JPS60118839A - フォトマスクの製造方法 - Google Patents

フォトマスクの製造方法

Info

Publication number
JPS60118839A
JPS60118839A JP58226380A JP22638083A JPS60118839A JP S60118839 A JPS60118839 A JP S60118839A JP 58226380 A JP58226380 A JP 58226380A JP 22638083 A JP22638083 A JP 22638083A JP S60118839 A JPS60118839 A JP S60118839A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
resist
etching
line width
photomask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58226380A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyofumi Yamada
潔文 山田
Yoichi Yamaguchi
洋一 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP58226380A priority Critical patent/JPS60118839A/ja
Publication of JPS60118839A publication Critical patent/JPS60118839A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/80Etching

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体集積回路等の製造]二程において使用
されるフォトマスクの製造方法、とくに高精度のパター
ン寸法の線幅を有づるフ7Ij〜マスクの製造方法に関
する。
従来のフォトマスクの製造方法としては、第1図に示す
ような工程が使用されている。すなわち、第1図(a)
において、ガラス基板1上に01層2とポジ型フォトレ
ジスト3とを順次積層したフォトマスクブランク4に、
所望の線幅を得るべく露光マスク5を通して、フォ]・
レジスト3に水銀ランプ6により露光する。次に、同図
(b)において、現像液により現像して、未露光部分に
レジストパターン7を形成する。次に、同図(C)にお
いて、90℃前後のドライN2中でボスI−ベークを行
った後、レジストパターン7下以外のCrP2をエツチ
ング液によりエツチングして、そのしシストパターン7
下にOrパターン8を形成づる。
そして、同図(d)において、レジストパターン7を剥
自1し−て、フ第1・マスク9が製造される。
このようなフォトマスクの製造方法によれば、フォ[・
マスク9のパターン線幅Xが所望値を1!7でいるか否
かについで、製造後に評価するしかなく、所望値の範囲
外ひあれば、そのフォトマスク9は不良として処分され
ていた。一方、所望なパターン線幅を得るためには、)
)II−マスク!P!!造用のプロレス装置に刻して温
度等の外的条件を可なり厳しく与えて、同装置を保持し
なければならなかった。
本発明は、上記したような従来の欠点を除去するために
なされたもので、フォトマスク製造用のプロレス装置に
対して厳しい外的条件を与えることなく、非常に高精度
に、かつ容易にパターン線幅を所望値に近づ(プること
のできる)711〜マスクの製造方法を提供することを
目的としでいる。
このような目的を達成するため、本発明は、エツチング
工程にて、所定時間よりも短目のエツチング時間で残存
レジストパターン下以外の金属薄膜部分をエツチングし
て、太目の線幅を有づる金属パターンを形成し、前記太
目の線幅を測定したうえで、追加エツチング時間を定め
て追加エツチングすることにより所望な線幅を右りる金
属パターンを形成することを特徴とするフォトマスクの
製造方法である。
以下、本発明の一実施例であるポジ型フA1〜レジスト
を被覆した場合のフォトマスクの製造方法について、第
2図を参照して説明する。先ず、第2図(a)において
、透光性のアルミツボ日シリケートガラス((株)保谷
硝子製:LE−30)等から製作されたガラス基板1の
一方の主面上に、遮光性金属薄膜としてりDム膜2(膜
厚:約70OA)を真空蒸着等により形成し、更に、こ
のクロム膜2上にポジ型フォトレジスト3(米国5hi
pley製:AZ−1350等)(膜厚:約4,000
人)を被覆して成るフォトマスクブランク4を用意し、
このフォトマスクブランク4のレジスト3の上面に、所
望の設計パターン線幅(本例:X0=3μ箱)を右づる
露光マスク5を密着させた状態で、この露光マスク5の
上方から水銀ランプ6(波長=300〜500nm )
 I’Cヨル67mj/ Cm2f7)光エネルギーで
露光マスク5下以外のレジスト3を露光する。
次に、同図(b)において、現111液(本例:AZ−
1350デベ[」ツバ)により所定時間(本例二60秒
)現像処理して、レジスト露光部分を除去して、残存レ
ジストパターン7を形成Jる。この後、Q’C前後のド
ライN2中でポストベークを行い このレジスト7とク
ロム膜2のイ」管強度を向′1させる。
次tこ、同図(C)において、クロムIt!42に応じ
たエツチング液(本例:硝酸セリウムアンモン165g
と過塩素酸50111を純水1)の比率で混合した水溶
?Iりにて、通常の1ツチング一時間、すなわち、所望
の設計パターン線幅(本例:Xo=3μm)が得られる
エツチング時間(本例:40秒)よりも短い時間(本例
=25秒)で予備1ツチング1−る。この予備エツチン
グ時間のうち、約20秒経過時において、レジストパタ
ーン7の付着しでいない領域におりるクロム膜2の部分
がエツチングされて、この部分のクロム膜が取り去られ
、25秒経過時において、レジストパターン7下の残存
したクロムパターン8゛が多少アンダーカットされるも
のの、前述した所望の設計パターン線幅よりも太目に形
成される。
通常、加工工程の条件を厳しく制御させない装置では、
クロムパターンの線幅にO11〜0.3μm程度の太目
のバラツキを生じている。この状態で、本例の60ムパ
ターン8′の線幅を、透過光を用いた線幅測定器により
測定すると、 この測定値×3は、クロムパターン8′
上に残存レジスi・パターン7が付着しているために、
この残存レジストパターン7を除去した接のクロムパタ
ーン8′の線幅X より、予め実験でめたXl (本例
:X1= 0.03μm)だけ太目に測定される(本例
:X = 3.13 μml。この測定値×3と×1を
用いて、同図(C)のクロムパターン8゛の線幅×2は
X =X −Xl(本例: X2= 3.13−0.0
3 3=3.10μn+)よりまる。そこで、所望のクロム
パターンの設計線幅XOを得るためには、同図(c)の
クロムパターン8′が線幅(×2−x。
)だり太目になっていることから、 この線幅(X −
X61分だ(〕更にエツチング処理を追加し、線幅を細
くりる必要がある。
従って、本発明Cは、同図(d)において、更に、アン
ダーカッ1〜速度Vu(本例: 0.01μm1秒)で
同図(C)で承したクロムパターン8′の線幅X を(
X2−Xo)だ()細クシ、(×2−X。
1 /VLI秒(本例: (3,10−3,001/ 
0.01−10秒)だ(プ追加エツチング(ることによ
り、所望のクロムパターン8″の設削線幅X。を1(す
る。
そして、最後に、同図(e)において、残存レジスト7
を剥1’!1M(本例:硫酸と過酸化水素水の119合
液)に(剥離しC1所望の設削線幅X。(本例:X、、
=3μm)のクロムパターン8°°を形成したフォトマ
スク9を得る。
以上の実施例は、フ7+トレジストとしてポジ型フAト
レジス1へ3を使用したが、ネガ型フォトレジストを使
用し−Cもよい。第3図は、ネガ型フA1−レジスト3
′ (本例:東京応化工業(株)製:OMR−83、膜
厚:約7.000人)を使用したフォトマスクブランク
4′の本発明の他の実施例を示し、本例では前実施例と
対比して、露光マスク5′は、残存レジストに対応層る
部分を透光性にし、それ以外の部分を遮光性にしており
、51111j/cm2の光エネルギーでネガ型フ4ト
レジスト3′を露光する。この露光工程後については、
第2図(b)〜(e)と同様な工程を行う。ただし、現
像液については専用液を使用し、その現像時間は本例で
は、150秒となる。
なお、本発明において使用できる材料及び成膜方法は、
前述した実施例に限定されず、例えば、ガラス基板につ
いてはソーダライムガラス、合成石英等、遮光性金属薄
膜については酸化クロム、モリブデン、タングステン、
チタン等、及び成膜方法については、スパッタリング、
イオンプレーディング等を使用してもよい。また、レジ
ストについては通常のポジ型又はネガ型のノA]〜レジ
スト以外にも、EB露光法によるEB用ポジ型又はネガ
型のEBレジストを使用してもよい。このE[3露光法
の場合には、前述した露光マスク5,5′を使用しない
で、選択的に露光りることかできる。
以」−のとおり本発明にJ:れば、)Af−マスクを製
造づるためのブL】セス装置を厳密に安定化することな
く、金属薄膜パターンの線幅を所望なパターン設81線
幅に容易にかつ高精度に加工覆ることがぐぎ、良品率を
向」−さけることがて゛きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の7711〜マスクの製造方法を示す工程
図、第2図及び第3図はそれぞれ本発明による一実施例
のフォトマスクの製造方法を示づ工程図である。 1・・・ガラス基板、2・・・り【」ム膜、3・・・ポ
ジ型フ−A−l〜レジス1へ、3′ ・・・ネガ型フA
1〜レジス1へ、4,4′ ・・・ツーAt−マスクブ
ランク、5,5′ ・・・露光マスク、6・・・水銀ラ
ンプ、7・・・残存レジス]〜パターン、8′ ・・・
短目のエツチング時間で形成されたクロムパターン、8
″・・・追加エツチング時間で形成されたクロムパター
ン 手 続 補 正 書 (自発) 1.事flの表示 昭和58年特許願第226380号
2、発明の名称 フォトマスクの製造方法3、補正をJ
る右 事件との関係 特許出願人 イ]所 東京都新宿区西新宿1丁目13番12号〒16
0 置 03(348) 1221ボ A7 ガラス 名称 株式会社 保 谷 硝 子 (1) 明細書の1特許請求の範囲」の欄(2) 明I
II古の「発明の詳細な説明」の欄(1) 特許請求の
範囲を別紙の通り補正りる。 (2) 明細書筒5頁13行目に「過塩素酸50mJど
あるを「過塩素酸50d」と補正゛する。 以上 2、特許請求の範囲 (1) 透光性のガラス基板の一方の主面上に遮光性の
金属薄膜とレジストを順次積層したフォトマスクブラン
クの前記レジスト玉選択的に露光する露光工程と、現像
液により現像して残存レジストパターンを形成する現像
工程と、エツチング液によりエツチングして前記残存レ
ジストパターン下に前記金属パターンを形成するエツチ
ング工程と、剥離液により前記残存レジストパターンを
剥離する剥離工程とを含むフォトマスクの製造方法にお
いて、前記エツチング工程にて、所定時間よりも短目の
エツチング時間で前記残存レジストパターン下以外の前
記金属薄膜部分をエツチングして、太目の線幅を右する
金属パターンを形成し、前記太目の線幅を測定したうえ
で、追加エツチング時間を定めて追加エツチングするこ
とにより所望な線幅を有する金属パターンを形成するこ
とを特徴とするフォトマスクの製造方法。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 透光性のガラス基板の一方の主面上に遮光性の
    金属薄膜とレジストを順次積層したフォトマスクブラン
    クの前記レジストの上面に選択的に露光りる露光工程と
    、現像液により現像して残存レジストパターンを形成づ
    る現像工程と、前記金属薄膜と前記レジス[・の付着強
    度を向上させるボス]・ベーク工程と、エツチング液に
    よりエツチングして前記残存レジストパターン下に前記
    金属パターンを形成りるエツチングコニ程と、剥離液に
    より前記残存レジス]へパターンを剥離する剥離工程ど
    を含むフッ11−マスクの製造方法において、前記エツ
    チング工程にて、所定時間よりも短目のエツチング時間
    で前記残存レジス]・パターン下以外の前記金属薄膜部
    分をエツチングして、太目の線幅を右りる金属パターン
    を形成し、前記太目の線幅を測定したうえで、追加エツ
    チング時間を定めて追加エツチングすることにより所望
    な線幅を有づる金属パターンを形成することを特徴とす
    るフォトマスクの製造方法。
JP58226380A 1983-11-30 1983-11-30 フォトマスクの製造方法 Pending JPS60118839A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58226380A JPS60118839A (ja) 1983-11-30 1983-11-30 フォトマスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58226380A JPS60118839A (ja) 1983-11-30 1983-11-30 フォトマスクの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60118839A true JPS60118839A (ja) 1985-06-26

Family

ID=16844212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58226380A Pending JPS60118839A (ja) 1983-11-30 1983-11-30 フォトマスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60118839A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015219290A (ja) * 2014-05-14 2015-12-07 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5120676A (en) * 1974-08-14 1976-02-19 Dainippon Printing Co Ltd Fuotomasukuno fushokudoaino kenshutsuhohooyobisochi
JPS57116342A (en) * 1981-01-13 1982-07-20 Toshiba Corp Manufacture of photomask

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5120676A (en) * 1974-08-14 1976-02-19 Dainippon Printing Co Ltd Fuotomasukuno fushokudoaino kenshutsuhohooyobisochi
JPS57116342A (en) * 1981-01-13 1982-07-20 Toshiba Corp Manufacture of photomask

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015219290A (ja) * 2014-05-14 2015-12-07 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0072933B1 (en) Method for photolithographic pattern generation in a photoresist layer
JP3351485B2 (ja) 位相シフトマスクの製造方法
JPH0990603A (ja) 位相シフトマスクの製造方法
JPH0627636A (ja) フォトマスク及びフォトマスクの製造方法及びエッチング方法及び露光方法
JP3416554B2 (ja) マスク構造体の製造方法
JPS60118839A (ja) フォトマスクの製造方法
JPS6041340B2 (ja) ホトマスクの製造方法
CN107966876B (zh) 一种光刻板、芯片模组及光刻板的制备方法
JPH10274839A (ja) 修正用マスク及びハーフトーン位相シフトマスクの修正方法
JP3194410B2 (ja) ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
JPH08106152A (ja) フォトマスク及びその作製方法
JP2548268B2 (ja) レジストパターンの形成方法
JPH0743885A (ja) 位相シフトフォトマスクの製造方法
JPH0473651A (ja) 位相シフトマスクの形成方法
JPS59128540A (ja) フオトマスク
JPS5829619B2 (ja) シヤシンシヨツコクヨウホトマスク
JPS6148704B2 (ja)
JPS6154212B2 (ja)
KR100310420B1 (ko) 감광막 형성방법
JPH04273243A (ja) 位相シフトマスクとその製造方法
JPS58204532A (ja) パタ−ン形成方法
JPS609342B2 (ja) パタ−ンの作製法
JPH0777795A (ja) ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
JPS60231331A (ja) リフトオフ・パタ−ンの形成方法
JPS5950053B2 (ja) 写真蝕刻方法