JPS60120837A - エチレングリコ−ルのカルボン酸エステルの製法 - Google Patents
エチレングリコ−ルのカルボン酸エステルの製法Info
- Publication number
- JPS60120837A JPS60120837A JP59224312A JP22431284A JPS60120837A JP S60120837 A JPS60120837 A JP S60120837A JP 59224312 A JP59224312 A JP 59224312A JP 22431284 A JP22431284 A JP 22431284A JP S60120837 A JPS60120837 A JP S60120837A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glycolaldehyde
- ethylene glycol
- hydrogenation
- catalyst
- ruthenium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 145
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical class [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 title 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N Glycolaldehyde Chemical compound OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 133
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 47
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 32
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 21
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 claims description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000012327 Ruthenium complex Substances 0.000 claims description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 48
- -1 valeroyl Chemical group 0.000 description 37
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 34
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 26
- 238000007037 hydroformylation reaction Methods 0.000 description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 14
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 11
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical class C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 7
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical class C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 238000009905 homogeneous catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- DHCWLIOIJZJFJE-UHFFFAOYSA-L dichlororuthenium Chemical compound Cl[Ru]Cl DHCWLIOIJZJFJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N veratrole Chemical class COC1=CC=CC=C1OC ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 229940040526 anhydrous sodium acetate Drugs 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 3
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000009904 heterogeneous catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- UQDUPQYQJKYHQI-UHFFFAOYSA-N methyl laurate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC UQDUPQYQJKYHQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003511 tertiary amides Chemical class 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Chemical class C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWQPOVKKUWUEKE-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzotriazine Chemical compound N1=NN=CC2=CC=CC=C21 OWQPOVKKUWUEKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAGUSKAXELYWCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolan-2-ylmethanol Chemical compound OCC1OCCO1 ZAGUSKAXELYWCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical class C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJFNRSDCSTVPCJ-UHFFFAOYSA-N 1,8-bis(dimethylamino)naphthalene Chemical compound C1=CC(N(C)C)=C2C(N(C)C)=CC=CC2=C1 GJFNRSDCSTVPCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004207 3-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000001674 Agaricus brunnescens Nutrition 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001412 Chicle Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000007516 Chrysanthemum Nutrition 0.000 description 1
- 244000189548 Chrysanthemum x morifolium Species 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000001794 Manilkara zapota Species 0.000 description 1
- 235000011339 Manilkara zapota Nutrition 0.000 description 1
- XFTIKWYXFSNCQF-UHFFFAOYSA-N N,N-dipropylformamide Chemical compound CCCN(C=O)CCC XFTIKWYXFSNCQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N Tetrazine Chemical compound C1=CN=NN=N1 DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000021 acetate salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Chemical class 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003927 aminopyridines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 description 1
- 150000001462 antimony Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical group [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 235000012730 carminic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- DSENSIXXNVNXJQ-UHFFFAOYSA-L dichlororuthenium;tris(4-methylphenyl)phosphane Chemical compound Cl[Ru]Cl.C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 DSENSIXXNVNXJQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WIWBLJMBLGWSIN-UHFFFAOYSA-L dichlorotris(triphenylphosphine)ruthenium(ii) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ru+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WIWBLJMBLGWSIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940120503 dihydroxyacetone Drugs 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- QRNDDJXJUHBGSG-UHFFFAOYSA-N methoxyethyne Chemical compound COC#C QRNDDJXJUHBGSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- IMNDHOCGZLYMRO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylbenzamide Chemical compound CN(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 IMNDHOCGZLYMRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylethylamine Chemical compound CCN(C)C DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCNUQRBLZWSGAV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenylformamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C=O)C1=CC=CC=C1 DCNUQRBLZWSGAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPHQUIPUBYPZLD-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylaniline Chemical compound CCN(C)C1=CC=CC=C1 PPHQUIPUBYPZLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N phenylphosphine Chemical compound PC1=CC=CC=C1 RPGWZZNNEUHDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004885 piperazines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- BIXNGBXQRRXPLM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);trichloride;hydrate Chemical compound O.Cl[Ru](Cl)Cl BIXNGBXQRRXPLM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VIHDTGHDWPVSMM-UHFFFAOYSA-N ruthenium;triphenylphosphane Chemical compound [Ru].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VIHDTGHDWPVSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- VRLDDYIKZCBFEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)phosphanium Chemical compound CO[P+](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 VRLDDYIKZCBFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXAZIUYTQHYBFW-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)phosphane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 WXAZIUYTQHYBFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
- B01J31/18—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms
- B01J31/1895—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms the ligands containing arsenic or antimony
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
- B01J31/20—Carbonyls
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
- B01J31/24—Phosphines, i.e. phosphorus bonded to only carbon atoms, or to both carbon and hydrogen atoms, including e.g. sp2-hybridised phosphorus compounds such as phosphabenzene, phosphole or anionic phospholide ligands
- B01J31/2404—Cyclic ligands, including e.g. non-condensed polycyclic ligands, the phosphine-P atom being a ring member or a substituent on the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
- C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
- C07C29/14—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of a —CHO group
- C07C29/141—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH of a —CHO group with hydrogen or hydrogen-containing gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/08—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2231/00—Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
- B01J2231/60—Reduction reactions, e.g. hydrogenation
- B01J2231/64—Reductions in general of organic substrates, e.g. hydride reductions or hydrogenations
- B01J2231/641—Hydrogenation of organic substrates, i.e. H2 or H-transfer hydrogenations, e.g. Fischer-Tropsch processes
- B01J2231/643—Hydrogenation of organic substrates, i.e. H2 or H-transfer hydrogenations, e.g. Fischer-Tropsch processes of R2C=O or R2C=NR (R= C, H)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
- B01J2531/80—Complexes comprising metals of Group VIII as the central metal
- B01J2531/82—Metals of the platinum group
- B01J2531/821—Ruthenium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエチレングリコールのカルデン酸エステルの製
造、さらに詳細にいえば均質触媒系中のグリコールアル
デヒドの水素添加に関する。
造、さらに詳細にいえば均質触媒系中のグリコールアル
デヒドの水素添加に関する。
エチレングリコールは工業的重要性が認められている薬
品であって不凍液組成物の製造および繊維その他の用途
の製品の製造に広く使用される。
品であって不凍液組成物の製造および繊維その他の用途
の製品の製造に広く使用される。
工業的に興味があるエチレングリコールの製造法は一般
に原料として酸化エチレンに基いていた。
に原料として酸化エチレンに基いていた。
触媒の存在下オレフィン、カルデン酸および酸素の液相
反応によって中間化合物としてエポキシドを製造する必
要なくエチレングリコールのカルIン酸エステル全製造
し、次のエステルの加水分解によってエチレングーリコ
ールを製造することを可能にした別の方法も開発されて
いる。
反応によって中間化合物としてエポキシドを製造する必
要なくエチレングリコールのカルIン酸エステル全製造
し、次のエステルの加水分解によってエチレングーリコ
ールを製造することを可能にした別の方法も開発されて
いる。
エチレングリコールはまた一酸化炭素と水素との接触反
応によっても製造されている。たとえばアメリカ特許第
4,170,605号明細書はある種のルテニウム触媒
およびピリジン塩基配位子を使用して一酸化炭素および
水素全反応させる方法に関する。しかしながらこの方法
は高圧を要する。
応によっても製造されている。たとえばアメリカ特許第
4,170,605号明細書はある種のルテニウム触媒
およびピリジン塩基配位子を使用して一酸化炭素および
水素全反応させる方法に関する。しかしながらこの方法
は高圧を要する。
その他の方法にはイリジウム錯体の触媒を使用するアメ
リカ特許第4.170,606号明細書に記載の方法お
よびロジウムカルデニルホスフイドのクラスター化合物
(C1uster Oompound ) f使用する
公開イギリス特許出願第2016006A号に記載の方
法がある。
リカ特許第4.170,606号明細書に記載の方法お
よびロジウムカルデニルホスフイドのクラスター化合物
(C1uster Oompound ) f使用する
公開イギリス特許出願第2016006A号に記載の方
法がある。
エチレングリコールはまたある種の触媒系の存在下水素
および一酸化炭素をホルムアルデヒドと反応させるヒド
ロホルミル化法によっても製造することもできるが工業
化されていない。このような方法はたとえばコノ々ルト
カルボニルおよびロジウムよりなる触媒を使用するアメ
リカ特許第4,079.085号明細書、ロジウム化合
物よシなる触媒を使用する同第4.144,401号明
細書およびNi、 Oo、 Mn、 Pe、Or、 O
u、P tlMo、 Pd、 Zn、。
および一酸化炭素をホルムアルデヒドと反応させるヒド
ロホルミル化法によっても製造することもできるが工業
化されていない。このような方法はたとえばコノ々ルト
カルボニルおよびロジウムよりなる触媒を使用するアメ
リカ特許第4,079.085号明細書、ロジウム化合
物よシなる触媒を使用する同第4.144,401号明
細書およびNi、 Oo、 Mn、 Pe、Or、 O
u、P tlMo、 Pd、 Zn、。
OdまたはRu、特に00化合物を触媒とする同第2.
451.333号明細書に記載の方法である。しかしな
がらこれらのヒドロホルミル化法はエチレングリコール
の収率が低いことおよび目的化合物への選択率が低いと
いう欠点がある。
451.333号明細書に記載の方法である。しかしな
がらこれらのヒドロホルミル化法はエチレングリコール
の収率が低いことおよび目的化合物への選択率が低いと
いう欠点がある。
このような欠点を避けるためにヨーロッノe特許出願第
2,908号明細書(1979年)およびドイツ特許第
2.741,589号明細書(1978年)はある種の
水素添加反応の存在下でグリコールアルデヒド會水素添
加してエチレングリコールヲ製造しようとした。グリコ
ールアルデヒドはある種のロジウム触媒を使用してホル
ムアルデヒド會ヒドロホルミル化することによって製造
される。ヨーロッパ特許出願第2.908号明細書はラ
ニーニッケル、パラジウムまたは白金の不均質系触媒を
使用して水溶液中でグリコールアルデヒドを水素添加す
ることを記載している。ドイツ特許第2.741.58
9号明細書はグリコールアルデヒドを水素添加してエチ
レングリコールを製造するのにロジウム触媒の使用を意
図しているが、同特許明細書は水素添加反応でパラジウ
ムまたはニッケル触媒を使用することによってエチレン
グリコールの収率が増大することを記載している。
2,908号明細書(1979年)およびドイツ特許第
2.741,589号明細書(1978年)はある種の
水素添加反応の存在下でグリコールアルデヒド會水素添
加してエチレングリコールヲ製造しようとした。グリコ
ールアルデヒドはある種のロジウム触媒を使用してホル
ムアルデヒド會ヒドロホルミル化することによって製造
される。ヨーロッパ特許出願第2.908号明細書はラ
ニーニッケル、パラジウムまたは白金の不均質系触媒を
使用して水溶液中でグリコールアルデヒドを水素添加す
ることを記載している。ドイツ特許第2.741.58
9号明細書はグリコールアルデヒドを水素添加してエチ
レングリコールを製造するのにロジウム触媒の使用を意
図しているが、同特許明細書は水素添加反応でパラジウ
ムまたはニッケル触媒を使用することによってエチレン
グリコールの収率が増大することを記載している。
一般に水素協加の場合に水素添加法はその製造中の触媒
が存在する物理的な相によって2つのカテf IJ−の
ひとつに大別される。第一のタイプでは触媒は本質的に
反応媒に不溶であって不均質水素添加法と呼ばれる。こ
れに対して均質水素添加法は触媒が反応媒に実質的に完
全に可溶である方法である。均質水素添加は不均質水素
添加に必要なよりも温和な製造条件を典型的に使用する
ことができて工業的に望ましい。
が存在する物理的な相によって2つのカテf IJ−の
ひとつに大別される。第一のタイプでは触媒は本質的に
反応媒に不溶であって不均質水素添加法と呼ばれる。こ
れに対して均質水素添加法は触媒が反応媒に実質的に完
全に可溶である方法である。均質水素添加は不均質水素
添加に必要なよりも温和な製造条件を典型的に使用する
ことができて工業的に望ましい。
原料としてケトンを使用する均質水素添加の従来法はた
とえばある種の糖類の水素添加にルテニウムトリフェニ
ルホスフィン錯体および強酸を使用するアメリカ特許第
3,935,284号明細書および記載のケトンたとえ
ば1.3−ジヒドロキシアセトンを水素添加してグリセ
ロールとするときにルテニウムトリフェニルホスフィン
錯体および強酸を使用するアメリカ特許第4.024.
193号明細書に記載の方法である。ケトンを均質水素
添加してアルコールとする方法の文献にはa、tt。
とえばある種の糖類の水素添加にルテニウムトリフェニ
ルホスフィン錯体および強酸を使用するアメリカ特許第
3,935,284号明細書および記載のケトンたとえ
ば1.3−ジヒドロキシアセトンを水素添加してグリセ
ロールとするときにルテニウムトリフェニルホスフィン
錯体および強酸を使用するアメリカ特許第4.024.
193号明細書に記載の方法である。ケトンを均質水素
添加してアルコールとする方法の文献にはa、tt。
5chrock等の雑文(Obem、Oomm、、 5
67〜568ページ、1979年)、W、Strohm
e%er等の雑文(J 、 Organomet、 O
hem、、 171巻、121〜129ページ、197
0年)、P、Frediani等の雑文(J、Orga
nomet 、 Obem me 150巻、273〜
278ページ、1978年) 、 T、Tasumi等
の雑文(860hem 、 Abs +1170 、4
880゜1977年)およびM、 Gargano等の
雑文(J。
67〜568ページ、1979年)、W、Strohm
e%er等の雑文(J 、 Organomet、 O
hem、、 171巻、121〜129ページ、197
0年)、P、Frediani等の雑文(J、Orga
nomet 、 Obem me 150巻、273〜
278ページ、1978年) 、 T、Tasumi等
の雑文(860hem 、 Abs +1170 、4
880゜1977年)およびM、 Gargano等の
雑文(J。
Organomet a Ohem 、 、 129巻
、239〜242ページ、1977年)が例示される。
、239〜242ページ、1977年)が例示される。
スルホン化トリフェニルホスフィン配位子會含有するル
テニウム錯体は水溶液中である種のカルゼン酸中のオキ
ソ基およびオレフィン基を均質水素添加するための触媒
であると報告されている(F、Joo、 el al、
、25 Inorg、Ohemica*Acta。
テニウム錯体は水溶液中である種のカルゼン酸中のオキ
ソ基およびオレフィン基を均質水素添加するための触媒
であると報告されている(F、Joo、 el al、
、25 Inorg、Ohemica*Acta。
L61−L62.1977年)。研究された錯体はHR
u (0100H3) (Dpm )およびHRuO/
(Dpm)(式中Dpm はスルホン化トリフェニルホ
スフィン基である)であった。
u (0100H3) (Dpm )およびHRuO/
(Dpm)(式中Dpm はスルホン化トリフェニルホ
スフィン基である)であった。
アルデヒドの均質水素添加用の種々の触媒たとえば種々
のルテニウム化合物および錯体特にトリオルガノホスフ
ィン配位子および錯体に結合している1種類以上のヒド
リド、ハライド、カルゼニル、ファネート、チオンアネ
ートまたはシアニド基を含むルテニウムの錯体が提案さ
れている。アルデヒドの水素添加に使用される従来技術
に開示されているルテニウム錯体にはたとえばアメリカ
特許第3.454.644号明細書に記載されている式
L n Ru Xzで示される錯体(式中りはトリフェ
ニルホスフィン配位子であシ、nは3〜4の整数であり
、Xはハロゲンまたは水素である。)、アメリカ特許第
3,857,900号明細書に記載の式LnRu X
yで示される錯体(式中りはこの場合でもトリフェニル
ホスフィンであり、nおよびyはルテニウム原子の原子
価の状態に関連する整数であり。
のルテニウム化合物および錯体特にトリオルガノホスフ
ィン配位子および錯体に結合している1種類以上のヒド
リド、ハライド、カルゼニル、ファネート、チオンアネ
ートまたはシアニド基を含むルテニウムの錯体が提案さ
れている。アルデヒドの水素添加に使用される従来技術
に開示されているルテニウム錯体にはたとえばアメリカ
特許第3.454.644号明細書に記載されている式
L n Ru Xzで示される錯体(式中りはトリフェ
ニルホスフィン配位子であシ、nは3〜4の整数であり
、Xはハロゲンまたは水素である。)、アメリカ特許第
3,857,900号明細書に記載の式LnRu X
yで示される錯体(式中りはこの場合でもトリフェニル
ホスフィンであり、nおよびyはルテニウム原子の原子
価の状態に関連する整数であり。
Xはハロゲンまたは擬ハロゲンすなわちシアニド、7ア
ネートまたはチオ7アネートである)、九ん8anch
ez−Delgado等の雑文(J、 Mo1.0at
−6巻、303〜305ページ、1979年)に記載の
RuHc/(00)(Pφ3)3、R,ul−1c/(
Pφs )s 、 FLuc12(Pφ3)3およびR
u (00)s (Pφ3)茸およびW。
ネートまたはチオ7アネートである)、九ん8anch
ez−Delgado等の雑文(J、 Mo1.0at
−6巻、303〜305ページ、1979年)に記載の
RuHc/(00)(Pφ3)3、R,ul−1c/(
Pφs )s 、 FLuc12(Pφ3)3およびR
u (00)s (Pφ3)茸およびW。
8trobmeHer等の雑文(J * Organo
me t 、 Obem。
me t 、 Obem。
145巻、189〜194ページ、1978年)に記載
のRu 014 (00)t (Pφs)1よシなる触
媒がある。
のRu 014 (00)t (Pφs)1よシなる触
媒がある。
そのほかのルテニウム錯体も開発され、種々のアルケン
類およびアルキン類の水素添加に有用な触媒であること
が判明している。〔たとえばP。
類およびアルキン類の水素添加に有用な触媒であること
が判明している。〔たとえばP。
、L、 Legzding等、J、Obem # So
c、 (A)、3322(1970)、D、Rome等
、J 、 Obem。
c、 (A)、3322(1970)、D、Rome等
、J 、 Obem。
Soc、(A)2610(1969)おJ:びA、 0
゜8kapski等、J、Ohem、 DaI!ton
390(1974)等参照。〕 本発明の方法によればグリコールアルデヒドはこれを(
:)式(I) で示されるルテニウム錯体(式中Xは0〜2の整数であ
シ、yは2または3であυ、M)iPまたはAsであJ
、Rはアリールであシ、Xlは水素、ハロゲンまには擬
ハロゲン(paeudoha l ide )であり、
Xzはハロゲンまたは擬ハロゲンである。ただしくx)
” + (y)”は8〜10の整数である〕および(I
I)式(II) で示されるルテニウム錯体〔式中MおよびRは前述の意
味をもち、Xa、Xa およびXi は同一またはこと
なシそれぞれがハロゲンまたは擬ハロゲンであり、rは
2または3であり、Sは0または1であシ、Lは有機単
座配位子(organic monode−ntate
ligand)である。ただしSがOの場合rは3で
なければならない〕からなる群から選ばれる少なくとも
1種よシなる有効量の触媒の存在下およびグリコールア
ルデヒドより強塩基である塩基性化合物よりなる群から
選ばれる少なくとも1種の助触媒の存在下で水素と液相
反応させることによって水素添加されて高収率および優
秀な選択率でエチレングリコールとL%該エチレングリ
コールで別の反応帯でカルゼン酸と反応させてエチレン
ゲリコールの対応するカルIン敵エステル金形成する。
゜8kapski等、J、Ohem、 DaI!ton
390(1974)等参照。〕 本発明の方法によればグリコールアルデヒドはこれを(
:)式(I) で示されるルテニウム錯体(式中Xは0〜2の整数であ
シ、yは2または3であυ、M)iPまたはAsであJ
、Rはアリールであシ、Xlは水素、ハロゲンまには擬
ハロゲン(paeudoha l ide )であり、
Xzはハロゲンまたは擬ハロゲンである。ただしくx)
” + (y)”は8〜10の整数である〕および(I
I)式(II) で示されるルテニウム錯体〔式中MおよびRは前述の意
味をもち、Xa、Xa およびXi は同一またはこと
なシそれぞれがハロゲンまたは擬ハロゲンであり、rは
2または3であり、Sは0または1であシ、Lは有機単
座配位子(organic monode−ntate
ligand)である。ただしSがOの場合rは3で
なければならない〕からなる群から選ばれる少なくとも
1種よシなる有効量の触媒の存在下およびグリコールア
ルデヒドより強塩基である塩基性化合物よりなる群から
選ばれる少なくとも1種の助触媒の存在下で水素と液相
反応させることによって水素添加されて高収率および優
秀な選択率でエチレングリコールとL%該エチレングリ
コールで別の反応帯でカルゼン酸と反応させてエチレン
ゲリコールの対応するカルIン敵エステル金形成する。
意外にも本発明の助触媒はこのような塩基性助触媒を使
用しないで従来技術のルテニウム触媒全使用するときに
起るような多量のアセタール副生成物の形成全件なうこ
となく高転化率でグリコールアルデヒド全エチレングリ
コールに変換できることが判明した。グリコールアルデ
ヒドと生成すルエチレングリコール、ヒドロキシル基含
有溶媒およびグリコールアルデヒド間の反応によって生
成するこれらのアセタール系の副生成物は水素添加工程
へ循環使用しても容易にエチレングリコールへ変換する
ことができずさらに処理を必要とするのできわめて望ま
しくない。従って本発明の方法は従来技術の水素添加工
程をかなり改良する。
用しないで従来技術のルテニウム触媒全使用するときに
起るような多量のアセタール副生成物の形成全件なうこ
となく高転化率でグリコールアルデヒド全エチレングリ
コールに変換できることが判明した。グリコールアルデ
ヒドと生成すルエチレングリコール、ヒドロキシル基含
有溶媒およびグリコールアルデヒド間の反応によって生
成するこれらのアセタール系の副生成物は水素添加工程
へ循環使用しても容易にエチレングリコールへ変換する
ことができずさらに処理を必要とするのできわめて望ま
しくない。従って本発明の方法は従来技術の水素添加工
程をかなり改良する。
本発明の方法で使用されるルテニウム触媒は式()
で示される錯体〔式中Xは0〜2の整数であり、yは2
または3であり、MはPま之はAaであり、XIは水素
、ハロゲンまたは擬)〜ロゲンであり、X2はハロゲン
または擬ハロゲンであり、aはアリールである。ただし
くx)”(y)2は8〜10の整数である〕または式(
I[) X5/\1゜ で示される錯体(式中MおよびBlは前述の意味會もち
、X3.X4およびXSは同一ま定はことなり、それぞ
れが)−ロゲンまたは擬ハロゲンであり、rは2または
3であp、Sは0まπは1であり、Lは有機単座配位子
である。ただしSがOのとき「は3でなければならなy
s )よりなる。
または3であり、MはPま之はAaであり、XIは水素
、ハロゲンまたは擬)〜ロゲンであり、X2はハロゲン
または擬ハロゲンであり、aはアリールである。ただし
くx)”(y)2は8〜10の整数である〕または式(
I[) X5/\1゜ で示される錯体(式中MおよびBlは前述の意味會もち
、X3.X4およびXSは同一ま定はことなり、それぞ
れが)−ロゲンまたは擬ハロゲンであり、rは2または
3であp、Sは0まπは1であり、Lは有機単座配位子
である。ただしSがOのとき「は3でなければならなy
s )よりなる。
式(I)のXIおよびX2は同一またはことなるが、x
lおよびxiの一方だけが水素となることがテキル。置
換基Xi 、X2 、 X” 、 X4およびXSに好
適なハロゲン原子はたとえばO1!、Br、FおよびI
−であシ、特に0/−が好ましく1゜擬ノ・ロゲンは配
位化合物等全作るときハロゲンに類似の性質をもつこと
が知られている一群の物質であって等が含まれる。
lおよびxiの一方だけが水素となることがテキル。置
換基Xi 、X2 、 X” 、 X4およびXSに好
適なハロゲン原子はたとえばO1!、Br、FおよびI
−であシ、特に0/−が好ましく1゜擬ノ・ロゲンは配
位化合物等全作るときハロゲンに類似の性質をもつこと
が知られている一群の物質であって等が含まれる。
R基は置換または非置換の単#1!!には多環アリール
タトえばフェニル、ナフチル等よりなる。好適な置換基
にはハロゲン(01,Br、I、F)、1〜10炭素原
子のアルキル(たとえばメチル、エチル、ヘキクル、デ
シル等)、1〜8炭素原子のブルコキシ(たとえばメト
キシ、エトキン、プロ?キク等)、1〜10炭素原子の
デシル(たとえばアセチル、バレロイル、ベンゾイル等
)、ンアノ、2〜14炭素原子の第三アミド(たとえば
N、N−ジメチル−カルバミド、N、N−ジ−n−ブチ
ル−カルツマミド、N、N−ジフェニルカルバミド等)
、2〜10炭素原子のカルブキシアルキル(たとえばカ
ルゼキシメチル、カルボキクブチル。
タトえばフェニル、ナフチル等よりなる。好適な置換基
にはハロゲン(01,Br、I、F)、1〜10炭素原
子のアルキル(たとえばメチル、エチル、ヘキクル、デ
シル等)、1〜8炭素原子のブルコキシ(たとえばメト
キシ、エトキン、プロ?キク等)、1〜10炭素原子の
デシル(たとえばアセチル、バレロイル、ベンゾイル等
)、ンアノ、2〜14炭素原子の第三アミド(たとえば
N、N−ジメチル−カルバミド、N、N−ジ−n−ブチ
ル−カルツマミド、N、N−ジフェニルカルバミド等)
、2〜10炭素原子のカルブキシアルキル(たとえばカ
ルゼキシメチル、カルボキクブチル。
カルゼキクヘプチル等)、ヒドロキシル、3〜8炭素原
子のシクロアルキル(たとえばシクロプロピル、ゾクロ
ヘキZル、シクロオクチル等)がある。このような置換
R基はたとえばトリル、2−ニチルフエニル、3−メト
キシフェニル、2.4−ジクロロフェニル、2.4−ジ
ヒドロキクフェニル、P−シクロヘキクルフェニル、3
−クロロ−3−ナフチル、キクリル等である。
子のシクロアルキル(たとえばシクロプロピル、ゾクロ
ヘキZル、シクロオクチル等)がある。このような置換
R基はたとえばトリル、2−ニチルフエニル、3−メト
キシフェニル、2.4−ジクロロフェニル、2.4−ジ
ヒドロキクフェニル、P−シクロヘキクルフェニル、3
−クロロ−3−ナフチル、キクリル等である。
前述のようにx = 2のときyは2でなければならず
またy=3のときXは0または1にしかでき従ってこれ
らXおよびyの自利の和は前述の式CI)の触媒に対し
て8,9または10である。
またy=3のときXは0または1にしかでき従ってこれ
らXおよびyの自利の和は前述の式CI)の触媒に対し
て8,9または10である。
前述の式(If)のルテニウム触媒中の好適なL配位子
は少なくとも1原子の窒素および(または)少なくとも
1原子の酸素をこれらの原子がルテニウムと配位結合を
形成することができる少なくとも1対の電子対含金むよ
うに含有する有機化合物である。このような有Js&L
配位子はたとえばジアミン、クリコール酸、アルコキ7
置換酢酸、テトラヒドロフラン、1.2−ジメト午りベ
ンゼン、アルキルエーテルまたはアルキレングリコール
、アルカノールアミン、アミノジ酢酸、ニトリロトリ酢
酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、アルカノールおよび
ケトンである。好ましいL配位子は1〜6炭素原子のア
ルカノールたとえばメタノール。
は少なくとも1原子の窒素および(または)少なくとも
1原子の酸素をこれらの原子がルテニウムと配位結合を
形成することができる少なくとも1対の電子対含金むよ
うに含有する有機化合物である。このような有Js&L
配位子はたとえばジアミン、クリコール酸、アルコキ7
置換酢酸、テトラヒドロフラン、1.2−ジメト午りベ
ンゼン、アルキルエーテルまたはアルキレングリコール
、アルカノールアミン、アミノジ酢酸、ニトリロトリ酢
酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、アルカノールおよび
ケトンである。好ましいL配位子は1〜6炭素原子のア
ルカノールたとえばメタノール。
エタノールおよびn−ブチルアルコールおよび3〜9炭
素原子のケトンたとえばアセト/、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等である。
素原子のケトンたとえばアセト/、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等である。
本発明の方法で水素添加反応帯に供給されるノ・ロゲン
化ルテニウム触媒はたとえば RuH(OIり(Pφ3)3 Ru Olt(Pφ3)3 Br2Ru(Pφ3)3 (φsP)* Ru(00)雪01 0/RuLP−+<◎0tHs)s)sRu OI!3
(A @−(P−)リル)sh ・0HsOHRuH
(OI!l(P 40N)s)sH(Br )Ru[P
−(P−)リル)3〕3RuBrl (P +Q 0H
)s)sRuOI!1(Asφ、)1.0H1l(”!
OHs1 H(0/ ) Ru L P 40* Hs )s )
、1゜12Ru(Pφ3)3 HRuO/(00)(Pφ3)3 等である。
化ルテニウム触媒はたとえば RuH(OIり(Pφ3)3 Ru Olt(Pφ3)3 Br2Ru(Pφ3)3 (φsP)* Ru(00)雪01 0/RuLP−+<◎0tHs)s)sRu OI!3
(A @−(P−)リル)sh ・0HsOHRuH
(OI!l(P 40N)s)sH(Br )Ru[P
−(P−)リル)3〕3RuBrl (P +Q 0H
)s)sRuOI!1(Asφ、)1.0H1l(”!
OHs1 H(0/ ) Ru L P 40* Hs )s )
、1゜12Ru(Pφ3)3 HRuO/(00)(Pφ3)3 等である。
本発明の好ましい触媒はX2が塩素であり、Xlが水素
または塩素であシ、Rがフェニルまたは7〜16炭素原
子のアルキル置換フェニルでアリ。
または塩素であシ、Rがフェニルまたは7〜16炭素原
子のアルキル置換フェニルでアリ。
MがPである式CI)の錯体およびXl 、 X4およ
びXsがそれぞれ塩素であシ1MがPまたはA1であり
、Rがフェニルまたは7〜16炭素原子のアルキル置換
フェニルであり、Lが1〜6炭素原子のアルカノールま
には3〜10炭素原子のケトンである式(II)の錯体
である。好ましい触媒はたとえばHOI!nu(Pφs
h、OI!1Ru(Pφ3)、、0/’。
びXsがそれぞれ塩素であシ1MがPまたはA1であり
、Rがフェニルまたは7〜16炭素原子のアルキル置換
フェニルであり、Lが1〜6炭素原子のアルカノールま
には3〜10炭素原子のケトンである式(II)の錯体
である。好ましい触媒はたとえばHOI!nu(Pφs
h、OI!1Ru(Pφ3)、、0/’。
Ru[P”(P−トリル)s、O1!5Ru(P−(2
,4−ジエチルフェニル) 3)、 0)1. OOH
,OH,等である。
,4−ジエチルフェニル) 3)、 0)1. OOH
,OH,等である。
1
最適の触媒はX2が塩素であj>、Xlが水素または塩
素であり1MR3がトリフェニルホスフィンである式(
I)の錯体である。
素であり1MR3がトリフェニルホスフィンである式(
I)の錯体である。
前述のルテニウム触媒は既知の方法たとえばT。
A、5tephensonの方法(J、 Inorg、
Nuc/earOhem、 28巻、2285ペ一ジ1
966年)およびアメリカ特許第3.454.644号
明細書に記載の方法によって調製することができる。
Nuc/earOhem、 28巻、2285ペ一ジ1
966年)およびアメリカ特許第3.454.644号
明細書に記載の方法によって調製することができる。
本発明を限定するつもりはないが、本発明の方法に供給
されるノ・ロゲ/化ルテニウム触媒は水素添加反応中に
水素およびグリコールアルデヒドと一連の反応を受けて
少なくともl原子の水素および(または)少なくとも1
分子のグリコールアルデヒドが1個以上の配位子によっ
て空位にされに位置でルテニウム触媒に結合されたノー
ロゲン化ルテニウムの錯体の中m1生成物會形成すると
思われる。しかしながらこのようなノーロゲン化ルテニ
ウムの中間生成物の精確な形は知られておらず、ま−に
本発明全十分に理解しあるいは使用する上に必要ではな
い。
されるノ・ロゲ/化ルテニウム触媒は水素添加反応中に
水素およびグリコールアルデヒドと一連の反応を受けて
少なくともl原子の水素および(または)少なくとも1
分子のグリコールアルデヒドが1個以上の配位子によっ
て空位にされに位置でルテニウム触媒に結合されたノー
ロゲン化ルテニウムの錯体の中m1生成物會形成すると
思われる。しかしながらこのようなノーロゲン化ルテニ
ウムの中間生成物の精確な形は知られておらず、ま−に
本発明全十分に理解しあるいは使用する上に必要ではな
い。
本発明を実施するとき助触媒として使用できる塩基性化
合物はグリコール、アルデヒドよ9強塩基である。すな
わち塩基性助触媒の特徴はその塩。
合物はグリコール、アルデヒドよ9強塩基である。すな
わち塩基性助触媒の特徴はその塩。
基結°合常数(base association c
onstant Kb)が25℃で測定したときグリコ
ールアルデヒドの塩基結合常数より大きいこと、すなわ
ち助触媒のpKb がグリコールアルデヒドのpKhよ
り小さいことである。本明細書で使用されるKbという
用語は平衡反応 ′+ 841(−一→B、−)1” に関連して によって定義される。式中Bは塩基であシ、B・Hはそ
の塩基の共役酸であり、(B、H)、(8)および(I
l(りはそれぞれB、H”、BおよびH+のモルII
!で表わした濃度である。pKb という用語は pKb=−10g Kb によって足置される。
onstant Kb)が25℃で測定したときグリコ
ールアルデヒドの塩基結合常数より大きいこと、すなわ
ち助触媒のpKb がグリコールアルデヒドのpKhよ
り小さいことである。本明細書で使用されるKbという
用語は平衡反応 ′+ 841(−一→B、−)1” に関連して によって定義される。式中Bは塩基であシ、B・Hはそ
の塩基の共役酸であり、(B、H)、(8)および(I
l(りはそれぞれB、H”、BおよびH+のモルII
!で表わした濃度である。pKb という用語は pKb=−10g Kb によって足置される。
従って好適な塩基性助触媒には3〜20炭素原子の複数
環式第三アミン、第三窒素原子だけ全含有する多環式芳
香族アミン、弐al (FL” )Nk’L”で示され
る第三アミン、式ル18(0)FL”で示されるスルホ
キシド、ILl (0)S(0)R”で示されるスルy
hン、 R’ 00(0)NI’L” (R” )テ示
すFL6 カルバメート B+(ル’3NO(0)NR
” (R’)で示される尿素およびZO(0)NR”
(R” )で示されるアミド(式中7. it水素ま7
:ハl’L”t’アリ、R1、Ba 、 R1卦工びF
L4は同一またはことなり1〜20炭素原子のアルキル
たとえばメチル、エチル、インプロピル、2−エチルヘ
キシル、チクル、ドブクル等。
環式第三アミン、第三窒素原子だけ全含有する多環式芳
香族アミン、弐al (FL” )Nk’L”で示され
る第三アミン、式ル18(0)FL”で示されるスルホ
キシド、ILl (0)S(0)R”で示されるスルy
hン、 R’ 00(0)NI’L” (R” )テ示
すFL6 カルバメート B+(ル’3NO(0)NR
” (R’)で示される尿素およびZO(0)NR”
(R” )で示されるアミド(式中7. it水素ま7
:ハl’L”t’アリ、R1、Ba 、 R1卦工びF
L4は同一またはことなり1〜20炭素原子のアルキル
たとえばメチル、エチル、インプロピル、2−エチルヘ
キシル、チクル、ドブクル等。
6〜14炭素原子のアリールたとえばフェニル、ナフチ
ル等、7〜20炭素原子のアルカリールまたはアルアル
キルたとえばトリル、キクリル、エチルフェニル、ベン
ジン、エチルベンジル等、3〜12炭素原子の7クロア
ルキルたとえばシクロプロピル、シクロヘキシル、シク
ロオクチル等がある。B1.ル3、FLMおよびFL4
は式(I)および(II)のルテニウム触媒のアリール
基Rに対して前述のごとく適していると述べたハロゲン
、アルコキク、第三アミド、アシル、シアノ、カルホキ
ゾルアルキル、ヒドロキシル、アルキルおよびシクロア
ルキルのような置換基で置換することができる。
ル等、7〜20炭素原子のアルカリールまたはアルアル
キルたとえばトリル、キクリル、エチルフェニル、ベン
ジン、エチルベンジル等、3〜12炭素原子の7クロア
ルキルたとえばシクロプロピル、シクロヘキシル、シク
ロオクチル等がある。B1.ル3、FLMおよびFL4
は式(I)および(II)のルテニウム触媒のアリール
基Rに対して前述のごとく適していると述べたハロゲン
、アルコキク、第三アミド、アシル、シアノ、カルホキ
ゾルアルキル、ヒドロキシル、アルキルおよびシクロア
ルキルのような置換基で置換することができる。
また周期表の第工A族または第1[A族の金属(すなわ
ちLl 、 Na、 K、FLh、 Os、 Be、
Mg、 Oa。
ちLl 、 Na、 K、FLh、 Os、 Be、
Mg、 Oa。
8rおよびBa)の水酸化物、酸化物、炭酸塩1重炭酸
塩およびカルぎン酸塩、第四アンモニウム塩、第四ホス
ホニウム塩および第四アルソニウム塩も本発明の方法で
助触媒として適当である。
塩およびカルぎン酸塩、第四アンモニウム塩、第四ホス
ホニウム塩および第四アルソニウム塩も本発明の方法で
助触媒として適当である。
カルボキシアルキルは飽和脂肪酸または芳香族カルゼン
酸から篩導することができる。適当な脂肪族飽和カルヂ
ン酸には1〜20炭素原子、好ましくは1〜lO炭素原
子、さらに好ましくは1〜4炭素原子會有する酸がある
。前述のカルゼキシルアニオンヲ綽導することができる
芳香族カルゼン酸には7〜14炭素原子會有する単環式
または多環式芳香族酸がある。前述の脂肪族飽和カルボ
ンばおよび芳香族カルゼン酸は直鎖状でも分校鎖状でも
よくまた非置換でもtt換されて(1てもよい。適当な
置換基には)・ロゲン、アルコキシ、第三アミド、アシ
ル、シアノ、カルボキシアルキル、ヒドロキシル、アル
キルおよびシクロアルキルがあり、式CI)およびCI
)のルテニウム触媒のアリール基ルに適する置換基とし
て述べられて(・る基である。
酸から篩導することができる。適当な脂肪族飽和カルヂ
ン酸には1〜20炭素原子、好ましくは1〜lO炭素原
子、さらに好ましくは1〜4炭素原子會有する酸がある
。前述のカルゼキシルアニオンヲ綽導することができる
芳香族カルゼン酸には7〜14炭素原子會有する単環式
または多環式芳香族酸がある。前述の脂肪族飽和カルボ
ンばおよび芳香族カルゼン酸は直鎖状でも分校鎖状でも
よくまた非置換でもtt換されて(1てもよい。適当な
置換基には)・ロゲン、アルコキシ、第三アミド、アシ
ル、シアノ、カルボキシアルキル、ヒドロキシル、アル
キルおよびシクロアルキルがあり、式CI)およびCI
)のルテニウム触媒のアリール基ルに適する置換基とし
て述べられて(・る基である。
肩磯助触媒にはたとえばトリメチルアミン、トjJ−n
−プロピルアミン、エチル−ジメチルアミン、ジメチル
−5ee−ブチルアミン、N−メチル−N−エチルアニ
リン、N、N−ジメチルアセタミド、N、N−ジメチル
アセタミド、N、N−ジ−n−プロピルホルムアミド、
N、N−ジメチル−N)、Nl−ジエチル尿素、1−メ
チ71zピロリジー2−ノン、1−ベンジルピロIJ
シー 2−ノン、N。
−プロピルアミン、エチル−ジメチルアミン、ジメチル
−5ee−ブチルアミン、N−メチル−N−エチルアニ
リン、N、N−ジメチルアセタミド、N、N−ジメチル
アセタミド、N、N−ジ−n−プロピルホルムアミド、
N、N−ジメチル−N)、Nl−ジエチル尿素、1−メ
チ71zピロリジー2−ノン、1−ベンジルピロIJ
シー 2−ノン、N。
N−ジメチルプロピオンアミド、1.5−ジメチルピロ
!Jジー2−ノン、ジメチルスルホキシド、ジエチルス
ルホキシド、シペンシ!レスルホキシド、−)−n−ブ
チルスルホン、シメチIレス!レホン、N。
!Jジー2−ノン、ジメチルスルホキシド、ジエチルス
ルホキシド、シペンシ!レスルホキシド、−)−n−ブ
チルスルホン、シメチIレス!レホン、N。
N−ジフェニル−メチルカルバメート、N、N−ジメチ
ル−N’、Nl−ジフェニル尿素、トリーローオクチル
アミン、1.8−ジアザビシクロ−2I。
ル−N’、Nl−ジフェニル尿素、トリーローオクチル
アミン、1.8−ジアザビシクロ−2I。
2.2−オクタン、N、N−ジメチルベンズアミド、N
、N−ジフェニルホルムアミド、テトラメチレンスルホ
ン、テトラメチル尿素、l、a−−)メチル−2−イミ
ダゾリジノン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザ
ビシクロ(4,a、03ノネン−5,1,5−ジアザビ
シクロ(5,4゜0〕ウンデセン−5、ピリジン、ビリ
ダシ/、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、テトラジ
ン、オキサジン、インドレニン、インジアゼン、1゜3
−ベンズイソジアゾール、キノリン、イソキノリ/、ク
ンノリン、ナフタリジン、フタラジン。
、N−ジフェニルホルムアミド、テトラメチレンスルホ
ン、テトラメチル尿素、l、a−−)メチル−2−イミ
ダゾリジノン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザ
ビシクロ(4,a、03ノネン−5,1,5−ジアザビ
シクロ(5,4゜0〕ウンデセン−5、ピリジン、ビリ
ダシ/、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、テトラジ
ン、オキサジン、インドレニン、インジアゼン、1゜3
−ベンズイソジアゾール、キノリン、イソキノリ/、ク
ンノリン、ナフタリジン、フタラジン。
ベンゾトリアジン、フェナジン、イソピロール、2−イ
ソイミダゾール、1,2.3−イントリアゾール等があ
る。
ソイミダゾール、1,2.3−イントリアゾール等があ
る。
適当な無機および有機塩系の助触媒にはたとえばMgO
,BaO1N a 20、K2O,Ba (OHh 、
Mg (OH)雪、NaOH,LI 0H18r(OH
)1,0a003 。
,BaO1N a 20、K2O,Ba (OHh 、
Mg (OH)雪、NaOH,LI 0H18r(OH
)1,0a003 。
B a 003 、ab2003 、 N a2003
、 O51001、Na HOOI 。
、 O51001、Na HOOI 。
Mg(HOOs)鵞、 KH’003アルカリ金属およ
びアルカリ土類金属のカルボン酸塩たとえばNa、 M
g、 K。
びアルカリ土類金属のカルボン酸塩たとえばNa、 M
g、 K。
Oa、 Os、8 rおよびBaの酢酸塩、酪散塩プロ
ピオン酸塩、ギ醒塩、ヘキサン敵塩、安息香酸塩および
トルイル酸塩、2−エトキ7−イソ酪酸ナトリウム、2
−メチルペンタン酸カリウム、ナフテン酸マグネシウム
等、酢酸テトラエチルアンモニウム、酪酸テトラ−n−
ブチルホスホニウム、炭酸テトラメチル゛rルソニウム
、重炭酸テトラプロピルアンモニウム等がある。
ピオン酸塩、ギ醒塩、ヘキサン敵塩、安息香酸塩および
トルイル酸塩、2−エトキ7−イソ酪酸ナトリウム、2
−メチルペンタン酸カリウム、ナフテン酸マグネシウム
等、酢酸テトラエチルアンモニウム、酪酸テトラ−n−
ブチルホスホニウム、炭酸テトラメチル゛rルソニウム
、重炭酸テトラプロピルアンモニウム等がある。
好ましい塩基助触媒には3〜12炭素原子のトリアルキ
ルアミン、18〜3o炭素原子のトリアリールアミン、
全体で3〜13炭素鹿子のN、N−ジアルキルアミド、
全体で14〜31炭素原子のN、N−ジアリールアミド
および金属カルボン酸塩がある。本発明で使用するのに
好ましい金属カルボン酸塩は1〜4炭素原子を有するモ
ノアルカン酸の第1A族および第1IA族の金属塩であ
る。
ルアミン、18〜3o炭素原子のトリアリールアミン、
全体で3〜13炭素鹿子のN、N−ジアルキルアミド、
全体で14〜31炭素原子のN、N−ジアリールアミド
および金属カルボン酸塩がある。本発明で使用するのに
好ましい金属カルボン酸塩は1〜4炭素原子を有するモ
ノアルカン酸の第1A族および第1IA族の金属塩であ
る。
さらに好ましい金属カルボン酸塩は1〜4炭素原子のモ
ノカルゼキシアルヵン酸のナトリウム、マグネシウム、
カリウムおよびカルシウム塩よシなる群から選ばれる。
ノカルゼキシアルヵン酸のナトリウム、マグネシウム、
カリウムおよびカルシウム塩よシなる群から選ばれる。
前述の金属の酢酸塩が特に好ましい。
グリコールアルデヒドおよび選ばれたルテニウム触媒お
よび塩基性助触媒のほかに液体反応媒はグリコールアル
デヒドおよびルテニウム触媒に対する溶媒を含有するこ
とがある。使用に適する溶媒は選ばれた特定の触媒系に
よって大幅に変ゎり有機溶媒はアルコールたとえば低級
アルカリール(たとえばメタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、フロパノール等)、クリコール(
たとえばエチレングリコール、ジェチL/ 7 f I
Jコールおよびプ寵ピレングリコール)、芳香族系溶媒
(たとえばベンゼン、トルエン、キクレン等)、芳香族
および脂肪族ニトリル(たとえばアセトニトリル、プロ
ピオニトリル、ベンゾニトリル等)′、アミド(たとえ
ばN、N−ジメチルホルムアミド。
よび塩基性助触媒のほかに液体反応媒はグリコールアル
デヒドおよびルテニウム触媒に対する溶媒を含有するこ
とがある。使用に適する溶媒は選ばれた特定の触媒系に
よって大幅に変ゎり有機溶媒はアルコールたとえば低級
アルカリール(たとえばメタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、フロパノール等)、クリコール(
たとえばエチレングリコール、ジェチL/ 7 f I
Jコールおよびプ寵ピレングリコール)、芳香族系溶媒
(たとえばベンゼン、トルエン、キクレン等)、芳香族
および脂肪族ニトリル(たとえばアセトニトリル、プロ
ピオニトリル、ベンゾニトリル等)′、アミド(たとえ
ばN、N−ジメチルホルムアミド。
N、N−ジメチルアセタミド、N−メチルピロリジノン
等)、ケトン(たとえばアセトン、フクロヘキサノン、
アセトフェノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチ
ルケトン等)、エステル(たとえば酢酸エチル、ラウリ
ン酸メチル、安息香酸メチル等)、エーテル(ジエチル
エーテル、THF、ジグリム、トリグリム勢)およびそ
れらの混合物である。好ましい溶媒は低級アルカノール
、低級アルキレングリコール、5炭素原子以下合有する
ケトン、6炭素原子以下を有するエステルおよび少なく
とも4炭素原子を有するエーテルである。好ましい溶媒
はたとえばメタノール、エタノール、イソプロピルアル
コール、フロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘ
キサノール、エチレングリコール、フロピレンゲリコー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ジグ
リムおよびトリグリムである。前述の説明かられかるよ
うに塩基性助触媒が反応条件で液体であれば反応期間中
に溶媒としての作用をする。特定の有機溶媒は好ましく
はその50重量%以下の量の水を含有することができる
。
等)、ケトン(たとえばアセトン、フクロヘキサノン、
アセトフェノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチ
ルケトン等)、エステル(たとえば酢酸エチル、ラウリ
ン酸メチル、安息香酸メチル等)、エーテル(ジエチル
エーテル、THF、ジグリム、トリグリム勢)およびそ
れらの混合物である。好ましい溶媒は低級アルカノール
、低級アルキレングリコール、5炭素原子以下合有する
ケトン、6炭素原子以下を有するエステルおよび少なく
とも4炭素原子を有するエーテルである。好ましい溶媒
はたとえばメタノール、エタノール、イソプロピルアル
コール、フロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘ
キサノール、エチレングリコール、フロピレンゲリコー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ジグ
リムおよびトリグリムである。前述の説明かられかるよ
うに塩基性助触媒が反応条件で液体であれば反応期間中
に溶媒としての作用をする。特定の有機溶媒は好ましく
はその50重量%以下の量の水を含有することができる
。
溶媒の使用量は温度その他の要因のほかに特定の溶媒お
よび特定のルテニウム触媒のような要因によって大幅に
変化する。特定のルテニウムを溶解して本発明の均質触
媒系を得るだけの溶媒を使用しなければならない。
よび特定のルテニウム触媒のような要因によって大幅に
変化する。特定のルテニウムを溶解して本発明の均質触
媒系を得るだけの溶媒を使用しなければならない。
本発明の改良法の大きな利点のひとつは温度および圧力
の苛酷な条件全使用しなくてもエチレングリコールが高
収率および高選択率で得られ、これよりエチレングリコ
ールの対応するカルボン酸エステルが得られることであ
る。可能な温和な温度および圧力条件は従来技術の方法
に付随していに欠点を避ける。一般に本発明の液体反応
媒の温度は約50〜200℃、さらに好ましくは約75
〜180℃、最適には約100〜150℃である。
の苛酷な条件全使用しなくてもエチレングリコールが高
収率および高選択率で得られ、これよりエチレングリコ
ールの対応するカルボン酸エステルが得られることであ
る。可能な温和な温度および圧力条件は従来技術の方法
に付随していに欠点を避ける。一般に本発明の液体反応
媒の温度は約50〜200℃、さらに好ましくは約75
〜180℃、最適には約100〜150℃である。
50℃以下の温度も使用可能であるが、反応速度がおそ
くなり不経済となる傾向になる。同様に200℃以上の
温度も使用可能であるがこれによって水素添加の反応速
度が実質的に増加することがなく、また触媒の分解およ
び副生成物の問題が起シ、時にはある条件下でこのよう
な反応条件を不経済にすることがある。
くなり不経済となる傾向になる。同様に200℃以上の
温度も使用可能であるがこれによって水素添加の反応速
度が実質的に増加することがなく、また触媒の分解およ
び副生成物の問題が起シ、時にはある条件下でこのよう
な反応条件を不経済にすることがある。
一般に約1.05〜176に91cmG(約15〜25
00 paig)、さらに好ましくは約7.0〜141
391 ci G (約100〜2000 paig)
、最適には約42〜105KP1c、mG(600〜1
500psig)の水素圧力が本発明の実施に使用され
る。
00 paig)、さらに好ましくは約7.0〜141
391 ci G (約100〜2000 paig)
、最適には約42〜105KP1c、mG(600〜1
500psig)の水素圧力が本発明の実施に使用され
る。
また水素は反応中に消費されるので水素圧力上特定値に
保持するために反応帯に水素全連続的または間欠的に導
入する必要があることがわかるであろう。
保持するために反応帯に水素全連続的または間欠的に導
入する必要があることがわかるであろう。
本発明のルテニウム触媒は触媒量で使用される。
水素添加反応帯に供給されるグリコールアルデヒドを基
準にして約0.01〜20重量%の触媒量で十分である
が、同一基準で約0.1〜5.0重量%の量が好ましい
。約0.01重量%以下の触媒濃度全使用すると水素重
加反応速度が低下することがあり一般に不経済である。
準にして約0.01〜20重量%の触媒量で十分である
が、同一基準で約0.1〜5.0重量%の量が好ましい
。約0.01重量%以下の触媒濃度全使用すると水素重
加反応速度が低下することがあり一般に不経済である。
また20重量%以上の触媒濃度を使用することもできる
が、触媒量の増加にともなう経費増は水素添加速度の増
加が得られy;:K シ’:t−もそれから生じる経済
的な利益會上廻ることがある。
が、触媒量の増加にともなう経費増は水素添加速度の増
加が得られy;:K シ’:t−もそれから生じる経済
的な利益會上廻ることがある。
反応剤と触媒とを接触させる方法に臨界性はなく大幅に
変えることができる。従って1m類以上のグリコールア
ルデヒド、選ばれり溶媒および触媒を予備混合して反応
帯に直接装入することもできる。同様にガス状の水素反
応剤を装入原料中の1種類以上の液体成分と予備混合す
ることもできあるいは反応帯に別個に装入することもで
きる。
変えることができる。従って1m類以上のグリコールア
ルデヒド、選ばれり溶媒および触媒を予備混合して反応
帯に直接装入することもできる。同様にガス状の水素反
応剤を装入原料中の1種類以上の液体成分と予備混合す
ることもできあるいは反応帯に別個に装入することもで
きる。
ガス状の水素と液体反応媒とを接触させる方法に臨界性
はなくたとえば通常の散気装置を使用する通常の散気法
を使用することができる。
はなくたとえば通常の散気装置を使用する通常の散気法
を使用することができる。
液一体反応媒中のグリコールアルデヒドの濃度に臨界性
はなく温度、選ばれた溶媒に対するグリコールアルデヒ
ドの溶解度その他のような要因によって大幅に変化する
。グリコールアルデヒドの濃度は一般に全液体反応媒の
約1.0〜20重量%である。
はなく温度、選ばれた溶媒に対するグリコールアルデヒ
ドの溶解度その他のような要因によって大幅に変化する
。グリコールアルデヒドの濃度は一般に全液体反応媒の
約1.0〜20重量%である。
塩基性助触媒は反応媒に必らずしも可溶でなくてもよい
が少なくとも一部溶解することが好ましい。液体反応媒
中で使用しなければならない選ばれた塩基性助触媒の量
も大幅に変化す°る。塩基助触媒は一般に液体反応媒全
体の少なくとも約0.01重量%、好ましくは少なくと
も約0.1重f%の漱で使用される。塩基性助触媒の濃
度の上限は経済的考慮だけによって制限される。たとえ
ば塩基性助触媒が液体反応媒に対する溶媒であるときの
塩基性助触媒の濃度は液体反応媒の約80重量%となる
ことがある。前述の水酸化物、[化物、炭酸塩、重炭酸
塩およびカルボン殴塩のような第1A族および第1IA
族金属の塩は一般に約0.01〜10重量%、好ましく
は約0.1〜50重量%で使用され、塩基性助触媒の量
がルテニウムに?18算して溶解ルテニウム触媒の約1
〜2000モル%、さらに好ましくは約100〜100
0モル%となるようにする。
が少なくとも一部溶解することが好ましい。液体反応媒
中で使用しなければならない選ばれた塩基性助触媒の量
も大幅に変化す°る。塩基助触媒は一般に液体反応媒全
体の少なくとも約0.01重量%、好ましくは少なくと
も約0.1重f%の漱で使用される。塩基性助触媒の濃
度の上限は経済的考慮だけによって制限される。たとえ
ば塩基性助触媒が液体反応媒に対する溶媒であるときの
塩基性助触媒の濃度は液体反応媒の約80重量%となる
ことがある。前述の水酸化物、[化物、炭酸塩、重炭酸
塩およびカルボン殴塩のような第1A族および第1IA
族金属の塩は一般に約0.01〜10重量%、好ましく
は約0.1〜50重量%で使用され、塩基性助触媒の量
がルテニウムに?18算して溶解ルテニウム触媒の約1
〜2000モル%、さらに好ましくは約100〜100
0モル%となるようにする。
選ばれたルテニウム触媒は液体反応媒中に存在するグリ
コールアルデヒドの1モルあたクルテニウムに換算して
ルテニウム触媒會少な(とも約0、001モル供給する
だけの量で一般に使用される。これよシ少ない量も使用
できるが、水素添加速度が低下する。水素圧力が35
lv’/ GIIG (500psig)以下のとき1
00℃以下の温度で水素添加するとき起ることが判tJ
J している水素添加によってエチレングリコールとな
る生成速度の低下’t−克服するために液体反応媒中に
存在するグリコールアルデヒドに対する選ばれたルテニ
ウム触媒のモル比はこれらの条件下では好ましくは少な
くとも0.01:1としなければならない。
コールアルデヒドの1モルあたクルテニウムに換算して
ルテニウム触媒會少な(とも約0、001モル供給する
だけの量で一般に使用される。これよシ少ない量も使用
できるが、水素添加速度が低下する。水素圧力が35
lv’/ GIIG (500psig)以下のとき1
00℃以下の温度で水素添加するとき起ることが判tJ
J している水素添加によってエチレングリコールとな
る生成速度の低下’t−克服するために液体反応媒中に
存在するグリコールアルデヒドに対する選ばれたルテニ
ウム触媒のモル比はこれらの条件下では好ましくは少な
くとも0.01:1としなければならない。
本発明の塩基性助触媒はあらかじめ調製しておいて水素
添加反応帯に導入することができる。代法として塩基性
助触媒が第1A族または第1IA族の1種類以上の選ば
れた金属塩よりなる場合のような場合には場合によって
は金属塩全水素添加反応帯でその場で形成することがで
きる。たとえば金属のカルボン酸塩は水素添加反応帯で
反応媒に可溶でありそのアニオンがカルボン酸より弱い
共役酸會有するルイス塩基である金属化合物と対応する
カルボン酸との反応によって作ることができる。カルボ
ン酸の金属塩を作ることができる適当な金属化合物には
前述の金属のうちの任意の金属のアルコΦクド、炭酸塩
、水酸化物、重炭酸塩等がある。金属のカルゼン酸塩を
液体水素を餐カロ反応媒中その場で形成させようとする
場合には選ばれたカルボン酸および反応媒中で反応させ
てカルぎン敵塙にしようとする金属化合物は十分に所要
量のカルボン酸塩となるだけの横で反−心根中に導入し
なければならない。典型的にいってカルボン酸および金
属化合物は1:1〜5:1のモル比で使用される。
添加反応帯に導入することができる。代法として塩基性
助触媒が第1A族または第1IA族の1種類以上の選ば
れた金属塩よりなる場合のような場合には場合によって
は金属塩全水素添加反応帯でその場で形成することがで
きる。たとえば金属のカルボン酸塩は水素添加反応帯で
反応媒に可溶でありそのアニオンがカルボン酸より弱い
共役酸會有するルイス塩基である金属化合物と対応する
カルボン酸との反応によって作ることができる。カルボ
ン酸の金属塩を作ることができる適当な金属化合物には
前述の金属のうちの任意の金属のアルコΦクド、炭酸塩
、水酸化物、重炭酸塩等がある。金属のカルゼン酸塩を
液体水素を餐カロ反応媒中その場で形成させようとする
場合には選ばれたカルボン酸および反応媒中で反応させ
てカルぎン敵塙にしようとする金属化合物は十分に所要
量のカルボン酸塩となるだけの横で反−心根中に導入し
なければならない。典型的にいってカルボン酸および金
属化合物は1:1〜5:1のモル比で使用される。
水素飾加反応金完結させるのに必要な時間は反応剤の7
s度%H2の圧力、温度等のような要因によって大幅に
変化するが、一般に約1〜10時間、さらに普通には2
〜4時間である。場合によっては反応工程中液体反応媒
をかきまぜて液状反応混合物の成分をガス状の水素と緊
密な接触を保持することができる。このようなかきまぜ
を実施する手段は従来から知られているので説明する必
要もない。
s度%H2の圧力、温度等のような要因によって大幅に
変化するが、一般に約1〜10時間、さらに普通には2
〜4時間である。場合によっては反応工程中液体反応媒
をかきまぜて液状反応混合物の成分をガス状の水素と緊
密な接触を保持することができる。このようなかきまぜ
を実施する手段は従来から知られているので説明する必
要もない。
反応に続いて製品混合物を分取しエチレングリコールを
通常の方法たとえば分留、選択抽出、クロマトグラフ処
理等によって採取する。場合にょつては未反応グリコー
ルアルデヒドを採取して反応帯へill # gせるこ
ともできる。同様に採取され定ルテニウム触媒は採取に
よってその活性が低下しないので反応帯に循環させるこ
とができる。
通常の方法たとえば分留、選択抽出、クロマトグラフ処
理等によって採取する。場合にょつては未反応グリコー
ルアルデヒドを採取して反応帯へill # gせるこ
ともできる。同様に採取され定ルテニウム触媒は採取に
よってその活性が低下しないので反応帯に循環させるこ
とができる。
ルテニウム触媒は固体状の仁きには酸素に対して比較的
に安定であるが、液体に溶解すると分子状酸素に影響を
受けやすいことがわかっているので本発明のグリコール
アルデヒドおよび選ばれたルテニウム触媒は分子状酸素
が実質的にない状態で接触させることが好ましい。ここ
でいう分子状酸素が実質的にない状態とは液体反応媒上
のガス相中の02濃度が約1.0重量%以下の水準に保
持されることである。さらに好ましくはガス相中の酸素
濃度は約01重量%以下である。従って反応に対して不
活性ガスの存在下で反応を実施することができる。好ま
しい不活性ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン等である
。
に安定であるが、液体に溶解すると分子状酸素に影響を
受けやすいことがわかっているので本発明のグリコール
アルデヒドおよび選ばれたルテニウム触媒は分子状酸素
が実質的にない状態で接触させることが好ましい。ここ
でいう分子状酸素が実質的にない状態とは液体反応媒上
のガス相中の02濃度が約1.0重量%以下の水準に保
持されることである。さらに好ましくはガス相中の酸素
濃度は約01重量%以下である。従って反応に対して不
活性ガスの存在下で反応を実施することができる。好ま
しい不活性ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン等である
。
本発明の方法は次の実施例によってさらに例示すること
ができる。これらの実施例で特記しない限り量は重量部
で表わされる。各実施例で反応容器k Hzでフラッシ
ュして液体反応混合物上のガス相から実質的に全量の0
:全除去する。液状サンプルはすべてガスクロマトグラ
フィーで分析される。収率、選択率および転化率は反応
器に装入されたグリコールアルデヒドの量を基準にして
計算される。例2,4.6および8〜13において製品
混合物が感度0,01重量%の水準で検出可能な量の副
生アセタールを含有しないことが判明したO 例 1 100 cc のガラスフラスコにメタノール50m1
トリフェニルホスフィン5.Ofおよびトリ塩化ルテ
ニウム水和物1.Of’z添加した。生成混合物をかき
まぜながら窒素雰囲気中オイルパスによって75℃に加
熱し、75℃で6時間保持し、カッ色不溶性粉末状のト
リス(トリフェニルホスフィン)ジ塩化ルテニウム全形
成し、ろ過によって3.9#1に採取した。
ができる。これらの実施例で特記しない限り量は重量部
で表わされる。各実施例で反応容器k Hzでフラッシ
ュして液体反応混合物上のガス相から実質的に全量の0
:全除去する。液状サンプルはすべてガスクロマトグラ
フィーで分析される。収率、選択率および転化率は反応
器に装入されたグリコールアルデヒドの量を基準にして
計算される。例2,4.6および8〜13において製品
混合物が感度0,01重量%の水準で検出可能な量の副
生アセタールを含有しないことが判明したO 例 1 100 cc のガラスフラスコにメタノール50m1
トリフェニルホスフィン5.Ofおよびトリ塩化ルテ
ニウム水和物1.Of’z添加した。生成混合物をかき
まぜながら窒素雰囲気中オイルパスによって75℃に加
熱し、75℃で6時間保持し、カッ色不溶性粉末状のト
リス(トリフェニルホスフィン)ジ塩化ルテニウム全形
成し、ろ過によって3.9#1に採取した。
例 2
200 mlのグラスライニングを施し7;(Parr
の圧力Iンペにメタノール20m1.グリコールアルデ
ヒド0.30 # (5,0ミリモル)、無水酢酸ナト
リウム0.02 tおよび例1のように調製されたRu
e/2(Pφ5)so、02#を装入L Z aポンベ
の内容物全窒素ガス中でかきまぜて溶媒のメタノールに
グリコールアルデヒド、ハロゲン化ルテニウム触媒およ
び酢酸ナトリウムを溶解させてから反応器に56”/l
、* Gの水素ガスを装入した。次に反応器をオイルパ
スでテフロンで被覆した磁気かきまぜ機によって液体反
応混合物音連続的にかきまぜながら100Cで4時間加
熱した。
の圧力Iンペにメタノール20m1.グリコールアルデ
ヒド0.30 # (5,0ミリモル)、無水酢酸ナト
リウム0.02 tおよび例1のように調製されたRu
e/2(Pφ5)so、02#を装入L Z aポンベ
の内容物全窒素ガス中でかきまぜて溶媒のメタノールに
グリコールアルデヒド、ハロゲン化ルテニウム触媒およ
び酢酸ナトリウムを溶解させてから反応器に56”/l
、* Gの水素ガスを装入した。次に反応器をオイルパ
スでテフロンで被覆した磁気かきまぜ機によって液体反
応混合物音連続的にかきまぜながら100Cで4時間加
熱した。
前述の反応時間の終点で製品混合物からサンプルを採取
しガスクロマトグラフィーで分析した。
しガスクロマトグラフィーで分析した。
エチレングリコールはグリコールアルデヒドの転化率9
9%以上で約96%の収率および約96%の選択率で製
造されたことが判明した。副生アセタールは検出されな
かった。
9%以上で約96%の収率および約96%の選択率で製
造されたことが判明した。副生アセタールは検出されな
かった。
例 3(比較例)
酢酸ナトリウムを省略したこと以外は例2の方法を反復
した。100℃で4時間水素添加してからグリコールア
ルデヒドの転化率995A以上が測定されたがエチレン
グリコールはわずかに約25%の選択率およびわずかに
約25%の収率で製造された。グリコールアルデヒドの
ジメチルアセタールへの選択率は約66%であることが
判明した。
した。100℃で4時間水素添加してからグリコールア
ルデヒドの転化率995A以上が測定されたがエチレン
グリコールはわずかに約25%の選択率およびわずかに
約25%の収率で製造された。グリコールアルデヒドの
ジメチルアセタールへの選択率は約66%であることが
判明した。
例 4
例1の方法を使用しメタノール53m6、トリーp−)
リルホスフィン6.Ofおよび三塩化ルテニウム1.
0#をかきまぜながら窒素中で24時間還流加熱しトリ
ス(トリーp−)リルホスフィン)ジ塩化ルテニウムの
不溶性粉末を形成しろ過によって4.2#を採取した。
リルホスフィン6.Ofおよび三塩化ルテニウム1.
0#をかきまぜながら窒素中で24時間還流加熱しトリ
ス(トリーp−)リルホスフィン)ジ塩化ルテニウムの
不溶性粉末を形成しろ過によって4.2#を採取した。
触媒としてトリス(トリーp−トリルホスフィン)ジ塩
化ルテニウム0.02 #’を使用して例2の方法を反
復した。100℃および56Fsl/(XIG(800
psig)で4時間の反応後グリコールアルデヒドの転
化率は99%でエチレングリコールは約93%の選択率
で形成されたことが判明した。
化ルテニウム0.02 #’を使用して例2の方法を反
復した。100℃および56Fsl/(XIG(800
psig)で4時間の反応後グリコールアルデヒドの転
化率は99%でエチレングリコールは約93%の選択率
で形成されたことが判明した。
副生アセタールは検出されなかった。
例4で使用された酢酸ナトリウムを反応器の装入物から
省略したこと以外はグリコールアルデヒドの水素添加に
トリス(トリーp−トリルホスフィン)ジ塩化ルテニウ
ムOO2t’<使用して例4を反復した。56にp /
ant G (800psig)オよび100℃で4時
間水素添加後グリコールアルデヒドの転化率は99%以
上であったことが判明したがエチレングリコールは選択
率約70%で形成されグリコールアルデヒドのジメチル
アセタールは選択率約23%で形成されたことが判明し
た。
省略したこと以外はグリコールアルデヒドの水素添加に
トリス(トリーp−トリルホスフィン)ジ塩化ルテニウ
ムOO2t’<使用して例4を反復した。56にp /
ant G (800psig)オよび100℃で4時
間水素添加後グリコールアルデヒドの転化率は99%以
上であったことが判明したがエチレングリコールは選択
率約70%で形成されグリコールアルデヒドのジメチル
アセタールは選択率約23%で形成されたことが判明し
た。
例 6
例1の方法に準じてメタノール50m1.トリメトキシ
フェニルホスフィン7.49おヨヒ三塩化ルテニウム水
利物】、Ofをかきまぜ窒素雰囲気中で還流温度で4時
間加熱しながら混合した。沈殿として生成した固体をろ
過によって採取し、分析して目的化合物であるトリス(
ト!J−p−メトキ/フェニルホスフィン)ジ塩化ルテ
ニウムであることを確認した。
フェニルホスフィン7.49おヨヒ三塩化ルテニウム水
利物】、Ofをかきまぜ窒素雰囲気中で還流温度で4時
間加熱しながら混合した。沈殿として生成した固体をろ
過によって採取し、分析して目的化合物であるトリス(
ト!J−p−メトキ/フェニルホスフィン)ジ塩化ルテ
ニウムであることを確認した。
前述のように調製されたトリス(トリーp−メトキクフ
ェミルホスフイン)シ塩化ルテニウム0.02tf触媒
として使用し0.01. )の無水酢酸ナトリウムを使
用したこと以外は例2の方法を反復した。100℃およ
び水素圧力56Kp/GdtG(800psig)で4
時間水素添加後のグリコールアルデヒドの転化率は28
%でありエチレングリコールの選択率は51%であるこ
とが判明した。
ェミルホスフイン)シ塩化ルテニウム0.02tf触媒
として使用し0.01. )の無水酢酸ナトリウムを使
用したこと以外は例2の方法を反復した。100℃およ
び水素圧力56Kp/GdtG(800psig)で4
時間水素添加後のグリコールアルデヒドの転化率は28
%でありエチレングリコールの選択率は51%であるこ
とが判明した。
副生ずるグリコールアルデヒドのアセタールは検出され
なかった。
なかった。
水素添加反応器に酢酸ナトリウムを装入しなかったこと
以外は例6の方法を反復してグリコールアルデヒドの水
素添加をおこなった。100℃56 Kg 1ctlG
(800piig >で4時間水素添加後のグリコー
ルアルデヒドの転化率は99%以上であつたがエチレン
グリコールはわずかに約5%の選択率で製造されたこと
が判明しに。グリコールアルデヒドのジメチルアセター
lしへの選択率は約95%であった。
以外は例6の方法を反復してグリコールアルデヒドの水
素添加をおこなった。100℃56 Kg 1ctlG
(800piig >で4時間水素添加後のグリコー
ルアルデヒドの転化率は99%以上であつたがエチレン
グリコールはわずかに約5%の選択率で製造されたこと
が判明しに。グリコールアルデヒドのジメチルアセター
lしへの選択率は約95%であった。
例 8〜13
選択された助触媒の指示された量ケ使用して例2の方法
をそれぞれの実験で反復した。125℃の温度および5
6にp /cnG (800pliig)の水素圧力で
4時間の水素添加後に助触媒を共存させたトリス(トリ
フェニルホスフィン)J塩化ルf’=ウム触媒は第1表
に示すグリコールアルデヒドの転化率およびエチレング
リコールの選択率でグリコールアルデヒドの水素添加の
触媒作用゛をすることが判明した。
をそれぞれの実験で反復した。125℃の温度および5
6にp /cnG (800pliig)の水素圧力で
4時間の水素添加後に助触媒を共存させたトリス(トリ
フェニルホスフィン)J塩化ルf’=ウム触媒は第1表
に示すグリコールアルデヒドの転化率およびエチレング
リコールの選択率でグリコールアルデヒドの水素添加の
触媒作用゛をすることが判明した。
第 I 表
(1)1.8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレン(2
)4−ジメチルアミノピリジン (3)フタル酸のモノカリウム塩 前述のすべての実験でグリコールアルデヒドのジメチル
アセタールは検出されなかった。
)4−ジメチルアミノピリジン (3)フタル酸のモノカリウム塩 前述のすべての実験でグリコールアルデヒドのジメチル
アセタールは検出されなかった。
例 14
(φ@ A S )! 1LuOj’3 、0830H
の調製例1の方法に準じRuO/3 、 N20 1.
Q f、トリフェニルアルクン6、1 ?およびメタ
ノール50mtk W f& 100 ccの丸底フラ
スコに装入し、得られた混合物をN2中でかきまぜなが
ら5時間還流加熱した。目的とするビス(トリフェニル
アルクン)トリ塩化ルテニウム・0H30Hの緑色粉末
が形成されろ過によって採取(3,7#)を得た。
の調製例1の方法に準じRuO/3 、 N20 1.
Q f、トリフェニルアルクン6、1 ?およびメタ
ノール50mtk W f& 100 ccの丸底フラ
スコに装入し、得られた混合物をN2中でかきまぜなが
ら5時間還流加熱した。目的とするビス(トリフェニル
アルクン)トリ塩化ルテニウム・0H30Hの緑色粉末
が形成されろ過によって採取(3,7#)を得た。
例2の方法全使用してグリコールアルデヒド0、30
#をメタノール2Qm6.(φ3 A s ) z R
u O/5OH30HO,05tおよび酢酸ナトリウム
0.50 #と混合し、150℃および56 KP /
cftO(800psig)Hiで4時間水素添加後の
グリコールアルデヒドの転化率は99%以上であジエチ
レングリコールの選択率は76%であった。グリコール
アルデヒドのジメチルアセタールの選択率は3%であっ
た。
#をメタノール2Qm6.(φ3 A s ) z R
u O/5OH30HO,05tおよび酢酸ナトリウム
0.50 #と混合し、150℃および56 KP /
cftO(800psig)Hiで4時間水素添加後の
グリコールアルデヒドの転化率は99%以上であジエチ
レングリコールの選択率は76%であった。グリコール
アルデヒドのジメチルアセタールの選択率は3%であっ
た。
水素添加装入物から酢酸ナトリウムを省略したこと以外
は例14の水素添加を反復したときグリコールアルデヒ
ドの転化率99%以上でエチレングリコールの選択率は
わずかに23%でジメチルアセタールの選択率は68%
であった。
は例14の水素添加を反復したときグリコールアルデヒ
ドの転化率99%以上でエチレングリコールの選択率は
わずかに23%でジメチルアセタールの選択率は68%
であった。
例 16
グリコールアルデヒド0.5t、(Pφ3)3−RuO
/* k触媒として0.10#、無水酢酸ナトリウム0
02#およびエチレングリコールtU媒として20μ使
用して例2の方法を反復した。56にg /c、1lt
G (800psig)の水素を使用し125℃で4時
間水素添加後のグリコールアルデヒドの転化率は99%
以上であり、エチレングリコールの選択率は94%であ
り、2−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキシランの選
択率は約6%であった。
/* k触媒として0.10#、無水酢酸ナトリウム0
02#およびエチレングリコールtU媒として20μ使
用して例2の方法を反復した。56にg /c、1lt
G (800psig)の水素を使用し125℃で4時
間水素添加後のグリコールアルデヒドの転化率は99%
以上であり、エチレングリコールの選択率は94%であ
り、2−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキシランの選
択率は約6%であった。
流出液から検出された生成物は前述のアセタールとエチ
レングリコールだけであった。
レングリコールだけであった。
水素添加装入物から酢酸ナトリウムを省略したこと以外
は例16の方法全反復した。指定の温度および圧力で4
時間水素添加後のグリコールアルデヒドの転化率は99
%以上であり、副生アセタール(2−ヒドロキクメチル
−1,3−ジオキソラン)の選択率は99%以上であっ
た。
は例16の方法全反復した。指定の温度および圧力で4
時間水素添加後のグリコールアルデヒドの転化率は99
%以上であり、副生アセタール(2−ヒドロキクメチル
−1,3−ジオキソラン)の選択率は99%以上であっ
た。
前述の実施例かられかるように本発明の助触媒と共存す
るルテニウム触媒は非常に少量のアセタール副生成物を
形成するだけである。本発明の方法は水素添加に引続い
て実質的に副生アセタール全含有しない製品混合物を形
成する。すなわち副生アセタールは反応流出液の0.1
重量%以下の量で流出液に存在する。ここでいう副生ア
セタールとはどんな出発原料からでも水素添加中に形成
されるアセタール類のことであり、従ってグリコールア
ルデヒドと水素添加に使用されるアルコール系溶媒との
反応マタはグリコールアルデヒドと製品エチレングリコ
ールとの反応または2分子以上のグリコールアルデヒド
の反応によって形成されるアセタールを含む。
るルテニウム触媒は非常に少量のアセタール副生成物を
形成するだけである。本発明の方法は水素添加に引続い
て実質的に副生アセタール全含有しない製品混合物を形
成する。すなわち副生アセタールは反応流出液の0.1
重量%以下の量で流出液に存在する。ここでいう副生ア
セタールとはどんな出発原料からでも水素添加中に形成
されるアセタール類のことであり、従ってグリコールア
ルデヒドと水素添加に使用されるアルコール系溶媒との
反応マタはグリコールアルデヒドと製品エチレングリコ
ールとの反応または2分子以上のグリコールアルデヒド
の反応によって形成されるアセタールを含む。
本発明全実施するとき原料として使用されるグリコール
アルデヒド源には全く臨界性がない。グリコールアルデ
ヒドがホルムアルデヒドから形成される従来技術のヒド
ロホルミル化法から得られる流出物全使用して本発明の
水素添加法へ供給するグリコールアルデヒド原料にする
ことができる。
アルデヒド源には全く臨界性がない。グリコールアルデ
ヒドがホルムアルデヒドから形成される従来技術のヒド
ロホルミル化法から得られる流出物全使用して本発明の
水素添加法へ供給するグリコールアルデヒド原料にする
ことができる。
特に前述のヨーロッパ特許出願第2,908号およびド
イツ特許第2,741,589号明細書記載の方法によ
って生成し、これらの方法のヒドロホルミル化触媒およ
び場合によっては未反応ホルムアルデヒドとともにグリ
コールアルデヒドを含Nt6反応流出物を本発明の方法
へ直接装入してこのグリコールアルデヒド原料全前述の
水素添加反応条件で本発明のハロゲン化ルテニウム触媒
系と接触させてすぐれた収率および選択率でエチレング
リコールとすることができる。意外にも本発明の方法に
装入されるこのようなグリコールアルデヒド中に存在す
る従来技術のヒドロホルミル化触媒ハゲリコールアルデ
ヒド全水素添加してエチレングリコールとする本発明に
記載のルテニウム触媒の性能に悪影響がないことが判明
した。従って本発明によればこのようなヒドロホルミル
化反応流出物から水素添加前にグリコールアルデヒドを
採堆する必要もまた本発明記載の水素添加に先豆ってヒ
ドロホルミル化反応流出物のその他の任意の構成成分を
除去する必要もなく流出物から直接エチレングリコール
全作ることができるという長所が得られる。
イツ特許第2,741,589号明細書記載の方法によ
って生成し、これらの方法のヒドロホルミル化触媒およ
び場合によっては未反応ホルムアルデヒドとともにグリ
コールアルデヒドを含Nt6反応流出物を本発明の方法
へ直接装入してこのグリコールアルデヒド原料全前述の
水素添加反応条件で本発明のハロゲン化ルテニウム触媒
系と接触させてすぐれた収率および選択率でエチレング
リコールとすることができる。意外にも本発明の方法に
装入されるこのようなグリコールアルデヒド中に存在す
る従来技術のヒドロホルミル化触媒ハゲリコールアルデ
ヒド全水素添加してエチレングリコールとする本発明に
記載のルテニウム触媒の性能に悪影響がないことが判明
した。従って本発明によればこのようなヒドロホルミル
化反応流出物から水素添加前にグリコールアルデヒドを
採堆する必要もまた本発明記載の水素添加に先豆ってヒ
ドロホルミル化反応流出物のその他の任意の構成成分を
除去する必要もなく流出物から直接エチレングリコール
全作ることができるという長所が得られる。
前述のような従来技術のヒドロホルミル化反応ではホル
ムアルデヒド、−酸化炭素および水素を特定のヒドロホ
ルミル化触媒の存在下高温高圧で反応させてグリコール
アルデヒドとする。ヒドロホルミル化工程は一般に約5
0〜250cの温度、約35〜350KP77G(50
0〜5000psig)の82分圧および約35〜35
0 Kp /7G (500〜5000 psig)の
00分圧で実施される。典型的にいってガス状の一酸化
炭素および水素は約1:10〜10:1.好ましくは約
1:5〜5:1の00:Hz比で使用される。ホルムア
ル7’ヒF’バ一般に反応媒中のホルムアルデヒド濃度
が約1〜25重量%となるだけの量で使用される。
ムアルデヒド、−酸化炭素および水素を特定のヒドロホ
ルミル化触媒の存在下高温高圧で反応させてグリコール
アルデヒドとする。ヒドロホルミル化工程は一般に約5
0〜250cの温度、約35〜350KP77G(50
0〜5000psig)の82分圧および約35〜35
0 Kp /7G (500〜5000 psig)の
00分圧で実施される。典型的にいってガス状の一酸化
炭素および水素は約1:10〜10:1.好ましくは約
1:5〜5:1の00:Hz比で使用される。ホルムア
ル7’ヒF’バ一般に反応媒中のホルムアルデヒド濃度
が約1〜25重量%となるだけの量で使用される。
ヒドロホルミル化工程で使用されるヒドロホルミル化触
媒はヨーロッパ特許出願第2908号およびドイツ特許
第2.741,589号明細書に記載の任意のロジウム
触媒とすることができる。
媒はヨーロッパ特許出願第2908号およびドイツ特許
第2.741,589号明細書に記載の任意のロジウム
触媒とすることができる。
従ってヒドロホルミル化触媒は元素状ロジウム。
その化合物、錯体まには塩まにはそれらの混合物とする
ことができ、またそのまへあるいは固体の担体りとえば
モレキュラークープ、ゼオライト、酸化アルミニウム、
二酸化ケイ素、アニオン交換樹脂まKは重合配位子に沈
着または結合して使用することができる。ドイツ特許第
2,741,589号明細書はロジウム触媒の活性形が
一酸化炭素と錯体となって組合わされまKは結合した形
たとえばさらに配位子を有するロジウムカルボニルであ
ると記載している。これらのさらに結合する配位子には
・・ロゲンたとえば塩素および少なくとも1原子の窒素
および(または)少なくとも】原子の酸素がロジウムと
配位結合を形成し得る電子対を含むように配列された化
合物を含む前述の配位子りのような有機配位子がある。
ことができ、またそのまへあるいは固体の担体りとえば
モレキュラークープ、ゼオライト、酸化アルミニウム、
二酸化ケイ素、アニオン交換樹脂まKは重合配位子に沈
着または結合して使用することができる。ドイツ特許第
2,741,589号明細書はロジウム触媒の活性形が
一酸化炭素と錯体となって組合わされまKは結合した形
たとえばさらに配位子を有するロジウムカルボニルであ
ると記載している。これらのさらに結合する配位子には
・・ロゲンたとえば塩素および少なくとも1原子の窒素
および(または)少なくとも】原子の酸素がロジウムと
配位結合を形成し得る電子対を含むように配列された化
合物を含む前述の配位子りのような有機配位子がある。
有機配位子には種々のピペラジン、ジピリジル、N−置
換ジアミン、アミノピリジン、グリコール酸、アルコキ
ク置換酢酸、テトラヒドロフラン、ジオキサン。
換ジアミン、アミノピリジン、グリコール酸、アルコキ
ク置換酢酸、テトラヒドロフラン、ジオキサン。
1 、2−ジメトキシベンゼン、アルキルエーテルまた
はアルキレングリコール、アルカノールアミン、アミノ
ジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢
酸およびトリアルキル、トリアリールおよびトリ7クロ
アルキルホスフアイトおよびトリアリールホスフィンの
ような含リン配位子ならびにアンチモンおよびヒ素の類
縁化合物がある。従ってロジウムのヒドロホルミル化触
媒は次式(Ill) RhX(001(PL’ s )2 (III)(式中
Xは0/、Br、■ または下であり、またPLl、は
各L1が芳香族またはアルキル基のような有機であるホ
スフィン配位子であシ、好ましくはアリールおよびアル
キルアリールホスフィン配位子である)で表わすことが
できる。
はアルキレングリコール、アルカノールアミン、アミノ
ジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢
酸およびトリアルキル、トリアリールおよびトリ7クロ
アルキルホスフアイトおよびトリアリールホスフィンの
ような含リン配位子ならびにアンチモンおよびヒ素の類
縁化合物がある。従ってロジウムのヒドロホルミル化触
媒は次式(Ill) RhX(001(PL’ s )2 (III)(式中
Xは0/、Br、■ または下であり、またPLl、は
各L1が芳香族またはアルキル基のような有機であるホ
スフィン配位子であシ、好ましくはアリールおよびアル
キルアリールホスフィン配位子である)で表わすことが
できる。
ヒドロホルミル化触媒の使用量、溶媒を使用する場合の
溶媒、触媒の詳細な形(たとえば触媒が担持されている
が無担持かあるいはヒドロホルミル化反応で均質である
か不均質であるか)その他の反応条件は前述のヨーロッ
パ特許出願第2,908号およびドイツ特許第2,74
1,589号明細書に記載の通夛である。
溶媒、触媒の詳細な形(たとえば触媒が担持されている
が無担持かあるいはヒドロホルミル化反応で均質である
か不均質であるか)その他の反応条件は前述のヨーロッ
パ特許出願第2,908号およびドイツ特許第2,74
1,589号明細書に記載の通夛である。
前述のようにヒドロホルミル化反応器から排出されグリ
コールアルデヒド、ヒドロホルミル化触媒および未反応
ホルムアルデヒドを含有する流出物は本発明の水素添加
法にグリコールアルデヒド原料として装入することがで
きる。−酸化炭素ガスは本発明のハロゲン化ルテニウム
触媒に触a、Sとして作用し得ることが判明しているの
で、ヒドロホルミル化反応に使用された一酸化炭素ガス
はヒドロホルミル化反応流出物全水素添加反応に装入す
る前に除去しなければならない。従つ−C水素添加はガ
ス状−酸化炭素が実質的に存在しない状態すなわち00
の分圧0. OO7?/cmG (0,1ps ig)
以下で実施することが好ましい。
コールアルデヒド、ヒドロホルミル化触媒および未反応
ホルムアルデヒドを含有する流出物は本発明の水素添加
法にグリコールアルデヒド原料として装入することがで
きる。−酸化炭素ガスは本発明のハロゲン化ルテニウム
触媒に触a、Sとして作用し得ることが判明しているの
で、ヒドロホルミル化反応に使用された一酸化炭素ガス
はヒドロホルミル化反応流出物全水素添加反応に装入す
る前に除去しなければならない。従つ−C水素添加はガ
ス状−酸化炭素が実質的に存在しない状態すなわち00
の分圧0. OO7?/cmG (0,1ps ig)
以下で実施することが好ましい。
例 18
容f200 mlのグラスライニングを施しEParr
の圧力IンペにN、N−ジメチルアセタミド75mj、
)IJス(トリーフェニルホスフイン)モノ塩化ロジウ
ム(8trem Obemica/ Oompany
エリ市販されているもの> 0.151?およびパラホ
ルムアルデヒド5.0を會装入しに。ゼンペの内容物1
を窒素ガス中でかきまぜてロジウム触媒およびパラホル
ムアルデヒドを溶媒のN、N−ジメチルアセタミドにと
かしてから反応器に63す/cmG(900psig)
の−酸化炭素および63にp/cnG (900psi
g)の水素を圧入し液体混合物上のガス相の全圧k 1
26 KP/cnG (1800psig)としに。次
に反応器をオイルバスで125℃で4時間加熱しながら
液体反応混合物をテフロン波相磁気かきまぜ機によって
かきまぜた。
の圧力IンペにN、N−ジメチルアセタミド75mj、
)IJス(トリーフェニルホスフイン)モノ塩化ロジウ
ム(8trem Obemica/ Oompany
エリ市販されているもの> 0.151?およびパラホ
ルムアルデヒド5.0を會装入しに。ゼンペの内容物1
を窒素ガス中でかきまぜてロジウム触媒およびパラホル
ムアルデヒドを溶媒のN、N−ジメチルアセタミドにと
かしてから反応器に63す/cmG(900psig)
の−酸化炭素および63にp/cnG (900psi
g)の水素を圧入し液体混合物上のガス相の全圧k 1
26 KP/cnG (1800psig)としに。次
に反応器をオイルバスで125℃で4時間加熱しながら
液体反応混合物をテフロン波相磁気かきまぜ機によって
かきまぜた。
前述の反応時間の終点で生成混合物からサンプルを採取
しガスクロマトグラフィーによって分析した。グリコー
ルアルデヒドの製造量は5.4tであって装入されたパ
ラホルムアルデヒドを基準にしたグリコールアルデヒド
の収率は54%であることがわかった。パラホルムアル
デヒドの装入量を基準にしたエチレングリコールの収率
はわずかに1%であった。
しガスクロマトグラフィーによって分析した。グリコー
ルアルデヒドの製造量は5.4tであって装入されたパ
ラホルムアルデヒドを基準にしたグリコールアルデヒド
の収率は54%であることがわかった。パラホルムアル
デヒドの装入量を基準にしたエチレングリコールの収率
はわずかに1%であった。
ヒドロホルミル化工程に続いて反応器からガスを放出し
てガス状の一酸化炭素を除去した。ヒドロホルミル化反
応流出を3等分し、別々の試験で各7ラククヨンをグラ
スライニング全施した容量200 mgの第二のpar
rの手カゼ7Kに移し、特定のルテニウム触媒0.05
#およびN、N−ジメチの水素ガスiJンペに圧入し
た。実施例2の方法に準じて150Cでかきまぜながら
4時間水素添加した。このときに得られたデータを第■
表に示す。
てガス状の一酸化炭素を除去した。ヒドロホルミル化反
応流出を3等分し、別々の試験で各7ラククヨンをグラ
スライニング全施した容量200 mgの第二のpar
rの手カゼ7Kに移し、特定のルテニウム触媒0.05
#およびN、N−ジメチの水素ガスiJンペに圧入し
た。実施例2の方法に準じて150Cでかきまぜながら
4時間水素添加した。このときに得られたデータを第■
表に示す。
第 ■ 表
* 触媒源
試験1:実施例1に準じて調製。
試験2:実施例4に準じて調製。
試験3 : 8trem 0herr+icB/ Oo
、より入手。
、より入手。
前述のように本発明の方法によって製造されるエチレン
グリコールは水素除加反応器から取出された流出物より
既知の方法によって採取することができる。場合によっ
てはエチレングリコールをそのカルゼン酸エステルに変
換するために対応するカルボン酸を水素添加反応流出物
に添〃口することができるが、エチレングリコールを既
知の方法で水素重加反応流出物から採取してから別の工
程でカルボン酸と反応させてエチレングリコールの対応
カルボン酸エステルとする。好適なカルボン酸には1〜
20炭素原子を有する飽和脂肪族モノカルボン酸たとえ
ば酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、n−酪酸等がある。
グリコールは水素除加反応器から取出された流出物より
既知の方法によって採取することができる。場合によっ
てはエチレングリコールをそのカルゼン酸エステルに変
換するために対応するカルボン酸を水素添加反応流出物
に添〃口することができるが、エチレングリコールを既
知の方法で水素重加反応流出物から採取してから別の工
程でカルボン酸と反応させてエチレングリコールの対応
カルボン酸エステルとする。好適なカルボン酸には1〜
20炭素原子を有する飽和脂肪族モノカルボン酸たとえ
ば酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、n−酪酸等がある。
従って本発明は第一工程でグリコールアルデヒドを本発
明のハロゲン化ルテニウム触媒系の存在下前述のように
゛水素添加して生成エチレングリコール全採取し、次に
第二工程でエチレングリコ−#’!i1体媒中でカルボ
ン酸と反応させてエチレングリコールの対応するカルボ
ン酸ニステルトスルエチレングリコールのカルゼン酸エ
ステルヲ製造する2段法である。第二段のエステル形成
反応を実施する温度および圧力条件に臨界性はなく大幅
に変えることができる。一般に約25〜250tl:の
温度および常圧、大気圧以下または大気圧以上の圧力を
使用することができる。カルセン酸の使用量も大幅に変
えることかできるが1反応を最も完全に実施するために
はカル日?ン酸はエチレングリコールの装入量と反応さ
せるのに必要な化学量論的な量よりも過剰に使用するこ
とが好ましい。
明のハロゲン化ルテニウム触媒系の存在下前述のように
゛水素添加して生成エチレングリコール全採取し、次に
第二工程でエチレングリコ−#’!i1体媒中でカルボ
ン酸と反応させてエチレングリコールの対応するカルボ
ン酸ニステルトスルエチレングリコールのカルゼン酸エ
ステルヲ製造する2段法である。第二段のエステル形成
反応を実施する温度および圧力条件に臨界性はなく大幅
に変えることができる。一般に約25〜250tl:の
温度および常圧、大気圧以下または大気圧以上の圧力を
使用することができる。カルセン酸の使用量も大幅に変
えることかできるが1反応を最も完全に実施するために
はカル日?ン酸はエチレングリコールの装入量と反応さ
せるのに必要な化学量論的な量よりも過剰に使用するこ
とが好ましい。
強鉱酸(たとえばハロゲン化水素酸、硫峡、硝酸、リン
酸お工びスルホン酸)および強肩aI!酸(たとえばト
リフルオロ酸rR1は好ましくない副生成物たとえば好
ましくないアセタール副生成物の生成會促進するので、
これらの強酸の実質的な量の存在は避けなければならな
い。従って本発明の液体反応媒は酸解離恒数Kaが25
CでI×10より大きな酵すなわちpKaが2.5以下
の酸全実質的に含有しない方がよい。好ましくはこのよ
うな酸の濃度はlppm以下である。
酸お工びスルホン酸)および強肩aI!酸(たとえばト
リフルオロ酸rR1は好ましくない副生成物たとえば好
ましくないアセタール副生成物の生成會促進するので、
これらの強酸の実質的な量の存在は避けなければならな
い。従って本発明の液体反応媒は酸解離恒数Kaが25
CでI×10より大きな酵すなわちpKaが2.5以下
の酸全実質的に含有しない方がよい。好ましくはこのよ
うな酸の濃度はlppm以下である。
明らかに本発明から逸脱しないで種々の変更をすること
ができるので、前述の説明に含まれているすべての内容
は例示と解釈すべきであって本発明を限定すると解釈し
てはならない。
ができるので、前述の説明に含まれているすべての内容
は例示と解釈すべきであって本発明を限定すると解釈し
てはならない。
代理人 弁理士 秋 沢 政 光
他]名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11(a ) (1)式 で示されるルテニウム錯体〔式中Xはθ〜2の整数であ
シ、yは2まには3であり、MはPまたはA、sであり
、Rはアリールであり、 X+は水素、ハロゲンまたは
擬ハロゲンであり、fはハロゲンまたは擬ハロゲンであ
る。ただしくx)”+(y”)は8〜10の整数である
〕および(11)式 %式% で示されるルテニウム錯体し式中MおよびRは前述の意
味全もち、 X” 、X4およびX器は同一またはこと
なり、それぞれがハロゲンまたは擬ハロゲンであシ、r
は2または3であり、SはOまには1であり、Lは有機
単座配位子である。ただしSが0のときrは3でなけれ
ばならない〕よりなる群から選ばれる少なくとも1種の
触媒を溶解した液体反応媒の存在下、およびグリコール
アルデヒドよう強塩基である化合物よりなる群から選ば
れる少なくとも1種の助触媒の存在下でグリコールアル
デヒドと水素とを接触させてグリコールアルデヒドを水
素添加することによっでエチレングリコールを形成し。 (b)形成されたエチレングリコールを別の反応帯でカ
ルゼン酸と反応させてエチレングリコールの対応するカ
ルゼン酸エステルを形成することよりなるエチレングリ
コールのカルゼン酸エステルの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US181493 | 1980-08-26 | ||
US06/181,493 US4321414A (en) | 1980-08-26 | 1980-08-26 | Catalytic hydrogenation of glycolaldehyde to produce ethylene glycol |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60120837A true JPS60120837A (ja) | 1985-06-28 |
Family
ID=22664501
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56132821A Expired JPS6010013B2 (ja) | 1980-08-26 | 1981-08-26 | グリコ−ルアルデヒドの接触水素添加によるエチレングリコ−ルの改良製法 |
JP59224312A Pending JPS60120837A (ja) | 1980-08-26 | 1984-10-26 | エチレングリコ−ルのカルボン酸エステルの製法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56132821A Expired JPS6010013B2 (ja) | 1980-08-26 | 1981-08-26 | グリコ−ルアルデヒドの接触水素添加によるエチレングリコ−ルの改良製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4321414A (ja) |
EP (1) | EP0046680B1 (ja) |
JP (2) | JPS6010013B2 (ja) |
DE (1) | DE3164316D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008279666A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Panefuri Kogyo Kk | 金属調化粧シート及び金属調化粧材 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1223277A (en) * | 1982-06-16 | 1987-06-23 | Eit Drent | Process for the preparation of glycol aldehyde and the production of ethylene glycol therefrom |
US4506030A (en) * | 1984-02-17 | 1985-03-19 | The Board Of Regents, University Of Texas System | Catalysts for hydrogenation of aromatic compounds |
US4777302A (en) * | 1986-08-20 | 1988-10-11 | Mitsubishi Chemical Industries Limited | Method for hydrogenating an aldehyde and/or a ketone |
FR2623800B1 (fr) * | 1987-12-01 | 1990-01-26 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation d'alcools insatures |
FR2623805B1 (fr) * | 1987-12-01 | 1990-04-13 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation de la vitamine a |
FR2623799B1 (fr) * | 1987-12-01 | 1990-01-26 | Rhone Poulenc Sante | Procede de preparation d'alcools insatures |
DE3822036A1 (de) * | 1988-06-30 | 1990-02-08 | Hoechst Ag | Verfahren zur trennung von in waessriger oder waessrig/organischer loesung enthaltenen substanzgemischen |
CA2164685C (en) * | 1994-12-07 | 2005-03-08 | Takeshi Ohkuma | Method for producing an alcohol |
US6743921B2 (en) | 2002-01-24 | 2004-06-01 | Dsm Catalytica Pharmaceuticals, Inc. | Process for the preparation of nonracemic syn-1-(4-hydroxy-phenyl)-2-(4-hydroxy-4-phenyl-piperidin-1-yl)-1-propanol compounds |
US7301054B1 (en) | 2006-09-29 | 2007-11-27 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of glycolaldehyde |
US7420093B2 (en) * | 2006-09-29 | 2008-09-02 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of glycolaldehyde |
US7615671B2 (en) | 2007-11-30 | 2009-11-10 | Eastman Chemical Company | Hydrogenation process for the preparation of 1,2-diols |
BR112014008096A2 (pt) * | 2011-10-06 | 2017-04-11 | Firmenich & Cie | hidrogenação seletiva de aldeído com complexos de ru com ligantes bidentados |
TWI630197B (zh) * | 2013-02-27 | 2018-07-21 | 丹麥商哈爾德杜薩公司 | 從包含低分子量羰基化合物之組成物移除甲醛的方法 |
TWI508937B (zh) * | 2014-04-30 | 2015-11-21 | Chien An Chen | 使用甲醇為原料經由甲醛、乙醇醛的中間產物而合成乙二醇的製造方法 |
BR112016030694B1 (pt) * | 2014-06-30 | 2020-12-15 | Haldor Topsøe A/S | Processo para a preparação de etileno glicol a partir de açúcares |
CA2951779C (en) | 2014-06-30 | 2021-06-22 | Haldor Topsoe A/S | Process for the preparation of ethylene glycol from sugars |
CA2973436C (en) | 2015-01-13 | 2019-06-11 | Avantium Knowledge Centre B.V. | Process for preparing ethylene glycol from a carbohydrate |
PL3400208T3 (pl) * | 2016-01-07 | 2021-12-27 | Haldor Topsøe A/S | Sposób wytwarzania glikolu etylenowego z cukrów |
MX2018007748A (es) | 2016-01-07 | 2018-11-14 | Topsoe Haldor As | Proceso para la preparacion de etilenglicol a partir de azucares. |
EP3414218A1 (en) * | 2016-02-08 | 2018-12-19 | Shell International Research Maatschappij B.V. | Process for the hydrogenation of glycolaldehyde |
MX2019006646A (es) | 2016-12-08 | 2019-08-01 | Haldor Topsoe As | Produccion de glicolaldehido por medio de la fragmentacion termolitica. |
WO2019123055A1 (en) * | 2017-12-21 | 2019-06-27 | Sabic Global Technologies B.V. | Valorization of syngas via formaldehyde – hydroformylation of formaldehyde using heterogenized organometallic complexes of group viii metals |
KR20230152013A (ko) | 2021-01-29 | 2023-11-02 | 브라스켐 에세.아. | 결정화 제어가 증가된 2,4-fdca의 코폴리에스테르 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5337606A (en) * | 1976-09-17 | 1978-04-06 | Nat Distillers Chem Corp | Method of producing ethylene glycol |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3260759A (en) * | 1966-07-12 | Increased catalyst life in the hybroge- nation of hydroxyaldehydes to poly- gls | ||
US1534752A (en) * | 1920-05-21 | 1925-04-21 | Carbide & Carbon Chem Corp | Production of glycol esters |
GB1065395A (en) * | 1963-06-24 | 1967-04-12 | Engelhard Ind Inc | Hydrogenation of saturated aldehydes |
GB1227601A (ja) * | 1967-07-03 | 1971-04-07 | ||
US3883580A (en) * | 1972-02-09 | 1975-05-13 | Monsanto Co | Asymmetric reduction of ketones to form optically active alcohols |
US3935284A (en) * | 1973-10-19 | 1976-01-27 | Ici United States Inc. | Homogeneous hydrogenation of saccharides using ruthenium triphenyl phosphine complex |
US4024193A (en) * | 1973-10-19 | 1977-05-17 | Ici United States Inc. | Homogeneous hydrogenation process |
DE2715666A1 (de) * | 1977-04-07 | 1978-10-12 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von aethylenglykol |
-
1980
- 1980-08-26 US US06/181,493 patent/US4321414A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-08-24 EP EP81303852A patent/EP0046680B1/en not_active Expired
- 1981-08-24 DE DE8181303852T patent/DE3164316D1/de not_active Expired
- 1981-08-26 JP JP56132821A patent/JPS6010013B2/ja not_active Expired
-
1984
- 1984-10-26 JP JP59224312A patent/JPS60120837A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5337606A (en) * | 1976-09-17 | 1978-04-06 | Nat Distillers Chem Corp | Method of producing ethylene glycol |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008279666A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Panefuri Kogyo Kk | 金属調化粧シート及び金属調化粧材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6010013B2 (ja) | 1985-03-14 |
EP0046680B1 (en) | 1984-06-20 |
US4321414A (en) | 1982-03-23 |
EP0046680A1 (en) | 1982-03-03 |
JPS5775940A (en) | 1982-05-12 |
DE3164316D1 (en) | 1984-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60120837A (ja) | エチレングリコ−ルのカルボン酸エステルの製法 | |
US4328375A (en) | Process for the production of ethanol and/or acetaldehyde in the presence of metal complex catalyst systems | |
US4317946A (en) | Process for producing ethylene glycol via catalytic hydrogenation of glycolaldehyde | |
US4189441A (en) | Process for preparing esters from ethers or esters of lower homologous alcohols | |
EP0002908B1 (en) | Hydroformylation of formaldehyde with rhodium catalyst | |
US4659518A (en) | Preparation of carboxylic acids | |
JP2003525920A (ja) | アルデヒドから脂肪族カルボン酸を製造する方法 | |
EP0061791B1 (en) | Process for the preparation of glycol aldehyde | |
NL7905114A (nl) | Werkwijze voor de gelijktijdige bereiding van alcohol en vicinale glycolesters. | |
US4556744A (en) | Process for the production of ethanol and/or acetaldehyde by the metal catalysed liquid phase reaction of methanol, carbon monoxide and hydrogen in the presence of a solvent | |
US4357480A (en) | Process for the production of ethanol by the liquid phase hydrocarbonylation of methanol | |
JPS6324982B2 (ja) | ||
EP0072051B1 (en) | Process for the preparation of glycol aldehyde | |
EP2655305B1 (en) | Process for telomerization of butadiene using a mono-orthoalkoxy substituted catalyst | |
JPS6355501B2 (ja) | ||
JPH08245477A (ja) | 二酸化炭素の接触水素化によるホルムアルデヒドの製造方法 | |
US4511743A (en) | Process for homologating alcohols through the intermediate production of ketals with cobalt carbonyl complexes as catalysts | |
US4038208A (en) | Processes for regenerating dispersions of ligand-stabilized, palladium(ii) halide complexes used in carbonylation catalysts | |
EP0107496B1 (en) | Process for the preparation of esters | |
JPH08119904A (ja) | 乳酸エステルの製造方法 | |
JPH0123452B2 (ja) | ||
GB2087392A (en) | Process for the production of acetaldehyde dimethyl acetal | |
JPS5867641A (ja) | 酢酸の合成方法 | |
JPH0432815B2 (ja) | ||
JPH0692951A (ja) | α−メチル−γ−ブチロラクトンの製造方法 |