を調べ、第２表に示
す結果を得た。補給液‘５ー 硫酸コバルト ２４０夕／クチオ尿素
０．１１ 〃補給液‘６’次亜リ
ン酸ソーダ ２７０夕／そ補給液の水酸化
ナトリウム ６８夕／そ補給液■酒石酸
ソーダ １１５夕／そホウ酸
８．４ 〃第２表

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
本発明の濃度検知器の一例を示すブロック図、第３図は
同検知器の分光光度計の一例を示すブロック図、第４図
は同検知器の制御装置の一例を示すブロック図である。 １・・・めつき槽、２…めつき液、３…濃度検知器、４
・・・ポンプ、５・・・循環パイプ、７・・・分光光度
計、１３・・・制御装置、２４・・・消耗薬品用補給剤
補給機構、２５・・・汲み出し機構、２８・・・汲み出
し消費薬品用補給剤補給機構、Ａ，Ｂ・・・信号。第１
図第２図 第３図 第４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 無電解めつき液の濃度を連続的もしくは間欠的に測
   定し、その測定値がめつきによる消耗により所定の濃度
   設定値以下になつたことを検知した場合、めつきによる
   消耗分に対応する補給剤を自動的に補給し、かつめつき
   液中の反応生成物の蓄積を防止するため、前記めつき液
   の所定成分の消費量を検知し、この成分が所定量消費し
   たことを検知した場合、前記めつき液の一部を自動的に
   汲み出してめつき液中の反応生成物の一部をめつき液か
   ら排出すると共に、その汲み出しにより失われるめつき
   液の必要成分に対応する補給を自動的に行なうことを特
   徴とする無電解めつき制御方法。 ２ 消費量を検知すべきめつき液中の所定成分が金属イ
   オンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ めつき液の所定成分の消費量をめつきによる消耗分
   に対応する補給剤の補給回数により検知すると共に、こ
   の補給回数が所定の回数に達する毎にめつき液の一部を
   汲み出してめつき液中の反応生成物の一部をめつき液か
   ら排出するようにした特許請求の範囲第１項又は第２項
   記載の方法。 ４ 補給剤の補給回数の検知をこの補給剤の自動補給を
   指令する信号の指令回数を検知することにより行なうよ
   うにした特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５ 無電解めつき液が無電解ニツケルめつき液、無電解
   コバルトめつき液、無電解ニツケル−コバルト合金めつ
   き液又は無電解銅めつき液である特許請求の範囲第１項
   乃至第４項いずれか記載の方法。