JPS60115223A - マスク欠陥検査装置 - Google Patents
マスク欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPS60115223A JPS60115223A JP58222855A JP22285583A JPS60115223A JP S60115223 A JPS60115223 A JP S60115223A JP 58222855 A JP58222855 A JP 58222855A JP 22285583 A JP22285583 A JP 22285583A JP S60115223 A JPS60115223 A JP S60115223A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- stage
- masks
- holder
- defect inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、マスク上のパターン欠陥の有無を検査するマ
スク欠陥検査装置に係わり、特にマスクの自動供給シー
ケンスを備えたマスク欠陥検査装置に関する。
スク欠陥検査装置に係わり、特にマスクの自動供給シー
ケンスを備えたマスク欠陥検査装置に関する。
従来、βルやマスターマスク等のマスクの・母ターン欠
陥を検査するものとして、各種のマスク欠陥検査装置が
用いられている。この装置では、ステージ上に載置され
たマスクに光ビームや電子ビーム等を照射し、その透過
ビーム。
陥を検査するものとして、各種のマスク欠陥検査装置が
用いられている。この装置では、ステージ上に載置され
たマスクに光ビームや電子ビーム等を照射し、その透過
ビーム。
反射ビーム若しくは２次ビームを検出することによって
、パターン欠陥の検査が行われる。そして、複数枚のマ
スクの欠陥検査を行う場合、次のようなマスク自動供給
シーケンスが採用されている。すなわち、第１図に示す
如く複数枚のマスク１をマスクホルダ２に収容した後自
動供給機構にセットし、その中から所望のマスクツを選
択してステージｓ上へと送り込み、検査完了後ステージ
３上のマスク１をマスクホルダ２に戻す、ここで、マス
ク１の搬送には、例えばステージ−ホルダ間を押退可能
な搬送アーム４が用いられる０次いで、別のマスク１を
選択し、上記と同様なシーケンスにてマスク１の欠陥検
査を行うようにしていた。
、パターン欠陥の検査が行われる。そして、複数枚のマ
スクの欠陥検査を行う場合、次のようなマスク自動供給
シーケンスが採用されている。すなわち、第１図に示す
如く複数枚のマスク１をマスクホルダ２に収容した後自
動供給機構にセットし、その中から所望のマスクツを選
択してステージｓ上へと送り込み、検査完了後ステージ
３上のマスク１をマスクホルダ２に戻す、ここで、マス
ク１の搬送には、例えばステージ−ホルダ間を押退可能
な搬送アーム４が用いられる０次いで、別のマスク１を
選択し、上記と同様なシーケンスにてマスク１の欠陥検
査を行うようにしていた。
しかしながら、この種の装置にあっては次のような問題
があった。すなわち、１枚のマスクのみを検量した場合
にも、複数枚収容することが可能なマスクホルダに１枚
だけをセットしてステージ上へ送り込み、検査完了後マ
スクをマスクホルダに戻し、その後マスクホルダから取
出すと云う煩わしさがあり、また時間がかかる。
があった。すなわち、１枚のマスクのみを検量した場合
にも、複数枚収容することが可能なマスクホルダに１枚
だけをセットしてステージ上へ送り込み、検査完了後マ
スクをマスクホルダに戻し、その後マスクホルダから取
出すと云う煩わしさがあり、また時間がかかる。
さらに、複数枚のマスクをセットし、連続検査中に検査
の完了した１枚だけを取り出したい場合にも、マスクを
一旦マスクホルダまで戻した後オートシーケンスを中断
し、マスクホルダを自動供給機構から外してマスクホル
ダから所望のマスクを取り出す必要があり、極めて煩雑
であった。また、間違えたマスクをセットしたことに気
付いてそれだけを取り換えたいと云った場合にも、上記
と同様な手順をふむ必要があり。
の完了した１枚だけを取り出したい場合にも、マスクを
一旦マスクホルダまで戻した後オートシーケンスを中断
し、マスクホルダを自動供給機構から外してマスクホル
ダから所望のマスクを取り出す必要があり、極めて煩雑
であった。また、間違えたマスクをセットしたことに気
付いてそれだけを取り換えたいと云った場合にも、上記
と同様な手順をふむ必要があり。
煩わしさと時間のかかる点で不利であった。
本発明の目的は、複数枚のマスクの連続検査へのための
自動交換を行い得るのは勿論のこと。
自動交換を行い得るのは勿論のこと。
１枚ずつのマスクのａ−ド、アンＵ−ドを効率良く行い
得るマスク欠陥検査装置を提供することにある。
得るマスク欠陥検査装置を提供することにある。
本発明の骨子は、従来のマスク自動供給シーケンスに加
え、１枚のマスクを取り出し及び供給するための毎葉取
出しシーケンスを付加したことにある。
え、１枚のマスクを取り出し及び供給するための毎葉取
出しシーケンスを付加したことにある。
すなわち本発明は、マスク上の／母ターン、欠陥を検査
するものであって、上記マスクを載置するステージ、複
数枚のマスクを収容するマスクホルダ及びこれらのステ
ージ−ホルダ間で上記マスクを搬送する搬送機構を備え
たマスク欠陥検査装置において、前記ステージとマスク
ホルダとの間の所定の位置で１枚のマスクを前記搬送機
構から受取り、かつ上記搬送機構に授与する毎葉取出し
機構を設けるようにしたものである。
するものであって、上記マスクを載置するステージ、複
数枚のマスクを収容するマスクホルダ及びこれらのステ
ージ−ホルダ間で上記マスクを搬送する搬送機構を備え
たマスク欠陥検査装置において、前記ステージとマスク
ホルダとの間の所定の位置で１枚のマスクを前記搬送機
構から受取り、かつ上記搬送機構に授与する毎葉取出し
機構を設けるようにしたものである。
本発明によれば、レチクルホルダにセットされた複数枚
の他のマスクに関係なく、所望の必要賦のマスクの取出
し或いは供給検査が可能となる。このため、１枚のマス
クのみを検査したい場合や１枚のマスクのみを取り出し
たい場合等、極めて簡易な操作で短時間に実施すること
ができる。また、複数枚のマスクの連続検査のための自
動交換を行い得るのは勿等である。、〔発明の実施例〕 第２図は本発明の一実施例に係わるマスク欠陥検査装置
？示す概略構成図である。なお、第１図と同一部分には
同一符号を付してその詳しい説明は省略する。被検査マ
スク１はＸ方向（紙面左右方向）及びＹ方向（紙面表裏
方向）に移動可能なＸＹステージ３上に載置される。
の他のマスクに関係なく、所望の必要賦のマスクの取出
し或いは供給検査が可能となる。このため、１枚のマス
クのみを検査したい場合や１枚のマスクのみを取り出し
たい場合等、極めて簡易な操作で短時間に実施すること
ができる。また、複数枚のマスクの連続検査のための自
動交換を行い得るのは勿等である。、〔発明の実施例〕 第２図は本発明の一実施例に係わるマスク欠陥検査装置
？示す概略構成図である。なお、第１図と同一部分には
同一符号を付してその詳しい説明は省略する。被検査マ
スク１はＸ方向（紙面左右方向）及びＹ方向（紙面表裏
方向）に移動可能なＸＹステージ３上に載置される。
ステージ３は計算機１ノからの指令を受けたステージ駆
動回路１２により駆動される。そして、ステージｓの移
動位置はレーデ測長糸１３により測定され、計算機１１
に送出されるもの−となっている。
動回路１２により駆動される。そして、ステージｓの移
動位置はレーデ測長糸１３により測定され、計算機１１
に送出されるもの−となっている。
一方、前記ステージ３の上方には光源１４が配置されて
おり、この光源１４からの光はレンズ１５により集束さ
れ微小スポット光としてステージ３上のマスク１に照射
される。この光照射によりマスク１を透過した光はレン
ズ１６を介して光センサ１２．の受光部に結像される。
おり、この光源１４からの光はレンズ１５により集束さ
れ微小スポット光としてステージ３上のマスク１に照射
される。この光照射によりマスク１を透過した光はレン
ズ１６を介して光センサ１２．の受光部に結像される。
光センサ１７の検出出力は信号検出部１８に供給され、
信号検出部Ｊ８ではマスク１上のパターンに応じたデー
タ（検出データ）が出力される。
信号検出部Ｊ８ではマスク１上のパターンに応じたデー
タ（検出データ）が出力される。
信号検出部１８の検出データは、基準信号発生回路１９
からの設計データと共に欠陥判定部２ｂに供給される。
からの設計データと共に欠陥判定部２ｂに供給される。
ここで、基準信号発生回路Ｊ９はマスク１の設計／臂タ
ーンに相当するデーＩＩ ｆ −ｒ スフ１の位置情報
に応じて発生するものである。したがって、欠陥判定部
２ｏでは上記各データを比較照合することにより、マス
ク１上のパターンの欠陥の有無が判定されることになる
。
ーンに相当するデーＩＩ ｆ −ｒ スフ１の位置情報
に応じて発生するものである。したがって、欠陥判定部
２ｏでは上記各データを比較照合することにより、マス
ク１上のパターンの欠陥の有無が判定されることになる
。
ここまでの基本構成は従来一般的な装置と同様であり１
本実施例が従来装置と異なる点は。
本実施例が従来装置と異なる点は。
マスク１の供給機構にある。すなわち、前記ステージ３
とマスクホルダ２との間には、第３図及び第４図に示す
如くベルトコンペア等カ為らなる搬送機ｍ３ノが設けら
れ°Ｃおり、この搬送機［８１によりステージーホノシ
ダ副でマスク１が搬送されるものとなっている。なお、
図中３２は搬送機＄３１上のマスク１とステージ３の所
定値１ｉｉｉま°で移動する移動機構、３３はホルダ２
内のマスク１ｔ−搬送機構３１まで押し出す押出しアー
ムを示している。また、図には示さないが、搬送機構３
１の中央部、つまりステージ−ホルダ間の中央位置（毎
葉取出し位置）には。
とマスクホルダ２との間には、第３図及び第４図に示す
如くベルトコンペア等カ為らなる搬送機ｍ３ノが設けら
れ°Ｃおり、この搬送機［８１によりステージーホノシ
ダ副でマスク１が搬送されるものとなっている。なお、
図中３２は搬送機＄３１上のマスク１とステージ３の所
定値１ｉｉｉま°で移動する移動機構、３３はホルダ２
内のマスク１ｔ−搬送機構３１まで押し出す押出しアー
ムを示している。また、図には示さないが、搬送機構３
１の中央部、つまりステージ−ホルダ間の中央位置（毎
葉取出し位置）には。
マスク１を搬送機Ｉ？３１のベルト上にセット・リセッ
トする毎葉取出し機構が設けられている。
トする毎葉取出し機構が設けられている。
このような構成であれは、複数枚のマスク１の欠陥検査
上行う場合、まずボルダ２内に収容された複数枚のマス
ク１から所望の１枚を選択し、これを押出しアーム３３
により搬送機構３１のベルト上に押出、し該機１ｍ５ｘ
１Ｃよりステージ３上に搬送し移動機構３２によりステ
ージ３上の所定位置にセットする。ステー−）３上にセ
ットされたマスク１を前記第２図に示す装置を用すて欠
陥検査を行う。検査の完了したマスクＪを搬送機構３ノ
によりホルダ２内の空き領域に戻す１次いで、上記マス
ク１と異なるマスク１を選択し、上記と同様な操作でマ
スクｌの搬送・欠陥検査・再搬送を行５゜この操作を繰
り返すことによって、全てのマスクＪの欠陥検査が終了
することになる・ 一方、１枚のマスク１の欠陥検査を行う場合、メカニカ
ルチャック等を備えた毎葉取出し機構により、マスク１
を搬送機構３１のベルト上の毎葉取出し位置に載置する
。次いで、搬送機構３１ｆ駆動しマスク１をステージ３
上へ搬送する。検査の完了したマスクＩｆ：再び搬送機
構３１により前記毎葉取出し位置まで搬送する。
上行う場合、まずボルダ２内に収容された複数枚のマス
ク１から所望の１枚を選択し、これを押出しアーム３３
により搬送機構３１のベルト上に押出、し該機１ｍ５ｘ
１Ｃよりステージ３上に搬送し移動機構３２によりステ
ージ３上の所定位置にセットする。ステー−）３上にセ
ットされたマスク１を前記第２図に示す装置を用すて欠
陥検査を行う。検査の完了したマスクＪを搬送機構３ノ
によりホルダ２内の空き領域に戻す１次いで、上記マス
ク１と異なるマスク１を選択し、上記と同様な操作でマ
スクｌの搬送・欠陥検査・再搬送を行５゜この操作を繰
り返すことによって、全てのマスクＪの欠陥検査が終了
することになる・ 一方、１枚のマスク１の欠陥検査を行う場合、メカニカ
ルチャック等を備えた毎葉取出し機構により、マスク１
を搬送機構３１のベルト上の毎葉取出し位置に載置する
。次いで、搬送機構３１ｆ駆動しマスク１をステージ３
上へ搬送する。検査の完了したマスクＩｆ：再び搬送機
構３１により前記毎葉取出し位置まで搬送する。
そして、この位置でマスクＩｔ′搬送機構３ノから取り
出すことによって、１枚のマスク１の欠陥検査が終了す
る。
出すことによって、１枚のマスク１の欠陥検査が終了す
る。
また、ホルダ２内に収容された複数枚のマスク１の中か
ら所望の１枚を取り出したい場合、そのマスク１ｔ−搬
送機構３ノにより毎葉取出し位置まで搬送し、この位置
でマスク１ｔ−取り出す。この取り出しは、複数枚のマ
スク１の連続検査過程中でも同様に行うことが可能であ
る。
ら所望の１枚を取り出したい場合、そのマスク１ｔ−搬
送機構３ノにより毎葉取出し位置まで搬送し、この位置
でマスク１ｔ−取り出す。この取り出しは、複数枚のマ
スク１の連続検査過程中でも同様に行うことが可能であ
る。
かくして本実施例によれば、複数枚のマスクＪの連続検
査のための自動交換を行い得るのは勿椰のこと、１枚ず
つのマスクのロードｅアンロードを極めて容易に行うこ
とができる。また。
査のための自動交換を行い得るのは勿椰のこと、１枚ず
つのマスクのロードｅアンロードを極めて容易に行うこ
とができる。また。
従来装置に比して、ベルトコンペア等からなる搬送機構
３ノ及び毎葉取出し機構倉設けるのみの簡易な構成で実
現し得る等の利点がある。
３ノ及び毎葉取出し機構倉設けるのみの簡易な構成で実
現し得る等の利点がある。
なお１本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い０例えば、前記搬送機構はベルトコンベア等に限るも
のではなく、マスクをステージ−ホルダ間で搬送し、か
つステージ−ホルダ間の所定位置でマスクの固定保持が
解除されるものであればよい、さらに、搬送ａ栴の配設
位置は、必ずしもステージ−ホルダ間に限るものではな
い。また、欠陥検査のための照射ビームは光に限定され
るものではなく、電子ビームであってもよい。この場合
、ステージ、ホルダ及び搬送機構等を真空容器内に設置
する必要があり１本発明のように毎葉取出し位置から１
枚のマスクを取り出す或いは１枚のマスクを供給するこ
とは、操作性の点で極めて有効となるのである。その他
、本発明の要旨を逸脱しない範囲で１種々変形して実施
することができる。
い０例えば、前記搬送機構はベルトコンベア等に限るも
のではなく、マスクをステージ−ホルダ間で搬送し、か
つステージ−ホルダ間の所定位置でマスクの固定保持が
解除されるものであればよい、さらに、搬送ａ栴の配設
位置は、必ずしもステージ−ホルダ間に限るものではな
い。また、欠陥検査のための照射ビームは光に限定され
るものではなく、電子ビームであってもよい。この場合
、ステージ、ホルダ及び搬送機構等を真空容器内に設置
する必要があり１本発明のように毎葉取出し位置から１
枚のマスクを取り出す或いは１枚のマスクを供給するこ
とは、操作性の点で極めて有効となるのである。その他
、本発明の要旨を逸脱しない範囲で１種々変形して実施
することができる。
第１図は従来のマスク自動供給機＃１を説明するための
模式図、第２図は本発明の一実施例に係わるマスク欠陥
検査装置を示す概略構成図。 第３図及び第４図はそれぞれ上記装置に使用したマスク
自動供給機構を説明するための模式図である。 １…マスク、２・・・マスクホルダ、３…ステージ、３
ノ・・・搬送機構、３２・・・移動機構、３３・・・押
出しアーム。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 豚箱１図 第３図 第４図 第２図
模式図、第２図は本発明の一実施例に係わるマスク欠陥
検査装置を示す概略構成図。 第３図及び第４図はそれぞれ上記装置に使用したマスク
自動供給機構を説明するための模式図である。 １…マスク、２・・・マスクホルダ、３…ステージ、３
ノ・・・搬送機構、３２・・・移動機構、３３・・・押
出しアーム。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 豚箱１図 第３図 第４図 第２図
Claims (3)
- （１）所定のパターンが形成されたマスク上に光取ビー
ム若しくは電子ビームを照射し、その透過ビーム、反射
ビーム或いは２次ビームを検出して上記パターンの欠陥
の有無を検査するマスク欠陥検査装置において、前記マ
スクを載置するステージと、複数枚のマスクを収容する
マスクホルダと、上記ステージとマスクホルダとの間で
前記マスクを搬送する搬送４幾構と、前記ステージとマ
スクホルダとの間の所定の位置（毎葉取出し位置）で１
枚のマスクを上記搬送機構から１受取り、かつ上記搬送
機構に授与する毎葉取出し機構とを具備してなることｔ
特徴とするマスク欠陥検査装置。 - （２）前記搬送（幾構は、前記ステージとマスクホルダ
との間に設けられたものであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のマスク欠陥検査装置。 - （３） 前記搬送機構は、前記ステージ、マスクホルダ
及び毎葉取出し位置で前記マスクの搬送を停止する機能
を有したものであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のマスク欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58222855A JPS60115223A (ja) | 1983-11-26 | 1983-11-26 | マスク欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58222855A JPS60115223A (ja) | 1983-11-26 | 1983-11-26 | マスク欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60115223A true JPS60115223A (ja) | 1985-06-21 |
Family
ID=16788951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58222855A Pending JPS60115223A (ja) | 1983-11-26 | 1983-11-26 | マスク欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60115223A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57211746A (en) * | 1981-06-23 | 1982-12-25 | Fujitsu Ltd | Wafer conveying apparatus |
| JPS58118731A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-14 | キヤノン株式会社 | 検査装置 |
-
1983
- 1983-11-26 JP JP58222855A patent/JPS60115223A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57211746A (en) * | 1981-06-23 | 1982-12-25 | Fujitsu Ltd | Wafer conveying apparatus |
| JPS58118731A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-14 | キヤノン株式会社 | 検査装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3455458B2 (ja) | 塗布、現像装置及び塗布現像処理における基板再生システム | |
| CN107919310B (zh) | 加工装置 | |
| KR100444741B1 (ko) | 웨이퍼 처리 장치 | |
| JP7349240B2 (ja) | 基板倉庫及び基板検査方法 | |
| JP2000097671A (ja) | プリント基板の外観検査装置及び外観検査方法 | |
| KR101436177B1 (ko) | 도포ㆍ현상 장치 및 도포ㆍ현상 방법과, 기억 매체 | |
| JP3134738B2 (ja) | ハンドリングシステム | |
| JPH10154646A (ja) | 搬送装置 | |
| JPS60115223A (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
| JP2000272750A (ja) | 搬送装置 | |
| JP7016160B2 (ja) | Ｘ線検査装置 | |
| JPS59128125A (ja) | ロ−ダ・アンロ−ダ | |
| JPH10267860A (ja) | 異物検査装置 | |
| TW480589B (en) | Equipment for processing wafers | |
| JP3287058B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2000203702A (ja) | 自動搬送システム | |
| JP3696295B2 (ja) | 被加工物搬入搬出制御装置 | |
| JP2623361B2 (ja) | ワーク受け渡しシステム | |
| JPH0951028A (ja) | フォトマスク管理システム | |
| JPS59195645A (ja) | 露光マスク洗浄装置 | |
| JP2000221138A (ja) | 基板検査装置および基板検査方法 | |
| JPS62154749A (ja) | 処理装置 | |
| JPH118186A (ja) | レクチルの搬送方法および搬送装置 | |
| JPH01214020A (ja) | 半導体装置の露光装置 | |
| JP2024035039A (ja) | 搬送システム、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |