JPS60145917A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
光学素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS60145917A JPS60145917A JP25026283A JP25026283A JPS60145917A JP S60145917 A JPS60145917 A JP S60145917A JP 25026283 A JP25026283 A JP 25026283A JP 25026283 A JP25026283 A JP 25026283A JP S60145917 A JPS60145917 A JP S60145917A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- glass body
- optical element
- gel
- index distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/50—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with alkali metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）技術分野
本発明は、カメラ、複写機、ファクシミリ等のレンズや
他のオプトエレクトロニクス機器の光学部品に用いろこ
とができ、ガラス体内部に屈折率分布を有するような光
学素子を、部品質に且つ安価に製造する方法に関する。
他のオプトエレクトロニクス機器の光学部品に用いろこ
とができ、ガラス体内部に屈折率分布を有するような光
学素子を、部品質に且つ安価に製造する方法に関する。
（２）背景技術
最近、複写機や光通信の分野でＤ折率分布を有する光学
素子が注目されており、一部では既に大川化されている
。特に多成分ガラスにおいて、イオン交換を利用して作
るセルフォックは良く知られたものの例で−ある。
素子が注目されており、一部では既に大川化されている
。特に多成分ガラスにおいて、イオン交換を利用して作
るセルフォックは良く知られたものの例で−ある。
しかし、このようなイオン交換を応用する方法において
は、ガラス自身が変形しない温度条件てイオン交換を行
なわなければならないという本質的な制約がある。すな
わち、実用的な時間内でイオン交換を行なうためには、
拡散速度の速（・１価の陽イオン、例えばＴ 、ｇ ＋
、Ｃ８＋、Ｒｂ”、で、Ｎａ＋、Ｌ１′−１Ａｇ″等し
か拡散種として用いることができなない。特に、大きな
屈折率差を得ようとする場合にはＴＩ＋イオンを用いる
心安があるが、この場合には屈折率の波長分散が大きく
なることが避けられない。また、上記のような拡散速度
の大きな］価の陽イオンを用いたとしても、直径５ ｍ
ｍ以上の太いロンドレンズをイオン交換を応用した方法
で作るとすれは、イオン交換に要する時間が長くなり、
工業的には実施不可能である。
は、ガラス自身が変形しない温度条件てイオン交換を行
なわなければならないという本質的な制約がある。すな
わち、実用的な時間内でイオン交換を行なうためには、
拡散速度の速（・１価の陽イオン、例えばＴ 、ｇ ＋
、Ｃ８＋、Ｒｂ”、で、Ｎａ＋、Ｌ１′−１Ａｇ″等し
か拡散種として用いることができなない。特に、大きな
屈折率差を得ようとする場合にはＴＩ＋イオンを用いる
心安があるが、この場合には屈折率の波長分散が大きく
なることが避けられない。また、上記のような拡散速度
の大きな］価の陽イオンを用いたとしても、直径５ ｍ
ｍ以上の太いロンドレンズをイオン交換を応用した方法
で作るとすれは、イオン交換に要する時間が長くなり、
工業的には実施不可能である。
また、イオン交換り、外で屈折率分布を有する光学素子
を製造する方法としては、ＶＡ Ｄ （ＶａｐｏｕｒＡ
ｘｉｓ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やＣＶＤ （Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒｌ）ｅｐｏｓｉｔｊｏｎ）法
などの気相合成法が知られている。
を製造する方法としては、ＶＡ Ｄ （ＶａｐｏｕｒＡ
ｘｉｓ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やＣＶＤ （Ｃｈｅ
ｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒｌ）ｅｐｏｓｉｔｊｏｎ）法
などの気相合成法が知られている。
しかしながら、気相合成法は生産性が低く、大きな光学
素子は作りにくいという欠点がある。
素子は作りにくいという欠点がある。
史に、共重合により屈折率分布を有するプラスチック部
材を製造する方法も知られているが、プラスチックには
温度、湿度等の周囲の環境条件により、その光学性能が
大きく変化するという欠点があり、高い精度が要求され
る光学機器には用いることができない。
材を製造する方法も知られているが、プラスチックには
温度、湿度等の周囲の環境条件により、その光学性能が
大きく変化するという欠点があり、高い精度が要求され
る光学機器には用いることができない。
一方、従来より金属アルコキシド、例えば５１（ＯＣＨ
３）４ 等を加水分解して得られる多孔値ゲルを焼結す
ることによってガラス体を作成する方法（以下、ゾル−
ゲル法と呼ぶ）が知られている。
３）４ 等を加水分解して得られる多孔値ゲルを焼結す
ることによってガラス体を作成する方法（以下、ゾル−
ゲル法と呼ぶ）が知られている。
以下、ゾル−ゲル法のプロセスの概要を図面も参照して
説明する。
説明する。
第１図は、ゾル−ゲル法のプロセスの一例を説明する工
程図である。本例では説明を簡略化するため、金属アル
コキシドを８１（ＯＣＨ３）４、これを心解する浴媒を
ＣＨ３０Ｈとしたものを例として説明する。まず、原料
である５Ｊ（ＯＣＨ３）４をＣＨ２Ｏ］（の入った混合
用容器５中でＭ解する。次に、これをゲル化容器６に移
した後、ＣＨ３０ＨとＨ２Ｏの混合液を攪拌しながら徐
々に加えることによりゲル化を行う（ゲル化工程Ａ）。
程図である。本例では説明を簡略化するため、金属アル
コキシドを８１（ＯＣＨ３）４、これを心解する浴媒を
ＣＨ３０Ｈとしたものを例として説明する。まず、原料
である５Ｊ（ＯＣＨ３）４をＣＨ２Ｏ］（の入った混合
用容器５中でＭ解する。次に、これをゲル化容器６に移
した後、ＣＨ３０ＨとＨ２Ｏの混合液を攪拌しながら徐
々に加えることによりゲル化を行う（ゲル化工程Ａ）。
次に、残留物であるＣＨ，ＯＨ及びｆ（、，０を徐々に
飛散させてゲル２を乾燥させる（乾燥工程Ｂ ）。そし
て、この乾燥ゲル３をゲル化容器５かも取り出した後、
これを焼成炉等で１０００℃以上に加熱して焼結しガラ
ス体とする（焼結工程Ｃ）。
飛散させてゲル２を乾燥させる（乾燥工程Ｂ ）。そし
て、この乾燥ゲル３をゲル化容器５かも取り出した後、
これを焼成炉等で１０００℃以上に加熱して焼結しガラ
ス体とする（焼結工程Ｃ）。
このゾル−ゲル法は、ガラスの浴融温間以下の低温でガ
ラスを合成できるため経済的であり、更に高純度の原料
が得られやすいので不純物の少ないカラス体が得られる
といった特長がある。また、ゾル−ゲル法によって得ら
れるガラス体は、５１ｏ２だけでなく、例えば５１０２
−Ｔ１０２．５ｉｎ２−Ｐ２Ｏ，，５ｉ０２−Ｂ２０３
．５ｉｎ２−Ｂ２０３−Ｎａ２０．５ｉｎ２−Ｎａ２０
系などの多くの組成のものを得ることができることが
知られている。
ラスを合成できるため経済的であり、更に高純度の原料
が得られやすいので不純物の少ないカラス体が得られる
といった特長がある。また、ゾル−ゲル法によって得ら
れるガラス体は、５１ｏ２だけでなく、例えば５１０２
−Ｔ１０２．５ｉｎ２−Ｐ２Ｏ，，５ｉ０２−Ｂ２０３
．５ｉｎ２−Ｂ２０３−Ｎａ２０．５ｉｎ２−Ｎａ２０
系などの多くの組成のものを得ることができることが
知られている。
近年ゾル−ゲル法により得られる多孔質体の細孔中に金
属イオンを拡散させて屈折率分布を形成する方法が提示
されているが、この方法は屈折率分布の制＠］がむずが
しいため、今のところファイバー用プリフォームとして
用いられているのが現状である。
属イオンを拡散させて屈折率分布を形成する方法が提示
されているが、この方法は屈折率分布の制＠］がむずが
しいため、今のところファイバー用プリフォームとして
用いられているのが現状である。
（３）発明の開示
本発明は、上記の事実に鑑み成されたものであって、本
発明の目的は、ゾル−ゲル法を応用することによって屈
折率分布を有する光学素子を高品質に且つ安価に製造す
る方法、特に、焼結後に屈折率分布を有するカラス体と
なるようなゲルを製造する方法を提供することにある。
発明の目的は、ゾル−ゲル法を応用することによって屈
折率分布を有する光学素子を高品質に且つ安価に製造す
る方法、特に、焼結後に屈折率分布を有するカラス体と
なるようなゲルを製造する方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、以下の方法によって達成される。
加水分解によってケル化したのち焼結することＫよっテ
カラス体となるような金属アルコキシドｂ液と、前記カ
ラス体の屈折率を変化せしめる元素を含む浴液との混合
液を、焼結後に所望のカＥ ４７ｉ’率分布を有するガ
ラス体となるような組成分布を有する状態でゲル化させ
得られたゲルを焼結してガラス体を祷ることを特徴とす
る光学素子の製造方法。
カラス体となるような金属アルコキシドｂ液と、前記カ
ラス体の屈折率を変化せしめる元素を含む浴液との混合
液を、焼結後に所望のカＥ ４７ｉ’率分布を有するガ
ラス体となるような組成分布を有する状態でゲル化させ
得られたゲルを焼結してガラス体を祷ることを特徴とす
る光学素子の製造方法。
上記のような本発明の特長とするところは、了ｒに加水
分解によってゲル化したのち焼結しただけでは屈折率分
布を持たない均一なガラス体となる上記のような混合液
を、例えば遠心分離等の手段によって屈折率分布を有す
るガラス体となるような、＜ＩＢ成分布を与える状態で
ゲル化することで、１１１（４）＋−４、分布を有する
ガラス体を？４’ｆることにある。
分解によってゲル化したのち焼結しただけでは屈折率分
布を持たない均一なガラス体となる上記のような混合液
を、例えば遠心分離等の手段によって屈折率分布を有す
るガラス体となるような、＜ＩＢ成分布を与える状態で
ゲル化することで、１１１（４）＋−４、分布を有する
ガラス体を？４’ｆることにある。
（４）発明を実施するための最良の形態本発明における
金属アルコキシドとしては、シリコンメトキシド（Ｓ
１（ＯＣＨ３）ｊ、シリコンエトキシド（Ｓ ｉ （０
Ｃ２Ｈ５） ４）等が好ましいものとして挙げられる。
金属アルコキシドとしては、シリコンメトキシド（Ｓ
１（ＯＣＨ３）ｊ、シリコンエトキシド（Ｓ ｉ （０
Ｃ２Ｈ５） ４）等が好ましいものとして挙げられる。
また、これら金属アルコキシドを箔屑する溶媒としては
、メタノール、エタノール等のアルコール等が好まし℃
・ものとして挙げられる。
、メタノール、エタノール等のアルコール等が好まし℃
・ものとして挙げられる。
本発明におけるガラス体の屈折率を変化させる元素とし
ては、」二記の如きガラス体となるような金属アルコキ
シド浴液に含まれる金属以外の元素、ずなわちＧｅ１Ｔ
ｉ、 ｋｌ、 Ｚｒ、 Ｂ、 Ｎａ、 Ｃｓ、 ’Ｔｌ
。
ては、」二記の如きガラス体となるような金属アルコキ
シド浴液に含まれる金属以外の元素、ずなわちＧｅ１Ｔ
ｉ、 ｋｌ、 Ｚｒ、 Ｂ、 Ｎａ、 Ｃｓ、 ’Ｔｌ
。
Ｌ＋ 等が好ましいものとして挙げられるが、本発明に
おいてはこれ等の元素を含む化合物、例えばこれ等の元
素のアルコキシド等の少くも１種以上を所望に応じて使
用することが可能である。これらの化合物を箔屑する溶
媒としては、上記のようなメタノール、エタノール等の
アルコール等カ好ましいものとして挙げられる。
おいてはこれ等の元素を含む化合物、例えばこれ等の元
素のアルコキシド等の少くも１種以上を所望に応じて使
用することが可能である。これらの化合物を箔屑する溶
媒としては、上記のようなメタノール、エタノール等の
アルコール等カ好ましいものとして挙げられる。
これら元素を含む溶液は、上記の如き元素を含む化合物
を、例えば上記の如き溶媒に浴解することによって使用
される。ここで金属アルコキシド浴液に含まれないとは
、例えばガラス体となるような金属アルコキシド浴液が
］成分の金属アルコキシドから成るのであれは、この金
属アルコキシドに含まれる金属元素以外の元素を含む化
合物を使用することを意味し、これら化合物は上記のよ
うなこれ等のアルコキシドであってもよい。
を、例えば上記の如き溶媒に浴解することによって使用
される。ここで金属アルコキシド浴液に含まれないとは
、例えばガラス体となるような金属アルコキシド浴液が
］成分の金属アルコキシドから成るのであれは、この金
属アルコキシドに含まれる金属元素以外の元素を含む化
合物を使用することを意味し、これら化合物は上記のよ
うなこれ等のアルコキシドであってもよい。
本発明における焼結後に所望の屈折率分布を有するガラ
ス体となるような組成分布を有する状、Ｃｊ、！：でゲ
ル化させる手段としては前記のような遠ノし・分離が好
ましいものとして挙げられる。その他、金属化合物の自
然拡散、重力による沈降、電場による拡散切によること
も可能である。
ス体となるような組成分布を有する状、Ｃｊ、！：でゲ
ル化させる手段としては前記のような遠ノし・分離が好
ましいものとして挙げられる。その他、金属化合物の自
然拡散、重力による沈降、電場による拡散切によること
も可能である。
以下に実施例を示し、本発明について史Ｋ 、ｉ（、Ｌ
（説明する。
（説明する。
尚、以下の例では、主としてＳｉＯ□−ＴＩＯ２系カラ
スを例として説明するが、前記したよりなＳ］０２−ｐ
、、ｏ、、Ｓ ｉ ０２−Ｂ、、０３、Ｓ ｉ Ｏ２−
１３２０３−Ｎａ２０ 、 Ｓ ｉ ０２−Ｎａ２Ｏ系
等のガラスにおいても同様のことが８える。
スを例として説明するが、前記したよりなＳ］０２−ｐ
、、ｏ、、Ｓ ｉ ０２−Ｂ、、０３、Ｓ ｉ Ｏ２−
１３２０３−Ｎａ２０ 、 Ｓ ｉ ０２−Ｎａ２Ｏ系
等のガラスにおいても同様のことが８える。
〈実施例 ］〉
２７９のシリコンエトキシド（Ｓ ］（０Ｃ２Ｈ５）
４）及び７９２のチタンイノプロポオキシド（ＴＩ（Ｏ
Ｃ３Ｈ７）４）を、所望の容器の中で１００ｍｇのエタ
ノールに箔屑ずろ（以下、この溶液を溶液Ａと称する）
。次に、この浴液Ａに、予め調整した゛エタノール５０
ｙｄと水５０−から成る混合液（す、下、浴液Ｂと称す
る）を攪拌しながら徐々に加える。この際、浴液Ｂを急
激に加えると、加水分解速度の大きいＴｉ（ＱＣ２Ｈ，
）４が選択的に沈殿してしまうので注意する心安がある
。溶液へと浴液Ｂの混合液を浴液Ｃとする。このｉ？ｉ
［Ｃは、カラス組成で９０ＳｉＯ２・１０ＴｉＯ，、（
ｍｏ１％）に相当する。
４）及び７９２のチタンイノプロポオキシド（ＴＩ（Ｏ
Ｃ３Ｈ７）４）を、所望の容器の中で１００ｍｇのエタ
ノールに箔屑ずろ（以下、この溶液を溶液Ａと称する）
。次に、この浴液Ａに、予め調整した゛エタノール５０
ｙｄと水５０−から成る混合液（す、下、浴液Ｂと称す
る）を攪拌しながら徐々に加える。この際、浴液Ｂを急
激に加えると、加水分解速度の大きいＴｉ（ＱＣ２Ｈ，
）４が選択的に沈殿してしまうので注意する心安がある
。溶液へと浴液Ｂの混合液を浴液Ｃとする。このｉ？ｉ
［Ｃは、カラス組成で９０ＳｉＯ２・１０ＴｉＯ，、（
ｍｏ１％）に相当する。
ここで溶液Ｃは、時間の経過とともに加水分解が進みゲ
ル化してゆくが、この過程において浴液Ｃを入れた所望
の容器を回転させておくと、遠心分離の原理により溶液
に組成分布が生じ、その状態を保ったままゲル化するの
で、屈折率分布をイｊするゲルが得られる。このとき回
転の速度、時間等を調整することにより、屈折率分布を
制御することができる。
ル化してゆくが、この過程において浴液Ｃを入れた所望
の容器を回転させておくと、遠心分離の原理により溶液
に組成分布が生じ、その状態を保ったままゲル化するの
で、屈折率分布をイｊするゲルが得られる。このとき回
転の速度、時間等を調整することにより、屈折率分布を
制御することができる。
次に、上記ゲルを５０℃に保った所望の乾燥器中に放置
して、残存物である水とアルコールを除去し、乾燥ゲル
とする。最後に、この乾燥ゲルを以下に示すような加熱
プログラムて、所望の焼成炉中で焼結し、カラス体を得
た。
して、残存物である水とアルコールを除去し、乾燥ゲル
とする。最後に、この乾燥ゲルを以下に示すような加熱
プログラムて、所望の焼成炉中で焼結し、カラス体を得
た。
■ 昇￥１′Ｒ７速度２℃／分で４００’Ｃまでツノ■
熱、■ ＝１００℃で６０時間保持、 ■ 昇温速度２℃／分で７５０℃まで加熱、■ ７５０
℃で４時間保持、 ■ 昇温速度２℃／分で１０００℃まて加熱、■ １０
００℃て５〜６時間保持した後、炉中で自然放冷。
熱、■ ＝１００℃で６０時間保持、 ■ 昇温速度２℃／分で７５０℃まで加熱、■ ７５０
℃で４時間保持、 ■ 昇温速度２℃／分で１０００℃まて加熱、■ １０
００℃て５〜６時間保持した後、炉中で自然放冷。
上記のような工程を経て得られたガラス体の）ｕ’。
折率分布を測定した所、中心から外側に向けてノ１［（
折率分布を有するガラス体となっていた。
折率分布を有するガラス体となっていた。
上記のように本発明の方法によれば、焼結後（てｉ＋＋
ｊ折率分布を有するガラス体となるようなゲルを得るこ
とができる。このゲル体は、上記の如きバルク状のもの
のみならず、加水分解する時の水分の量を調節する等の
方法により、ファイバー状に引き延すことも可能である
。このようにして得られる中心から外側に向けて屈折率
が変化しているファイバー状ゲルを熱処理することによ
って得られるガラスファイバーは、いわゆるグレーデッ
ドインデックス型ファイバーであり、光通信分野への応
用が期待される。
ｊ折率分布を有するガラス体となるようなゲルを得るこ
とができる。このゲル体は、上記の如きバルク状のもの
のみならず、加水分解する時の水分の量を調節する等の
方法により、ファイバー状に引き延すことも可能である
。このようにして得られる中心から外側に向けて屈折率
が変化しているファイバー状ゲルを熱処理することによ
って得られるガラスファイバーは、いわゆるグレーデッ
ドインデックス型ファイバーであり、光通信分野への応
用が期待される。
また、熱処理後に得られるガラス体の形状は、加水分解
する時の容器の形状によって決まるので、これら容器の
形状を所望の形状とすることにより、任意の形状を有す
る屈折率分布をもった光学素子を得ることが可能である
。例えば、曲率な持った容器を用いれば、屈折率分布を
持ち且つ曲率を有する光学素子を得ることができる。
する時の容器の形状によって決まるので、これら容器の
形状を所望の形状とすることにより、任意の形状を有す
る屈折率分布をもった光学素子を得ることが可能である
。例えば、曲率な持った容器を用いれば、屈折率分布を
持ち且つ曲率を有する光学素子を得ることができる。
以上に説明した本発明によってもたらされる効果として
は、下記に列挙するようなものが挙げられる。
は、下記に列挙するようなものが挙げられる。
■ 大きな形状の光学素子が得やすい。
■ 深い屈折率分布が得やすい。
■ アルコキシドを形成する元素は数多く存在するので
、多様な屈折率分布を持つ光学素子が得られる。
、多様な屈折率分布を持つ光学素子が得られる。
■ 原料である金属アルコキシドは高純凌に存製するこ
とが可能であり、また従来のようなルツボ内での高温溶
融という工程を設ける必要がないので、不純物の少い光
学素子なイＨることが可能である。
とが可能であり、また従来のようなルツボ内での高温溶
融という工程を設ける必要がないので、不純物の少い光
学素子なイＨることが可能である。
■ ゲル化容器の形状を変えることにより、多様な形状
の光学素子を得ることがてきる。
の光学素子を得ることがてきる。
■ 原料は安価であり、工程も比較的単純なので、製造
コストを低（することができる。
コストを低（することができる。
第１図は、ゾル−ゲル法のプロセスの一例’（１ｆ５１
’。 明する工程図である。 １・・・・・・・原料混合液 ２・ ・・ ・・乾燥前のゲル ３ ・・・・乾燥後のゲル ４・・・ ・・・・焼結によって得られるガラス体５・
・・・・・・・混合用容器 ６・・・・・・・ゲル化容器 Ａ・ ・・・ゲル化工程 Ｂ・・・・乾燥工程 Ｃ・・・・・・・・焼結工程 特許出願人 キャノン株式会社 第 １ 図
’。 明する工程図である。 １・・・・・・・原料混合液 ２・ ・・ ・・乾燥前のゲル ３ ・・・・乾燥後のゲル ４・・・ ・・・・焼結によって得られるガラス体５・
・・・・・・・混合用容器 ６・・・・・・・ゲル化容器 Ａ・ ・・・ゲル化工程 Ｂ・・・・乾燥工程 Ｃ・・・・・・・・焼結工程 特許出願人 キャノン株式会社 第 １ 図
Claims (4)
- （１） 加水分解によってゲル化したのち焼結すること
によってガラス体となるような金属アルコキシド溶液と
、前記ガラス体の屈折率を変化せしめる元素を含む溶液
との混合液を、焼結後に所望の屈折率分布を有するガラ
ス体となるような組成分布を有する状態でゲル化させ得
られたゲルを焼結してガラス体を得ることを特徴とする
光学素子の製造方法。 - （２） 前記金属アルコキシドがシリコンメトキシド（
ｓｉ （ＯＯＨ３）４）又はシリコンエトキシド（Ｓｉ
（ＯＣ２１−Ｉ５）４）であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項に記載の光学素子の製造方法。 - （３） 前記ゲル化の工程が、遠心分離の原理を利用す
る工程を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項ま
たは第２項に記載の光学素子の製造方法。 - （４） 前記元素力；−Ｇｅ、Ｔｉ、Ａｌ、 Ｚ−ｒ、
Ｂ１ＮａＸＣｓ。 Ｔｌ、およびＬｉから成る群より選択される １種以上
の元素で些ることを特徴とする特許請求の範囲第１項、
第２項または第３項に記載の光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25026283A JPS60145917A (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25026283A JPS60145917A (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 光学素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145917A true JPS60145917A (ja) | 1985-08-01 |
Family
ID=17205268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25026283A Pending JPS60145917A (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | 光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145917A (ja) |
-
1983
- 1983-12-29 JP JP25026283A patent/JPS60145917A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5076980A (en) | Method of making sol-gel monoliths | |
| US5182236A (en) | Gradient index glasses and sol-gel method for their preparation | |
| US4786618A (en) | Sol-gel method for making ultra-low expansion glass | |
| JPS5983955A (ja) | ゲルマニウム含有ケイ酸塩ガラスを包含する光学的組成物の製造方法 | |
| US8763430B2 (en) | Method for manufacturing grin lens | |
| JPS60145917A (ja) | 光学素子の製造方法 | |
| NO158342B (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av en gjenstand av glass eller keramikk. | |
| GB2100248A (en) | Preparing porous bodies of doped silica gel | |
| JPH09202652A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPS6296339A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPH04108626A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPS6340731A (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 | |
| JPS63107821A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH06316420A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH0570150A (ja) | 屈折率分布型光学素子の製造方法 | |
| JPS63291822A (ja) | 大型塊状ガラスの製造方法 | |
| JPS6158818A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH11100215A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JPS62278139A (ja) | 光フアイバ−母材の製造方法 | |
| JPS62100424A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH0264030A (ja) | 塊状ガラスの製造方法 | |
| JPS6191023A (ja) | 管状石英ガラスの製造方法 | |
| JPS62288117A (ja) | ド−ブトシリカガラスの製造方法 | |
| JPS62278141A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0751445B2 (ja) | ガラスの製造方法 |