JPS60126280A - 光学活性エピクロルヒドリンの製造法 - Google Patents

光学活性エピクロルヒドリンの製造法

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JPS60126280A
JPS60126280A JP23528183A JP23528183A JPS60126280A JP S60126280 A JPS60126280 A JP S60126280A JP 23528183 A JP23528183 A JP 23528183A JP 23528183 A JP23528183 A JP 23528183A JP S60126280 A JPS60126280 A JP S60126280A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学活性なエピクロルヒドリンの製造法に関す
るものである。
光学活性なエピクロルヒドリンは医薬品の光学活性化に
有用である。特に、不整脈治療剤、血圧降下剤として使
用されるβ−ブロッカ−に対しては、その大多数がエピ
クロルヒドリンを用いて合成できること(たとえば、米
国も゛許第3.46(i、376号参照)、加えて、現
在はラセミ体で供されているりれども、二つの光学異性
体のうら絶対構造(s)一体のみが薬理活性をイjする
ために、その光学活性化が望まれる〔たとえば、J、M
ed、Cklem、、土工、1118 (19(i8)
参照〕ことを考えあわせると光学活性エピクlitルヒ
トリンの有用性は明らかであり、既にいくつかの光学活
性β−ブロッカ−が光学活性コ〜ピク[フルヒドリンか
ら合成されている。〔たとえば、CI+Cm、Pba 
rrn、Bu I 1.、−29 (8)。
2157 (1981)参照)。
しかし、これまでの光学活性エピクしIルヒ1−リンの
合成法(下記A、+3.C法)にはそれぞれ下記に説明
したように欠点がある。
Δ、2.3−ジブロモー1−プロピルアミンを光学分割
の後、エビブロモ上1′リン経由で合成する方法(Ch
 em、B e r、、土1.1847 (+ 915
)参照)。
B、D−マンニト−ル由来の不斉炭素を利用する方法(
J、Org、Cbem、、43 (25)。
4876 (1978)。、特開昭55−7286号参
照〕。
C3不斉触媒を用いた2、3−ジクロロ−1−プロパツ
ール(ラセミ体)の脱塩酸反応(1’ e trahe
dron、、3[i (23)、3391 (1980
))。
AおよびCの方法では1[「い光学純度がiqられない
ため実用性が低く (A法 75%ee、C法 67%
ec) 、r3法では十分な光学純度のものが得られる
が、毒性等の点で取扱いゲ1tい四酢酸釦を多量に使用
する他、上程もIQ<、資(・jも+l’li価である
ため、小スケールではともか<」ニ業的規模の製造法と
しては適当といえない。
そこで、本発明者は酵素法(特開昭56−4.8888
号参照)により容易に得られる 光学活性の2.3−ジ
グ0u−1−プロパツールから光学活性のエビクロル上
1−゛リンを製造する方法を検d−1しノこ。
光学活性2.3−ジクし++:I−1−プロパツールを
アルカリの存在下脱塩化水素Jる方法は従来知られてい
ない。
本発明者は、この方法について検削したところ、意外に
も、従来知られている「光学不活性の2.3−ジクロロ
−■−プロパツールをアルカリにより脱塩化水素してエ
ピクロルヒドリンを得る」方法を、単純に模倣するだり
では、エピクuルしl′リンのラセミ化を招いてしまう
ことが判明した。即し、通雷のエピクロルヒドリンの製
造法としては、人別して下記の2力法((i)、(ii
))がある。
(i)2.3−ジク+:+ I:I−1−プロパツール
を脱塩化水素した後、生成したエピクロルヒドリンのク
ロル基が加水分解により水酸基に変わるのを可及的に即
制するため、水との共沸蒸溜により生成したエピクロル
ヒドリンを反応系外に取り出す方法。
(ii )有機溶媒、9.1に1. 2. 3−トリク
1月−Jプロパンの存在下、2.3−ジクロロ−1−プ
ロパツールを脱塩化水素して、生成したエピクl」ルヒ
ドリンをイj機溶媒系に可及的に抽出せしめζ、反応終
了i& aT tffl ?8媒系からエピク1」ルヒ
トリンを取得する方法。
然るに、本発明者が(i)の方法を追試したところ、意
外にも、得られたエピクロルヒドリンの光学活性は低下
して、本処理中にがなりのラセミ化を招いていることが
判明した。
(11)の方法でも、70℃以上で反応処理を行うと(
1)と同様に著しいラセミ化と生成したエピクロルヒド
リンの塩素基が水酸基に分解する副反応の著しい生起を
招くことが判明した。そこで、脱塩化水素次いで生成し
た光学活性エピクロルヒドリンのイ]゛槻溶媒中えの抽
出さらに有機溶媒からの取得の一連の操作を50℃以下
で行うとラセミ化率が少なく、光学活性が維持されるこ
とを見出し、本発明を完成した。
本発明の方法を、さらにrif シ<説明する。
反応に用いるアルカリ水冷t&の一ノ′ルカリとしCは
、水酸化アルカリ土類金属、水酸化)′ルカリ金属、等
が挙げられる。水酸化アルカリ」二IJI金属とし′C
は、水酸化カルシウムが挙げられる。しかし、水酸化カ
ルシウムは水に対する溶解瓜が低いので反応容積が人に
なる。また、水酸化カルシウムを懸濁したまま反応する
と、次に水層と自機溶媒層との分液が困ケ11になる等
の欠点があるのに対し、水酸化アルカリ金属、例えば水
酸化すトリウノ、または水酸化カリウムの場合は、上記
の水酸化アルカリ土類金属を使用する場合の欠点がない
ので、水酸化アルカリ金属を使用する方が好ましい。
反応温度は50℃以下であるが、O〜40 ’I:の範
囲が特に好ましい。Q ’cから40°Cに近い程、反
応処理時間は短い。
有機溶媒としては、この反応系に不活性であり、かつエ
ピクロルヒドリンを容易に抽出し得る有機溶媒が好まし
い。抽出後有機溶媒と光学活性工ピクロルヒドリンとの
分溜による分離が必要になる場合がある。従って、生成
した光学活性エピクロルヒドリンと減圧下50℃以下に
おいて沸点差の大きいニトロヘンゼン、オルトジクロル
ヘンセン等が打ましい。
使用するアルカリと光学活性2,3−ジクロしl−1−
プロパツールとのモル比は、生成した光学活性エピクロ
ルヒドリンが副反応を著しく起こさない程度の範囲0.
5〜2倍(アルカリ/光学活性2,3−ジクロロ−1−
プロパツール)が々rましい。また、反応に用いるアル
カリまたはアルカリ水は、徐々に添加することによって
反応温度と反応速度を調節することもある。
次に、参考例(光学活性2.3−ジクロロ−1−プロパ
ツールの合成)、比較例(高温における反応)および実
施例をもって、本発明の方法をさらにくわしく説明する
。なお、本発明の範囲は、これらの実施例だけに限定さ
れるものではない。
参考例1. (s) −(−) −2,3−ジクロロ−
1−プロパツールの合成 (α)’;−16,7° (光学純度91%cc)をソ
jする(S)−(−)−酢酸2,3−ジグ1−10プ[
1ピル23. 4 g (137mmol)を0.2M
リン酸ナトリウム緩衝液(pt18) 570mlに:
ヒ濁さ、1、ステアプシン(市販品1東京化成)0.9
5gを添加して室温で56時間攪1′Fシた。その間、
反応の進行に伴って生しる酢酸は炭酸水素すトリウムで
中和しζいった。(反応7〜151+r毎に反応率に応
して添加した。) 反応混合物に酢酸エチル300m1を加えて振とう後、
セライトろ過し、分液してIl!i1酸コーチ酸層−チ
ル層。水層は酢酸エチル(200m1X 2回)でさら
に抽出し、酢酸コルチル層は先の酢酸エチル層と合わ・
U、硫酸す[・リウニで一夜乾燥した。
ろ過後、溶媒留去して7H7られた油状物19.Ogを
水300m1に溶1す?シ、四塩化炭素(25mlx2
回)で/81;lp後、塩化すトリウム75gで塩JJ
iシてから酢酸エチル(70mlX3回)で抽出し、l
!II酸エチ酸層チル層−l−ζ、硫酸すトリウムで一
夜乾燥した。
ろ過後、溶媒留去して18.6gの(S)−(−)−2
,3−ジクロロ−1−プロパツールを得た。(酢酸エチ
ルを23%含む。収率81%)減圧蒸溜により低沸分を
除いた後、旋光度を測定したところ、〔α〕;ゞ−1,
5° (c=7.48、 Meoll)であった。これ
を酢酸エステルにして光学純度を測定したところ、〔α
)−1G、7“ (光学純度9I%ec)であった。
比較例1゜ ジムロート冷却管とつながる水分定量受器(目盛容器1
0m1) 、20mlの滴下ロート、温度計(150°
C)およびマグネチノクスクーラー攪拌子を装着した。
500m1の反応フラスコ中で次の反応を行った。
水酸化カルシウム22. 2 g (300mmol)
を225m1の水に懸澗させ、攪1!トシながら190
1■まで減圧したあと、徐々に加熱、還流さ・Uた。
その中に、〔αだ−0,87° (c=7.50、 M
eOll)を有する(S)−(−)−2,3−ジクロロ
−1−プロパツール(光学純度53%ee) 15、 
5’g (120mmol)を50分間で滴下した。
その間、生成したエピクロルヒドリン(dや1.18)
は水と共沸させることによって水分定量受器内に取り出
しながら反応を行わせ(反応温度78〜79℃)、滴下
終了後もさらに40分間攪拌、共沸を継続した。
(+1 )−(−) −エピクしIルヒ1−リンは水と
分液するだりで1qられ、く・2燥を行った段階で収1
7113、Og、収率81%であった。この粗製物を減
圧兼溜で精製した後、旋光度を測定したところ、〔α〕
■16.1’ (c=1.l 1.MeOll) 、光
学純度47%cc)(100%ccの(R)−(−)−
エピクロルヒドリンの旋光度の文献値: 〔α〕。−3
4,3° (c = 1. 、 50. MeOll)
 )であり、原オ′−1の光学純度の89%しか保持さ
れなか−、た。
また、上記の反応を密圧の条イノ1でも行ってのた力(
、(7ら才した(1ン) −(−) −コニビクしIル
ヒ1、リンの旋光度は〔α〕ご利3.4° (c=1.
0!]、 Meoll) 、光学純度39%ccで、光
学純度の保持率は75%とさらに低下した。
比較例2゜ 〔α)2.+、 0 、87°(c = 7.50. 
McOll)をもつ(1ン)−(+)−2,3−ジクp
ct−1−プし夏パノール(光学純度53%ee) 9
. 00g (69、8mmol)をオルトシクロロヘ
ンゼン18.0gに/8解し、60゛Cまご加熱した。
次ぎに、反応液の温度を70゛C以下に保らながら水酸
化す1−リウニ2− 93 g (73,3mmol)
を水6.0gに/8解したものを滴下した。滴下終了後
、ただしに室温に戻し、以下、実施例1と同様の後処理
を行い、(s)−(()−エピクロルヒドリン2.13
0g(収率45%)を(7だ。旋光度は〔α〕?→−1
6,2° (C= 1 、 50 、 Mcoll)で
、光学純度は47%であった。
実施例1. (If ) −(−)−エピクロルヒドリ
ンの合成 参考例1でflられた(S) −(1−2,3−ジクI
J l:l−1−プロパツール(光学純度91%ce)
 4. 50 g (34,9mmol)を二l−uベ
ンゼン6、OBに溶解し、水冷した。次ぎに、水酸化す
トリウム1. 47 g (36,8mmol)を水3
.Ogに熔解したものを、反応’/f、’j−の温度を
10゛C以−トに保らなから;3分間−C?+宥−トシ
た。11rj−1・終了後、次第に室温に戻し、さらに
411)間攪拌した。(反応率89%)。
反比、混合物をろ過し゛(,41i出した塩化すトリウ
ムを除いた後、分液して二1・Dハフ82層を取り、塩
化力ルシウノ・で乾燥した。ろ過後、室温以下’(: 
A jVlを11イ、l”)−イーj’イス−−−j’
 セl−7トラップに(1ン)−(−)−エビクリル上
l−リン2.51ig(収率80%)を得た。旋光度は
〔α〕Y−30,9° (C= 1. 50. Mco
ll)て、光学純度は90%eeであっノこ。
実施例2. (S)−(1)−エピクロルヒドリンの合
成 〔α)I−Q、87°をもつ(l+ > −(→)−2
,3−ジクロロ−1−プ[]パノール(アーUチル化し
て光学純度を測定したところ53%eeであった、 )
 9. 00 g (69,8mmol)をオル1−ジ
ク(コロヘンセン18.Qgに溶解し、水冷した。次き
に、反応液の温度を8℃以下に保ちながら水酸化ナトリ
ウム2. 93 g (73,3mmol)を水6゜0
gに/8解したものを、3分間で滴下した。滴下終了後
、次第に室温に戻し、さらに4時間型1′トした。(反
応率92%)a 以下、実施例1と同様の後処理を行い、(S)−(+)
 −エピクロルヒドリン5.17g(収率80%)を1
9た。旋光度は〔αか−17,8° (c = 1. 
35. tleoll)で、光学純度は52%eeであ
った。
特許出願人 日産化学工業株式会社

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光学活性な2.3−ジクロロ−■−プロパツール
    を、有機溶媒−アルカリ水溶液の二層系で、かつ、約0
    〜50℃で処理することを特徴とする光学活性エピクロ
    ルヒドリンの製造法。
  2. (2)アルカリ水溶液がアルカリ金属水酸化物水溶液で
    ある特許請求の範囲第(1)項の製造法。
  3. (3)有機溶媒がニトロベンゼンまたはオルトジクロロ
    ヘンゼンである特許請求の範囲第(1)項の製造法。
  4. (4)有機溶媒が二トロヘンゼンまたはオル1−ジクロ
    ロヘンゼンである特許請求の範囲第(2)項の製造法。
JP23528183A 1983-12-14 1983-12-14 光学活性エピクロルヒドリンの製造法 Granted JPS60126280A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006175580A (ja) * 2004-11-29 2006-07-06 Yamazaki Mazak Corp レーザ加工機におけるノズル研磨装置

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