JP2000239281A - 高分子固定化リチウムアミド化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 不斉合成などの有機合成反応において有用な
高分子固定化リチウムアミド化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１）〔式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は互
いに独立して水素原子、アルキル基、アリール基又はア
ラルキル基を表し、Ｒ₃ はアルキル基、アリール基又は
アラルキル基を表し、ｎは０〜１０の整数を表し、そし
てＰは高分子鎖を表す〕で表される高分子固定化リチウ
ムアミド化合物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、不斉合成などの有
機合成反応において有用な高分子固定化リチウムアミド
化合物、更に詳しくは、高分子固定化リチウムアミド化
合物、該化合物の製造方法、及び該化合物の有機反応に
おける用途に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】リチウ
ムアミド化合物は、求核性の小さな強塩基として、有機
合成における各種脱プロトン化反応に用いられている。
しかしながら、従来はリチウムアミド化合物を単分子と
して均一系中で、例えば好適な溶媒中で用いていたた
め、反応終了後、生成物とリチウムアミド化合物残渣と
の分離操作が必要であった。また一般に、前記リチウム
アミド化合物は使用後分解し水相として廃棄するため、
環境への負荷が大きくなり問題であった。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記従来技
術における問題点を解決すべく鋭意努力し、検討した結
果、リチウムアミドを適する高分子化合物に固定するこ
とが前記問題点の解決に有効であることを見い出し、本
発明を完成するに至った。本発明の第一の目的は、簡単
な濾過操作で生成物との分離、回収・再利用が可能であ
り、反応操作における効率を向上させると共に環境保全
にも寄与し得る高分子固定化リチウムアミド化合物、及
び該化合物の簡便な製造方法を提供することにある。本
発明の第二の目的は、本高分子固定化リチウムアミド化
合物の有機反応における種々の用途を提供することにあ
る。

【０００４】すなわち本発明は、一般式（１）：

【化３】 〔式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は互いに独立して水素原子、アル
キル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ₃ はア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、ｎは０
〜１０の整数を表し、そしてＰは高分子鎖を表す〕で表
されることを特徴とする高分子固定化リチウムアミド化
合物に関するものである。また本発明は、一般式
（２）：

【化４】 〔式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は互いに独立して水素原子、アル
キル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ₃ はア
ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、ｎは０
〜１０の整数を表し、そしてＰは高分子鎖を表す〕で表
される高分子固定化アミンをリチウム化剤と反応させる
ことを特徴とする本高分子固定化リチウムアミド化合物
の製造方法に関するものである。本発明は、本高分子固
定化リチウムアミド化合物を脱プロトン化反応に用いる
ことを特徴とする本高分子固定化リチウムアミド化合物
の使用方法にも関するものである。本発明は、メソ型エ
ポキシドを、触媒量のキラルなリチウムアミド化合物及
び過剰量の本高分子固定化リチウムアミド化合物と反応
させることを特徴とする光学活性アリルアルコール誘導
体の製造方法にも関するものである。更に本発明は、カ
ルボニル化合物を、本高分子固定化リチウムアミド化合
物と反応させてエノラートとし、次いでアルデヒド類と
反応させることを特徴とする相当するアルドールの製造
方法に関するものである。

【０００５】一般式（１），（２）において、Ｒ₁ 及び
Ｒ₂ としては具体的には、例えば、水素原子、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、
シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フ
ェニル基、ナフチル基、ベンジル基、ナフチルメチル基
等を挙げることができる。Ｒ₁ 及びＲ₂ は好ましくは、
水素原子、メチル基、イソプロピル基、フェニル基及び
ベンジル基である。一般式（１），（２）において、Ｒ
₃ としては具体的には、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル
基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、ナフチルメ
チル基、フェネチル基、ナフチルエチル基等を挙げるこ
とができる。Ｒ₃ は好ましくは、メチル基、イソプロピ
ル基、第三ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、
ナフチルメチル基、フェネチル基、ナフチルエチル基で
ある。

【０００６】

【発明の実施の形態】一般式（１）で表される高分子固
定化リチウムアミド化合物において、Ｒ₃ としては、前
記の如く、低分子リチウムアミドに用いられる第二級ア
ミンの置換基と同様のものが挙げられるが、光学活性の
高分子固定化リチウムアミド化合物とする場合は、Ｒ₃
は光学活性なフェネチル基及びナフチルエチル基が好ま
しい。本発明の化合物の製造及び本発明の方法の実施に
用いる試薬，溶媒，器具，設備，各種の操作等は、慣用
のもの及び手順を適宜選択して又は組み合わせて用いて
よい。実験条件は目的に応じて適宜選択する。また所望
により、本発明の化合物及び方法を他の化合物及び方法
と組み合わせて用いることもできる。

【０００７】＜本発明に至る経緯＞リチウムアミド化合
物、例えばリチウムジアルキルアミドは求核性の小さい
強塩基であり、これを用いる炭素陰イオンの生成、及び
生成した炭素陰イオンを用いる種々の合成反応に関する
研究は有機合成化学の分野において重要な研究課題であ
る。一方、架橋構造を有する高分子は 、溶媒に不溶で
あり、反応混合物及び溶媒から容易に分離することがで
きる。したがって、低分子試薬を架橋構造を有する高分
子に固定化することにより、反応後の前記試薬の定量的
回収、精製、再生利用が簡単になり、操作性が大幅に向
上し、環境への負荷も低減させることができると考えら
れる。そこで、従来均一系条件下で行われてきたリチウ
ムアミドを用いた種々の有機合成反応に対して高分子固
定化リチウムアミド試薬を適用することを目的とし、ア
ミンの高分子への固定化、高分子固定化アミンのリチウ
ムアミドへの変換、及び高分子固定化リチウムアミドの
反応性について検討を行った。

【０００８】高分子固定化リチウムアミドの前駆体とな
るアミンの高分子への固定化は、以下に述べる方法で行
った。

【化５】 すなわち、クロロメチルスチレンを用いて第一級アミン
をアルキル化し、第二級アミノ基を有するモノマーを合
成した。続いて、このモノマーとスチレン及びジビニル
ベンゼン（ＤＶＢ）との懸濁共重合を行い、第二級アミ
ノ基を有するビーズ状架橋高分子（架橋ポリマー）を合
成した。得られた高分子固定化アミン（架橋ポリマー）
に、室温で３０分間ブチルリチウムを作用させて高分子
固定化リチウムアミドを調製した。数種類のアミン（Ｒ
＝ｉ−Ｐｒ，ｃ−Ｃ₆ Ｈ₁₁，ｔ−Ｂｕ）について検討し
た。

【０００９】次に、得られた高分子固定化リチウムアミ
ドを用いて、下記反応式で表される如く、カルボニル基
のα位のプロトンの脱プロトン化反応について検討し
た。すなわち、前述の方法により高分子固定化リチウム
アミドを調製した後、過剰の塩化トリメチルシリルの存
在下−７８℃で４−第三ブチルシクロヘキサノンを加
え、更に−７８℃で８時間攪拌することにより、相当す
るシリルエノールエーテルを得た。この反応について種
々の検討を行った。比較例として１．２当量のリチウム
ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）を用いたときの収率は
７８％であり、ＬＤＡを用いたときの条件及び収率と比
較して高分子固定化リチウムアミド試薬の反応性（Ｒ＝
ｉ−Ｐｒの場合、収率７１％）はやや低くなることが判
った。

【化６】

【００１０】また、前記反応において１．２当量の高分
子固定化リチウムアミド（Ｒ＝ｃ−Ｃ₆ Ｈ₁₁）を用いた
ときの収率は３７％であるが、架橋剤を用いずに合成し
た可溶性の高分子固定化アミン試薬から調製される１．
２当量の可溶性高分子固定化リチウムアミド（Ｒ＝ｃ−
Ｃ₆ Ｈ₁₁）を用いたときの収率は５３％である。この結
果から、高分子の架橋構造の有無が高分子固定化リチウ
ムアミドの反応性に影響を与えることも判った。これら
の検討により、高分子に固定化したリチウムアミドは、
リチウムジイソプロピルアミドと比較して、ケトンのα
位のプロトンの脱プロトン化反応において、やや反応性
は低下するものの、相当するエノラートを生成させ得る
ことが明らかとなった。

【００１１】そこで次に、メソ型エポキシドのアリルア
ルコール誘導体への異性化反応として、シクロヘキセン
オキシドのシクロヘキセノールへの異性化反応を試み
た。高分子に固定化したリチウムアミドを用いて異性化
反応を試みたところ、前記と同様に、リチウムジイソプ
ロピルアミドを用いた場合の反応性よりもやや低い反応
性を示した。一方、我々の研究室では、触媒量のキラル
なリチウムアミドと過剰量のリチウムジイソプロピルア
ミドとを用いるシクロヘキセンオキシドのシクロヘキセ
ノールヘの触媒的不斉異性化反応の検討を行ってきた。
そこで、リチウムジイソプロピルアミドの代わりに高分
子固定化リチウムアミドを用い、前述の不斉異性化反応
を試みた。その結果、光学活性なリチウムアミドを反応
系内で再生する試薬としてリチウムジイソプロピルアミ
ドを用いる従来の方法と比較して、試薬として高分子固
定化リチウムアミドを用る方法は、下記反応式に示す如
く、添加剤を用いることなく高い収率（％）及び光学収
率（％ｅｅ）が保たれ、また反応後の処理も極めて簡便
になる等の利点を有することが判った。

【化７】

【００１２】また、先に述べたように、高分子固定化リ
チウムアミドを用いることにより、カルボニル化合物か
らエノラートが生成することが明らかとなったので、生
成したエノラートとアルデヒドとの反応によるβ−ヒド
ロキシカルボニル化合物の合成、すなわちアルドール反
応についても検討した。具体的には、高分子固定化リチ
ウムアミドを調製後、下記反応式に示す如く、テトラヒ
ドロフラン中−７８℃で２−ペンタノンを加えて対応す
るエノラートを生成させた後、ベンズアルデヒドを作用
させることにより、対応するアルドールを得た。反応条
件及び高分子固定化試薬の洗浄方法について検討を行っ
た。その結果、高分子固定化リチウムアミドを用いるこ
とにより収率７６％で目的物が得られた。

【化８】

【００１３】この結果から、高分子固定化リチウムアミ
ドを用いても、均一系条件下での反応（例えば１．１当
量のＬＤＡ使用，収率７７％）と同等の反応性が得られ
ることが判った。この手法は、種々のカルボニル化合物
を用いるアルドール反応に対しても適用可能であると考
えられる。

【００１４】高分子固定化リチウムアミド化合物は更
に、従来知られているリチウムアミド化合物、例えばリ
チウムジアルキルアミドを用いる広範な合成反応に適用
可能である。例えば、下記反応式に示す如く、エチルケ
トンやプロピオン酸誘導体とアルデヒドとのアルドール
反応、及びケトンのα位のアルキル化に応用することが
できる。

【化９】

【００１５】＜本発明の発展性＞現在までにアキラルな
リチウムアミドの高分子固定化を行い得ることが明らか
になった。また、キラルなリチウムアミドの高分子固定
化を行うことも可能であり、キラルなリチウムアミドを
高分子に固定化することにより、例えば、不斉合成に際
して不斉源の回収及び再利用が容易になるばかりでな
く、選択性の向上をもたらす“高分子効果”が発現され
る。前述の不斉合成の場合と同様の手法を用いて光学活
性な高分子固定化リチウムアミドを合成し、それを不斉
源とした種々のエナンチオ選択的反応を行ない得る。具
体的には、例えば高分子固定化したキラルなリチウムア
ミドを用いたエポキシドの不斉脱プロトン化反応及びケ
トンの不斉脱プロトン化反応を挙げることができる。

【化１０】

【化１１】

【００１６】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが、下記実施例は説明のためのみのものであり、
本発明はこれらに限定されるものではない。各実施例に
おいて製造した各種物質の物性測定には以下の機器を用
いた。 核磁気共鳴スペクトル：ＪＥＯＬ ＪＮＭ ＥＸ−２７
０ 赤外吸収スペクトル：ＰＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ ＰＡ
ＲＡＧＯＮ １０００ 旋光度計：ＨＯＲＩＢＡ ＳＥＰＡ−２００ 融点測定器：ＢＵＣＨＩ ５３５（融点は全て未補正で
ある）

【００１７】実施例１：アミンモノマーの合成 １）４−ビニルベンジルイソプロピルアミン 水浴で冷却したイソプロピルアミン（２．９５ｇ，５０
ｍｍｏｌ）にｐ−クロロメチルスチレン（３．８２ｇ，
２５ｍｍｏｌ）を加えた。０℃で３０分間攪拌した後、
室温で２４時間攪拌した。反応溶液にジクロロメタンを
加え、４規定水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機
相を飽和食塩水で洗浄し、無水炭酸ナトリウムで乾燥し
た。有機相を減圧濃縮後、酢酸エチル／ヘキサン（２：
３）混合溶媒を溶離液としてシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより精製し、淡黄色透明で油状の４−ビニルベン
ジルイソプロピルアミン（４．３８ｇ，収率７８％）を
得た。物性： ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３３０７，２９６６，１６３
０，１５１１，１４７０，１３８０，１３３８，１１７
５，９９０，９０６，８３０，７５７，７２１ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；７．３
７〜７２４（４Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ１
０．９及び１７．５），５．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ０．
９９及び１７．５），５．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ０．６
６及び１０．９），３．７５（２Ｈ，ｓ），２．８３
（１Ｈ，ｍ），１．３８（１Ｈ，ｓ），１．０８（６
Ｈ，ｄ，Ｊ６．２７）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；１４
１，１３７．１，１３６．６，１２９，１２８，１１
４，５１．７，４８．４，２３．３

【００１８】２）４−ビニルベンジル−シクロヘキシル
アミン 氷浴で冷却したシクロヘキシルアミン（９．４１ｇ，９
４．９ｍｍｏｌ）にｐ−クロロメチルスチレン（３．８
２ｇ，４７．４ｍｍｏｌ）を加えた。０℃で３０分間攪
拌した後、室温で４８時間攪拌した。反応溶液にジクロ
ロメタンを加え、４規定水酸化ナトリウム水溶液で洗浄
した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水炭酸ナトリウ
ムで乾燥した。有機相を減圧濃縮後、酢酸エチル／ヘキ
サン（１：４）混合溶媒を溶離液としてシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製し、淡黄色透明で油状の４−
ビニルベンジルシクロヘキシルアミン（５．９７ｇ，収
率６０％）を得た。物性： ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３３０８，２９２７，２８５
２，１６３０，１４５０，１１２３，９８９，９０４，
８２８，７１９ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；７．３
３〜７．１９（４Ｈ，ｍ），６．９５〜６．７０（１
Ｈ，ｍ），５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ１８．８），５．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ１０．９），３．７４（２Ｈ，ｓ），
２．４３（１Ｈ，ｍ），１．８９〜１．１０１（１１
Ｈ，ｍ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；１４
０．４，１３６．３，１３５．８，１２７．８，１２
５．８，１１２．８，５５．７，５０．３，３３．２，
２５．９，２４．６

【００１９】３）４−ビニルベンジル−第三ブチルアミ
ン 第三ブチルアミンロピルアミン（４．３９ｇ，６０ｍｍ
ｏｌ）にトリエチルアミン（６．０７ｇ，６０ｍｍｏ
ｌ）を加えた。水浴で冷却した後、ｐ−クロロメチルス
チレン（９．１５ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。０℃で
３０分間攪拌した後、室温で４８時間攪拌した。反応溶
液にジクロロメタンを加え、４規定水酸化ナトリウム水
溶液で洗浄した。有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機相を減圧濃縮後、酢酸エ
チル／ヘキサン（１：４）混合溶媒を溶離液としシリカ
ゲルクロマトグラフィーにより精製し、淡黄色透明で油
状の４−ビニルベンジル−第三ブチルアミン（５．０４
ｇ，収率４４％）を得た。物性： ¹ Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；７．３
７〜７．３０（４Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
０．９９及び１７．５），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ０．
６６），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ０．６６），３．０７
（２Ｈ，ｓ），１．１７（１０Ｈ，ｓ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；１４
１．１，１３６．６，１３６．１，１２８．４，１２
６．２，１１３．２，５０．６，４６．９，２９．１

【００２０】４）４−ビニルベンジル−（Ｒ）−（＋）
−１−フェニルエチルアミン 氷浴で冷却した（Ｒ）−（＋）−１−フェニルエチルア
ミン（２０２ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン
（３ｍｌ）溶液にｐ−クロロメチルスチレン（３４０ｍ
ｇ，２．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３ｍｌ）溶液
を加えた。更に、水浴で冷却しながらトリエチルアミン
（０．３ｍｌ）を加え、室温で７２時間攪拌した。反応
溶液に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機相を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
有機相を減圧濃縮後、酢酸エチル／ヘキサン（１：５）
混合溶媒を溶離液としシリカゲルクロマトグラフィーに
より精製し、透明の油状物質（１６７ｍｇ，収率３８
％）を得た。物性： ［α］²⁰ _D ５７．１（ＣＤＣｌ₃ 中約２．０） ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３３２６，３０２４，２９６
４，２９２４，２８３０，１６２９，１５１１，１４９
２，１４５１，１１２６，９９０，９０７，８４６，８
２８，７６３，７０１，５４２ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；７．３
７〜７．２１（９Ｈ，ｍ），６．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
６．６及び１７．５），５．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ１７．
８），３．８０（１Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｍ）
２．８３（１Ｈ，ｍ），１．６２（１Ｈ，ｓ），１．３
５（３Ｈ，ｍ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；１４
５．９，１４０．８，１３７．０，１３６．７，１２
８．９，１２８．７，１２７．４，１２７．１，１２
６．６，１１３．８，５７．８，５１．７，２４．９

【００２１】実施例２：高分子固定化アミンの合成架橋高分子固定化アミンの合成 １．４−高分子固定化ベンジルイソプロピルアミンの合
成

【化１２】 １）水相の調製 ポリアミンスルフォン酸（ＰＡＳ−Ａ，３．３３ｇ）と
ホウ酸（１．２４ｇ）と亜硝酸ナトリウム（０．０７
ｇ）をイオン交換水（１００ｍｌ）に溶かした。混合液
に水酸化ナトリウム水溶液（２５重量％）を滴下し、ｐ
Ｈ９．５にした。別の容器中で、４０℃でゼラチン
（０．５ｇ）をイオン交換水（１５ｍｌ）に溶かした。
ゼラチン溶液を前記のｐＨ９．５の混合液に加えた。 ２）有機相の調製 ４−ビニルベンジルイソプロピルアミン（５．０２ｇ，
２８ｍｍｏｌ）とスチレン（１１．４ｇ，１０９ｍｍｏ
ｌ）と５５重量％ジビニルベンゼン（ｍ及びｐ−混合
物，エチルビニルベンゼン及びジエチルベンゼン中約５
５重量％；６６２ｍｇ，２．８ｍｍｏｌ）を混合する。
このモノマー溶液にＡＩＢＮ（１４２ｇｍｇ）を加え、
均一になるまで攪拌した。 ３）懸濁共重合 上述の方法で調製した水相（８６ｍｌ）と有機相をリー
ビッヒ冷却管を備えた３口２００ｍｌ丸底フラスコに入
れた。窒素気流下で４０分間撹伴した。その後、７０℃
で２４時間攪拌（３１５ｒｐｍ）した。反応容器にイオ
ン交換水を加え、懸濁液の上澄みを捨てた後、グラスフ
ィルターを用いて懸濁液を濾去した。得られた粒状の樹
脂をイオン交換水（８０ｍ１，２０分ずつ，５回）中、
攪拌して洗浄した。続いて、アセトン（８０ｍｌ，２０
分ずつ，３回）中で洗浄し、テトラヒドロフラン（８０
ｍｌ，２０分ずつ，３回）中で洗浄し、ジクロロメタン
（８０ｍ１，２０分ずつ，３回）中で洗浄した。精製し
た高分子を真空乾燥（９０℃，２４時間）し、架橋率２
％の高分子固定化アミンを得た。その後、ふるい（１０
０〜３００メッシュ）で球状高分子（Ａ）を分取した
（１３．７ｇ，収率８０％）。物性： ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max ；３３１０，３０２６，２９２
３，２８１９，１９４２，１８６９，１６０２，１４９
４，１４５３，１３７８，７５８，６９８，５３９ｃｍ
^-1 元素分析結果（測定値，重量％）；Ｃ：８８．９０，
Ｈ：８．５８，Ｎ：２．８３

【００２２】２．４−高分子固定化ベンジルシクロヘキ
シルアミンの合成

【化１３】 １．の４−ビニルベンジルイソプロピルアミンの代わり
に４−ビニルベンジルシクロヘキシルアミンを用いて前
記と同様の方法で高分子に固定化し、球状の樹脂
〔（Ｂ），収率７５％〕を得た。物性： ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max ；３３１６，３０６０，３０２
６，２９２３，２８５１，１９４２，１８６９，１８０
０，１６０１，１４９３，１４５２，７５８，６９７，
５３９ｃｍ^-1 元素分析結果（測定値，重量％）；Ｃ：８９．２５，
Ｈ：８．２２，Ｎ：２．１６

【００２３】３．４−高分子固定化ビニルベンジル−第
三ブチルアミンの合成

【化１４】 １．の４−ビニルベンジルイソプロピルアミンの代わり
に４−ビニルベンジル−第三ブチルアミンを用いて前記
と同様の方法で高分子へ固定化し、球状の樹脂（Ｃ）を
得た。物性： ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max ；３４３５，３０８３，３０６
０，３０２７，２９２４，２８５１，１９４１，１８７
７，１８０４，１６０２，１４９３，１４５０，１３６
２，１２２８，１０２７，７５８，６９９，５４０ｃｍ
^-1

【００２４】４．４−高分子固定化ビニルベンジル−
（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンの合成

【化１５】 １．の４−ビニルベンジルイソプロピルアミンの代わり
に４−ビニルベンジル−（Ｒ）−１−フェニルエチルア
ミンを用いて前記と同様の方法で高分子へ固定化し、球
状の樹脂（Ｄ）を得た。物性： ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max ；３４３４，３０５９，３０２
６，２９２２，２８５０，１９４６，１８７９，１８０
７，１６０２，１４９２，１４４８，１３６７，１３０
７，１１１９，７５９，６９９，５４１ｃｍ^-1 元素分析結果（測定値，重量％）；Ｃ：８８．６２，
Ｈ：７．８１，Ｎ：２．５８

【００２５】実施例３：高分子固定化リチウムアミドの
調製条件検討 １）アルキル化反応を利用したリチウムアミドの調製条
件の検討 アルゴン雰囲気下、２口２０ｍｌ丸底フラスコに架橋高
分子固定化アミン（４−ビニルベンジルイソプロピルア
ミン２０ｍｍｏｌ％，ＤＶＢ２ｍｍｏｌ％を用いて共重
合した樹脂，６３６ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）を入れ、
２時間９０℃で真空乾燥した。反応容器を常温にした
後、ＴＨＦ（７ｍｌ）を加え、１時間攪拌して樹脂を膨
潤させた。室温でブチルリチウムのヘキサン溶液（１．
５３Ｎ，０．６５ｍｌ，１ｍｍｏｌ）を系内に滴下し
た。３０分攪拌した後、−７８℃でベンズアルデヒド
（１０６ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）溶液を
滴下し、常温で終夜攪拌した。飽和塩化アンモニウム水
溶液を加え、反応を停止した。１Ｎの塩酸を更に加えた
後、グラスフィルターで樹脂を濾別した。樹脂を更にエ
ーテルで洗浄した後、水相をエーテルで抽出した。有機
相を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残査
を分取薄層クロマトグラフィー〔ヘキサン／エーテル
（１：１）〕で精製し、ベンズアルデヒド（５２．２ｍ
ｇ，収率４９％）とベンジルアルコール（３４．５ｍ
ｇ，収率３２％）を得た。ベンズアルデヒドがアルキル
化された生成物１−フェニルペンタノールは確認されな
かった。

【００２６】２）発色試薬を用いたブチルリチウム消費
の確認 アルゴン雰囲気下、２口２０ｍｌ丸底フラスコに架橋高
分子固定化アミン（４−ビニルベンジルイソプロピルア
ミン２０ｍｍｏｌ％，ＤＶＢ２ｍｏｌ％を用いて共重合
した樹脂，３１８ｍｇ，０．５２５ｍｍｏｌ）を入れ、
２時間９０℃で真空乾燥した。反応容器を常温にした
後、ＴＨＦ（３．５ｍｌ）を加え、１時間攪拌して樹脂
を膨潤させた。室温でブチルリチウムのヘキサン溶液
（１．５３Ｎ，０．３３ｍｌ，０．５ｍｍｏｌ）を系内
に滴下した。３０分攪拌した後、系内からＴＨＦ溶液
（２ｍｌ）を採取し、１，１０−フェナントロリン（＜
１ｍｇ）のエーテル溶液（１ｍｌ）に滴下したところ、
エーテル溶液の色は変化しなかった。

【００２７】実施例４：高分子固定化リチウムアミドを
用いるケトンのシリルエノールエーテル化反応 １）４−第三ブチルシクロヘキサノンのシリルエノール
エーテル化 アルゴン雰囲気下、２口２０ｍｌ丸底フラスコに架橋高
分子固定化アミン（４−ビニルベンジルイソプロピルア
ミン２０ｍｏｌ％，ＤＶＢ２ｍｏｌ％を用いて共重合し
た樹脂，７５７ｍｇ，１．２５ｍｍｏｌ）を入れ、２時
間９０℃で真空乾燥した。反応容器を常温にした後、Ｔ
ＨＦ（７ｍｌ）を加え、１時間攪拌して樹脂を膨潤させ
た。室温でブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５３
Ｎ，０．７８ｍｌ，１２ｍｍｏｌ）を反応溶液に滴下し
た。３０分攪拌した後、−７８℃で塩化トリメチルシリ
ル（０．６４ｍｌ，５ｍｍｏｌ）を滴下した。−７８℃
で４−第三ブチルシクロヘキサノン（１５４ｍｇ，１ｍ
ｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）溶液を滴下し、８時間攪拌
した。−７８℃でトリエチルアミン（２ｍｌ）を滴下
し、更に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）を加
えた。反応容器が常温になってから、水（１０ｍｌ）を
加え、グラスフィルターを用いて、樹脂を濾別した。水
相をヘキサン（２５ｍｌ×３）で抽出し、有機相を水
（１０ｍｌ×２）で洗浄し、０．１規定クエン酸水溶液
（５０ｍｌ×２．２５ｍｌ×３）で洗浄した。更に、有
機相を水（１０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（１０ｍｌ）及び飽和食塩水（１０ｍｌ）で洗浄した。
有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン）により精製した。更に、クーゲルロール蒸留（２
ｍｍＨｇ，１１０℃）を行い、無色透明で油状の４−第
三ブチル−１−トリメチルシリルオキシシクロヘキサ−
１−エン（１１２ｍｇ，収率４９％）を得た。物性： ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３０４０，２９６０，２８７
０，１６７５ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；４．８
４（１Ｈ，ｍ），２．２５〜１．９５（３Ｈ，ｍ），
１．８８〜１．７３（２Ｈ，ｍ），１．１２〜１．３４
（２Ｈ，ｍ），０．８７（９Ｈ，ｓ），０．１８（９
Ｈ，ｓ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；１５
０．４，１０４．１，４４．１，３２．２，３１．１，
２７．５，２５．２，２４．５，０．４４

【００２８】下記表１に示す如く、種々の高分子固定化
アミンを用い且つ条件を変えて、前記と同様の方法で４
−第三ブチル−１−トリメチルシキルオキシシクロヘキ
サ−１−エンを得た。収率を表１に示す。

【表１】

【００２９】２）不斉シリルエノールエーテル化 アルゴン雰囲気下、２口２０ｍｌ丸底フラスコに架橋高
分子固定化アミン〔４−ビニルベンジル（Ｒ）−（＋）
−１−フェニルエチルアミン２０ｍｍｏｌ％，ＤＶＢ２
ｍｏｌ％を用いて共重合した樹脂，１．６８ｇ，２．５
２ｍｍｏｌ〕を入れ、２時間９０℃で真空乾燥した。反
応容器を常温にした後、ＴＨＦ（１２ｍｌ）を加え、１
時間攪拌して樹脂を膨潤させた。室温でブチルリチウム
のヘキサン溶液（１．６１Ｎ，１．５０ｍ１，２４ｍｍ
ｏｌ）を反応溶液に滴下した。３０分攪拌した後、−７
８℃で塩化トリメチルシリル（０．６４ｍｌ，５ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。そして、４−第三ブチルシクロヘキサ
ノン（１５４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）溶
液を滴下した。８時間攪拌した後、−７８℃でトリエチ
ルアミン（２ｍｌ）を滴下し、更に飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液（５ｍｌ）加えた。反応容器が常温になって
から、水（１０ｍｌ）を加え、グラスフィルターを用い
て樹脂を濾別した。水相をヘキサン（２５ｍｌ×３）で
抽出し、有機相を水（１０ｍｌ×２）で洗浄し、０．１
規定クエン酸水溶液（５０ｍｌ×２，２５ｍｌ×３）で
洗浄した。更に、有機相を水（１０ｍｌ）、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍ
ｌ）で洗浄した。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ヘキサン）により精製した。更に、クー
ゲルロール蒸留（５ｍｍＨｇ，１７０℃）を行い、無色
透明で油状の４−第三ブチル−１−トリメチルシキルオ
キシシクロヘキサ−１−エン（１７４ｍｇ，収率７７
％，光学収率３５％ｅｅ）を得た。物性： ［α］²¹ _D ２７．８（ＣＨＣｌ₃ 中約１．０） ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３０４０，２９６０，２８７
０，１６７５ｃｍ^{-1 1}Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤ
Ｃｌ₃ ）δ；４．８４（１Ｈ，ｍ），２．２５〜１．９
５（３Ｈ，ｍ），１．８８〜１．７３（２Ｈ，ｍ），
１．１２〜１．３４（２Ｈ，ｍ），０．８７（９Ｈ，
ｓ），０．１８（９Ｈ，ｓ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；１５
０．４，１０４．１，４４．１，３２．２，３１．１，
２７．５，２５．２，２４．５，０．４４

【００３０】実施例５：高分子固定化リチウムアミドと
キラルなリチウムアミドを用いる触媒的不斉異性化反応シクロヘキセンオキシドの不斉異性化 アルゴン雰囲気下、２口２０ｍｌ丸底フラスコに架橋高
分子固定化アミン（４−ビニルベンジルシクロヘキシル
アミン２０ｍｏｌ％，ＤＶＢ２ｍｏｌ％を用いて共重合
した樹脂，１．３９ｇ，２．２５ｍｍｏｌ）を入れ、２
時間９０℃で真空乾燥した。反応容器を常温にした後、
（Ｓ）−２−（ピロリジン−１−イルメチル）ピロリジ
ン（１１６ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２ｍ
ｌ）溶液を加え、１時間攪拌して樹脂を膨潤させた。室
温でブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６１Ｎ，１．
８６ｍｌ，２．０ｍｍｏｌ）を反応溶液に滴下した。室
温で３０分攪拌した後、シクロヘキセンオキシド（９
８．１ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４５ｍｌ）溶液を
滴下して常温で１日攪拌した。エーテル（５ｍｌ）及び
飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍｌ）を加えて反応を
停止した。高分子試薬を濾去し、エーテル（２５ｍｌ×
３）で水相を抽出し、有機相を１Ｎ塩酸で洗浄し、次い
で飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウ
ムで洗浄後、常圧濃縮（約１５ｍｌまで）した。その
後、ピリジン（０．６ｍｌ）と触媒量のジメチルアミノ
ピリジンのジクロロメタン（７５ｍｌ）溶液を加え、塩
化ベンゾイル（０．４５ｍｌ）を滴下し、室温で終夜攪
拌した。反応終了後、氷浴中でＮ，Ｎ−ジメチル−１，
３−プロパンジアミン（０．７５ｍｌ）を滴下し、３０
分間攪拌した。室温で水を加えてエーテルで抽出した。
有機相を１Ｎ塩酸及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。減圧濃縮し、残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー〔ヘキサン／エーテル（３０：
１）〕で精製し、更にクーゲルロール蒸留（０．８ｍｍ
Ｈｇ，１２０℃）を行い、透明で油状の安息香酸（Ｓ）
−２−シクロヘキセン−１−イル（２６９ｍｇ，収率８
０％）を得た。エナンチオ過剰率（７４％ｅｅ）はキラ
ルカラムを用いたＨＰＬＣで測定した。 物性： ＨＰＬＰ Waters Optipac TA ヘキサン／エーテル
（１０００／１），保持時間（Ｒ）１６．９：（Ｓ）１
８．４ ［α］²⁰ _D −１６５（ＣＨＣｌ₃ 中約１．０） ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３０３４，２９４２，２８６
８，１７１５，１６０２，１４５２，１３１４，１２７
２，１１１３，１０７０，１０２６，９１８，７１１ｃ
ｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；８．３
〜７．６（２Ｈ，ｍ），７．６〜６．９（３Ｈ，ｍ），
６．１〜５．６（２Ｈ，ｍ），５．６〜５．１（１Ｈ，
ｍ），２．５〜１．３（６Ｈ，ｍ）

【００３１】下記表２に示す如く、種々の高分子固定化
アミンを用い且つ条件を変えて、前記と同様の方法で安
息香酸（Ｓ）−２−シクロヘキセン−１−イルを得た。
収率を表２に示す。

【表２】

【００３２】前記反応において、（Ｓ）−２−（ピロリ
ジン−１−イルメチル）ピロリジンの代わりに（２Ｓ，
３ａＳ，７ａＳ）−２−（ピロリジン−１−イルメチ
ル）オクタヒドロインドールを用いること以外は同様に
して、安息香酸（Ｓ）−２−シクロヘキセン−１−イル
を得た。収率を表３に示す。

【表３】

【００３３】実施例６：高分子固定化リチウムアミドを
用いたアルドール反応２−ペンタノンと各種アルデヒドの反応 アルゴン雰囲気下、２口２０ｍｌ丸底フラスコに架橋高
分子固定化アミン（４−ビニルベンジルシクロヘキシル
アミン２０ｍｏｌ％，ＤＶＢ２ｍｏｌ％を用いて共重合
した樹脂，５００ｍｇ，０．８４ｍｍｏｌ）を入れ、２
時間９０℃で真空乾燥した。反応容器を常温にした後、
ＴＨＦ（４ｍｌ）を加え、１時間攪拌して樹脂を膨潤さ
せた。室温でブチルリチウムのヘキサン溶液（１．５４
Ｎ，０．５２ｍｌ，０．８０ｍｍｏｌ）を反応溶液に滴
下した。３０分攪拌した後、−７８℃で２−ペンタノン
（５７．４ｍｇ，０．６７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍ
ｌ）溶液を滴下し、１５分後にベンズアルデヒド（８
４．９ｍｇ，０．８０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶
液を滴下し、−７８℃で９０分間攪拌した。ｐＨ７の緩
衝溶液を加えて反応を終了させた。樹脂を濾去し、樹脂
をジクロロメタン（２０ｍｌ×３，３回）で浸して濾液
を取る操作により、樹脂を洗浄した。濾液の水相をジク
ロロメタンで抽出し、有機相を飽和食塩水で洗浄した。
有機相を無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、減圧濃縮
した。残査を分取薄層クロマトグラフィー〔ヘキサン／
エーテル（１：１）〕で精製し、無色の油状物質（９
７．８ｍｇ，収率７６％）を得た。物性： ¹ Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；７．３
（５Ｈ，ｓ），５．１（１Ｈ，ｄｄ），２．６（１Ｈ，
ｍ），２．２（２Ｈ，ｑ），１．８〜０．９（５Ｈ，
ｍ）

【００３４】前記の方法で、２−ペンタノンとブチルア
ルデヒドを反応させ、粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル）で精製し、無色
透明で油状のアルドール（収率６１％）を得た。物性： ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３４６０，２９６１，２９３
４，２８７５，１７０７，１４６５，１４０８，１３７
８，１１２７，１０１９ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；４．０
６（１Ｈ，ｍ），３．１８（１Ｈ，ｓ），２．５７〜
２．３９（４Ｈ，ｍ），１．６８〜１．３１（６Ｈ，
ｍ），０．９９〜０．９１（６Ｈ，ｍ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；２１
２．３，６７．２，４８．９，４５．４，３８．５，１
８．５，１６．９，１３．９，１３．５

【００３５】上記の方法で、２−ペンタノンとピバルア
ルデヒドを反応させ、粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／エーテル）で精製し、無色
透明で油状のアルドール（収率６４％）を得た。物性： ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３４９８，２９６２，２８７
４，１７０８，１３６６，１３０３，１０８８，１００
８，９１８ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；３．７
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ９．９），３．１４（１Ｈ，ｓ），
２．６１〜２．４６（４Ｈ，ｍ），１．６６（２Ｈ，
ｍ），０．９９〜０．９３（１２Ｈ，ｍ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；２１
２．７，４５．５，４４．０，３４．１，２５．８，２
５．５，１６．９，１３．５

【００３６】上記の方法で、２−ペンタノンとシクロヘ
キサンカルボキシアルデヒドと反応させ、粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー〔ヘキサン／エーテ
ル（９：１）〕で精製し、白色結晶（収率６３％）を得
た。物性： ｍｐ；３９．２〜４０．４℃ ＩＲ（ＫＢｒ）ν_max ；３３６４，３２８８，２９３
４，２８９４，２８５４，１７０５，１４４７，１４０
５，１３７７，１１２７，１０３３，９９４，８９２，
８８３，５６６ｃｍ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；３．７
２（１Ｈ，ｔ），３．１６（１Ｈ，ｓ），２．５５〜
２．３０（４Ｈ，ｍ），１．７９〜０．７４（１６Ｈ，
ｍ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；２１
２．３，７１．５，４６．０，４５．７，４３．１，２
９．０，２８．４，２６．２，２６．０

【００３７】前記の方法で、２−ペンタノンと３−フェ
ニルプロピオアルデヒドを反応させ、粗生成物を分取薄
層シリカゲルクロマトグラフィー〔ヘキサン／エーテル
（２：１）〕で精製し、無色透明で油状のアルドール
（収率５７％）を得た。物性： ＩＲ（ｎｅａｔ）ν_max ；３４６２，２９６１，２９３
３，１７０６，１４９６，１４５５，１４０８，１３７
８，１１２８，１０９８，７４９，７０１ｃｍ ^{-1 1} Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；７．２
９〜７．１２（５Ｈ，ｍ），４．０４（１Ｈ，ｍ），
２．５３（２Ｈ，ｍ），２．３６（２Ｈ，ｔ，Ｊ７．
３），１．８７〜１．５１（４Ｈ，ｍ），０．８９（３
Ｈ，ｔ，Ｊ７．５）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ；ＣＤＣｌ₃ ）δ；２１
２．３，７１．５，４６．０，４５．７，４３．１，２
９．０，２８．４，２６．２，２６．０

【００３８】

【発明の効果】本発明の高分子固定化リチウムアミド化
合物は、反応に使用した場合に簡単な濾過操作で生成物
との分離や回収、及びその再利用が可能であり、反応操
作における効率を向上させると共に、従来のように分解
した水相での廃棄がないため、環境保全にも寄与し得
る。また、本発明の高分子固定化リチウムアミド化合物
は簡便に製造することができ、且つ不斉合成などの種々
の有機合成反応において有用であり、本発明の化合物を
用いることにより、従来の単分子のリチウムアミドを用
いる場合とは異なる立体効果による反応活性や立体選択
性を発現させることができる。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１１年２月２２日（１９９９．２．２
２）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３１】下記表２に示す如く、種々の高分子固定化
アミンを用い且つ条件を変えて、前記と同様の方法で安
息香酸（Ｓ）−２−シクロヘキセン−１−イルを得た。
収率を表２に示す。

【表２】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３２】前記反応において、（Ｓ）−２−（ピロリ
ジン−１−イルメチル）ピロリジンの代わりに（２Ｓ，
３ａＳ，７ａＳ）−２−（ピロリジン−１−イルメチ
ル）オクタヒドロインドールを用いること以外は同様に
して、安息香酸（Ｓ）−２−シクロヘキセン−１−イル
を得た。収率を表３に示す。

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H048 AA01 AA02 AA03 AB40 AC90 VA30 VA50 VB10 4J100 AB02P AB07Q AB16R BA30Q CA05 CA23 HC83

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 〔式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は互いに独立して水素原子、アル
   キル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ₃ はア
   ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、ｎは０
   〜１０の整数を表し、そしてＰは高分子鎖を表す〕で表
   されることを特徴とする高分子固定化リチウムアミド化
   合物。
2. 【請求項２】 前記Ｒ₃ が光学活性なフェネチル基、ナ
   フチルエチル基を表す請求項１記載の高分子固定化リチ
   ウムアミド化合物。
3. 【請求項３】 一般式（２）： 【化２】 〔式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は互いに独立して水素原子、アル
   キル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ₃ はア
   ルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、ｎは０
   〜１０の整数を表し、そしてＰは高分子鎖を表す〕で表
   される高分子固定化アミンをリチウム化剤と反応させる
   ことを特徴とする請求項１記載の高分子固定化リチウム
   アミド化合物の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１記載の高分子固定化リチウムア
   ミド化合物を脱プロトン化反応に用いることを特徴とす
   る請求項１記載の高分子固定化リチウムアミド化合物の
   使用方法。
5. 【請求項５】 メソ型エポキシドを、触媒量のキラルな
   リチウムアミド化合物及び過剰量の請求項１記載の高分
   子固定化リチウムアミド化合物と反応させることを特徴
   とする光学活性アリルアルコール誘導体の製造方法。
6. 【請求項６】 カルボニル化合物を、請求項１記載の高
   分子固定化リチウムアミド化合物と反応させてエノラー
   トとし、次いでアルデヒド類と反応させることを特徴と
   する相当するアルドールの製造方法。