JPS5869244A - 成形用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

成形用エポキシ樹脂組成物

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JPS5869244A
JPS5869244A JP16804481A JP16804481A JPS5869244A JP S5869244 A JPS5869244 A JP S5869244A JP 16804481 A JP16804481 A JP 16804481A JP 16804481 A JP16804481 A JP 16804481A JP S5869244 A JPS5869244 A JP S5869244A
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越井 太郎
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は成形用エポキシ−脂組成、切に関するものであ
り、4には、成形時に金型汚れのない優れた離型性を示
す成形用エポキシ樹脂組成物に関する。
従来、エポキシ樹脂組成物の成形には移送成形、射出成
形、圧縮成形、eE型等の方法が採用されている。これ
らの各成形法において、成形物を金型から円滑に取り出
すことが生産性の面から極めて重要なことであるうその
ために、金型設計時に、金型のキャビティに頃斜をつけ
たり。
つき上げピンの数を壇したりする工夫がなされている。
しかし、つき上げピンの奴を増せば離型性は向上するが
、金型の製造コストが著しく増加し、経済的制約を受け
ること、およびそれだけでは離型性が充分でないという
欠点がある。
また、s型性をあげるため、生+1を中断して離型剤を
金型に塗布する方法も実施されているが。
離型剤の金型えの置型なる塗布は作業効率を低下させ、
生産性に藏大な支障をきたすという致命的欠点を有して
いる。
その結果、必然的に樹脂自身の友良、すなわち内部離型
剤の開発に対する期待が大きくなってきている〇 ところで、内部離型剤の役割は、成形時の離型性を向上
させることであるが、それ以外にブリードオフがないこ
と、半導体部品と樹脂との密着性を妨げないことなども
重要なことである。
何故なら、内部離型剤がブリードオフすることによって
、成形回数が増すにちれ、金型内に汚れとして蓄積され
、成形品表面の汚れをひきおこすからであり、また、成
形品に社名、候品名等の捺印をほどこす場合に、内部離
型剤かにじみ出して捺印性を妨げるからである。また、
樹脂の用途がトランジスタや104!の半導体の封止材
である場合には水分や湿分の侵入を防ぐためにそのf!
着性が重要となる0 従来、内部離型剤としてステアリン酸カルシウムや不テ
アリン酸亜鉛などの高級脂肪酸の金属塩−が使用されて
きたが、離型性、捺印性にや\優れているものり2.半
導体装置の封止材として用いた一合の督着性に劣るとい
う欠点があり。
また、内部離型剤としてカルナウバワックスやモンタン
ワックスなど0)エステル系ワックスが知られているが
、封止材として用いた場合の密着性は比較的浸れている
ものの離型性、捺印性に劣るという欠点がある。また、
ジメチルシリコーンオイルを使用する一合もあるが、と
nは離型性に優れているものの、捺印性、密着性に劣る
という欠点かりる〕 本発明者はエポキシ樹脂組成物の内部離型剤につ゛いて
鋭意検討した結果、エポキシ111脂と反応し得る特屍
の基をMするオルガノポリシロキサンを配合することに
より、金型汚れのない優れた離型性を有し、かつ、捺印
性、密層性にもすぐれていることを見出し1本発明に到
4した0すなわち、不発明は。
囚 エボ、キシJ Il& 、−および田)弐R’l 
R2bSi04.−aB(式中、R1はR2を除<It
洟もしくは非Llt菌の1価炭化水素基 R2はエポキ
シ基、アミノ承、水酸基、カルボキシル基またはカルボ
ン酸ニス戸ル基を含有する1価炭化水X基、aは0,1
または2の整数、bは1.2または3の整数、ただしa
十すは1,2または3の11数である。)で表わされる
オルガノン0キサン単位を1分子中に少なくとも1個有
”し、25℃における粘度かを主剤とする成形用エポキ
シ樹脂組成物に関する0 本発明に使用される(4)成分のエポキシ樹脂は。
1分子中に少なくとも2illlのエポキシ基を有する
ものであればよく、従来公知の全てのエポキシ樹脂を使
用することができる。例えば、ビスフェノールAのジグ
リシジルエーテルやその多量体であるエビビスタイプの
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、レゾ
ルシン型エポ牟シ樹櫂、テトラヒドロキシ7、エニルエ
タン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ポリオレ
フィン型エポキシ樹楯、脂環型エポキシ樹脂、エポキシ
化大豆油、シリコーン変性エポキシ樹脂などの各種変性
エポキシ樹脂。
およびそれらのハロゲン化物が例示される。エポキシ樹
脂としてはその1情または2種以上を混合して使用して
もよく、また、エポキシ樹脂と他のエポキシ基をもたな
い熱硬化性樹脂との混合物も含まれるっ 本発明に使用さnるJ3)成分のオルガノポリシロキサ
ンは、エポキシ樹脂に配合して、成形時に金型汚れのな
い漬れた離型性を辱える重要な成分である。このオルガ
ノポリシロキサンは式 R’a R”b ””Az止(
式中の+’、 R”、 aおよびbは前記のと分りであ
る〉で示されるオルガノシロキサン単位を1分子中に少
なくとも1個Ifるオルガノポリノロキサンからなり、
その構造は直鎖状、分枝@状、 Jl状、網状のいずれ
でもよく、その粘度は25°Cにおいて1〜500,0
00センチストークスまで許各されるが、均一な分散性
等の点で5〜50,000センチストークスのもdが好
ま、しい。1式中のR1はR2tm<もので、メチル基
、エチル基、プロピル基、オクチル基。
フェニル基、ビニル基、アリル&、3−10ルグロピル
聰、3,3.3−1リフルオロプロピル基などで例示さ
れる114!もしくは非置換の1価炭化水素基であり、
このうち、一般にメチル基が使用されるっR2はエポキ
シ基、アミノ基、水酸基、カルホキシル基またはカルボ
ン酸エステル基を含有する1価炭化水素基である。この
うち。
アミノ基はその窒素原子に結合する水素原子の1個また
は211!lがアルキル基等で置換されたものも使用で
きる。これらの官能基が結合している1価炭化水素基の
種類は特に限定するものではないが9例えば、メチレン
基、エチレン基。
プロピレン基、ブチレン基などのアルキレン基クロルエ
チレン基、フルオロエチレン基すどのハロゲン化アルキ
レン基、フェニレン基、アルキレ/アリ−L12基、 
−C,H4C0−、−CO−t−NHCO−1−CH!
OCH2CH2CH2−、−CH2CH20CH2CH
,−IH3 CH2CH20CHCH2、CH2OCH2CH2OC
H2CH2−9の基の一端に上記官能基が結合している
ものである。しかし、官能基が11LIll炭化水素基
を構成する分子の7途中に結合しているものを除外する
ものではない。aは0.1′または2の整数、bは1.
2または3の整数、ただしa+bは1゜2または3の整
数であるが、a:=Ob=1.a=1b=1.a=2b
=1の組合せがもっとも一般的であるっ ■成分のオルガノポリノロキサンは、前記式で表わされ
るオルガノシロキサン単位を1分子中に少なくともl閘
あればよく、最大限すべてのオルガノシロキサン単位が
前記式で表わさnるオルガノシロキサン単位で構成され
ていてもよい。前記式で表わさnるオルガノシロキサン
単位以外の他のオルガノシロ千す/単位としてハ、ジメ
チルシロキサ/、メカルビニルシロキサン、メチルフェ
ニルシロキナン、ジフェニルシロキサン、メチルオクチ
ルシロキサン、メチル(3,3,3−)リフルオログロ
ビル)シロキサン、メチル(3−クロルプロピル)シロ
キサンのようなジオルガノシロキサン、トリメチルシロ
キサン、ジメチルビニルシロキサン、ジメチルフェニル
シロキサン、メチルフェニルビニルに今シロキサン、ジ
メチル(3,、&3−トリフルオログロビル)シロキサ
ンのようなトリオルガノシ四キサン、メチルシロキサン
、プロピル+4シロキサン、ビニルシロキサン、フェニ
ルジ04’−1/l 3,3.3− ) リフルオロプ
ロピルシロキサンのようなモノオルガノシロキサンがあ
る。
このうち、一般にジメチルシロキサン単位およびトリメ
チルシロキサン単位が使用される。さらに、メチルハイ
ドロジエンシロキサン、ジメチルハイドロジエンシロキ
サン、ハイ°トロジエンシロキサン、メチルヒドロキシ
シロキサン。
ジメチルヒドロキシシロキサン、ヒドロキシシロキサン
、メチルアルコキシシロキサン、ジメチルアルコキシシ
ロキサン、アルコキシシロキサンのようなけい素原子に
結合する水素原子。
水酸基またはアルコキシ基金MシロキサンがあるO ■)成分の配合割合は(A)成分であるエポキシ樹脂の
0.01〜10電鎗チの範囲、好ましくは0.1〜5重
tチの範囲である。配合割合がo、oi遁、ts以下で
あると内部離型剤としての効果が充分でなく、1oit
チ以上であると硬化後の成形物の緒特性、すなわち機械
的・洟度、也気特性、化学特性に影響を及ぼすからであ
る。また、支障のない限り2種以上のU3)成分を配合
してもよい。
本組成物には上記した囚成分および(j3)成分以1外
にエポキシ樹脂の硬化剤を使用する。この硬化剤として
は従来公知のものでよく1例えば。
無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水テトラヒドロ
フタル酸、無水へキサヒドロフタル酸。
無水コハク酸、s水ベンゾフェノ/テトラカルボン酸等
の酸1水物′系硬化剤、ジシアンジアミド、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、メタ
フェニレンジアミン。
ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)メタ/、ビス
(4−アミノ−7クロヘキシル)メタン等のアミン系v
化剤あるいはフェノールノボラック系硬化剤などが用い
られる。この配合量は硬化剤の種類によって変るため、
特に限定するものではない。この硬化剤以外にイミダゾ
ールや第3級アミンで代表される硬化促進側も使用でき
る。
さらに9本組成吻には必要に応じて、 #ii肪酸金属
塩、エステル系ワックス、(線成分以外の液状オルガノ
ポリシロキサンなどの従来公矧の内部雌型剤、フユーム
ドシリカ、熔融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、アル
ミナ水沌物、タルク、珪そう土、マイカ、ア、スベスト
、炭酸カルシウム、ガラス繊維等で代表される無機質充
填剤、酸化アンチモン、ハロゲン化合物、リン化合物で
代表される難燃剤、シランカップリング剤((騰成分の
有する官能基と同じ官能基をもつシランカッブリング剤
を包含′する)、顔料等を配合することができる。なお
黒磯質充填剤は目的によってその配合量は異なるが9通
常固成分05〜1000重鎗チの範囲で添加する。
本発明の成形用エポキシ樹1111組成物は移送。
圧縮、射出、注型等による成形時において、金型汚れの
ない極めてすぐれた離型性を示し、その成形物は捺印性
にすぐれ、半導体封止用として使用した場合は半導体部
品とのfj着性を向上させることができる。
さらに、エポキシ俯脂にLB)成分、を混合して粉体に
したもの、またはエポキシ樹脂の粉体を(5)成分で処
理したものはブロッキング防止性や流動性を改良するこ
とができるため、粉末塗料として電気絶縁塗装や耐食塗
装用に使用することができる。それ以外に、−膜成形用
材料、耐熱性ワニス、注型用粥脂、含浸用樹脂、コーテ
ィング用材料として開用できる。
次に1本発明を実施列によって説明する。実施例中およ
び比較例中の都は重量部を意味し。
粘度は25℃におけ2直である。
なお、各実施例および各比較例において本発明の特性を
示す「金型離型性」、[金型汚AJ 。
「捺印性」および「密着性」は次の方法によった0 「金型離型性」 断面積1cIiの円筒形キャビティを有する金型で、1
.59の各組成切を175℃で2分間圧縮成形し、成形
直後の金型からの離型押し出しカーをプツシ−プルゲー
ジで測定した。これを10回繰り返し、その最低と最高
の値をとった〇「金型汚れ」 To−202)ランジスタ201dどり金型を使用し。
175℃、2分間で連II!IC500回トランスファ
ー成形し、成形後の金型の汚れを肉眼観察した0金型の
鏡面に全く働りのないものを「無し」とし。
曇りが発生しているものを「有り」と判定した0「捺印
性」 To−202)ランジスタ加個どり金型を使用し。
175℃で2分間トランスファー成形した成形表面に、
マーケム社7261インクを捺印し、150℃で1時間
インクを硬化させた後、イ/り表面にセロファンテープ
を密着させ、それを急激にはがしたときのテープ側への
インクの転写性を肉眼で判定した。これをlO回埋り返
し、lO回共テープ側に全く転写しないものをO印、テ
ープ側に一部でも転写したものが1回以上あるものをΔ
印、はぼテープ全曲に転写したものが1回以上やるもの
をX印とした。
「密着性」 To−202)ランラスタ201麿どり金型を使用し。
175℃、で2分間の成形条件でトランスフ−1−成形
して半導体を封止した。この成形物をレッドチェック液
に各10個浸漬し、 12時間煮沸させた後とシ出し、
成形物とリードフレームとの境界面へのレッドチェック
液の浸透具合を顕微鏡で観察した010個共全く浸入が
認められないものを○印、僅かでも浸入が認められるも
のが5個以下のものを今印、IOd共」僑かでも浸入が
認められるものをX印とした。
実施例1 エポキシ当17t220 、軟化点(資)Cのクレゾー
ルノボラックエボキシI:JjB旨75部、エポキシ当
緻400、軟化点70℃、臭素含有1145重を−の臭
素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂25部、硬化剤と
して軟化点(社)°Cのフェノールノボラック樹脂(資
)部、無機質充填剤として熔融シリカ粉末420部、硬
化促進剤として2−メチル−4−イミダゾール1部、顔
料としてカーボンブラック2部、三酸化アンチモン20
部、内部1llII型剤としで表わされる粘[8000
センチストークスのエポキシ基含有ジメチルポリシロキ
サン2部を加え、8o−(資)℃の熱ロールで混練し、
冷却後粉砕して成形用エポキシ樹脂組成物とした。この
組成物を用いて前d己した金型離型性、金型汚れ。
捺印性および密着性の評価を行ない、その結果を1g1
表に示し喪。
比較例1 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、カルナウバワ
ックス2部を使用した以外は実施例1と全く同様にして
、成形用エポキシ樹脂をつくシ、同様の評価を行なった
。その結果を第1表に示した。
比較例2 実施例1で使用した内部#II型剤の代りに、ステアリ
ン酸カルシウム2部を使用した以外は実施例1と全く同
様にして、成形用エポキシ樹脂組成物をつノくり、同様
の評価を行なった。その結果を第1表に示した。
比較例3 実施例1で使用した内部離型剤の代りに1分子鎖両末端
がトリメチルシリル基で封鎖された粘度1000センチ
ストークスのジメチルポリシロキサン2部を使用した以
外は、実施例1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組
成物をつくり、同様の評価を行なった。その結果を1部
1表に示した) 第1表 第1表から明らかなように、実施列1は従来の内部離型
剤を使用した比較例に比べ、金型離型性に極めてすぐれ
ており、金型汚れもなく。
捺印性、半導体部品との密着性にもすぐれているため、
半導体封止材として用いた場合多大の信頼性を有するこ
とを示している。
実施例2 実施例1で使用した内部離型剤のエポキシ基含有ジメチ
ルポリシロキサンの代りに。
NHCH2CH2NH2 で表わされる粘度1100センチストークスのアミノ基
含有ジメチルポリシロキサン2部を用いた以外は、実施
例1と全く同様にして成形用エポキシ樹11組成物をつ
くり、同様の評価を行なった。この結果を第2表に示す
とおり、実施例1と同様の結果を示した。
第   2   衣 実施例3〜5 実施例1で使用した内部離型剤の代りに、ド記の化学式
で示される内部離型剤を各2部便用した以外は、実施例
1と全く同様にして成形用エポキシ樹脂組成物をつくり
、同様の評価を行なりた。この結果を第3表に示した。
で表わされる粘度2500七ンテストークスのカルボキ
シ基含有ジメチルポリシロキサン(実施例3)。
で表わされる粘度2300センチストークスのカルボン
酸エステル基含有ジメチルポリシロキサン(実施例4)
で表わされる粘度50センチストークスのカルビノール
基含有ジメチルポリシロキサン(実施例5)。
第   3   表 実施6 エポキシ当@ 220 、軟化点(資)°Cのクレゾー
ルノボラックエポキシfI411旨50s、エポキシ当
量500、・軟化点70°CのビスフェノールA型エポ
キシ樹脂25部、臭素含有t35点Jltチ、エポキシ
当t 280 、 軟化点850の臭素化ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂25郡、硬化剤として無水テトラヒ
ドロフタル酸30部、無機質充填剤として結晶性シリカ
粉末420部、硬化促進剤として2−メチル−4−イミ
ダゾール1都、顔料としてカーボンブラック2部、三酸
化アンチモン20部、内部離型剤として実施例1で使用
したエポキシ基含有ジメチルポリシロキサンをα5部、
ig、3部、5部と配合着を変えて・混練し、粉砕して
成形用エポキシ樹脂組成物とした。これについて実施例
1と同様の評価を行ない、この結果を第4表に示した。
いずれも、金型離型性、金型汚れ、捺印性、密着性とも
極めて良好であった。
第    4   表 実施例7 粘度間センチストークスの両末端水酸基含有を0.3部
、水酸化カリウム0.08部とを混合し。
130℃で3時間反応させて枯l&3500センチスト
ークスのアミノ基含有オルガノポリシロキサンを製造し
た。
実施例6で使用した内部離型剤の代りに、上記で得られ
たアミノ基宮有オルガノポリシロキサン2部を使用した
以外は、実施例6と全く同様にして成形用エポキシ樹脂
組成物をつくり。
同様の評価を行なった結果、金型離型性、金型汚れ、捺
印性pよび密着性が極めて良好であり。
実施例1〜6と同等の成績を示した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 囚 エポキシ樹I旨、および 1、B)   弐  R’BR2bsto4−a b(
    式中 R1はR2を除く置換もしくは非置換の1価炭化
    水素基 R2はエポキシ基、アミノ基、水酸基、カルボ
    キシル基またはカルボン酸エステル基を含有する1価炭
    化水素基、aは0,1または2の整数、bは1.2また
    は3の整数、ただしa+bは1.2または3の整数でめ
    る。)で表わされるオルガノシロキサン単位を1分子中
    に少なくともI IBM有し、25℃における枯・屍が
    1〜soo、oooセンチストークスのオルガノポリシ
    ロキサン     囚成汁の0.01〜10重tqbを
    主剤とする成彩1bエポキシ樹脂組成物O
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