JPH118186A - レクチルの搬送方法および搬送装置 - Google Patents
レクチルの搬送方法および搬送装置Info
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- JPH118186A JPH118186A JP16125797A JP16125797A JPH118186A JP H118186 A JPH118186 A JP H118186A JP 16125797 A JP16125797 A JP 16125797A JP 16125797 A JP16125797 A JP 16125797A JP H118186 A JPH118186 A JP H118186A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】この発明は、特に多くのマスクパターンの要求
される半導体集積回路装置の製造工程において、多数の
レクチルが効率的に搬送・交換することができるレクチ
ルの搬送方法および搬送装置を提供することを課題とす
る。 【解決手段】レクチルライブラリ11のレクチルケース11
1 から第１のレクチルを選択し、レクチルキャリア12の
搬送台131 に搭載する。この搬送台131 は、搭載された
レクチルを異物検査部15で異物検査した後に、露光装置
本体部のレクチルステージに移送し、露光処理する。こ
のとき、次に使用されるレクチルがケース111 から選択
取り出され、搬送台132 に搭載されるもので、このレク
チルは異物検査部15で異物検査された後、待機される。
そして、第１のレクチルによる露光処理が終了したなら
ば、このレクチルがレクチルケース111 部に戻され、待
機していたレクチルが露光装置本体部に搬送される。
される半導体集積回路装置の製造工程において、多数の
レクチルが効率的に搬送・交換することができるレクチ
ルの搬送方法および搬送装置を提供することを課題とす
る。 【解決手段】レクチルライブラリ11のレクチルケース11
1 から第１のレクチルを選択し、レクチルキャリア12の
搬送台131 に搭載する。この搬送台131 は、搭載された
レクチルを異物検査部15で異物検査した後に、露光装置
本体部のレクチルステージに移送し、露光処理する。こ
のとき、次に使用されるレクチルがケース111 から選択
取り出され、搬送台132 に搭載されるもので、このレク
チルは異物検査部15で異物検査された後、待機される。
そして、第１のレクチルによる露光処理が終了したなら
ば、このレクチルがレクチルケース111 部に戻され、待
機していたレクチルが露光装置本体部に搬送される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、リソグラフィ工
程における露光装置である縮小投影露光装置（ステッ
パ）に係るものであり、特にレクチルの搬送・交換を行
うレクチルの搬送方法および搬送装置に関する。
程における露光装置である縮小投影露光装置（ステッ
パ）に係るものであり、特にレクチルの搬送・交換を行
うレクチルの搬送方法および搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ステッパにおいて、露光用のマスクとし
て使用されるレクチルは、１枚毎にレクチルライブラリ
から取出し、異物検査等の処理がされた後に露光装置本
体内に搬送されて、レクチルアライメント処理される。
て使用されるレクチルは、１枚毎にレクチルライブラリ
から取出し、異物検査等の処理がされた後に露光装置本
体内に搬送されて、レクチルアライメント処理される。
【０００３】すなわち、図３で示すように、まず使用す
るレクチルを指定するレクチル実行指示がされる。そし
て、この１枚のレクチルが動作開始されるもので、まず
異物検査部に搬送されて異物検査が実行され、ごみ等が
付着していないか否かを検査する。そして、この検査が
終了した後に、このレクチルが露光装置本体内へロード
される。そして、レクチルアライメント処理されて露光
されるもので、リソグラフィ処理が実行される。
るレクチルを指定するレクチル実行指示がされる。そし
て、この１枚のレクチルが動作開始されるもので、まず
異物検査部に搬送されて異物検査が実行され、ごみ等が
付着していないか否かを検査する。そして、この検査が
終了した後に、このレクチルが露光装置本体内へロード
される。そして、レクチルアライメント処理されて露光
されるもので、リソグラフィ処理が実行される。
【０００４】この様な露光処理が終了した後は、再び搬
送装置で露光済みのレクチルを搬送してレクチルライブ
ラリに戻すアンロード処理がされるものであり、この動
作は露光に使用されたレクチル１枚毎に実施される。ま
た、異物検査工程においてレクチルに異物が付着してい
ることが検出されたならば、ＮＧとされてレクチルケー
スに戻される。
送装置で露光済みのレクチルを搬送してレクチルライブ
ラリに戻すアンロード処理がされるものであり、この動
作は露光に使用されたレクチル１枚毎に実施される。ま
た、異物検査工程においてレクチルに異物が付着してい
ることが検出されたならば、ＮＧとされてレクチルケー
スに戻される。
【０００５】この様なステッパの動作において、レクチ
ルのライブラリからの取出しおよび異物検査工程や、使
用されたレクチルの戻し工程に比較的多くの時間を要す
る。したがって、１枚のレクチルが本体内で使用され、
レクチルライブラリに戻された後に、次のレクチルの選
択や異物検査を実行し、これを本体内に送り込む動作を
実行するようにしたのでは、非常に多くの時間を浪費す
る。
ルのライブラリからの取出しおよび異物検査工程や、使
用されたレクチルの戻し工程に比較的多くの時間を要す
る。したがって、１枚のレクチルが本体内で使用され、
レクチルライブラリに戻された後に、次のレクチルの選
択や異物検査を実行し、これを本体内に送り込む動作を
実行するようにしたのでは、非常に多くの時間を浪費す
る。
【０００６】最近の集積回路装置を製造するに際して
は、非常に多数のマスクパターンが使用される。すなわ
ち、多数のレクチルが順次選択され露光装置本体内に搬
送されるものであり、これがレクチル１枚毎に実行され
たのでは、相対的に多くの時間を必要とされる。
は、非常に多数のマスクパターンが使用される。すなわ
ち、多数のレクチルが順次選択され露光装置本体内に搬
送されるものであり、これがレクチル１枚毎に実行され
たのでは、相対的に多くの時間を必要とされる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記のよう
な点に鑑みなされたもので、特に多くのマスクパターン
の要求される半導体集積回路装置の製造工程において、
マスクパターンの形成された多数のレクチルが効率的に
搬送・交換することができ、製造時間の短縮が効果的に
図れるようにしたレクチルの搬送方法および搬送装置を
提供しようとするものである。
な点に鑑みなされたもので、特に多くのマスクパターン
の要求される半導体集積回路装置の製造工程において、
マスクパターンの形成された多数のレクチルが効率的に
搬送・交換することができ、製造時間の短縮が効果的に
図れるようにしたレクチルの搬送方法および搬送装置を
提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明に係るレクチル
の搬送方法は、レクチルライブラリに収納されている複
数のレクチルの中から露光に使用する第１のレクチルを
選択し、この選択された第１のレクチルを異物検査部に
搬送して第１の異物検査を実行する。この第１の異物検
査の実行された第１のレクチルは露光装置本体内へロー
ドする第１のロード工程が行われ、この第１のロード中
において前記レクチルライブラリから第２のレクチルを
選択して取出し、この選択された第２のレクチルを異物
検査部に搬送し、第２の異物検査を実行する。そして、
前記本体内で露光処理された第１のレクチルはその露光
処理後にレクチルライブラリへアンロードし、このアン
ロード工程の後に異物検査された第２のレクチルを露光
装置本体内へ第２のロードするもので、第１のレクチル
が露光されている間に、次に使用する第２のレクチルが
準備待機されるようにした。
の搬送方法は、レクチルライブラリに収納されている複
数のレクチルの中から露光に使用する第１のレクチルを
選択し、この選択された第１のレクチルを異物検査部に
搬送して第１の異物検査を実行する。この第１の異物検
査の実行された第１のレクチルは露光装置本体内へロー
ドする第１のロード工程が行われ、この第１のロード中
において前記レクチルライブラリから第２のレクチルを
選択して取出し、この選択された第２のレクチルを異物
検査部に搬送し、第２の異物検査を実行する。そして、
前記本体内で露光処理された第１のレクチルはその露光
処理後にレクチルライブラリへアンロードし、このアン
ロード工程の後に異物検査された第２のレクチルを露光
装置本体内へ第２のロードするもので、第１のレクチル
が露光されている間に、次に使用する第２のレクチルが
準備待機されるようにした。
【０００９】また、レクチルの搬送装置は複数のレクチ
ルが待機設定されるレクチルライブラリからレクチルキ
ャリアで指定された１つのレクチルを選択取出し、取出
されたレクチルが少なくとも２組のレクチル搬送部の一
方に搭載されるようにする。この少なくとも２つのレク
チル搬送部の１つに搭載されたレクチルが異物検査部に
搬送されるもので、この異物検査部で検査されたレクチ
ルを露光処理本体部に搬送して露光処理に使用すると共
に、この間に前記少なくとも２つのレクチル搬送部の他
の搬送部に次に選択されるレクチルを搭載し、異物検査
処理して待機されるようにする。
ルが待機設定されるレクチルライブラリからレクチルキ
ャリアで指定された１つのレクチルを選択取出し、取出
されたレクチルが少なくとも２組のレクチル搬送部の一
方に搭載されるようにする。この少なくとも２つのレク
チル搬送部の１つに搭載されたレクチルが異物検査部に
搬送されるもので、この異物検査部で検査されたレクチ
ルを露光処理本体部に搬送して露光処理に使用すると共
に、この間に前記少なくとも２つのレクチル搬送部の他
の搬送部に次に選択されるレクチルを搭載し、異物検査
処理して待機されるようにする。
【００１０】この様に構成されるレクチル搬送方法およ
び搬送装置によれば、連続して使用される複数のレクチ
ルの１つが露光処理に使用されている間に、次に使用す
る予定のレクチルが準備され、異物検査処理して待機さ
れるものであり、使用済みのレクチルがアンロードされ
た後に、ただちに次のレクチルが露光装置本体内にロー
ドされる。したがって、レクチルの交換作業が短時間に
効率的に行われて、この種リソグラフィ工程の効率化に
大きな効果を発揮する。
び搬送装置によれば、連続して使用される複数のレクチ
ルの１つが露光処理に使用されている間に、次に使用す
る予定のレクチルが準備され、異物検査処理して待機さ
れるものであり、使用済みのレクチルがアンロードされ
た後に、ただちに次のレクチルが露光装置本体内にロー
ドされる。したがって、レクチルの交換作業が短時間に
効率的に行われて、この種リソグラフィ工程の効率化に
大きな効果を発揮する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
一実施の形態を実施例に基づき説明する。図１はレクチ
ル搬送装置の構成を示すもので、レクチルライブラリ部
11にはレクチルケース111 が設定され、多数のレクチル
が収納されている。そして、このレクチルケース111 に
収納されたレクチルは、露光装置における使用順位にし
たがって順次選択され、レクチルキャリア12に取り出さ
れる。この場合、例えば空気の吸引等によってキャリア
12に搭載され、このレクチルキャリア12によって搬送部
13に送られる。
一実施の形態を実施例に基づき説明する。図１はレクチ
ル搬送装置の構成を示すもので、レクチルライブラリ部
11にはレクチルケース111 が設定され、多数のレクチル
が収納されている。そして、このレクチルケース111 に
収納されたレクチルは、露光装置における使用順位にし
たがって順次選択され、レクチルキャリア12に取り出さ
れる。この場合、例えば空気の吸引等によってキャリア
12に搭載され、このレクチルキャリア12によって搬送部
13に送られる。
【００１２】この搬送部13には、例えば２組の搬送台13
1 、132 が設定されるもので、この２組の搬送台131 、
132 は１組の受け渡しアーム14に取り付けられ、異物検
査部15と露光装置本体部のレクチルステージ16との間で
移動される。
1 、132 が設定されるもので、この２組の搬送台131 、
132 は１組の受け渡しアーム14に取り付けられ、異物検
査部15と露光装置本体部のレクチルステージ16との間で
移動される。
【００１３】このレクチル搬送装置の動作について説明
すると、図２で示すように連続して使用される複数のレ
クチルの中の１枚目のレクチルが実行指示される。この
１枚目のレクチルは、レクチルキャリア12でレクチルケ
ース111 から取り出されて搬送部13に送られるもので、
２組の搬送台131 、132 の一方、例えば搬送台131 に搭
載される。
すると、図２で示すように連続して使用される複数のレ
クチルの中の１枚目のレクチルが実行指示される。この
１枚目のレクチルは、レクチルキャリア12でレクチルケ
ース111 から取り出されて搬送部13に送られるもので、
２組の搬送台131 、132 の一方、例えば搬送台131 に搭
載される。
【００１４】この搬送台131 に搭載された１枚目のレク
チルは、受け渡しアーム14を介して異物検査部15に送ら
れて異物検査が実行され、異物検査で異常なしと判断さ
れたレクチルは、再び受け渡しアーム14を介して露光装
置本体部のレクチルステージ16に送られる。そして、こ
のレクチルによるアライメントがが行われて、リソグラ
フィ処理が実行される。
チルは、受け渡しアーム14を介して異物検査部15に送ら
れて異物検査が実行され、異物検査で異常なしと判断さ
れたレクチルは、再び受け渡しアーム14を介して露光装
置本体部のレクチルステージ16に送られる。そして、こ
のレクチルによるアライメントがが行われて、リソグラ
フィ処理が実行される。
【００１５】この様な本体内での処理が開始されると、
次に使用される２枚目のレクチル選択が行われて、他の
搬送台132 に搭載され、異物検査部15に送られて異物検
査される。そして、この搬送台132 に搭載された状態で
待機される。
次に使用される２枚目のレクチル選択が行われて、他の
搬送台132 に搭載され、異物検査部15に送られて異物検
査される。そして、この搬送台132 に搭載された状態で
待機される。
【００１６】１枚目のレクチルの露光処理が終了された
ならば、このレクチルはレクチルキャリア12を介してレ
クチルケース111 に戻される。その後、待機状態にある
２枚目のレクチルが露光装置本体部にロードされる。
ならば、このレクチルはレクチルキャリア12を介してレ
クチルケース111 に戻される。その後、待機状態にある
２枚目のレクチルが露光装置本体部にロードされる。
【００１７】
【発明の効果】以上のようにこの発明に係るレクチル搬
送および搬送装置によれば、露光装置の本体内で連続し
て試用される複数のレクチルが、１枚のレクチルが露光
装置本体内で使用されている状態で、次に使用される２
枚目のレクチルが、異物検査された状態で待機されてい
るものであり、無駄な時間を浪費することなく、複数の
レクチルが露光装置本体内へ供給される。例えば、特に
多くのマスクパターンの要求される半導体集積回路装置
の製造工程において、マスクパターンの形成された多数
のレクチルが効率的に搬送・交換することができ、製造
時間の短縮が効果的に図れるようになる。
送および搬送装置によれば、露光装置の本体内で連続し
て試用される複数のレクチルが、１枚のレクチルが露光
装置本体内で使用されている状態で、次に使用される２
枚目のレクチルが、異物検査された状態で待機されてい
るものであり、無駄な時間を浪費することなく、複数の
レクチルが露光装置本体内へ供給される。例えば、特に
多くのマスクパターンの要求される半導体集積回路装置
の製造工程において、マスクパターンの形成された多数
のレクチルが効率的に搬送・交換することができ、製造
時間の短縮が効果的に図れるようになる。
【図１】この発明の一実施の形態に係る第１の実施例を
説明するための、レクチルの搬送機構を示す構成図。
説明するための、レクチルの搬送機構を示す構成図。
【図２】上記実施例の動作を説明するフローチャート。
【図３】従来の装置の動作の流れを説明するフローチャ
ート。
ート。
11…レクチルライブラリ、111 …レクチルケース、12…
レクチルキャリア、13…搬送部、131 、132 …搬送台、
14…受け渡しアーム、15…異物検査部、16…レクチルス
テージ。
レクチルキャリア、13…搬送部、131 、132 …搬送台、
14…受け渡しアーム、15…異物検査部、16…レクチルス
テージ。
Claims (2)
- 【請求項１】 レクチルライブラリに収納されている複
数のレクチルの中から露光に使用する第１のレクチルを
選択する第１のレクチル選択工程と、 この選択された第１のレクチルを異物検査部に搬送し、
第１の異物検査を実行する第１の異物検査工程と、 この第１の異物検査の実行された前記第１のレクチルを
露光装置本体内へロードする第１のロード工程と、 この第１のロード中に前記レクチルライブラリから第２
のレクチルを選択する第２のレクチル選択工程と、 この選択された第２のレクチルを異物検査部に搬送し、
第２の異物検査を実行する第２の異物検査工程と、 前記本体内で露光処理された前記第１のレクチルを前記
レクチルライブラリへアンロードし、収納するアンロー
ド工程と、 このアンロード工程の後に前記異物検査された第２のレ
クチルを露光装置本体内へロードする第２のロード工程
とを具備し、 第１のレクチルが露光されている間に、次に使用する第
２のレクチルが準備待機されるようにしたことを特徴と
するレクチルの搬送方法。 - 【請求項２】 複数のレクチルが待機設定されるレクチ
ルライブラリと、 このレクチルライブラリから指定された１つのレクチル
を選択取出すレクチルキャリアと、 このレクチルキャリアで取出されたレクチルが搭載され
る少なくとも２組のレクチル搬送部と、 この少なくとも２つのレクチル搬送部の１つに搭載され
たレクチルが搬送され、検査される異物検査部とを具備
し、 この異物検査部で検査されたレクチルを露光処理本体部
に搬送して露光処理に使用すると共に、この間に前記少
なくとも２つのレクチル搬送部の他の搬送部に次に選択
されるレクチルを搭載し、異物検査処理して待機される
ようにしたことを特徴とするレクチルの搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16125797A JPH118186A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | レクチルの搬送方法および搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16125797A JPH118186A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | レクチルの搬送方法および搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH118186A true JPH118186A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15731662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16125797A Pending JPH118186A (ja) | 1997-06-18 | 1997-06-18 | レクチルの搬送方法および搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH118186A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100693836B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2007-03-12 | 삼성전자주식회사 | 마스크 반송 장치, 마스크 반송 시스템 및 마스크 반송방법 |
| CN110133967A (zh) * | 2019-06-13 | 2019-08-16 | 无锡吉微精密电子有限公司 | 一种用于治具自动剥离掩膜版的机构及其工作方法 |
| CN110609452A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-12-24 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光机及其更换掩膜板的方法 |
-
1997
- 1997-06-18 JP JP16125797A patent/JPH118186A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100693836B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2007-03-12 | 삼성전자주식회사 | 마스크 반송 장치, 마스크 반송 시스템 및 마스크 반송방법 |
| CN110133967A (zh) * | 2019-06-13 | 2019-08-16 | 无锡吉微精密电子有限公司 | 一种用于治具自动剥离掩膜版的机构及其工作方法 |
| CN110133967B (zh) * | 2019-06-13 | 2021-04-09 | 无锡吉微精密电子有限公司 | 一种用于治具自动剥离掩膜版的机构及其工作方法 |
| CN110609452A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-12-24 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光机及其更换掩膜板的方法 |
| CN110609452B (zh) * | 2019-08-28 | 2022-02-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光机及其更换掩膜板的方法 |
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