JPS60151290A - 非酸化物系セラミツク構造体の表面処理方法 - Google Patents

非酸化物系セラミツク構造体の表面処理方法

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JPS60151290A
JPS60151290A JP796884A JP796884A JPS60151290A JP S60151290 A JPS60151290 A JP S60151290A JP 796884 A JP796884 A JP 796884A JP 796884 A JP796884 A JP 796884A JP S60151290 A JPS60151290 A JP S60151290A
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JP
Japan
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oxide ceramic
temperature
ceramic structure
silicon nitride
surface treatment
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JP796884A
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武信 酒井
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Toyota Motor Corp
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は非酸化物系セラミック構造体の表面処理方法に
関する。
〔従来技術〕
従来、セラミック構造体を製造3゛る場合、所定の寸法
精度を確保するするために、焼成後に研削加工を行っC
いる。ごのとき、セラミック構造体表面に加工傷が残り
、強度低下の要因となっている。そのため、加工後、焼
鈍処理を行い、加工により生じた加工傷および亀裂(ク
ラック)のシャープな面を鈍化することにより、強度回
復を図っている。
ところで、この焼鈍処理はガラス相の軟化を利用するた
め、比較的低>、W(1000〜1300℃)で行われ
る。このため、従来法の場合は、加工傷先端の亀裂が閉
じる程度であり、比較的微少な加工傷に対しては効果を
発揮するものの、比較的大きな加工傷の大幅な鈍化、更
には加工傷を完全に除去するまでにば致っていない。
()tっで、かかるセラミックfM造体の加工傷を完全
に除去する方法の開発が望まれていた。
〔発明の目的〕
本発明は、上記従来技術の問題を解決するためになされ
たもので、非酸化物系セラミック構造体の表面加工傷を
完全に除去することにより、強度の向上を図ることので
きる非酸化°物系セラミック構造体の表面処理方法を提
供することを目的とする。
〔発明の構成〕
かかる目的は、本発明によれば、非酸化物系セラミ’7
り構造体の仕上げ加二[傷を除去する非酸化物系セラミ
、り構造体の表面処理方法であって、前記非酸化物系セ
ラミック構造体を不活性ガス雰囲気中において、非酸化
物系セラミック構造体を構成する非酸化物セラミックス
とガラス相が軟化J−る温度以−トで、かつ非酸化物系
セラミック構造体の焼成温度以下の温度範囲で、5〜1
0気圧の圧力を付与して焼鈍することを特徴とする非酸
化物系セラミック構造体の表面処理方法によって達成さ
れる。
本発明において、非酸化物系セラミック構造体の主材料
としては、窒化珪素、炭化珪素、窒化信1素等を用いる
ことができる。
焼鈍1−る雰囲気としては、不活性ガス雰囲気を用いる
。これは、非酸化物系セラミック構造体の表面における
酸化等の腐食を防止し、かつ非酸化物系セラミックスの
分解を防止するものである。
不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス等を用い
ることができる。
焼鈍する温度としては、ガラス相と非酸化物系セラミッ
クスが軟化する温度以上であり、かつ非酸化物系セラミ
ック構造体の焼成温度(=J近以下(但し、焼成温度を
越えない)であることが必要である。例えば、非酸化物
系セラミックスが窒化珪素の場合、1600°C〜18
00℃が適当である。
また、焼鈍する圧力としては、5〜10気圧が必要であ
る。これは、上記温度範囲では、ガラス相と非酸化物系
セラミックスは熔解から分解まで進行するため、かかる
分解を防止するためである。
圧力バターンとしては、非酸化物系セラミックスの溶解
析出温度までは常圧(1気圧)とし、それ以後加圧する
パターンがよい。
〔発明の作用幼果〕
本発明の非酸化物系セラミック構造体の表面処理方法に
よれば、従来より高温で処理するため、ガラス相のみな
らず非酸化物系セラミックスも熔解析出する。このため
、亀裂は完全に除去され、強度が大幅に向上する。
また、高温時加圧しているため、ガラス相と非酸化物系
セラミックスは分解することがなく、従って高温による
強度低下は生じない。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例を図面を参考にして説明する。
非酸化物系セラミックスとし−C窒化珪素を用い、酸化
イツトリウム(Y20□)、酸化アルミニラJ、 (Δ
ff、o、)等の焼結助剤を添加して所定形状に成形後
、約1800℃の温度で焼成し、窒化珪素構造体を得た
。次いで、この窒化珪素構造体の表面を所定寸法になる
ように研削した。このときの窒化珪素構造体の加工面を
スケッチしたものが第11U+である。第1図から判る
ように、研削後のものは砥石の加工傷1と、この加工傷
1の先端に生じたクランク2が存在する。
かかる窒化珪素構造体を用いて、次の条件で表面処理を
行った。
まず、窒化珪素構造体の試験片を処理炉に入れ、内部を
窒素ガス雰囲気とした。この状態で処理炉内を所定温度
まで加熱すると共に、炉内を3通りの圧力バクーンで処
理し、焼鈍を行った。
このとき、圧力バターンとしては、第2図に示す如く、
Aパターン:1600℃まで常圧(1気圧)でそれ以後
10気圧、Bパターン:低温時から高温時まで常時10
気圧、Cパターン:常時常圧(1気圧)、の3通りで行
つた。
また、加熱の最高温度としては、上記それぞれの圧力バ
ターンについて、1300℃、1500℃、16 Fl
 0℃、1700℃、1800℃の5通りについて行っ
た。
この結果得られた窒化珪素構造体試験片の抗折強度(k
g/ mm)を調べたところ、第3図に示す結果が得ら
れた。
第3図より、圧力バターンとしてはAパターンであって
、かつ1600℃〜1800℃に加熱することが強度向
上に最も優れていることが判る。
この理由は、まず処理(加熱)温度について言えば、1
500℃程度まではガラス相の溶解析出が起こるのみで
、窒化珪素の熔解析出は起ごらない。従って、第4図に
示すように、加工傷により律したクラック2と加]二傷
1の先端部3は、このガラス相で埋められる。この場合
、強度は処理しない場合に比べれば向上するものの、ガ
ラス相は窒化珪素に比べ強度が弱いため、強度の向上が
上置ではなく、また加工傷も大半は残ったままになって
いる。このため、処理温度としては、窒化珪素が熔解析
出する1600°C以」二とすることが必要であり、か
つ窒化珪素の分解温度より低い1800℃以下とするこ
とが必要である。
また、辻カバターンとしては、Cパターンの場合は、1
600°C以上とした時、窒化珪素の溶解析出と同時に
始まる分解を阻止出来ない。従って、Cパターンの場合
は、第3図に示すように、1700℃、1800℃と温
度が上がるにつれて窒化珪素の分解が激しくなり、表面
が荒れ、強度向」二のII、ilJ果が半減している。
Bパターンの場合は、加圧しない場合に比べ若干強度が
向上しているものの、窒化珪素が溶解し拡散しようとす
る力を抑えてしまい、そのため強度向上効果が小さいと
解される。
一方、本発明に係るAパターンの場合は、第3図に示す
ように、窒化珪素の溶解析出かつ分解開始温度のときに
加圧を開始するため、Bパターンのように窒化珪素の析
出、拡散を抑止することな(、最も望ましい表面状態と
なる。
このAパターンで処理した試験片の加工面を第5図に示
す。第5し1より明らかなように、ガラス相のみでなく
窒化珪素自体も析出しており、クラックのみでなく加工
傷も完全にうまっている。従って、本発明の非酸化物系
セラミック構造体の表面処理力法によれば、加工傷がほ
ぼ埋めつくされて加工傷の極率半径が増大することおよ
び加工傷が主に窒化珪素により埋められることにより、
強度が大幅に向上する。この結果は第3図からも明らか
である。
以上、本発明の特定の実施例について説明したが、本発
明は、この実施例に限定されるものではなく、特許請求
の範囲に記載の範囲内で種々の実施態様が包含されるも
のである。
例えば、実施例では非酸化物系セラミックスとして窒化
珪素をもらいたため、処理温度を1600℃〜1800
°Cとしたが、材料が異なればこの処理温度は変わる。
この処理温度は、非酸化物系セラミックスが熔解析出を
開始する温度以上であり、かつ非酸化物系セラミックス
が分解する温度より低くすればよい。
また、実施例では加圧力として10気圧を用いたが、こ
の加圧力は材料、非酸化物系セラミック構造体の大きさ
等を考慮して適宜な値とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は未処理状態における窒化珪素構造体の加工面を
示す模式図、 第2図は本発明の実施例に係る圧力バターンを示すグラ
フ、 第3図は本発明の実施例に係る3種類の圧力バターンに
おりる処理温度と抗折強度の関係を示すグラフ、 第4図は従来の表面処理を施したときの窒化珪素構造体
の加工面を示す模式図、 第5図は本発明の実施例に係る表面処理を施したときの
窒化珪素構造体の加工面を示す模式図である。 1−一−−加工傷 2−−−−クランク(亀裂) 3−−m−加工傷の先端部 纂1図 第4図 ηコで7グg7 1 182図 第3図 maχ 処工¥5品J支 (゛こ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)−11酸化物系セラミック構造体の仕上げ加工傷
    を除去する非酸化物系セラミ・ツク構造体の表面処理方
    法であって、 前記非酸化物系セラミ、り構造体を不活性ガス雰囲気中
    において、非酸化物系セラミ・ツク構造体を構成する非
    酸化物セラミックスとガラス相が軟化する温度以上で、
    かつ非酸化物系セラミック構造体の焼成温度以下の温度
    範囲で、5〜10気圧の圧力を付与して焼鈍することを
    特徴とする非11り化物系セラミック構造体の表面処理
    方法。
JP796884A 1984-01-19 1984-01-19 非酸化物系セラミツク構造体の表面処理方法 Granted JPS60151290A (ja)

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JPH0524111B2 JPH0524111B2 (ja) 1993-04-06

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