JPS60155617A - ステアリングラツクの高周波焼入装置 - Google Patents
ステアリングラツクの高周波焼入装置Info
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- JPS60155617A JPS60155617A JP1170484A JP1170484A JPS60155617A JP S60155617 A JPS60155617 A JP S60155617A JP 1170484 A JP1170484 A JP 1170484A JP 1170484 A JP1170484 A JP 1170484A JP S60155617 A JPS60155617 A JP S60155617A
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- Japan
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- hardened
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- rack
- coil
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/32—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for gear wheels, worm wheels, or the like
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- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はステアリングラックの高周波焼入装置に関し、
詳しくは、ステアリングラックの歯部に高周波電流を直
接通電するとともに、ステアリングラックの歯部に対向
させて配置された、断面凸形状の高周波焼入コイルの突
出部位に冷却ジャケットを内蔵したステアリングランク
の高周波焼入装置の、高周波焼入コイル突出部位の冷却
水噴射範囲幅と、被焼入ステアリングランクの山部幅、
および、断面凸形状高周波焼入コイルの突出部位高さを
調整することにより、被焼入ステアリングランクの焼入
模様を調整可能として、焼割れ、焼ムラ発生の防止、な
らびに、焼入歪の減少をはかることのできるステアリン
グランクの高周波焼入装置にかかる。
詳しくは、ステアリングラックの歯部に高周波電流を直
接通電するとともに、ステアリングラックの歯部に対向
させて配置された、断面凸形状の高周波焼入コイルの突
出部位に冷却ジャケットを内蔵したステアリングランク
の高周波焼入装置の、高周波焼入コイル突出部位の冷却
水噴射範囲幅と、被焼入ステアリングランクの山部幅、
および、断面凸形状高周波焼入コイルの突出部位高さを
調整することにより、被焼入ステアリングランクの焼入
模様を調整可能として、焼割れ、焼ムラ発生の防止、な
らびに、焼入歪の減少をはかることのできるステアリン
グランクの高周波焼入装置にかかる。
直接通電式高周波焼入は、焼入されるべき金属部材に直
接高周波電流を通電し、金属部材の表面部のみを加熱し
、ついで、これを急冷することにより表面硬化焼入する
ものであり、一般に、焼入されるべき金属部材に実質的
に面接触し得るように構成された２つの接触子を含み、
これら接触子と金属部材とが互に押し付けられた状態に
て接触子間に高周波電流が通電されるようになっている
。
接高周波電流を通電し、金属部材の表面部のみを加熱し
、ついで、これを急冷することにより表面硬化焼入する
ものであり、一般に、焼入されるべき金属部材に実質的
に面接触し得るように構成された２つの接触子を含み、
これら接触子と金属部材とが互に押し付けられた状態に
て接触子間に高周波電流が通電されるようになっている
。
ところで、ステアリングランクの山部を直接通電加熱に
より高周波焼入する場合においては、歯面をその冷却水
噴射口から水を噴射して急冷し焼入する断面凸形状高周
波焼入コイルの冷却ジャケットを内蔵する突出部位の形
状が悪いと、高周波焼入部に焼割れ、焼ムラ等を発生し
、さらに、焼入歪が増大するという欠点がある。
より高周波焼入する場合においては、歯面をその冷却水
噴射口から水を噴射して急冷し焼入する断面凸形状高周
波焼入コイルの冷却ジャケットを内蔵する突出部位の形
状が悪いと、高周波焼入部に焼割れ、焼ムラ等を発生し
、さらに、焼入歪が増大するという欠点がある。
即ち、
■、歯面をその冷却水噴射口から水を噴射して急冷し焼
入する断面凸形状高周波焼入コイルの冷却ジャケットを
内蔵した突出部位の冷却水噴射範囲幅が広すぎると、被
焼入ステアリングラック側面部の焼入深さが深くなり、
焼割れが発生しやすく、また、歯面をその冷却水噴射口
から水を噴射して急冷し焼入する断面凸形状高周波焼入
コイルの冷却ジャケットを内蔵する突出部位の冷却水噴
射範囲幅が狭すぎると、全体的に加熱効率が落ち、しか
も、被焼入ステアリングランク側面部の冷却が不均一と
なり、冷却ムラを発生しやすいという欠点がある。
入する断面凸形状高周波焼入コイルの冷却ジャケットを
内蔵した突出部位の冷却水噴射範囲幅が広すぎると、被
焼入ステアリングラック側面部の焼入深さが深くなり、
焼割れが発生しやすく、また、歯面をその冷却水噴射口
から水を噴射して急冷し焼入する断面凸形状高周波焼入
コイルの冷却ジャケットを内蔵する突出部位の冷却水噴
射範囲幅が狭すぎると、全体的に加熱効率が落ち、しか
も、被焼入ステアリングランク側面部の冷却が不均一と
なり、冷却ムラを発生しやすいという欠点がある。
■、また、断面凸形状高周波焼入コイルの突出部位に、
その冷却水噴射口から水を噴射してステアリングランク
の歯面を急冷して焼入する冷却ジャケットを内蔵する断
面凸形状高周波焼入コイルの突出部位の高さが低いと、
冷却ジャケットを内蔵する突出部位のみの誘導効果が充
分に発揮できず、冷却ジャケットを内蔵した突出部位取
付部等からの誘導効果も、被焼入ステアリングランクに
影響を及ぼし、被焼入ステアリングランク側面部の高周
波焼入深さが深くなり、焼割れが発生しやすく、また、
前記突出部位の高さが高すぎると、冷却水噴射口と被焼
入ステアリンゲラ・ツクの歯部との間隔が大きくなり、
高周波焼入部の冷却ムラを生じやすいという欠点がある
。
その冷却水噴射口から水を噴射してステアリングランク
の歯面を急冷して焼入する冷却ジャケットを内蔵する断
面凸形状高周波焼入コイルの突出部位の高さが低いと、
冷却ジャケットを内蔵する突出部位のみの誘導効果が充
分に発揮できず、冷却ジャケットを内蔵した突出部位取
付部等からの誘導効果も、被焼入ステアリングランクに
影響を及ぼし、被焼入ステアリングランク側面部の高周
波焼入深さが深くなり、焼割れが発生しやすく、また、
前記突出部位の高さが高すぎると、冷却水噴射口と被焼
入ステアリンゲラ・ツクの歯部との間隔が大きくなり、
高周波焼入部の冷却ムラを生じやすいという欠点がある
。
本発明は、被焼入ステアリングラックの山部幅に適合さ
せて、断面凸形状高周波焼入コイルの冷却ジャケットを
内蔵した突出部位に、その冷却水噴射口から水を噴射し
てステアリンゲラ・ツクの歯面を急冷し焼入する冷却シ
ャケ・ノドを内蔵する高周波焼入コイル突出部位の冷却
水噴射範囲幅および気出部位の高さを適正に調整するこ
とにより、被焼入ステアリングラックの歯部全体に渡っ
て均一に高周波焼入できるとともに、焼割れ、冷却ムラ
の発生の防止、ならびに、焼入歪の低減を可能とするス
テアリンゲラ・ツクの高周波焼入装置を提供することを
目的としている。
せて、断面凸形状高周波焼入コイルの冷却ジャケットを
内蔵した突出部位に、その冷却水噴射口から水を噴射し
てステアリンゲラ・ツクの歯面を急冷し焼入する冷却シ
ャケ・ノドを内蔵する高周波焼入コイル突出部位の冷却
水噴射範囲幅および気出部位の高さを適正に調整するこ
とにより、被焼入ステアリングラックの歯部全体に渡っ
て均一に高周波焼入できるとともに、焼割れ、冷却ムラ
の発生の防止、ならびに、焼入歪の低減を可能とするス
テアリンゲラ・ツクの高周波焼入装置を提供することを
目的としている。
このような目的は、本発明によれば、ステアリングラン
クの歯部に直接通電するとともに、ステアリングランク
の歯部に対向させて、冷却ジャケットを内蔵した高周波
焼入コイルを配して高周波焼入する、ステアリングラッ
クの高周波焼入装置であって、 被焼入ステアリングランクの歯部に対向し、かつ、ステ
アリングランクの長手方向に平行に配置された断面凸形
状の高周波焼入コイルの突出部位に冷却ジャケットを内
蔵し、高周波加熱時には高周波加熱コイルとして被焼入
ステアリンゲラ・ツクの歯部に電磁誘導電流を誘起させ
、焼入時には内蔵された冷却ジャケットの被焼入ステア
リングランクに対向する部位に設けられた冷却水噴射口
から水を噴射して、加熱されたステアリンゲラ・ツクの
歯部を急冷し焼入する前記高周波焼入コイルの突出部位
の冷却水噴射範囲幅Ｗ１を、被焼入ステアリングランク
の歯部幅Ｗに対し、ｗ、／Ｗ＝１゜０〜１．２となし、
かつ、前記高周波焼入コイルの突出高さしに対しＬ／Ｗ
、＝１．０〜１．５となしたことを特徴としたステアリ
ンゲラ・ツクの高周波焼入装置によって達成される。
クの歯部に直接通電するとともに、ステアリングランク
の歯部に対向させて、冷却ジャケットを内蔵した高周波
焼入コイルを配して高周波焼入する、ステアリングラッ
クの高周波焼入装置であって、 被焼入ステアリングランクの歯部に対向し、かつ、ステ
アリングランクの長手方向に平行に配置された断面凸形
状の高周波焼入コイルの突出部位に冷却ジャケットを内
蔵し、高周波加熱時には高周波加熱コイルとして被焼入
ステアリンゲラ・ツクの歯部に電磁誘導電流を誘起させ
、焼入時には内蔵された冷却ジャケットの被焼入ステア
リングランクに対向する部位に設けられた冷却水噴射口
から水を噴射して、加熱されたステアリンゲラ・ツクの
歯部を急冷し焼入する前記高周波焼入コイルの突出部位
の冷却水噴射範囲幅Ｗ１を、被焼入ステアリングランク
の歯部幅Ｗに対し、ｗ、／Ｗ＝１゜０〜１．２となし、
かつ、前記高周波焼入コイルの突出高さしに対しＬ／Ｗ
、＝１．０〜１．５となしたことを特徴としたステアリ
ンゲラ・ツクの高周波焼入装置によって達成される。
以下、添付図面に基づいて、本考案の実施例を説明する
。
。
本発明の１実施例を第１図に示す。
第１図の実施例は、ステアリングラック１の直接通電加
熱による高周波焼入装置を示すもので、断面凸形状高周
波焼入コイルの突出部位に、その冷却水噴射ロアから水
を噴射してステアリングラフ＝；ｙ １の歯面を急冷し
て焼入する冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周
波焼入コイルの冷却水噴射範囲幅Ｗ１と、前記高周波焼
入コイルの突出部位高さＬ＋調整することにより、焼割
れ、焼ムラの発生を防止するとともに、焼入歪の低減を
図ったものである。
熱による高周波焼入装置を示すもので、断面凸形状高周
波焼入コイルの突出部位に、その冷却水噴射ロアから水
を噴射してステアリングラフ＝；ｙ １の歯面を急冷し
て焼入する冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周
波焼入コイルの冷却水噴射範囲幅Ｗ１と、前記高周波焼
入コイルの突出部位高さＬ＋調整することにより、焼割
れ、焼ムラの発生を防止するとともに、焼入歪の低減を
図ったものである。
即ち、被焼入ステアリングラック１の左右センターを図
示されない保持治具により固定した状態で、ユニット全
体を高周波焼入コイルの位置まで移動させ、左右センタ
ーをアンクランプして、被焼入ステアリングラック１を
接触子４ａ、４ｂ上に乗せて、クランパ５で被焼入ステ
アリングラック１を接触子４ａ、４ｂ上に固定した後、
高周波焼入するものである。
示されない保持治具により固定した状態で、ユニット全
体を高周波焼入コイルの位置まで移動させ、左右センタ
ーをアンクランプして、被焼入ステアリングラック１を
接触子４ａ、４ｂ上に乗せて、クランパ５で被焼入ステ
アリングラック１を接触子４ａ、４ｂ上に固定した後、
高周波焼入するものである。
この時において、ステアリングラック１の歯面を急冷し
て焼入する冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周
波焼入コイルの冷却水噴射範囲幅Ｗ１が、被焼入ステア
リングランクの歯部幅Ｗに対して、Ｗ、／Ｗ＝ｌ、０〜
１．２の範囲としないと、第３図に示すステアリングラ
ック１の断面におけるａ部、ｂ部の高周波焼入深さを第
４図に示すように、均一な高周波焼入深さが確保できな
い。
て焼入する冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周
波焼入コイルの冷却水噴射範囲幅Ｗ１が、被焼入ステア
リングランクの歯部幅Ｗに対して、Ｗ、／Ｗ＝ｌ、０〜
１．２の範囲としないと、第３図に示すステアリングラ
ック１の断面におけるａ部、ｂ部の高周波焼入深さを第
４図に示すように、均一な高周波焼入深さが確保できな
い。
即ち、Ｗ、／Ｗ＜１．０の場合には、ステアリングラッ
ク１の歯面を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼
入する冷却ジャケット２を内蔵する高周波焼入コイルに
１よる加熱効率が低下し、被焼入ステアリングラックｌ
全体に渡って高周波焼゛、入深さが浅くなり、しかも、
被焼入ステアリングラックＩ側面部の冷却が不均一とな
って冷却ムラを発生しやすい。
ク１の歯面を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼
入する冷却ジャケット２を内蔵する高周波焼入コイルに
１よる加熱効率が低下し、被焼入ステアリングラックｌ
全体に渡って高周波焼゛、入深さが浅くなり、しかも、
被焼入ステアリングラックＩ側面部の冷却が不均一とな
って冷却ムラを発生しやすい。
また、Ｗ、／Ｗ＞１．２の場合には、ステアリングラッ
ク１の歯面を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼
入する冷却ジャケット２を内蔵する高周波焼入コイルの
誘導効果が被焼入ステアリングラツク１側面部に集中さ
れるため、被焼入ステアリングラツク１側面部の高周波
焼入深さが深すぎて焼割れを発生しやすく、しかも、焼
入歪も大きくなりやすい。
ク１の歯面を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼
入する冷却ジャケット２を内蔵する高周波焼入コイルの
誘導効果が被焼入ステアリングラツク１側面部に集中さ
れるため、被焼入ステアリングラツク１側面部の高周波
焼入深さが深すぎて焼割れを発生しやすく、しかも、焼
入歪も大きくなりやすい。
また、第４図に示すように、冷却水噴射ロアから水を噴
射してステアリングラック１の歯面を急冷して焼入する
冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周波焼入コイ
ルの突出部位の高さＬは、高周波焼入コイルの冷却水噴
射範囲幅Ｗ、に対して、Ｌ／ＷＩ＝１．０〜１．５の範
囲にないと、均一な高周波焼入模様が得られない。
射してステアリングラック１の歯面を急冷して焼入する
冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周波焼入コイ
ルの突出部位の高さＬは、高周波焼入コイルの冷却水噴
射範囲幅Ｗ、に対して、Ｌ／ＷＩ＝１．０〜１．５の範
囲にないと、均一な高周波焼入模様が得られない。
即ち、Ｌ／Ｗ、＜１．０の場合には、ステアリングラッ
ク１の歯面を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼
入する冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周波焼
入コイルと、この高周波焼入コイル取付部８との誘導効
果が相乗するため、被焼入ステアリングラツク１側面部
の高周波焼入深さが深くなりすぎ、焼割れを発生しやす
く、しかも、焼入歪も大きくなりやすい。
ク１の歯面を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼
入する冷却ジャケット２を内蔵する断面凸形状高周波焼
入コイルと、この高周波焼入コイル取付部８との誘導効
果が相乗するため、被焼入ステアリングラツク１側面部
の高周波焼入深さが深くなりすぎ、焼割れを発生しやす
く、しかも、焼入歪も大きくなりやすい。
一方、Ｌ／Ｗｒ＞ｔ、ｓの場合には、冷却水噴射ロアと
被焼入ステアリングラック１の間隔が広くなるため、冷
却ムラを発生しやすい。
被焼入ステアリングラック１の間隔が広くなるため、冷
却ムラを発生しやすい。
そこで、この実施例では、ステアリングラック１の歯面
を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼入する冷却
ジャケット２を内蔵する高周波焼入コイルの冷却水噴射
範囲幅Ｗ、を１６寵（Ｗ。
を冷却水噴射ロアから水を噴射して急冷し焼入する冷却
ジャケット２を内蔵する高周波焼入コイルの冷却水噴射
範囲幅Ｗ、を１６寵（Ｗ。
／Ｗ＝１．０３）、高周波焼入コイルの突出部位の高さ
Ｌを２０ｍｍ （Ｌ／Ｗ＋ ＝１．２５）として、高周
波焼入することに上りへ焼割れ、焼ムラの発生を防止し
、しかも、焼入歪を減少させることができた。
Ｌを２０ｍｍ （Ｌ／Ｗ＋ ＝１．２５）として、高周
波焼入することに上りへ焼割れ、焼ムラの発生を防止し
、しかも、焼入歪を減少させることができた。
以上により明らかなように、本発明にかがるステアリン
グランクの高周波焼入装置によれば、被焼入ステアリン
グランクの歯部幅に適合させて、断面凸形状高周波焼入
コイルの突出部位に、その冷却水噴射口から水を噴射し
てステアリングラッりの歯面を急冷して焼入する冷却ジ
ャケットを内蔵する高周波焼入コイルの冷却水噴射範囲
幅および突出部位の高さを適正に調整することにより、
被焼入ステアリングラックの山部全体に渡って均一に高
周波焼入できるとともに、焼割れ、冷却ムラの発生の防
止、ならびに、焼入歪の低減を可能とすることができる
利点がある。
グランクの高周波焼入装置によれば、被焼入ステアリン
グランクの歯部幅に適合させて、断面凸形状高周波焼入
コイルの突出部位に、その冷却水噴射口から水を噴射し
てステアリングラッりの歯面を急冷して焼入する冷却ジ
ャケットを内蔵する高周波焼入コイルの冷却水噴射範囲
幅および突出部位の高さを適正に調整することにより、
被焼入ステアリングラックの山部全体に渡って均一に高
周波焼入できるとともに、焼割れ、冷却ムラの発生の防
止、ならびに、焼入歪の低減を可能とすることができる
利点がある。
第１図は、本発明の１実施例を示す平面図。
第２図は、本発明の１実施例を示す正面断面図。
第３図は、ステアリングラックの横断面図。
第４図は、高周波焼入コイルの冷却水噴射範囲１ｉ１Ｗ
ｔと高周波焼入コイルの突出高さしによる高周波焼入深
さへの影響を示す図である。 １−・・−被焼入ステアリングラック ２・・−・・冷却ジャケット ３・−・−・・絶縁板 ４ａ、４ｂ−−−−−・接触子 ５−−−−−−クランパ ６−−−−−・冷却水供給口 ７−−−−・−冷却噴射口 ８−−−−−一取付部 ゛ ａ−−−−−ステアリングラック中央部ｂ −−−−−
−ステアリングランク側面部第１図 第２図 第３図 第４図
ｔと高周波焼入コイルの突出高さしによる高周波焼入深
さへの影響を示す図である。 １−・・−被焼入ステアリングラック ２・・−・・冷却ジャケット ３・−・−・・絶縁板 ４ａ、４ｂ−−−−−・接触子 ５−−−−−−クランパ ６−−−−−・冷却水供給口 ７−−−−・−冷却噴射口 ８−−−−−一取付部 ゛ ａ−−−−−ステアリングラック中央部ｂ −−−−−
−ステアリングランク側面部第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ステアリングラックの山部に直接通電するとともに
、ステアリングランクの山部に対向させて、冷却ジャケ
ットを内蔵した高周波焼入コイルを配して高周波焼入す
る、ステアリングラックの高周波焼入装置であって、 被焼入ステアリングランクの歯部に対向し、かつ、ステ
アリングランクの長手方向に平行に配置された断面凸形
状の高周波焼入コイルの突出部位に冷却ジャケットを内
蔵し、高周波加熱時には高周波加熱コイルとして被焼入
ステアリングランクの歯部に電磁誘導電流を誘起させ、
焼入時には内蔵された冷却ジャケットの被焼入ステアリ
ングラックに対向する１部位に設けられた冷却水噴射口
から水を噴射して、加熱されたステアリングランクの歯
部を急冷し、焼入する前記高周波焼入コイルの突出部位
の冷却水噴射範囲幅Ｗ、を、被焼入ステアリングランク
の歯部幅Ｗに対し、Ｗ、／Ｗ＝１．０〜１．２となし、
かつ、前記高周波焼入コイルの突出部位高さしに対しＬ
／Ｗ＋ ＝ １．０〜１．５となしたことを特徴とした
ステアリングランクの高周波焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1170484A JPS60155617A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | ステアリングラツクの高周波焼入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1170484A JPS60155617A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | ステアリングラツクの高周波焼入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60155617A true JPS60155617A (ja) | 1985-08-15 |
| JPH0128816B2 JPH0128816B2 (ja) | 1989-06-06 |
Family
ID=11785429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1170484A Granted JPS60155617A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | ステアリングラツクの高周波焼入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60155617A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1789597A1 (en) * | 2004-08-18 | 2007-05-30 | Bishop Innovation Pty. Limited | Method of manufacturing a hardened forged steel component |
| KR100780841B1 (ko) | 2006-06-23 | 2007-11-29 | 주식회사 엠에스 오토텍 | 프레스타입의 국부 열처리용 지그장치 |
-
1984
- 1984-01-24 JP JP1170484A patent/JPS60155617A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1789597A1 (en) * | 2004-08-18 | 2007-05-30 | Bishop Innovation Pty. Limited | Method of manufacturing a hardened forged steel component |
| EP1789597A4 (en) * | 2004-08-18 | 2009-10-28 | Bishop Innovation Pty Ltd | METHOD FOR MANUFACTURING FORGED STEEL-TREATED COMPONENT |
| KR100780841B1 (ko) | 2006-06-23 | 2007-11-29 | 주식회사 엠에스 오토텍 | 프레스타입의 국부 열처리용 지그장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0128816B2 (ja) | 1989-06-06 |
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