JPS60140320A - 液晶狭持基板 - Google Patents

液晶狭持基板

Info

Publication number
JPS60140320A
JPS60140320A JP24764383A JP24764383A JPS60140320A JP S60140320 A JPS60140320 A JP S60140320A JP 24764383 A JP24764383 A JP 24764383A JP 24764383 A JP24764383 A JP 24764383A JP S60140320 A JPS60140320 A JP S60140320A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
liquid crystal
polyimide
substrate
acid component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24764383A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiko Yamaguchi
勝彦 山口
Munekazu Tanaka
田中 宗和
Kazumasa Igarashi
一雅 五十嵐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Electric Industrial Co Ltd filed Critical Nitto Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP24764383A priority Critical patent/JPS60140320A/ja
Publication of JPS60140320A publication Critical patent/JPS60140320A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は液晶セルの組立てに用いられる液晶挟持基板に
関し、特に初期の良好な液晶配向状態を長期間にわたり
保持しうる液晶セル組立用の液晶挟持基板に関する。
電界の作用により動作する電気光学的効果を利用した液
晶セルにおいては、ガラス板の如き基板上に形成された
電極と液晶が直接接触して液晶劣化を防ぐ目的で電極表
面を核って絶縁膜(液晶配向膜)が設けられている。
液晶配向膜としては、従来、酸化ケイ素の斜方蒸着膜が
設けられていたが、この蒸着膜では液晶の種類により配
向特性に著しく差があり、良好な液晶配向膜とは言い難
かった。
そのため液晶配向膜として、有機高分子膜をラビングし
て用いることも提案されたが、液晶セル組立時の加熱に
よりラビング効果を低下させる欠点を有するものが多く
、配向規制力の良好なポリイミド膜が通常用いられてい
る。
しかしながら現在知られているポリイミド膜は基板(ガ
ラス板等)面との接着性に劣るため、部分的に基板面よ
り膜はがれが生じ、得られる液晶セルに配向不良を起こ
したり、長時間使用すると液晶劣化のため作動不良が発
生し、液晶配向膜として未だ満足しうるものとは言い難
い。
本発明者達はある種のポリイミド7ラン前駆体より得ら
れるポリイミドシラン膜を液晶配向膜として用いると、
かかる従来技術の欠点を克服できることを見い出し本発
明を完成させた。
即ち本発明は、電極が形成された基板上Ki晶配向膜を
設けてなる液晶挟持基板において、該配向膜が下記ポリ
イミドシラン前駆体のイミド化物である液晶挟持基板に
関するものである。
記 [有機テトラカルボン酸成分と次の一般式(1)。
およびRxは−o−,−s−、−so□−、−CONH
−、−COO−1−CO−1−CH2−1−C(CHa
 )2−1 C(CFs )g k 示1゜(それぞれ
のR1およびRxは同一であっても異なび一0R,−0
−を含む)の水素はハロゲン、アルキル基、アリール基
で置換されていてもよい。〕を主体とするジアミンとの
重合反応によりポリイミドシラン前駆体を製造するにあ
たり、上記カルボン酸成分の一部を予め次の一般式(2
)。
(式中R1iは芳香族環を含2む一価の有機基または水
素を示し、R,は珪素原子に直接結合する炭素原子を含
む二価の有機基、mは1まtctま2の軒数、Xはアル
コキシ基、アセトキシ基、フェノキシ基およびハロゲン
から選ばれた加水分解可能な基、Yにアルコキシ基、ア
ルキル基、アセトキシ基、フェノキシ基、シリル基、シ
ロキシ基、オルガノンロキシ基、ジシラニル基、オルガ
ノンリル基、オルガノハロシリル基およびオルガノハロ
シリル基から選ばれた基である。)で示されるアミノシ
ラン化合物と反応させてシラン変性多価カルボン酸成分
となし、このカルボン酸成分を残余の有機テトラカルボ
ン酸成分とともにジアミンと重合反応させてなるポリイ
ミドシラン前駆体。」図面により本発明の詳細な説明す
ると、第1図は液晶挟持基板を示しており、(1)/′
iガラス板の如き基板、(2)はインジウム−スズ等よ
り構成される(透明)′[m、(3)は前記ポリイミド
シラン前駆体のイミド化物即ちポリイミドシラン膜であ
る0 本発明の液晶挟持基板はたとえば次のようにして製造で
きる。即ち電極を形成した基板(ガラス板等)の電極形
成面に前I己ポリイミドシラン前駆体の1〜15重皺%
溶液を塗布し、150〜350℃で5〜300分間加熱
しイミド閉環させて厚み500^〜2000 入のポリ
イミドシラン膜を形成し、その後形成されたポリイミド
シラン膜表面をラビングすることにより製造できる@ 第2図は本発明の液晶挟持基板を用いて得られる液晶セ
ルの実例を示すもので、(4)エポキシ樹脂等よりなる
樹脂シール、(5)はシック型液晶、ビフェニルman
、シクロヘキサン型H晶、エステル型液晶等の液晶組成
物である。他の符号の説明は前述の通りである。
そして本発明の液晶挟持基板を用いて液晶セルとすると
、得られる液晶セルは、液晶分子の配向性に優れ、透光
性良好で経時的に安定であると共に初期の高性能を長期
間維持するものとなるのである0 以下、まづ本発明で用いるポリイミドシラン前駆体につ
いて説明するO この発明で用いられるポリイミドシラン前駆体は、カル
ボン酸成分の1部を上記一般式(2)化合物で示される
アミノシラン化合物と反応させ該化合物中の1級もしく
は2級のアミノ基と少なくとも1ケの加水分解可能な基
(X)とを介して、次の一般式(3); (ただし、式中Tq1は有機テトラカルボン酸成分の一
価残基b Teff1は有機テトラカルボン酸成分の二
価残基、2はカルボニル炭素と結合したX基を含むこと
がある酸基、R@、Rms ms XおよびYは前記一
般式(2)の場合と同じであり、nはYがアルコキシ基
、アセトキシ基およびフェノキシ基の場合は2または3
の整数、Yが上記以外の基の場合は2からなる整数であ
る)で表わされるシラン変性多価カルボン酸成分となし
、このカルボン酸成分を残余の有機テトラカルボン酸成
分とともに前記一般式(1)を主体とするジアミンと重
合反応させることによって製造することができる。
かかるポリイミドシラン前躯体中には一般式(3)のア
ミノシラ/変性部分において、ポリイミドシランへ変換
する過程で液晶セル用各種ガラス板への接着性ないし密
着性が者るしく向上するものであると共に液晶分子の配
向作用も同時に見られるものである。
このように、この発明によれは、アミノシラン化合物が
直接ポリマー鎖中に導入できるため、従来の如く被着体
を、予めカンプリング剤等で処理した後ポリイミドシラ
ン膜を形成して接着力を保たせるという様な表面処理を
行なうことなく密着性の向上を図ることができるととも
に、成膜に必要な高温加熱時間を短縮でき、得られるポ
リイミドシラン膜も低吸水率、低弾性の物性を示すもの
である。
なお、この発明において上記密着力の向上は、変性に用
いるアミノシラン化合物の必要にして最少限度の変性量
で設計できるものであり、ためにアミノシラン化合物の
導入によるポリイミドシランポリマー自体の耐湿性の低
下をきたす心配は全くない。しかも、最終的に高温加熱
処理してポリイミドシランに変性したとき、すぐれた密
着性および接増力とともに、ポリイミド本来の優秀な耐
熱性、耐薬品性、電気絶縁性、機械的特性などを発揮す
るから、上記変性前駆体にはらに未変性のポリイミド前
駆体を配合するなどの必要性は特にない。つまり、一般
式(3)で表わされる各種のシラン変性多価カルボン酸
成分と通常の有機テトラカルボン酸成分とを同時に一般
式(1)で示されるジアミンを主体とするジアミンと重
゛合反応させるという簡単な操作で、前記のすぐれた特
性を発揮するポリイミドシラン前駆体を製造できるから
、製造工程上極めて有利となり、またポリイミドシラン
の均質化も図れる。
この発明において用いられる有機テトラカルボン酸成分
は隣接炭素原子にそれぞれ結合する一対二個の酸基を二
対、つまり計四個の酸基を有するものでろって、芳香族
、脂肪族もしくは脂環族のテトラカルボン酸またはこれ
らのエステル、アミド、ハロゲン化物、−無水物、二無
水物などの誘導体が広く包含される0もっとも好適な有
機テトラカルボン酸成分は芳香族テトラカルボン酸二無
水物である。これらの酸成分は一種であっても二種以上
混合して用いてもよい。
このような有機テトラカルボン酸成分の具体例はあえて
単列するまでもないが、もっとも好適とされる芳香族有
機テトラカルボン酸二無水物の代表例につき例示するな
らば、たとえばピロメリット酸二無水物、3・3′・4
・4′−ベンゾ2エノンテトラカルボン酸二無水物、 
3.3’、4・4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、2.3・3′−4′−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物、2・3・6・7−ナフタレンケトラカルボ
ンηだ二無水物、12・5・6−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、1・4・5・8−ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、2・2−ビス(3゜4−ジカルボキ
シフェニル)ブロバンニ無水物、ビス(3・4−ジカル
ボキシフェニル)スルホンニ無水物、3・4・9・10
−ベリレンデトラカルボン醒二無水物、ヒス(3・4−
ニ2カルボキシフェニル)エーデルニ無水物、2・2−
ビス(2・3−ジカルボキシフェニル)フロパンニ無水
’IIIJ 、1・1−ヒス(2・3−ジカルボキシフ
ェニル)エタンニ無水物、1・1−ビス(3・4″″′
−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水物、ベンゼン−
1・23・4−テトラカルボン酸二無水物、2・3・6
・7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1・2
・7・8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物な
どがある0 この発明において用いられる前記一般式(3)で表わさ
れるシラン変性多価カルボン酸成分は、上述した有機テ
トラカルボン酸成分の一部を前記一般式(21で表わさ
れるアミノシラン化合物で変性してなるものである。
上記のアミノシラン化合物の代表例を挙げれば、たとえ
ば次の分子式; %式%) ) ) ) ) ) ) ) ) で表わされるものなどである□もちろん上記以外の一般
式+21’t−満足するものであれば広く使用できる。
しかし、とくに好ましいものは、前記一般式(2)中の
mが2のもの、つまり珪素原子に直接結合する炭素原子
を含む二両の有機基(R8)を有してなるものである。
なお、R8は上側のアルキレン基だけでなく、芳香族環
を含むよう〃もので夕・つてもよい。なお・、上記一般
式(2)においてm=1の場合には、珪素原子が直接に
第1級もしくけ2級のアミン基と結合する。
変性反応は一般式(2+中の1級もし、くけ2級のアミ
ン基および少なくとも一個の加水分解可能な基(X)と
肩壁アトラカルボ/醸成分との反応であり、この反応を
達成させるためにはアミノシラン化合物1モルに対して
略2モルないし3モルの有機デトラカルボン酸成分が用
いられる。反応は通常発熱的に進行するが、N−メチル
−2−ピロリドン、N−N’−ジメチルアセトアミドな
どの極性溶媒の存在下、通常、水浴などを用いて反応容
器を冷却しつつ30℃以下に制御して反応系か均一透明
となるまで行なえばよい。
このような方法で得られるシラン変性多価カルボン酸成
分の具体例として、有機テトラカルボン酸成分としてピ
ロメリット酸二無水物を、またアミノンラン化合物とし
てO−NH−CHQCI(2CH,、−St(OCRm
 )aを使用した例に二ノき、その構造式を示すと次の
通りでるる0なお次の構危式+11+’・Z丸−いて(
:円表示は一般式(3)で示される各構造部分を意味す
るもので必る◇ 、−メーー\ 目 、2−′ へ、 上記構造式(月において、n−3とするためにはアミノ
シラン化合物1モルに対してピロメリット酸二無水物全
路3モル使用すればよく、またn−2とするためにはア
ミノシラン化合物1モルに対してピロメリット酸二無水
物を略2モル使用丁ればよい。そしてビロメリノ)iW
二無水゛吻の使用モル数によってはn==2のものと1
1−3のものとが混在するような組hy、となることも
あるが、この発明r(おいてはかかる混合状態にされた
ものであっても差し支えない。
一方1.に記の例はアミノシラン化合物としてその一般
式(2)中のYがアルコキシ基とされたものを使用した
場合であるが、Yがかかるアルコキシ基その他アセトキ
ン基ふよびフェノキシ基以夕10基となるアミノシラン
化合物を使用するときに、アミノシラン化合物1モルに
対する有機デトラヵルボン酸成分の使用モル数を略2モ
ルとし、一般式(3)中のnが2となるようなシラン変
性多価カルボン酸成分を生成し2なければならない。こ
れは上記変性カルボン酸成分中に珪素原子と直接結合す
る少なくとも一個のアルコキシ基、アセトキシ基、ハロ
°ゲンもしくはフヱノキ7基を残すことによってポリイ
ミドシランポリマーと[またときのガラスなどに対する
密着性を顕著に改善でへる効果が得られるからである。
なおまた、上記例の如く有機テトラカルボン酸成分とし
て二無水物を使用した場合には交換反応によって一般式
(3)中の2構造部分にカルボニル炭素と結合するX基
(この例でit CHIIO基)が含まれてくる。これ
に対して二無水物以外の有機テトラカルボン酸成分とし
てたとえば遊離のカルボキシル基を4個含むもの−やそ
の一部または全部がニスデル化、アミド化もしくはノ・
ロゲン化されたものなどを使用した場合には一般式(3
)中の2構造部分は通常上述の如き酸基そのもので構成
され、場合によりこの酸基と脱離反応したX基とが反応
結合した前記二無水物の場合と同様の構成とぢれること
もある。また、これら各態様において2構造部分が遊離
のカルボキシル基以外の酸基となる場合に系内に多少の
水分が存在するときは最終的にカルボキシル基に変換さ
れることもある。
この発明においてはこのようにしてつくられるシラン変
性多価カルボン酸成分と残余の未変性の有機テトラカル
ボン酸成分とを一般式(11を主体とするジアミンと同
時に重合反応させることによってポリイミドシラン前動
体全製造する。ここで酸成分とジアミンとの使用割合は
、シラン変性多価カルボン酸成分と未変性の肴機テトラ
カルボン酸成分との合計i1′に対し、ジアミンが当量
となるようにするのが望ましい。しかし数%程度であれ
ば上記合計量で表わされる酸成分が過剰となるような割
合とすることも可能である@ また、#R酸成分ひとつであるシラン変性多価カルボン
酸成分の使用割合は、この酸成分の合成に用いたアミノ
/ラン化合物と上記合成に用いた有機テトラカルボン酸
成分と未変性の有機テトラカルボン酸成分と一般式(1
)を主体とするジアミンとからなる使用原料総モル数に
対して、上記アミノシラン化合物が0.05から10モ
モル係とくに好適には0.3〜2.0モル係となるよう
にすればよい。この発明に用いるポリイミドシランによ
れはアミノシラン化合物を上記の如き少せにしても充分
に満足できるガラスなどに対する密着性改善効果が得ら
れる。一方、上記より過多になると最終的に形成される
ポリイミドシラン膜の皮膜性(皮膜としたときの抗張力
や強靭性)や、絶縁耐電圧の如き電気特性に劣るおそれ
があり望ましくない。
本発明で用いるポリイミド前駆体の製造時に使用される
一般式(1)で示したジアミンとしては、具体的に例示
すれば4・4′ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニル
スルホン、4・4’−シ(P−アミノフェノキシ)ジフ
ェニルスルホン、4・4’−シ(m−7ミノムフエノキ
シ)ジフェニルエーテル、4・4′−ジ(P−アミノフ
ェノキシ)ジフェニルエーテル、4.4′−ジ(m−ア
ミノフェノキシ)ジフェニルプロパン、4・4′−ジ(
P−アミノフェノキシ)ジフェニルプロパ/、4・4′
−ジ(m−アミノフェニルスルホニル)ジフェニルエー
テル、4・4’−シ(P−アミノフェニルスルホニル)
ジフェニルエーテル、4.47−シ(m−アミノフェニ
ルチオエーテル)ジフェニルスルフィド、4・4′−ジ
(P−アミノフェニルチオエーテル)ジフェニルスルフ
ィト、4.4′−ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニ
ルケトン、4・4′−ジ(P−アミノフェノキシ)ジフ
ェニルケトン、4・4′−ジ(m−アミノフェノキシ)
ジフェニルメタン、4・4′−ジ(P−アミノフェノキ
シ)ジフェニルメタン、2・4′−ジ(m−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4・4′1−ジ(P−アミノフェ
ノキン)ビフェニル、4・4′−ジ(m−アミノフェニ
ルスルホニル)ビフェニル、4・4’−シ(p−アミノ
フェニルスルホニル)ビフェニル、4・4′−ジ(m−
アミノフェニルチオエーテル)ビフェニル、4・4′−
ジ(P−アミノフェニルチオエーテル)ビフェニル等を
挙げることができる〇 本発明において有機テトラカルボン酸成分と反応させる
一般式(1)を主体とするジアミンとは、ジアミンの全
部が一般式(1)で示されるジアミンであってもよいが
、他のジアミンを併用することもできる。
併用する場合には、一般的には、使用する一般式(1)
で示されるジアミンの】0モル%までを他のジアミン(
特に他の芳香族ジアミン)と置き換えて1f:用できる
かかる他のジアミンとしては、メタフェニレンジアミン
、バラフェニレンジアミン、4・4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、4・4′−ジアミノジフェニルエーテル、
2・2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、3・
3′−ジアミノジフェニルスルホン、4・4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、4・4’−シ7ミノジフェニル
スルフィド、ベンジジン、ベンジジン−3・3′−ジカ
ルボン酸、ベンジジン−3・3′−ジスルホン酸、ベン
ジジン−3−モノカルボン酸、ベンジジン−3−モノス
ルホン酸、3・3′−ジメトキシ−ベンゼン、メタ−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、バラ−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン、メタキシリレンジアミ
ン、バラキシリレンジアミンなどを挙けることができる
本発明においては、この一般式(1)全主体とするジア
ミンを用いることKより、ポリイミドシラン前駆体を電
極形成基板に塗布し、加熱によりイミド転化反応を進め
る際短時間で行なうことができると共に、得られるポリ
イミドシラン膜が低吸水率を示し、低弾性を示すように
なる。
ポリイミド7ラン前駆体製造のための重合反応は従来公
知の方法−に準じて行なえばよく、一般に有機溶媒の存
在下重合発熱を勘案して通常60℃以下、とくに好適に
は30℃以下に制御しながら高い重合度が得られるまで
反応させれはよい。この重合度は反応物の同有粘匿〔η
〕を調べることによって簡単に検知できるものである。
有機溶媒としては、たとえばN−メチル−2=ピロリド
ン、 N−N’−ジメチルアセトアミド、N−N’−ジ
メチルホルムアミド、N−N’−ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホルムアミドなどの高極性の塩基性
溶媒が用いられる。この種の溶媒はいずれも吸湿性が大
きく、吸湿された水分は重合時の分子量の低下、貯蔵安
定性の低下の原因となるので、使用に先だ−5で脱水剤
で充分に脱水しておくのがよい。またこれらの溶媒とト
モニトルエン、キシレン、ベンゾニトリル、ベンゼン、
フェノールの如き汎用溶媒を併用することもできるoし
かしその使用値は生成ポリイミドシラン前駆体の溶解度
を低下させない範囲にすべきである0 このようにして得られるこの発明で用いるポリイミドシ
ラン前駆体は、主として次の構造式(2)で示されるよ
うなm造を有するものと思われる0即ち、未変性の有機
テトラカルボン酸成分からなるポリマー構造部分とシラ
ン変性多価カルボン酸成分からなるポリマー構造部分と
が所定割合で結合した構造を有するか、あるいは未変性
の有機テトラカルボン酸成分とがジアミンとランダムに
重合反応したポリマー構造を有するものであり、いずれ
もポリイミドシラン前駆体の分子鎖骨格中にシラン結合
を有することを特徴としている。またこれらのポリイミ
ドシラン前駆体にさらに一部未変性有機テトラカルボン
酸単独からなるポリイミド前駆体も含まれることがある
と考えられる。
なお下記の構造式(2)は、有機テトラカルボン酸成分
としてピロメリット酸二無水物を、ジアミ/と[7て4
・4′−ジ(P−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホ
ンを使用するとともに、上記テトラカルボン酸成分をア
ミノシラン化合物で変性してなる7ラン変性多価カルボ
ン酸成分として前述の構造式(1)で表わされるもの(
たたし、n=2)を使用した場合のポリイミドシラン前
駆体の例を示したものである。
かかるボリイ゛ミドシラン前駆体によれば、これを電極
形成ガラス板等に塗布した後、高温加熱処理することに
より、ガラス板面郷にすぐれた接着性ないし密着性を示
すポリイミドシランに変換で角、しかもポリイミドシラ
ン前躯体をポリイミドに変換する加熱処理時間の短縮化
ができるものである〇加熱処理時間の短縮化は、硬化作
業の短時間化を可能にし、硬化工程の工数減少をもたら
し、製品のコスト低減に寄与するものである。また得ら
れる液晶挟持基板を用いて液晶セルを作った場合には、
液晶分子の配向性に優れ、透光性良好で経時的に安定で
あると共に初期の高性能を長期間継続するものとなる。
なお、本発明で用いられるポリイミド前駆体の固有粘虻
は一般的に0.4〜40、好適には0.5〜2.0とさ
れる。固有粘度については以下に定義される。
以下に、この発明の実施例を記載する。以下においてポ
リイミド前駆体の重合Iff(分子量)を示すパラメー
タとして固有粘度〔η〕を用いているが、この固有粘度
は溶媒としてN−メチル−2−ピロリドンを使用し、 
′611定温匿定温上0.01℃(恒温槽)で次式にし
たがってめたものであり。
(η) = j!n(t/lo)/C t;ウベローデ粘贋計で測定されるポリマー溶液の落下
時間。
to;上記同様に測定される浴媒の落下時間OC;ポリ
イミド前駆体(ポリマー) 肉k (0,5重量%とし
た)。
実施例1 撹拌装置、冷却管、温度計、窒素置換装置を付した50
0m1フラスコを水浴上に固定した〇五酸化リンで一昼
夜乾燥しさらに減圧蒸留したN−メチル−2−ピロリド
ン420.749を上記のフラスコ中に加え、窒素を流
し込んだ。次いで φとNH(’CHt h S i (OCHm )sを
0.7669(0,003モル)を加え、その後3・3
′・4・4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物1
.7649 (0,006モル)を徐々に添加した。水
浴により30℃以下になるように制御した。
反応系が透明となる゛まで反応させることによりシラン
変性多価カルボン酸成分を合成した。
次に、上記の反応系に4・4′−ジ(P−アミノフェノ
キシ)ジフェニルスルホン43.2 g(0,1モル)
を加えて完全に俗解させ、さらに3・7・4・4′−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物28.5189 (
(1,097モル)を添加し、反応系が透明粘稠溶液と
なる壕で撹拌した。この操作中温度が上昇してきたが、
水浴で30°C以下に維持した。
この様にして得られたポリイミドシラン前躯体はその固
肩粘度が1.60であ−2だ。この前駆体溶液をガラス
板上にキャスティングして、熱風乾燥機中150℃で1
時間とそれに引続(,200℃で1時間プレキュア−し
た。次いでこの皮膜を、250℃でイミド化反応を続行
させ、熱重量分析装置でイミド化の際に脱水する縮合水
の量を測定し、完全イミド化するに心安4時間をめたと
ころ、250℃で2時間加熱するだけでポリイミドシラ
ンに変換されるのが判った。形成されたポリイミドシラ
ン皮膜は強靭であり常温とPCTでの試験でも剥離せず
密着性は良好であり、吸水率1.3チ、弾性率181#
/W#pIでh−2た。
吸水率は、前述の条件で50μのポリイミドシランフィ
ルムを製造し、このポリイミドフィルムを120℃で2
時間乾燥して乾燥フィルムとし、得られた乾燥フィルム
を煮沸水中に24時間浸漬してとり出し、前記乾燥フィ
ルムに対するMi11増加率よりめた0 弾性率は、予め厚みを測定した資料を資料幅10n1長
さ50aに裁断し、引張試験機で5flZ分の速度で引
張り試験を行ない、応力−歪曲線をめ、この曲線の初期
勾配から初期接線弾性率をめ、これを弾性率とした。
一方上記ポリイミドシラン前駆体溶液をN−メチル−2
−ピロリドン溶液で希釈し、不揮発分4.7重量%の希
釈溶液とした。この希釈溶液を、透明電1k(インジウ
ム・スズ酸化物)付のガラス板の電極形成面上にスピン
ナーを用いて均一に全面塗布した。
次いで、150℃で1時間とそれに引き続く200℃で
1時間の加熱処理を施し1000^のポリイミドシラン
膜を有する液晶挟持基板を得た。
得られた基板の該シラン膜上を一定方向にガーゼにてラ
ビング処理を行なったが、該シラ/膜に“はかれ“は生
じなかった。
またラビング処理した液晶挟持基板2枚をスペーサを介
してエポキシ樹脂のシール(120℃、1時間の硬化条
件)を施し素子を作製した。得られた素子中に液晶を注
入し、注入口をエポキシ樹脂で封止して液晶セルを作製
した。得られた液晶セルの4001nμでの透過率は8
0%、リーク電流は75×10−9アンペアであり配向
特性は良好であ一2九〇さらにこの液晶セルを121℃
、2気圧で48時間の加熱加圧処理をするプレッシャー
クツカーテストを施して後、配向特性を観察してもにじ
み等の不良の発生はなく、リーク電流値も初期値とほぼ
同様であった〇 実施例2 実施例1で使用した4・4′−ジ(P−アミノフェノキ
シ)ジフェニルスルホンの代わりに、4・4′−ジ(P
−アミノフェノキシ)ジフェニルプロパンを同モル数(
39,49,0,1モル)を使用して、固有精[3,1
0のポリイミドシラン前駆体溶液をっ〈−また0実施例
1と同じ条件でプレキュア−し、その後、250℃で2
時間硬化するだけで完全イミド化していることがわかっ
た。
この前駆体溶液から得られたポリイミド皮膜の強靭性、
密着性はいずれも実施例1と同等であった。また、吸水
率は0.8%、弾性率は172#/#11′テあ5た。
前記前躯体溶液を用いて実施例1と同様の要領で(希釈
溶液の不揮発分は5ilfitt%)で液晶セルを作製
した0得られた液晶セルの400mμでの透過率は80
%、リーク電流値は100XIO’アンペアであった0
さらにこの液晶セルを実施例1と同様のプレッシャーク
ンカーテストを行い、配向特性を観察してもにじみ等の
不良の発生はなく、リーク電流値も初期値とほぼ同様で
ろ−、た。
実施例3 実施例1で使用した同様の反応容器に、精1AN−メチ
ルー2−ピロリドン437.239を加え、窒素を流し
込んだ0次いでγ−ウレイドグロビルトリエトキシシラ
ンの50重it%メタノール溶液1、5849 (0,
03モル)を加え、次いで3・3′・4・4′−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物1.9329(0,
006モル)を徐々に添加し、水浴を用いて反応系が透
明となるまで撹拌した。次いでこの容器に、4・4′−
ジ(P−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン43.
29 (0,1モル)、さらに3・3′・4・4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物31.2349
(0,097モル)を加え、固有粘度1.25のポリイ
ミド前躯体を作製した。この前駆体溶液を実施例1と同
様にして同一条件でプレキュア−1,、300℃での完
全イミド化に必要な所要時間を測定したところ、10分
間で100俤イミド化しており、短時間硬化が可能であ
ることが判った。形成したポリイミド皮膜の密着性、強
靭性、吸水率および弾性率はそれぞれ実施例1と同様に
優れていた@前記前駆体溶液を用いて実施例1と同様の
要領で(希釈溶液の不揮発分は5重量%)で液晶セルを
作製した。得られた液晶セルの400mμでの透過率は
81%、リーク電流値は80 X 10−”アンペアで
あった。さらにこの液晶セルを実施例1と同様のプレッ
シャークンカーテストを行い、配向特性を観察してもに
じみ等の不良の発生はなく、リーク電流値も初期値とほ
ぼ同様であった〇 実施例4 実施例1で用いた4・4′−ジ(P−アミノフェノキシ
)ジン・=ルスルホンの代わりに4・4′−ジ(P−ア
ミノフェノキシ)ビフェニル36.89を用いる以外は
、実施例1と同様の要領でポリイミド前躯体溶液を製造
した。
この前駆体溶液は、実施例1と同様にして同一条件でプ
レギュアーL、250’Cで2時間硬化するだけで完全
にイミド化しているのが判った。
また、得られたポリイミド皮膜は、強靭で、常温とPC
Tとの試験でも剥離せず密着性良好であり、吸水率1.
1%、弾性率163#/−であった。
前記前駆体溶液を用いて実施例1と同様の要領で(希釈
溶液の不揮発分は4.5重flIt′%)で液晶セった
0さらにこの液晶セルを実施例1と同様のプレッシャー
クンカーテストを行い、配向特性を観察してもにじみ等
の不良の発生はなく、リーク電流値も初期値とtよぼ同
様でめった。
実施例5 実施例1で使用した4・4′−ジ(P−アミノフェノキ
シ)ジフェニルスルホンの代ゎOK、 4.4’−ジ(
P−yミyフェニルスルホニル)ビフェニルを同モル数
(43,2& 、 0.1モル)を使用して固有粘度0
.93のポリイミド前躯体溶液をっ<−、た。実施例1
と同じ条件でプレキュア−し、その後250℃で2時間
硬化するだけで完全イミド化していることがわかった。
この前駆体溶液から得られたポリイミド皮膜の強靭性、
密着性、吸水率および弾性率いずれも実施例と同等であ
った二 前記前駆体溶液を用いて実施例1と同様の要領で(希釈
溶液の不揮発分は5重量係)で液晶セルを作製した。得
られた液晶セルの400#lμでの透過率は8i%、リ
ーク電流値は80 X 10−’7ンベアであまた0 さらにこの液晶セルを実施例1と同仔のプレッシャーク
ツカーテストを行い、配向特性を観察してもにじみ等の
不良の発生はなく、リーク電流値も初期値とほば同様で
あ−、た。
実施例6 実施例3で用いた4・4−ジ(P−アミノンエノキシ)
ジフェニルスルホンの代ワりに4・4’−シ(P−アは
ノフエノキシ)ピフェニル36.89 (0,1モル)
を用い、他は実施り11と同様の要領により固有粘度1
,300ポリイミド前駆体を作成した。
この前駆体溶液を実施例1と同様にして同一条件でブレ
キュアーL、300℃での完全イミド化に必要な所用時
間を測定したところ、10分間で100チイミド化して
おり、短時間硬化が可能であることがわかった。形成し
たポリイミド皮膜の密着性、強靭性、吸水率および弾性
率はそれぞれ実施例1と同様に優れていた。
前記前駆体溶液を用いて実施例1と同様の要領で(希釈
溶液の不揮発分5重量%)で液晶セルを作製した。得ら
れた液晶セルの400mμでの透過率は81%、リーク
′電流値は80X10 ”アンペアであった。
さらにこの液晶セルを実施例1と同様のプレッシャーク
ツカーテストを行い、配向特性を観察してもにじみ等の
不良の発生はなく、リーク電流値も初期値とほぼ同様で
あった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実例を示す液晶挟持基板の断面図、第
2図は液晶セルの一例を示す断面図である。 1・・・・・・基板 2・・・・・・電極3・・・・・
・ポリイミドシラン膜 特許出願人 日東電気工業株式会社 代表者土方三部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 電極が形成された基板上に液晶配向膜を設けてなる液晶
    挟持基板において、該配向膜が下記ポリイミドシラン前
    駆体のイミド化物である液晶挟持基板〇 8己 有機テトラカルボン酸成分と次の一般式(1);%式% ) を示しくそれぞれのR1およびRxは同一であってン、
    アルキル基、アリール基で置換されていてもよい。〕を
    主体とするジアミンとの重合反応によりポリイミドシラ
    ン前駆体を製造するにあたり、上記カルボン酸成分の一
    部を予め次の一般式(2);(式中R3は芳香族環を含
    む一価の有機基または水素を示し% Rsは珪素原子に
    直接結合する炭素原子を含む二価の有機基、mは1また
    は2の整数、Xはアルコキシ基、アセトキシ基、フェノ
    キシ基およびハロゲンから選ばれた加水分解可能な基、
    Yはアルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、フェノ
    キシ基、シリル基、シロキシ基、ジシラニル基、オルガ
    ノシリル基、オルガノシロキシ基、オルガノハロシリル
    基およびオルガノハロシロキシ基から選ばれた基である
    )で示されるアミン/う/化合物と反応させてシラン変
    性多価カルボン酸成分となし、このカルボン酸成分を残
    余の有機テトラカルボン酸成分とともにジアミンと重合
    反応させてなるポリイミドシラン前駆体。
JP24764383A 1983-12-28 1983-12-28 液晶狭持基板 Pending JPS60140320A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24764383A JPS60140320A (ja) 1983-12-28 1983-12-28 液晶狭持基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24764383A JPS60140320A (ja) 1983-12-28 1983-12-28 液晶狭持基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60140320A true JPS60140320A (ja) 1985-07-25

Family

ID=17166542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24764383A Pending JPS60140320A (ja) 1983-12-28 1983-12-28 液晶狭持基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60140320A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01214822A (ja) * 1988-02-23 1989-08-29 Nissan Chem Ind Ltd 液晶セル用配向処理剤
KR20200058817A (ko) * 2018-11-20 2020-05-28 주식회사 엘지화학 디아민 화합물, 이를 이용한 폴리이미드 전구체 및 폴리이미드 필름
KR20200059960A (ko) * 2018-11-22 2020-05-29 주식회사 엘지화학 디아민 화합물 및 이를 이용한 폴리이미드 전구체와 폴리이미드 필름

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57144526A (en) * 1981-03-04 1982-09-07 Hitachi Ltd Liquid crystal display element
JPS5855489A (ja) * 1981-09-04 1983-04-01 スミスクライン・ベツクマン・コ−ポレイシヨン アルフア2拮抗剤組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57144526A (en) * 1981-03-04 1982-09-07 Hitachi Ltd Liquid crystal display element
JPS5855489A (ja) * 1981-09-04 1983-04-01 スミスクライン・ベツクマン・コ−ポレイシヨン アルフア2拮抗剤組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01214822A (ja) * 1988-02-23 1989-08-29 Nissan Chem Ind Ltd 液晶セル用配向処理剤
KR20200058817A (ko) * 2018-11-20 2020-05-28 주식회사 엘지화학 디아민 화합물, 이를 이용한 폴리이미드 전구체 및 폴리이미드 필름
KR20200059960A (ko) * 2018-11-22 2020-05-29 주식회사 엘지화학 디아민 화합물 및 이를 이용한 폴리이미드 전구체와 폴리이미드 필름

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4880895A (en) Polyimide film-forming polyamide acid solution
US4520075A (en) Siloxane-modified polyimide precursor and polyimide
JPS5813087B2 (ja) シロキサン変性ポリイミド前駆体の製造方法
JPS5813088B2 (ja) シロキサン変性ポリイミド前駆体の製造法
JPS61171762A (ja) 可溶性ポリイミド樹脂組成物
JPS61195130A (ja) 芳香族ポリイミドフイルムの製造方法
JPH0259622B2 (ja)
US4499252A (en) Process for producing polyimide precursor
JPS60140320A (ja) 液晶狭持基板
JPS6076533A (ja) ポリイミド前駆体の製造方法
JPS61240223A (ja) 液晶表示素子
JPH0129370B2 (ja)
JPS60177659A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS59107524A (ja) 半導体素子の層間絶縁膜形成方法
JPS58118825A (ja) ポリイミド前駆体の製造法
JPH038523B2 (ja)
JPH0259620B2 (ja)
JPS61247733A (ja) アセチレン末端を有するポリアミド酸、アセチレン末端を有するポリイミドおよび付加重合したポリイミドの製造法
JPH0359030A (ja) ポリイミド系樹脂の製造法
JP3906647B2 (ja) ポリイミド組成物およびその製造方法
JPS61277921A (ja) 液晶挾持基板の製法
JPS61277923A (ja) 液晶挾持基板の製法
JPS62227953A (ja) ポリイミド樹脂組成物
JPS62231223A (ja) 液晶配向膜形成用溶液
JPH0653208A (ja) 半導体の多層配線用層間絶縁膜及び/又は表面保護膜用組成物並びに半導体装置