JPS60170260A - 薄膜トランジスタの製造方法 - Google Patents
薄膜トランジスタの製造方法Info
- Publication number
- JPS60170260A JPS60170260A JP59025381A JP2538184A JPS60170260A JP S60170260 A JPS60170260 A JP S60170260A JP 59025381 A JP59025381 A JP 59025381A JP 2538184 A JP2538184 A JP 2538184A JP S60170260 A JPS60170260 A JP S60170260A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- amorphous silicon
- source
- thin film
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59025381A JPS60170260A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59025381A JPS60170260A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60170260A true JPS60170260A (ja) | 1985-09-03 |
JPH0464181B2 JPH0464181B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1992-10-14 |
Family
ID=12164277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59025381A Granted JPS60170260A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60170260A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61139069A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-26 | Fuji Xerox Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JPS62128566A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPS62140467A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | Sharp Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
-
1984
- 1984-02-14 JP JP59025381A patent/JPS60170260A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61139069A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-26 | Fuji Xerox Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JPS62128566A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPS62140467A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | Sharp Corp | 薄膜トランジスタの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0464181B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1992-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4609930A (en) | Thin film transistor | |
US4778773A (en) | Method of manufacturing a thin film transistor | |
JPH0132672B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
JPH05251705A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
US5130772A (en) | Thin film transistor with a thin layer of silicon nitride | |
JPH0680685B2 (ja) | 薄膜トランジスタとその製造方法 | |
JP2678044B2 (ja) | アクティブマトリクス基板の製造方法 | |
JPH04360583A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
JPS60170260A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPS6273669A (ja) | 薄膜トランジスタ装置の製造方法 | |
JPS63177472A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
JPH04269837A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
US4844587A (en) | Active matrix display screen using hydrogenated amorphous silicon carbide and process for producing this screen | |
JPH0691105B2 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPS6347981A (ja) | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 | |
JPH0653506A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
JPH07142737A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPH06177387A (ja) | 薄膜トランジスタ | |
JPS62124530A (ja) | 液晶表示素子 | |
JP2656555B2 (ja) | 薄膜トランジスタならびにそれを用いたアクティブマトリクス回路基板と画像表示装置 | |
JP2905641B2 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPS59124165A (ja) | 絶縁ゲ−ト型トランジスタおよびその製造方法 | |
JPS63158875A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 | |
JPH05251701A (ja) | 薄膜トランジスタの形成方法 | |
JP2661672B2 (ja) | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |