JPS60147157A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPS60147157A JPS60147157A JP59003756A JP375684A JPS60147157A JP S60147157 A JPS60147157 A JP S60147157A JP 59003756 A JP59003756 A JP 59003756A JP 375684 A JP375684 A JP 375684A JP S60147157 A JPS60147157 A JP S60147157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- input
- level
- semiconductor integrated
- integrated circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 235000006732 Torreya nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000111306 Torreya nucifera Species 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は半導体集積回路会番、特に相補型MOSトラン
ジスタ構造を有する半導体集積回路に関する。
ジスタ構造を有する半導体集積回路に関する。
(従来技術)
という。)構造を有する半導体集積回路(以下、ICと
いう。)において杜、その入力回路として、例えば第1
図に示す如き回路が広く用いられている。第1図は従来
の0MO8ICの一例の入力回路の回路図で、1は入力
端子、2は出力端子、3は抵抗、4はダイオード、5は
PチャネルMO8トランジスタ(以下、PMO8T と
いう。)、6はNチャネルMOSトランジスタ(以下、
NMO8Tという。)、8は電源端子、9は接地端子で
ある。
いう。)において杜、その入力回路として、例えば第1
図に示す如き回路が広く用いられている。第1図は従来
の0MO8ICの一例の入力回路の回路図で、1は入力
端子、2は出力端子、3は抵抗、4はダイオード、5は
PチャネルMO8トランジスタ(以下、PMO8T と
いう。)、6はNチャネルMOSトランジスタ(以下、
NMO8Tという。)、8は電源端子、9は接地端子で
ある。
PMO8T5及びNMO8T6のゲート及びドレインは
それぞれ接続され、インバータ7を構成している。イン
バータフの出力は出力端子2に接続され、出力端子2は
さらにICの内部ゲートへ接続される。抵抗3及びダイ
オード4は入力端子lに静電気などの異常な入力が印加
されたときインバータフの入力ゲートを保護するための
保護抵抗及び保護ダイオードである。
それぞれ接続され、インバータ7を構成している。イン
バータフの出力は出力端子2に接続され、出力端子2は
さらにICの内部ゲートへ接続される。抵抗3及びダイ
オード4は入力端子lに静電気などの異常な入力が印加
されたときインバータフの入力ゲートを保護するための
保護抵抗及び保護ダイオードである。
0MO8構造を有するICにおける入力レベルは通常電
源電圧の1/2に設定されることが多い。
源電圧の1/2に設定されることが多い。
TTL構造を有するICと直接インターフェイスを取る
ことが望まれるようになって来ている。このような場合
においては、0MO8構造を有するICと言えどもTT
L構造を有するICと同等の入力レベルが要求されるこ
とになる。一般にこのTTLレベルとしては0.8〜2
.0■が広く用いられている。
ことが望まれるようになって来ている。このような場合
においては、0MO8構造を有するICと言えどもTT
L構造を有するICと同等の入力レベルが要求されるこ
とになる。一般にこのTTLレベルとしては0.8〜2
.0■が広く用いられている。
0MO8構造を有するICの入力レベルを’I’TLレ
ベルに変換する一つの方法として、入力回路を構成する
インバータのPMO8T のチャネル幅WPとNf’t
408Tのチャネル幅WNの比WP/WNを小さくする
ことによって実現できることが良く知られている。しか
しながら、この方法による入力レベルの変換はPMO8
T のチャネル幅WPが極端に小さくなるため、PMO
8Tのgmの低下によりインバータの出力の立上り時間
が極端に遅くなり動作スピードの低下をもたらす大きな
欠点を有している。
ベルに変換する一つの方法として、入力回路を構成する
インバータのPMO8T のチャネル幅WPとNf’t
408Tのチャネル幅WNの比WP/WNを小さくする
ことによって実現できることが良く知られている。しか
しながら、この方法による入力レベルの変換はPMO8
T のチャネル幅WPが極端に小さくなるため、PMO
8Tのgmの低下によりインバータの出力の立上り時間
が極端に遅くなり動作スピードの低下をもたらす大きな
欠点を有している。
第2図はPMO8TとNMO8Tのチャネル幅の比Wp
/WNと入力レベルVlth及びインバータ7の遅延時
間tpdの関係の一例を示す特性図で、上記のことを良
く表わしている。
/WNと入力レベルVlth及びインバータ7の遅延時
間tpdの関係の一例を示す特性図で、上記のことを良
く表わしている。
上記のような欠点を改善する方法の一例として、NMO
8T のスレッショールド電圧(以下、VthNという
。)に対してPMO8T のスレッショールド電圧(以
下s VthPという。)を、通常の値より高い値とす
ることにより、0MO8構造を有するICの入力レベル
を動作速度の著しい低下をもたらさずにTTLレベルま
で下げることが知られでいる。第3図はPMO8Tのス
レッショールド電圧vthPと入力レベル■、。及び遅
延時間tpdの関係を示す特性図で、上記のことを良く
表わしている。
8T のスレッショールド電圧(以下、VthNという
。)に対してPMO8T のスレッショールド電圧(以
下s VthPという。)を、通常の値より高い値とす
ることにより、0MO8構造を有するICの入力レベル
を動作速度の著しい低下をもたらさずにTTLレベルま
で下げることが知られでいる。第3図はPMO8Tのス
レッショールド電圧vthPと入力レベル■、。及び遅
延時間tpdの関係を示す特性図で、上記のことを良く
表わしている。
しかしながら、この方法においては、ICを構成するす
べてのPMO8TのvthPが高くなるため、内部回路
の動作速度の低下を避けることができないという欠点が
ある。 ? (発明の目的) 本発明の目的は、上記欠点を除去することにより、CM
OB構造を有する半導体集積回路の入力レベルを動作速
度を低下させることなく、有効な値に容易に設定できる
ところの半導体集積回路を提供することにある。
べてのPMO8TのvthPが高くなるため、内部回路
の動作速度の低下を避けることができないという欠点が
ある。 ? (発明の目的) 本発明の目的は、上記欠点を除去することにより、CM
OB構造を有する半導体集積回路の入力レベルを動作速
度を低下させることなく、有効な値に容易に設定できる
ところの半導体集積回路を提供することにある。
(発明の構成)
本発明の半導体集積回路は、相補型Mos トランジス
タ構造を有する半導体集積回路において入力回路を構成
する少なくとも一導電型MO8トランジスタのスレッシ
ョールド電圧が内部回路を構成する前記−導電型MO8
)ランジスタのスレッシロールド電圧と異なることがら
構成される。
タ構造を有する半導体集積回路において入力回路を構成
する少なくとも一導電型MO8トランジスタのスレッシ
ョールド電圧が内部回路を構成する前記−導電型MO8
)ランジスタのスレッシロールド電圧と異なることがら
構成される。
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第4図は本発明の一実施例を示すテップレイアウト図で
ある。
ある。
本実施例のチップ10は、内部回路11を中央に配置し
、入力回路21〜24を周辺に配置したチップレイアウ
トを有し、かつ入力回路21〜24を構成するPMO8
TのVい、は入力レベルが’l’TLレベルを実現する
に適した■thpz (例えば、−1,6V)とし、内
部回路11を構成するPMO8T のVthPは動作速
度の低下をもたらさないVthP1(例えば、−O,S
V)と設定したものである。
、入力回路21〜24を周辺に配置したチップレイアウ
トを有し、かつ入力回路21〜24を構成するPMO8
TのVい、は入力レベルが’l’TLレベルを実現する
に適した■thpz (例えば、−1,6V)とし、内
部回路11を構成するPMO8T のVthPは動作速
度の低下をもたらさないVthP1(例えば、−O,S
V)と設定したものである。
従って、本実施例においては、入力回路21〜24とし
てはTTLレベルの入力に良<整合−c@ると共に、内
部回路ll内における動作速度を低下させることがない
。
てはTTLレベルの入力に良<整合−c@ると共に、内
部回路ll内における動作速度を低下させることがない
。
なお、本実施例のICは、NO8)ランジスタのスレッ
ショールド電圧の制御は、近年においてはイオン注入に
よって行なわれることが通常で、PMO8T のイオン
注入工程を入力回路の部分と内部回路の部分とにマスク
により別々のイオン注入を行なうことにより容易に製造
することができる。
ショールド電圧の制御は、近年においてはイオン注入に
よって行なわれることが通常で、PMO8T のイオン
注入工程を入力回路の部分と内部回路の部分とにマスク
により別々のイオン注入を行なうことにより容易に製造
することができる。
又、これまでの説明においてはCMOS T を構成す
るトランジスタのうちPMO8’L’(DVthptR
ならしめる場合を取上げたが、NMO8Tの■。、を異
ならしめても同様である。
るトランジスタのうちPMO8’L’(DVthptR
ならしめる場合を取上げたが、NMO8Tの■。、を異
ならしめても同様である。
(発明の効果)
以上、詳細に説明したとおり1本発明の学導体集積回路
は、cMos構造において、少〈七も− チャネル幅導
電型のMOS トランジスタのスレッショールド電圧が
入力回路と内部回路とで、異なることから 代理人なっ
ているので、従来のように動作速度を低下させることな
く、人力レベルを有効な値に容易に設定できるという効
果を有している。
は、cMos構造において、少〈七も− チャネル幅導
電型のMOS トランジスタのスレッショールド電圧が
入力回路と内部回路とで、異なることから 代理人なっ
ているので、従来のように動作速度を低下させることな
く、人力レベルを有効な値に容易に設定できるという効
果を有している。
第1図は従来の半導体集積回路の入力回路の一例を示す
回路図、第2図、第3図はその特性図、第4図は本発明
の一実施例を示すチップレイアクト図である。 l・・・・・・入力端子、2・・・・・・出力端子、3
・・・・・・抵抗、4・・・・・・ダイオード、5・・
・・・・PチャネルMO8トランジスタ、6・・・・・
・NチャネルMO8トランジスタ、7・・・・・・イン
バータ、8・・・・・・電源端子、9・・・・・・接地
端子、10・・・・・・チップ、11・・・・・・内部
回路、21〜24・・・・・・入力回路、■□。・・・
・・・入力レベルs■tbP・・・・・・PチャネルM
O8)ランジスタのスレッショールド電圧s’pd・・
・・・・遅延時間、WN、WP・・・・・・θ / 2 吟/H/// 隼2ヅ 一ノ・、t 2.0 Vthp CV) 茅3fJ 3
回路図、第2図、第3図はその特性図、第4図は本発明
の一実施例を示すチップレイアクト図である。 l・・・・・・入力端子、2・・・・・・出力端子、3
・・・・・・抵抗、4・・・・・・ダイオード、5・・
・・・・PチャネルMO8トランジスタ、6・・・・・
・NチャネルMO8トランジスタ、7・・・・・・イン
バータ、8・・・・・・電源端子、9・・・・・・接地
端子、10・・・・・・チップ、11・・・・・・内部
回路、21〜24・・・・・・入力回路、■□。・・・
・・・入力レベルs■tbP・・・・・・PチャネルM
O8)ランジスタのスレッショールド電圧s’pd・・
・・・・遅延時間、WN、WP・・・・・・θ / 2 吟/H/// 隼2ヅ 一ノ・、t 2.0 Vthp CV) 茅3fJ 3
Claims (1)
- 相補型MO8)ランジスタ構造を有する半導体集積回路
において、入力回路を構成する少なくとも一導電型MO
8トランジスタのスレッショールド電圧が内部回路を構
成する前記−導電型MO8トランジスタのスレッショー
ルド電圧と異なることを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59003756A JPS60147157A (ja) | 1984-01-12 | 1984-01-12 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59003756A JPS60147157A (ja) | 1984-01-12 | 1984-01-12 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60147157A true JPS60147157A (ja) | 1985-08-03 |
Family
ID=11566022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59003756A Pending JPS60147157A (ja) | 1984-01-12 | 1984-01-12 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60147157A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2008111356A1 (ja) * | 2007-03-09 | 2010-06-24 | 株式会社朝日ラバー | 過剰圧力開放弁及びそれを有する開放弁ユニット |
-
1984
- 1984-01-12 JP JP59003756A patent/JPS60147157A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2008111356A1 (ja) * | 2007-03-09 | 2010-06-24 | 株式会社朝日ラバー | 過剰圧力開放弁及びそれを有する開放弁ユニット |
US8443840B2 (en) | 2007-03-09 | 2013-05-21 | Asahi Rubber Inc. | Excessive pressure release valve and release valve unit having the release valve |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4472871A (en) | Method of making a plurality of MOSFETs having different threshold voltages | |
US5825695A (en) | Semiconductor device for reference voltage | |
US6803801B2 (en) | CMOS level shifters using native devices | |
JPH0210678Y2 (ja) | ||
JPH06314773A (ja) | 半導体装置 | |
US4956691A (en) | NMOS driver circuit for CMOS circuitry | |
JPS5869124A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH0653497A (ja) | 入出力保護回路を備えた半導体装置 | |
JPS60147157A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPS63244874A (ja) | 入力保護回路 | |
JPH0315350B2 (ja) | ||
US7259590B1 (en) | Driver for multi-voltage island/core architecture | |
JPH1070197A (ja) | スプリット・ゲート酸化物を備えた高集積度cmos回路及びその作成法 | |
JPS60258947A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
EP0404360B1 (en) | Shielded transistor device | |
JPS62222713A (ja) | 遅延用cmosインバ−タ回路 | |
KR100251986B1 (ko) | 출력구동기 및 그 제조 방법 | |
JPS6193655A (ja) | 半導体装置 | |
JPH04117721A (ja) | プルアップ付入力回路 | |
JPS63132527A (ja) | Cmos論理回路 | |
JPS6119227A (ja) | Mos入力回路装置 | |
JPH03246967A (ja) | 半導体装置 | |
JPS5957469A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6185854A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6154658A (ja) | 半導体装置 |