JPS60147157A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPS60147157A
JPS60147157A JP59003756A JP375684A JPS60147157A JP S60147157 A JPS60147157 A JP S60147157A JP 59003756 A JP59003756 A JP 59003756A JP 375684 A JP375684 A JP 375684A JP S60147157 A JPS60147157 A JP S60147157A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
input
level
semiconductor integrated
integrated circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP59003756A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Koyada
古谷田 宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS60147157A publication Critical patent/JPS60147157A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は半導体集積回路会番、特に相補型MOSトラン
ジスタ構造を有する半導体集積回路に関する。
(従来技術) という。)構造を有する半導体集積回路(以下、ICと
いう。)において杜、その入力回路として、例えば第1
図に示す如き回路が広く用いられている。第1図は従来
の0MO8ICの一例の入力回路の回路図で、1は入力
端子、2は出力端子、3は抵抗、4はダイオード、5は
PチャネルMO8トランジスタ(以下、PMO8T と
いう。)、6はNチャネルMOSトランジスタ(以下、
NMO8Tという。)、8は電源端子、9は接地端子で
ある。
PMO8T5及びNMO8T6のゲート及びドレインは
それぞれ接続され、インバータ7を構成している。イン
バータフの出力は出力端子2に接続され、出力端子2は
さらにICの内部ゲートへ接続される。抵抗3及びダイ
オード4は入力端子lに静電気などの異常な入力が印加
されたときインバータフの入力ゲートを保護するための
保護抵抗及び保護ダイオードである。
0MO8構造を有するICにおける入力レベルは通常電
源電圧の1/2に設定されることが多い。
TTL構造を有するICと直接インターフェイスを取る
ことが望まれるようになって来ている。このような場合
においては、0MO8構造を有するICと言えどもTT
L構造を有するICと同等の入力レベルが要求されるこ
とになる。一般にこのTTLレベルとしては0.8〜2
.0■が広く用いられている。
0MO8構造を有するICの入力レベルを’I’TLレ
ベルに変換する一つの方法として、入力回路を構成する
インバータのPMO8T のチャネル幅WPとNf’t
408Tのチャネル幅WNの比WP/WNを小さくする
ことによって実現できることが良く知られている。しか
しながら、この方法による入力レベルの変換はPMO8
T のチャネル幅WPが極端に小さくなるため、PMO
8Tのgmの低下によりインバータの出力の立上り時間
が極端に遅くなり動作スピードの低下をもたらす大きな
欠点を有している。
第2図はPMO8TとNMO8Tのチャネル幅の比Wp
/WNと入力レベルVlth及びインバータ7の遅延時
間tpdの関係の一例を示す特性図で、上記のことを良
く表わしている。
上記のような欠点を改善する方法の一例として、NMO
8T のスレッショールド電圧(以下、VthNという
。)に対してPMO8T のスレッショールド電圧(以
下s VthPという。)を、通常の値より高い値とす
ることにより、0MO8構造を有するICの入力レベル
を動作速度の著しい低下をもたらさずにTTLレベルま
で下げることが知られでいる。第3図はPMO8Tのス
レッショールド電圧vthPと入力レベル■、。及び遅
延時間tpdの関係を示す特性図で、上記のことを良く
表わしている。
しかしながら、この方法においては、ICを構成するす
べてのPMO8TのvthPが高くなるため、内部回路
の動作速度の低下を避けることができないという欠点が
ある。 ? (発明の目的) 本発明の目的は、上記欠点を除去することにより、CM
OB構造を有する半導体集積回路の入力レベルを動作速
度を低下させることなく、有効な値に容易に設定できる
ところの半導体集積回路を提供することにある。
(発明の構成) 本発明の半導体集積回路は、相補型Mos トランジス
タ構造を有する半導体集積回路において入力回路を構成
する少なくとも一導電型MO8トランジスタのスレッシ
ョールド電圧が内部回路を構成する前記−導電型MO8
)ランジスタのスレッシロールド電圧と異なることがら
構成される。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第4図は本発明の一実施例を示すテップレイアウト図で
ある。
本実施例のチップ10は、内部回路11を中央に配置し
、入力回路21〜24を周辺に配置したチップレイアウ
トを有し、かつ入力回路21〜24を構成するPMO8
TのVい、は入力レベルが’l’TLレベルを実現する
に適した■thpz (例えば、−1,6V)とし、内
部回路11を構成するPMO8T のVthPは動作速
度の低下をもたらさないVthP1(例えば、−O,S
V)と設定したものである。
従って、本実施例においては、入力回路21〜24とし
てはTTLレベルの入力に良<整合−c@ると共に、内
部回路ll内における動作速度を低下させることがない
なお、本実施例のICは、NO8)ランジスタのスレッ
ショールド電圧の制御は、近年においてはイオン注入に
よって行なわれることが通常で、PMO8T のイオン
注入工程を入力回路の部分と内部回路の部分とにマスク
により別々のイオン注入を行なうことにより容易に製造
することができる。
又、これまでの説明においてはCMOS T を構成す
るトランジスタのうちPMO8’L’(DVthptR
ならしめる場合を取上げたが、NMO8Tの■。、を異
ならしめても同様である。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したとおり1本発明の学導体集積回路
は、cMos構造において、少〈七も− チャネル幅導
電型のMOS トランジスタのスレッショールド電圧が
入力回路と内部回路とで、異なることから 代理人なっ
ているので、従来のように動作速度を低下させることな
く、人力レベルを有効な値に容易に設定できるという効
果を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体集積回路の入力回路の一例を示す
回路図、第2図、第3図はその特性図、第4図は本発明
の一実施例を示すチップレイアクト図である。 l・・・・・・入力端子、2・・・・・・出力端子、3
・・・・・・抵抗、4・・・・・・ダイオード、5・・
・・・・PチャネルMO8トランジスタ、6・・・・・
・NチャネルMO8トランジスタ、7・・・・・・イン
バータ、8・・・・・・電源端子、9・・・・・・接地
端子、10・・・・・・チップ、11・・・・・・内部
回路、21〜24・・・・・・入力回路、■□。・・・
・・・入力レベルs■tbP・・・・・・PチャネルM
O8)ランジスタのスレッショールド電圧s’pd・・
・・・・遅延時間、WN、WP・・・・・・θ / 2 吟/H/// 隼2ヅ 一ノ・、t 2.0 Vthp CV) 茅3fJ 3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 相補型MO8)ランジスタ構造を有する半導体集積回路
    において、入力回路を構成する少なくとも一導電型MO
    8トランジスタのスレッショールド電圧が内部回路を構
    成する前記−導電型MO8トランジスタのスレッショー
    ルド電圧と異なることを特徴とする半導体集積回路。
JP59003756A 1984-01-12 1984-01-12 半導体集積回路 Pending JPS60147157A (ja)

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JP59003756A JPS60147157A (ja) 1984-01-12 1984-01-12 半導体集積回路

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JPS60147157A true JPS60147157A (ja) 1985-08-03

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008111356A1 (ja) * 2007-03-09 2010-06-24 株式会社朝日ラバー 過剰圧力開放弁及びそれを有する開放弁ユニット

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008111356A1 (ja) * 2007-03-09 2010-06-24 株式会社朝日ラバー 過剰圧力開放弁及びそれを有する開放弁ユニット
US8443840B2 (en) 2007-03-09 2013-05-21 Asahi Rubber Inc. Excessive pressure release valve and release valve unit having the release valve

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