JPS6013841A - 成形用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
成形用エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS6013841A JPS6013841A JP58121450A JP12145083A JPS6013841A JP S6013841 A JPS6013841 A JP S6013841A JP 58121450 A JP58121450 A JP 58121450A JP 12145083 A JP12145083 A JP 12145083A JP S6013841 A JPS6013841 A JP S6013841A
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- JP
- Japan
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- group
- epoxy resin
- molding
- mold
- epoxy
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は成形用エポキシ樹脂組成物に関するものであり
、詳しくは、成形時には金型汚れのない優れた離型性を
示し、成形後には優れた捺印性、密着性を示す、特に、
半導体封止用の成形用エポキシ樹脂組成物に関する。
、詳しくは、成形時には金型汚れのない優れた離型性を
示し、成形後には優れた捺印性、密着性を示す、特に、
半導体封止用の成形用エポキシ樹脂組成物に関する。
従来、エポキシ樹脂組成物の成形には移送成形、射出成
形、°圧縮成形、注型等の方法が採用されている。これ
らの各成形法において、成形物を金型から円滑に取り出
すことが生産性の面から極めて重要なことである。その
ために、金型設計時に、金型のキャビティに頃斜tつけ
たり、つき上げピンの数を増したりする工夫がなされて
いる。しかし、つき上げピンの数を増せば離型性は向上
するが、金型の製造コストが著しく増加し、経済的制約
を受けること、およびそれだけでは離型性が充分でない
という欠点がある。
形、°圧縮成形、注型等の方法が採用されている。これ
らの各成形法において、成形物を金型から円滑に取り出
すことが生産性の面から極めて重要なことである。その
ために、金型設計時に、金型のキャビティに頃斜tつけ
たり、つき上げピンの数を増したりする工夫がなされて
いる。しかし、つき上げピンの数を増せば離型性は向上
するが、金型の製造コストが著しく増加し、経済的制約
を受けること、およびそれだけでは離型性が充分でない
という欠点がある。
また、離型性金あげるため、生産全中断して離型剤を金
型に塗布する方法も実施されているが。
型に塗布する方法も実施されているが。
離型剤の金型えの変電なる塗布は作業効率を低下させ、
生産性に重大な支障をきたすという致命的欠点を有して
いる。
生産性に重大な支障をきたすという致命的欠点を有して
いる。
その結果、必然的に樹脂自身の改良、すなわち内部離型
剤の開発に対する期待が大きくなってきている。
剤の開発に対する期待が大きくなってきている。
ところで、内部離型剤の役割は、成形時の離型性を向上
させることであるが、それ以外にブリードオフがないこ
と、半導体部品と樹脂との密着性を妨けないことなども
重要なことである。
させることであるが、それ以外にブリードオフがないこ
と、半導体部品と樹脂との密着性を妨けないことなども
重要なことである。
何故なら、内部離型剤がブリードオフすることによって
、成形回数が増すにつれ、金型内に汚れとして蓄積され
、成形品表面の汚れをひきおこすからであり、また、成
形品に社名、#!品名等の捺印をほどこす場合に、内部
離型剤かにじみ出して捺印性を妨げるからである。また
、樹脂の用途がトランジスタやIC等の半導体の封止材
である場合には水分や湿分の侵入を防ぐためにその密着
性が重要となる。
、成形回数が増すにつれ、金型内に汚れとして蓄積され
、成形品表面の汚れをひきおこすからであり、また、成
形品に社名、#!品名等の捺印をほどこす場合に、内部
離型剤かにじみ出して捺印性を妨げるからである。また
、樹脂の用途がトランジスタやIC等の半導体の封止材
である場合には水分や湿分の侵入を防ぐためにその密着
性が重要となる。
従来、内部離型剤としてステアリン酸カルシウムやステ
アリン酸亜鉛などの高級脂肪酸の金属塩が使用されてき
たが、離型性、捺印性にや\優れているものの、半導体
装置の封止材として用いた場合の密着性に劣るという欠
点があり、また、内部離型剤としてカルナウバワックス
やモンタンワックスなどのエステル系ワックスが知られ
ているが、封止材として用いた場合の密着性は比較的優
れているものの離型性、捺印性に劣るという欠点がある
。また、ジメチルシリコーンオイルを使用する場合もあ
るが、これは離型性に優れているものの、捺印性、密着
性に劣るという欠点がある。
アリン酸亜鉛などの高級脂肪酸の金属塩が使用されてき
たが、離型性、捺印性にや\優れているものの、半導体
装置の封止材として用いた場合の密着性に劣るという欠
点があり、また、内部離型剤としてカルナウバワックス
やモンタンワックスなどのエステル系ワックスが知られ
ているが、封止材として用いた場合の密着性は比較的優
れているものの離型性、捺印性に劣るという欠点がある
。また、ジメチルシリコーンオイルを使用する場合もあ
るが、これは離型性に優れているものの、捺印性、密着
性に劣るという欠点がある。
本発明者はエポキシ樹脂組成物の内部離型剤について鋭
意研究した結果、エポキシ樹脂と反応し得る特定の基を
有するオルガノポリシロキサンを配合することによシ9
、ブリードオフがなく、金型汚れのない優れた離型性を
有し、がっ。
意研究した結果、エポキシ樹脂と反応し得る特定の基を
有するオルガノポリシロキサンを配合することによシ9
、ブリードオフがなく、金型汚れのない優れた離型性を
有し、がっ。
成形品の捺印性、封止材としての密着性にもすぐれてい
ることを見出し、特許出願(特開昭58−69244号
)した。
ることを見出し、特許出願(特開昭58−69244号
)した。
本発明者は、引続き内部離型剤について研究した結果、
エポキシ樹脂と反応し得る特定の基を有し、かつ、エポ
キシ樹脂との親和性を付与するポリオキシアルキレン基
とを有するオルガノポリシロキサン全配合することによ
り、ブリードオフがなく、離型性等がさらに向上するこ
とを見出し9本発明に到達した。
エポキシ樹脂と反応し得る特定の基を有し、かつ、エポ
キシ樹脂との親和性を付与するポリオキシアルキレン基
とを有するオルガノポリシロキサン全配合することによ
り、ブリードオフがなく、離型性等がさらに向上するこ
とを見出し9本発明に到達した。
すなわち1本発明は。
(A) エポキシ樹脂、および
(Bl 一般式
〔式中、Rは同棟もしくは異棟の1価炭化水素基、Aは
R,DおよびGから選択される基。
R,DおよびGから選択される基。
Dはエポキシ基、アミノ基、水酸基、カルボキシル基ま
たはカルボン酸エステル基全言有する1個有機基、Gは
+R’ +aO+C2H40すb(−Ca Hs Oす
cR2(ここに、R1は2価の有機基+ R2は水素原
子または末端封鎖基、aは0または1.bおよびCは0
〜50.ただしb + cは1〜100である)。
たはカルボン酸エステル基全言有する1個有機基、Gは
+R’ +aO+C2H40すb(−Ca Hs Oす
cR2(ここに、R1は2価の有機基+ R2は水素原
子または末端封鎖基、aは0または1.bおよびCは0
〜50.ただしb + cは1〜100である)。
lはO〜1000. mおよびnはo 〜ioo 、た
だし1+m+nは1〜1000である。〕 で表わされ
。
だし1+m+nは1〜1000である。〕 で表わされ
。
1分子中に、少なくとも1個のD基と少なくとも1個の
G基とを有するオルガノポリシロキサン。
G基とを有するオルガノポリシロキサン。
を主剤とする成形用エポキシ樹脂組成物に関するもので
ある。
ある。
本発明に使用される囚成分のエポキシ樹脂は。
1分子中に少なくとも2個のエポキシ基金有するもので
あれはよく、従来公知の全てのエポキシ樹脂を使用する
ことができる。例えば、ビスフェノールAのジグリシジ
ルエーテルやその多量体であるエビビスタイグのエポキ
シ樹脂、ビスフX)−ルF型エポキシ樹脂r ’ツルシ
ン型エホギシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルエタン型
エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ初詣、
タレゾールノボラック型エポキシ(fJt脂、ポリオレ
フィン型エボギシ樹脂、脂環型エポキシ41 J盾、エ
ポキシ化大豆油、シリコーン変性エポキシ樹脂などの各
棟変性エボキシイ0(脂。
あれはよく、従来公知の全てのエポキシ樹脂を使用する
ことができる。例えば、ビスフェノールAのジグリシジ
ルエーテルやその多量体であるエビビスタイグのエポキ
シ樹脂、ビスフX)−ルF型エポキシ樹脂r ’ツルシ
ン型エホギシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルエタン型
エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ初詣、
タレゾールノボラック型エポキシ(fJt脂、ポリオレ
フィン型エボギシ樹脂、脂環型エポキシ41 J盾、エ
ポキシ化大豆油、シリコーン変性エポキシ樹脂などの各
棟変性エボキシイ0(脂。
およびそれらのハロゲン化物が例示される。エポキシ樹
脂としてはその1種線たは2独以上金混合して使用して
もよく、また、エポキシm Nと(Jj2のエポキシ基
金もたない熱硬化性樹脂との混合物も含まれる。
脂としてはその1種線たは2独以上金混合して使用して
もよく、また、エポキシm Nと(Jj2のエポキシ基
金もたない熱硬化性樹脂との混合物も含まれる。
本発明に使用される[B)成分のオルガノポリシロキサ
ンは、エポキシ樹脂に配合して、成形時に金型汚れのな
い潰れた離型性會与えるとともに、成形品の捺印性、封
止材としての密着性を与える重要な成分である。このオ
ルガノポリシロキサンは一般式 によって表わされ1式中、Rは同種もしくは異種の1価
炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、
オクチル基、7エ=J、 ビニル基、アリル基、3−ク
ロルプロピル基、β−フェニルエチル基、3,3.3−
)IJフルオロプロピル基などが例示される。このうち
、一般にメチル基が使用される。Dはエポキシ基、アミ
ン基、水酸基、カルボキシル基またはカルボン酸エステ
ル基を含有する1個有機基である。
ンは、エポキシ樹脂に配合して、成形時に金型汚れのな
い潰れた離型性會与えるとともに、成形品の捺印性、封
止材としての密着性を与える重要な成分である。このオ
ルガノポリシロキサンは一般式 によって表わされ1式中、Rは同種もしくは異種の1価
炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、
オクチル基、7エ=J、 ビニル基、アリル基、3−ク
ロルプロピル基、β−フェニルエチル基、3,3.3−
)IJフルオロプロピル基などが例示される。このうち
、一般にメチル基が使用される。Dはエポキシ基、アミ
ン基、水酸基、カルボキシル基またはカルボン酸エステ
ル基を含有する1個有機基である。
これらの基はエポキシ樹脂と反応するため、(B)成分
のブリードオフを防ぐ働きをする。このうち、アミン基
はその窒素原子に結合する水素原子の1個または2個が
アルキル基等で置換されたものも使用できる。これらの
官能基が結合している1個有機基の種類は特に限定する
ものではないが1例えば、メチレン基、エチレン基。
のブリードオフを防ぐ働きをする。このうち、アミン基
はその窒素原子に結合する水素原子の1個または2個が
アルキル基等で置換されたものも使用できる。これらの
官能基が結合している1個有機基の種類は特に限定する
ものではないが1例えば、メチレン基、エチレン基。
グロビレン基、ブチレン基などのアルキレン基。
クロルエチレン基、フルオロエチレンMfxどのハロゲ
ン化アルキレン基、脂肪族環状体含有アルキレン基、フ
ェニレン基、アルキレンアリーレン基、C6H4C0、
C0−9NHCO、CH20CH2CH2CH2−、−
CH2CH20CH2CH2−。
ン化アルキレン基、脂肪族環状体含有アルキレン基、フ
ェニレン基、アルキレンアリーレン基、C6H4C0、
C0−9NHCO、CH20CH2CH2CH2−、−
CH2CH20CH2CH2−。
CH3
CH2CH2OCI CH2−9(CH2)1−□。(
NHCH2CH2)1〜5゜またはこれらの基の組合せ
からなる複合基が例示され、好ましくはその基の一端に
上記官能基が結合しているものである。しかし、官能基
が1個有機基金構成する分子の途中に結合しているもの
全除外するものではない。
NHCH2CH2)1〜5゜またはこれらの基の組合せ
からなる複合基が例示され、好ましくはその基の一端に
上記官能基が結合しているものである。しかし、官能基
が1個有機基金構成する分子の途中に結合しているもの
全除外するものではない。
Gは式+R紹O÷C2H40九云−CaHaOヤRで表
わされるポリオキシアルキレン基である。このポリオキ
シアルキレン基はエポキシ樹脂との親和性を付与する基
である。ここに R1は2価の有機基であり、炭素原子
数1〜10のアルキレン基。
わされるポリオキシアルキレン基である。このポリオキ
シアルキレン基はエポキシ樹脂との親和性を付与する基
である。ここに R1は2価の有機基であり、炭素原子
数1〜10のアルキレン基。
−06H4−基、−〇〇−基、−NHCO−基″!たは
これらの基同士が結合した複合基が例示される。R2は
水素原子または末端封鎖基であり、末端封鎖基としては
1価炭化水素基、アシル基、炭酸モノエステル基が例示
され、1価炭化水素基としてはメチル基、エチル基、グ
ロビル基、ドデシに基、シクロヘキシル基、フェニル基
、β−フェニルエテル基などが例示され、アシル基とし
てはアセチル基、グロピオニル基、ベンゾイル基などが
例示される。aは0または1.bおよびCはO〜50
、ただしb+cは1〜100である。
これらの基同士が結合した複合基が例示される。R2は
水素原子または末端封鎖基であり、末端封鎖基としては
1価炭化水素基、アシル基、炭酸モノエステル基が例示
され、1価炭化水素基としてはメチル基、エチル基、グ
ロビル基、ドデシに基、シクロヘキシル基、フェニル基
、β−フェニルエテル基などが例示され、アシル基とし
てはアセチル基、グロピオニル基、ベンゾイル基などが
例示される。aは0または1.bおよびCはO〜50
、ただしb+cは1〜100である。
ま7t、Aは上記したR、DおよびGから選択される基
である。lはO? 1000. mおよびnは0〜10
01fcだしJ+m+nは1〜1000である。
である。lはO? 1000. mおよびnは0〜10
01fcだしJ+m+nは1〜1000である。
このオルガノポリシロキサンは、1分子中に。
少なくとも1個″のD基と少なくとも1個のG基と含有
する必要がある。このD基およびG基はオルガノポリシ
ロキサンの分子構造中どの部分に存在していてもよい。
する必要がある。このD基およびG基はオルガノポリシ
ロキサンの分子構造中どの部分に存在していてもよい。
なお、ポリオキシアルキレン基のb+cの値が大き過ぎ
ると製造の除ポリオキシアルキレン基が分岐するおそれ
があるので、5〜50の範囲が好ましい。また、各シロ
キサン単位の好ましい範囲はlが10〜500゜mが2
〜40.nが1〜30. l+m+ nが10〜500
である。
ると製造の除ポリオキシアルキレン基が分岐するおそれ
があるので、5〜50の範囲が好ましい。また、各シロ
キサン単位の好ましい範囲はlが10〜500゜mが2
〜40.nが1〜30. l+m+ nが10〜500
である。
(Bl成分の配合割合は(A)成分であるエポキシ樹脂
の重量の0.1〜20重量%の範囲、好ましくは0.5
〜15重量%の範囲である。配合割合が0.1重量−未
満であると内部離型剤としての効果が充分でa < 、
20重量%定超過すると硬化後の成形物の緒特性、す
なわち機械的強度、東気特性、化学特性に影響を及ぼす
からである。ま1こ、支障のない限り2種以上の(B)
成分全配合してもよい。
の重量の0.1〜20重量%の範囲、好ましくは0.5
〜15重量%の範囲である。配合割合が0.1重量−未
満であると内部離型剤としての効果が充分でa < 、
20重量%定超過すると硬化後の成形物の緒特性、す
なわち機械的強度、東気特性、化学特性に影響を及ぼす
からである。ま1こ、支障のない限り2種以上の(B)
成分全配合してもよい。
本組成物には上記した(Al成分および(B)成分以外
にエポキシ樹脂の硬化剤全使用する。この硬化剤として
は従来公知のものでよく1例えば。
にエポキシ樹脂の硬化剤全使用する。この硬化剤として
は従来公知のものでよく1例えば。
無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水テトラヒドロ
ンタル位、無水へキサヒドロフタル酸。
ンタル位、無水へキサヒドロフタル酸。
無水コハク酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等
の酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミド、ジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、メタフ
ェニレンジアミン。
の酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミド、ジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、メタフ
ェニレンジアミン。
ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)メタン、ビス
(4−アミノ−シクロヘキシル)メタン等のアミン系硬
化剤あるいはフェノールノボラック系硬化剤などが用い
られる。この配合量は硬化剤の種類によって変るため、
特に限定するものではない。この硬化剤以外にイミダゾ
ールや第3級アミンで代表される硬化促進剤も使用でき
る。
(4−アミノ−シクロヘキシル)メタン等のアミン系硬
化剤あるいはフェノールノボラック系硬化剤などが用い
られる。この配合量は硬化剤の種類によって変るため、
特に限定するものではない。この硬化剤以外にイミダゾ
ールや第3級アミンで代表される硬化促進剤も使用でき
る。
さらに9本組成物には必要に応じて、脂肪酸金属塩、エ
ステル系ワックス、 tBig分以外分液外オルガノポ
リシロキサンなどの従来公知の内部離製剤、フーームド
シリカ、溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、アルミ
ナ水、+l物、タルり、珪そう土、々イカ、アスベスト
、炭酸カルシウム、ガラス繊維等で代表される無機質充
填剤、rR化アンチモン、ノーロゲン化合物、リン化合
物で代表される難燃剤、シランカップリング剤((B)
成分の有する官能基と同じ官能基をもつシランカップリ
ング剤全包含する)、顔料等を配合することができる。
ステル系ワックス、 tBig分以外分液外オルガノポ
リシロキサンなどの従来公知の内部離製剤、フーームド
シリカ、溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、アルミ
ナ水、+l物、タルり、珪そう土、々イカ、アスベスト
、炭酸カルシウム、ガラス繊維等で代表される無機質充
填剤、rR化アンチモン、ノーロゲン化合物、リン化合
物で代表される難燃剤、シランカップリング剤((B)
成分の有する官能基と同じ官能基をもつシランカップリ
ング剤全包含する)、顔料等を配合することができる。
なお無機質充填剤は目的によってその配合量は異なるが
9通常固成分05〜1000重量%の範囲で添加する。
9通常固成分05〜1000重量%の範囲で添加する。
本発明の成形用エポキシ樹脂組成物は移送。
圧縮、射出、注型等による成形時において、金型汚れの
ない極めてすぐれた離型性全示し、その成形物は捺印性
にすぐれ、半導体封止用として使用し足場台は半導体部
品との密着性全向上させることができる。
ない極めてすぐれた離型性全示し、その成形物は捺印性
にすぐれ、半導体封止用として使用し足場台は半導体部
品との密着性全向上させることができる。
さらに、エポキシ樹脂に(B)成分を混合して粉体にし
たもの、−1,たはエポキシ樹脂の粉体を(B)成分で
処理したものはブロッキング防止性や流動性全改良する
ことができるため、粉末塗料として電気絶縁塗装や耐食
塗装用に使用することができる。それ以外に、−膜成形
用材料、耐熱性ワニス、注型用樹脂、含浸用樹脂、コー
ティング用材料として使用できる。
たもの、−1,たはエポキシ樹脂の粉体を(B)成分で
処理したものはブロッキング防止性や流動性全改良する
ことができるため、粉末塗料として電気絶縁塗装や耐食
塗装用に使用することができる。それ以外に、−膜成形
用材料、耐熱性ワニス、注型用樹脂、含浸用樹脂、コー
ティング用材料として使用できる。
次に1本発明全実施例によって説明する。実施例中およ
び比較例中の部は重量部を意味し。
び比較例中の部は重量部を意味し。
粘度は25℃における値である。
なお、各実施例および各比較例において本発明の特性を
示す「金型離型性」、「金型汚れ」。
示す「金型離型性」、「金型汚れ」。
「捺印性」および「密着性」は次の方法によった。
「金型離型性」
断面積Icr&の円筒形キャビティを有する金型で、1
.iの各組成物’i 175℃で2分間圧縮成形し、成
形直後の金型からの離型押し出しカー)をプッシュプル
ゲージで測定した。これを10回繰り返し、その最低と
最高の値をとった。
.iの各組成物’i 175℃で2分間圧縮成形し、成
形直後の金型からの離型押し出しカー)をプッシュプル
ゲージで測定した。これを10回繰り返し、その最低と
最高の値をとった。
「金型汚れ」
To−202)ランジメタ20個どり金型を使用し。
175°C,2分間で連続500回トランスファー成形
し、成形後の金型の汚れを肉眼観察した。金型の鏡面に
曇りがなければ、さらに連続500回トランスファー成
形して、金型の汚れを肉眼観察した。1000回成形後
も金型の鏡面に曇りのないものを○印、500回成形し
て嚢りがなく。
し、成形後の金型の汚れを肉眼観察した。金型の鏡面に
曇りがなければ、さらに連続500回トランスファー成
形して、金型の汚れを肉眼観察した。1000回成形後
も金型の鏡面に曇りのないものを○印、500回成形し
て嚢りがなく。
1000回成形後には曇りが生じたものをΔ印。
500回以下の成形で曇りが生じたものをX印とした。
「捺印性」
To−202)ランラスタ20個どり金型を使用し。
175’(lで2分間トランスファー成形した成形表面
に、マーケム社7261インクを捺印し、150’Qで
1時間インクを硬化させた後、インク表面にセロファン
チーブ全密着させ、それを急激にはがしたときのテープ
側へのインクの転写性を肉眼で判定した。これ全10回
繰り返し、 10回共テープ側に全く転写し、ないもの
を○印、テープ側に一部でも転写したものが1回以上あ
るものをΔ印、はぼテープ全面に転写したものが1回以
上あるものをX印とした。
に、マーケム社7261インクを捺印し、150’Qで
1時間インクを硬化させた後、インク表面にセロファン
チーブ全密着させ、それを急激にはがしたときのテープ
側へのインクの転写性を肉眼で判定した。これ全10回
繰り返し、 10回共テープ側に全く転写し、ないもの
を○印、テープ側に一部でも転写したものが1回以上あ
るものをΔ印、はぼテープ全面に転写したものが1回以
上あるものをX印とした。
「密着性J
To−202)ランラスタ20個どり金型を使用し。
175”0で2分間の成形条件でトランスファー成形し
て半導体上刺止した。この成形物(i7+zツドチェッ
ク液に各10個浸漬し、12時間煮梯させた後とり出し
、成形物とリードフレームとの境界面へのレッドチェッ
ク液の浸透具合を顕微鏡で観移した。10個共全く浸入
が認められないものをO印、僅かでも浸入が認められる
ものが5個以下のものをΔ印、10個共僅かでも浸入が
認められるものをX印とした。
て半導体上刺止した。この成形物(i7+zツドチェッ
ク液に各10個浸漬し、12時間煮梯させた後とり出し
、成形物とリードフレームとの境界面へのレッドチェッ
ク液の浸透具合を顕微鏡で観移した。10個共全く浸入
が認められないものをO印、僅かでも浸入が認められる
ものが5個以下のものをΔ印、10個共僅かでも浸入が
認められるものをX印とした。
実施例1
エポキシ当量220.軟化点80℃のクレゾールノボラ
ックエポキシ樹脂75部、エポキシ当量400、軟化点
70”C9臭素含有量45重量%の臭素化ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂25部、硬化剤として軟化点90”
Cのフェノールノボラック樹脂50部、無機質充填剤と
して溶融シリカ粉末420部、硬化促進剤として2−メ
チル−4−イミダゾール1部、顔料としてカーボンブラ
ック2部、三酸化アンチモア20部、内部離型剤として
式 %式%(3 で表わされる粘度3500センチストークスのエポキシ
基とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポリ
シロキサン2部を加え、80〜9゜°Cの熱ロールで混
練し、冷却後粉砕して成形用エポキシ樹脂組成物とした
。この組成物を用いて前記した金型離型性、金型汚れ、
捺印性および密着性の評価全行ない、その結果を第1表
に示した。
ックエポキシ樹脂75部、エポキシ当量400、軟化点
70”C9臭素含有量45重量%の臭素化ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂25部、硬化剤として軟化点90”
Cのフェノールノボラック樹脂50部、無機質充填剤と
して溶融シリカ粉末420部、硬化促進剤として2−メ
チル−4−イミダゾール1部、顔料としてカーボンブラ
ック2部、三酸化アンチモア20部、内部離型剤として
式 %式%(3 で表わされる粘度3500センチストークスのエポキシ
基とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポリ
シロキサン2部を加え、80〜9゜°Cの熱ロールで混
練し、冷却後粉砕して成形用エポキシ樹脂組成物とした
。この組成物を用いて前記した金型離型性、金型汚れ、
捺印性および密着性の評価全行ない、その結果を第1表
に示した。
比較例1
実施例1で使用した内部離型剤の代りに、力くり、同様
の評価を行なった。その結果金弟1表に示した。
の評価を行なった。その結果金弟1表に示した。
比J紋例2
実施例1で使用した内部離型剤の代りに、ステアリン酸
カルシウム2部を使用した以外は実施例1と全く同様に
して、成形用エポキ7樹脂組成物をつくり、同様の評価
を行なった。その結果を第1表に示した。
カルシウム2部を使用した以外は実施例1と全く同様に
して、成形用エポキ7樹脂組成物をつくり、同様の評価
を行なった。その結果を第1表に示した。
比較例3
実施例1で使用した内部離型剤の代りに9分子鎖両末端
がトリメチルシリル基で封鎖された粘度1000センチ
ストークスのジメチルボリシ、0キチン2部を使用した
以外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂
組成物音つくり、同様の評価を行なった。その結果全第
1表に示した。
がトリメチルシリル基で封鎖された粘度1000センチ
ストークスのジメチルボリシ、0キチン2部を使用した
以外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂
組成物音つくり、同様の評価を行なった。その結果全第
1表に示した。
比較例4
実施例1で使用した内部離型剤の代りに9式で表わされ
る粘度8000センチストークスのエポキシ基含有ジメ
チルボリシロキ丈ン2部を使用した以外は、実施例1と
全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物をつくり、同
様の評価を行なった。その結果を第1表に示した。
る粘度8000センチストークスのエポキシ基含有ジメ
チルボリシロキ丈ン2部を使用した以外は、実施例1と
全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物をつくり、同
様の評価を行なった。その結果を第1表に示した。
比較例5
実施例1で使用した内部離型剤の代りに1式%式%
で表わされる粘度1200七ンテストークスのポリオキ
シアルキレン基富有ジメチルポリシロキサン2郡を使用
した以外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ
樹脂組成物音つくり、同様の評価を行なった。その結果
を第1表に示した。
シアルキレン基富有ジメチルポリシロキサン2郡を使用
した以外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ
樹脂組成物音つくり、同様の評価を行なった。その結果
を第1表に示した。
第 1 表
第1表から明らかなように、実施例1は従来公知の内部
離型剤を使用した比較例に比べ、金型離型性に極めてす
ぐれており、金型汚れもなく、捺印性、半導体部7品と
の密着性にもすぐれているため、半導体封止材として用
いた場合多大の信頼性を有することを示している。
離型剤を使用した比較例に比べ、金型離型性に極めてす
ぐれており、金型汚れもなく、捺印性、半導体部7品と
の密着性にもすぐれているため、半導体封止材として用
いた場合多大の信頼性を有することを示している。
実施例2
HO
1
(CH2)2 (02H40廿H
H2
で表わされる粘度4000センチストークスのアミン基
とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポリシ
ロキサン2部を用いた以外は。
とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポリシ
ロキサン2部を用いた以外は。
実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物音
つくり、同様の評価全行なった。この結果全第2表に示
した。
つくり、同様の評価全行なった。この結果全第2表に示
した。
比較例6
実施例2で使用した内部離型剤の代りに1式%式%
で表わされる粘度1100センチストークスのアミノ基
含有ジメチルポリシロキサン2部を用いた以外は、実施
例工と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物音つく
り、同様の評価全行なった。この結果を第2表に示した
。実施例1と同様の結果が得られた。
含有ジメチルポリシロキサン2部を用いた以外は、実施
例工と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物音つく
り、同様の評価全行なった。この結果を第2表に示した
。実施例1と同様の結果が得られた。
第 2 表
実施例3〜5
実施例1″c、使用した内部離型剤の代りに、下記の化
学式で示される内部離型剤全各2部使用した以外は、実
施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物をつ
くり、同様の評価を行なった。この結果を第3表に示し
た。
学式で示される内部離型剤全各2部使用した以外は、実
施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物をつ
くり、同様の評価を行なった。この結果を第3表に示し
た。
(CH2)2
OOH
で表わされる粘度8500センチストークスのカルボキ
シル基とポリオキシアルキレン基とを含i−するオルガ
ノポリシロキサン(実施例3)。
シル基とポリオキシアルキレン基とを含i−するオルガ
ノポリシロキサン(実施例3)。
(CH2)2
OOCH3
G;(−CH2すO−+C2H40常−COCH。
で我わされる粘度780センチストークスのカルボン酸
エステル基とポリオキシアルキレン基と金含有するオル
ガノポリシロキサン(実施例4)。
エステル基とポリオキシアルキレン基と金含有するオル
ガノポリシロキサン(実施例4)。
G ; +CJhすO+C2H40福−Co CH3で
表わされる粘度350センチストークスのカルビノール
基とポリオキシアルキレン基と金含有づ−るオルガノポ
リシロキサン(実施例5)。
表わされる粘度350センチストークスのカルビノール
基とポリオキシアルキレン基と金含有づ−るオルガノポ
リシロキサン(実施例5)。
比較例7〜9
実施例3〜5で使用した内部離型剤の代りに。
下記の化学式で示される内部離型剤を各2部使用した以
外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組
成物をつくり、同様の評価を行なった。この結果を第3
表に併記した。
外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組
成物をつくり、同様の評価を行なった。この結果を第3
表に併記した。
OOH
で表わされる粘度2500センチストークスのカルボキ
シ基含有ジメチルポリシロキサン(比較例7八 で表わされる粘度350センチストークスのカルボン酸
エステル基含有ジメチルポリシロキサン(比較例8)。
シ基含有ジメチルポリシロキサン(比較例7八 で表わされる粘度350センチストークスのカルボン酸
エステル基含有ジメチルポリシロキサン(比較例8)。
で表わされる粘度50センチストークスのカルビ/−市
某4「トメ−frしrソシロ彷ン0乞軟4す9)・第
3 表 実施6 エポキシ当世220 、軟化点80℃のクレゾールノボ
ラックエポキシ樹脂50部、エポキシ当世500、軟化
点70°CのビスフェノールA型エポキシ樹脂25部、
臭素含有量35重量%、エポキシ当i 280 、軟化
点85℃の臭累化ビスフェノールA型エポキシ樹脂25
部、硬化剤として無水テトラヒドロフタル酸30部、無
機質充填剤として結晶性シリカ粉末420 Ff15
、硬化促進剤として2−メチル−4−イミダゾール1部
、顔料としてカーボンブラック2部、三酸化アンチモン
20s、内部離型剤として実施例1で使用したエポキシ
基とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポリ
シロキサンを0.5部、1部、3部、5部。
某4「トメ−frしrソシロ彷ン0乞軟4す9)・第
3 表 実施6 エポキシ当世220 、軟化点80℃のクレゾールノボ
ラックエポキシ樹脂50部、エポキシ当世500、軟化
点70°CのビスフェノールA型エポキシ樹脂25部、
臭素含有量35重量%、エポキシ当i 280 、軟化
点85℃の臭累化ビスフェノールA型エポキシ樹脂25
部、硬化剤として無水テトラヒドロフタル酸30部、無
機質充填剤として結晶性シリカ粉末420 Ff15
、硬化促進剤として2−メチル−4−イミダゾール1部
、顔料としてカーボンブラック2部、三酸化アンチモン
20s、内部離型剤として実施例1で使用したエポキシ
基とポリオキシアルキレン基とを含有するオルガノポリ
シロキサンを0.5部、1部、3部、5部。
10部、15部と配合量を変えて混練し、粉砕して成形
用エポキシ樹脂組成物とした。これについて実施例1と
同様の評価を行ない、この結果を第4表に示した。いず
れも、金型離型性、金型汚れ、捺印性、密着性とも極め
て良好であった。
用エポキシ樹脂組成物とした。これについて実施例1と
同様の評価を行ない、この結果を第4表に示した。いず
れも、金型離型性、金型汚れ、捺印性、密着性とも極め
て良好であった。
第 4 表
実施例7
実施例6で使用した内部離型剤の代りに、弐G ; (
cH2+−c)+C2H<0←→CaHaO←H212 で表わされる粘度1.4500センチストークスのエポ
キシ基とポリオキシアルギレン基と全含有するオルガノ
ポリシロキサン3部を使用した以外は、実施例6と全く
同様にして成形用エポキシ樹脂組成物企りくり、成形・
訂価した結果。
cH2+−c)+C2H<0←→CaHaO←H212 で表わされる粘度1.4500センチストークスのエポ
キシ基とポリオキシアルギレン基と全含有するオルガノ
ポリシロキサン3部を使用した以外は、実施例6と全く
同様にして成形用エポキシ樹脂組成物企りくり、成形・
訂価した結果。
金型離型性は2〜3kl?で、金型汚れもなく、捺印性
、密着性とも極めて良好であった。
、密着性とも極めて良好であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A) エポキシ樹脂、および (B) 一般式 〔式中、Rは同種もしくは異種の1価炭化水素基、Aは
R,DおよびGがら選択される基、Dはエポキシ基、ア
ミノ基、水酸基、カルボキシル基またはカルボン酸エス
テル基を含有する1価有機基、Gは+R’+aO+Cz
H40+b+CaHsOすcR2(ここに、R1は2価
の有機基。 R2は水素原子または末端封鎖基、aは0またはi、b
およびcI/io〜5o、ただしb + cは1〜10
0テあ、6)、/は0〜1000 、 mおよびnはO
〜100+7’cだし/+m+nは1〜1oo。 である。〕で表わされ、1分子中に、少なくとも1個の
D基と少なくとも1個のG基とを有するオルガノポリシ
ロキサン。 金主剤とする成形用エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58121450A JPS6013841A (ja) | 1983-07-04 | 1983-07-04 | 成形用エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58121450A JPS6013841A (ja) | 1983-07-04 | 1983-07-04 | 成形用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6013841A true JPS6013841A (ja) | 1985-01-24 |
JPH0236148B2 JPH0236148B2 (ja) | 1990-08-15 |
Family
ID=14811431
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58121450A Granted JPS6013841A (ja) | 1983-07-04 | 1983-07-04 | 成形用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6013841A (ja) |
Cited By (14)
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---|---|---|---|---|
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-
1983
- 1983-07-04 JP JP58121450A patent/JPS6013841A/ja active Granted
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0236148B2 (ja) | 1990-08-15 |
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