JPS60108423A - 耐熱性感光材料 - Google Patents
耐熱性感光材料Info
- Publication number
- JPS60108423A JPS60108423A JP21416283A JP21416283A JPS60108423A JP S60108423 A JPS60108423 A JP S60108423A JP 21416283 A JP21416283 A JP 21416283A JP 21416283 A JP21416283 A JP 21416283A JP S60108423 A JPS60108423 A JP S60108423A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- imide
- heat
- photosensitive material
- acid
- unsaturated polyester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は、光硬化性、保存安定性、接着性に優れた耐熱
性感光材料に関する。
性感光材料に関する。
［発明の技術的背景とその問題点］
近年、耐熱性感光材料の需要は高く、主に電気、電子分
野における保護材料、絶縁材料、ソルダーレジスト、接
着剤、コーテイング材などとして、また半導体素子の製
造における耐熱性フォトレジストとして応用されつつあ
る。 この種の感光材料はその本来の特性として光硬化
性と耐熱性に優れていることが要求されるのみならず、
被着体に対して良好な接着性を示し、また絶縁特性、耐
湿性、耐薬品性などの諸特性をも満足するものであるこ
とが望まれる。 また一方において無公害、省資源、省
エネルギーの観点から無溶剤ないし僅かな溶剤量で被膜
形成能を有し、さらにかかる状態にされた感光材料が保
存安定性に優れていることが要求される。
野における保護材料、絶縁材料、ソルダーレジスト、接
着剤、コーテイング材などとして、また半導体素子の製
造における耐熱性フォトレジストとして応用されつつあ
る。 この種の感光材料はその本来の特性として光硬化
性と耐熱性に優れていることが要求されるのみならず、
被着体に対して良好な接着性を示し、また絶縁特性、耐
湿性、耐薬品性などの諸特性をも満足するものであるこ
とが望まれる。 また一方において無公害、省資源、省
エネルギーの観点から無溶剤ないし僅かな溶剤量で被膜
形成能を有し、さらにかかる状態にされた感光材料が保
存安定性に優れていることが要求される。
しかしながら従来の耐熱性感光材料にはこれらの要求特
性をいずれも満足するものは少ない。
性をいずれも満足するものは少ない。
一般に光硬化性に優れているものは保存安定性に劣る傾
向がみられ、また被着体に対する接着力に欠けるものが
多かった。
向がみられ、また被着体に対する接着力に欠けるものが
多かった。
［発明の目的］
本発明はこのような観点からなされたもので光硬化性、
保存安定性、接着性、耐湿性、耐薬品性に優れた耐熱性
感光材料を提供することを目的とするものである。
保存安定性、接着性、耐湿性、耐薬品性に優れた耐熱性
感光材料を提供することを目的とするものである。
［発明の概要］
本発明は、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、後述の材料が目的を達成できることを見い出し
たものである。
た結果、後述の材料が目的を達成できることを見い出し
たものである。
即ち、本発明は、分子内にイミド結合を有する二塩基酸
と、一般式 （但し、式中Ｒ１は三価のアルコール残基を表わす）で
示される分子内に感光基を有する二価アルコールとから
なる不飽和ポリエステル−イミドを主成分どすることを
特徴とする耐熱性感光材料である。
と、一般式 （但し、式中Ｒ１は三価のアルコール残基を表わす）で
示される分子内に感光基を有する二価アルコールとから
なる不飽和ポリエステル−イミドを主成分どすることを
特徴とする耐熱性感光材料である。
本発明に用いられる分子内にイミド結合を有する二塩基
酸とは、次の構造式を有する二塩基酸である。
酸とは、次の構造式を有する二塩基酸である。
（但し、式中Ｒ２は脂肪族または芳香族ジアミンの残基
を示す） 具体的なＲ２として、 等が挙げられ、 具体的な化合物としてはジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノ
シフ■ニルスルホン、ヘキザメチレンジアミン、ベンジ
ジン等が挙げられ、１種又は２種以上の混合物として使
用される。
を示す） 具体的なＲ２として、 等が挙げられ、 具体的な化合物としてはジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノ
シフ■ニルスルホン、ヘキザメチレンジアミン、ベンジ
ジン等が挙げられ、１種又は２種以上の混合物として使
用される。
上記の分子内にイミド結合を有する二塩基酸は多塩基酸
として１１１独で使用するが、必要に応じて他の二塩基
酸と併用して多塩基酸とすることも可能である。 しか
し王の使用量はイミド基を含む二塩基酸を用いることに
よる、本発明の特徴を損なわない範囲とすべきであり、
多塩基酸の種類に応じて適宜設定する。
として１１１独で使用するが、必要に応じて他の二塩基
酸と併用して多塩基酸とすることも可能である。 しか
し王の使用量はイミド基を含む二塩基酸を用いることに
よる、本発明の特徴を損なわない範囲とすべきであり、
多塩基酸の種類に応じて適宜設定する。
本発明に用いる前記一般式で示される分子内に感光基を
有する二価アルコールは、ケイ皮酸１モルと三価のアル
コール１モルとをエステル化反応させることにより容易
に合成される。 これに用いる三価アルコールとしては
、グリセリン、トリメチロールプロパン、１〜リス（２
−ヒドロキシエチル）イソシ）７ヌレート等が用いられ
る。 本発明は、前記一般式で示される二価アルコール
を多価アルコール成分として単独に用いるが、必要に応
じて他のアルコールを併用して多価アルコール成分とす
ることができる。 他のアルコールとしてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、１ヘリエブーレング
リニ〕−ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ブタンジオール、ペン５− デルグリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジ
オール等を挙げることができる。 不飽和ポリゴスプル
−イミドは、前述の如く分子内にイミド結合を有する二
塩基酸と分子内に感光基を有づる前記一般式で表わされ
る二価アルコールとを常法に準じて加熱反応させ、しか
る後減圧下で加熱反応ざぜて高綜合させ例えば酸価３０
以下にしてつくられる。 酸価が３０を超えると耐湿特
性などを低下させることがあり好ましくない。
有する二価アルコールは、ケイ皮酸１モルと三価のアル
コール１モルとをエステル化反応させることにより容易
に合成される。 これに用いる三価アルコールとしては
、グリセリン、トリメチロールプロパン、１〜リス（２
−ヒドロキシエチル）イソシ）７ヌレート等が用いられ
る。 本発明は、前記一般式で示される二価アルコール
を多価アルコール成分として単独に用いるが、必要に応
じて他のアルコールを併用して多価アルコール成分とす
ることができる。 他のアルコールとしてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、１ヘリエブーレング
リニ〕−ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ブタンジオール、ペン５− デルグリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジ
オール等を挙げることができる。 不飽和ポリゴスプル
−イミドは、前述の如く分子内にイミド結合を有する二
塩基酸と分子内に感光基を有づる前記一般式で表わされ
る二価アルコールとを常法に準じて加熱反応させ、しか
る後減圧下で加熱反応ざぜて高綜合させ例えば酸価３０
以下にしてつくられる。 酸価が３０を超えると耐湿特
性などを低下させることがあり好ましくない。
不飽和ポリエステル−イミドは分子内に光重合性炭素−
炭素二重結合を１個有するケイ皮酸の誘導体と分子内に
イミド結合を有する二塩基酸とを鎖状にエステル化して
なる、あるいは他の多塩基酸ないし多価アルコールとの
混在下でエステル化してなるもので鎖状分子内に特定割
合のイミド結合とペンダント型光重合性炭素−炭素二重
結合とを有し、また通常は鎖状分子内の両末端に遊離の
水酸基ないしカルボキシル基が含・まれでいる。
炭素二重結合を１個有するケイ皮酸の誘導体と分子内に
イミド結合を有する二塩基酸とを鎖状にエステル化して
なる、あるいは他の多塩基酸ないし多価アルコールとの
混在下でエステル化してなるもので鎖状分子内に特定割
合のイミド結合とペンダント型光重合性炭素−炭素二重
結合とを有し、また通常は鎖状分子内の両末端に遊離の
水酸基ないしカルボキシル基が含・まれでいる。
この不飽和ポリエステル−イミドは無溶剤ないしわずか
な溶剤量でもすぐれた皮膜形成能を有し、−〇− また溶液状態で保存しても短期間にゲル化するなどの支
障をきたさないすぐれた保存安定性を有している。
な溶剤量でもすぐれた皮膜形成能を有し、−〇− また溶液状態で保存しても短期間にゲル化するなどの支
障をきたさないすぐれた保存安定性を有している。
また使用に際しては鎖状分子内のケイ皮酸の誘導体に基
づく光重合性炭素−炭素二重結合によって非常によく光
硬化でき、とくに光増感剤を使用しなくとも短時間に硬
化させる利点がある。 従来公知の感光性材料の多くは
光増感剤を用いなければ実用的な硬化速度が得られてお
らず、この点において極めて有意義な感光材料といえる
。 さらにその硬化被膜は鎖状分子内のイミド結合によ
ってすぐれた耐熱性を示す。 また硬化被膜と被着体と
の接着が良好で、従来接着方向上のために不可欠とされ
ていた被着体表面のエツチング処理が不必要となる等の
利点がある。 更にこの種の被膜は絶縁特性、耐湿性、
耐薬品などの諸特性にも優れており、結局耐熱性感光材
料としての前述の要求特性をいずれも満足させることが
できる。
づく光重合性炭素−炭素二重結合によって非常によく光
硬化でき、とくに光増感剤を使用しなくとも短時間に硬
化させる利点がある。 従来公知の感光性材料の多くは
光増感剤を用いなければ実用的な硬化速度が得られてお
らず、この点において極めて有意義な感光材料といえる
。 さらにその硬化被膜は鎖状分子内のイミド結合によ
ってすぐれた耐熱性を示す。 また硬化被膜と被着体と
の接着が良好で、従来接着方向上のために不可欠とされ
ていた被着体表面のエツチング処理が不必要となる等の
利点がある。 更にこの種の被膜は絶縁特性、耐湿性、
耐薬品などの諸特性にも優れており、結局耐熱性感光材
料としての前述の要求特性をいずれも満足させることが
できる。
本発明の耐熱性感光材料は、上述の如き不飽和ポリエス
テル−イミドを主成分とするもので単独で゛も速かに光
硬化さぜることができるが、必要により光増感剤を添加
してもよい。 この増感剤を加えても保存安定性にほと
んど悪影響を与えない。
テル−イミドを主成分とするもので単独で゛も速かに光
硬化さぜることができるが、必要により光増感剤を添加
してもよい。 この増感剤を加えても保存安定性にほと
んど悪影響を与えない。
光増感剤どしては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルニーデル、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタルなどのカルボニル化合物、
ベンジルスルフィドの如き有機硫黄化合物、ハロゲン化
合物および光還元竹染利などが挙げられる。 光増感剤
の使用量は不飽和ポリエステル−イミド１００重量部に
対して通常５型開部以下とするのがよい。 また本発明
の耐熱性感光材料は、ケイ皮酸の特性による分光増感さ
ゼる特徴を有しており、この分光増感を行なわせる時は
、材料中にＮ−アセチル−４−ニトロナフチルジアミン
、５〜ニトロアセナフテンなどの公知の増感剤を配合す
ることができる。 この配合によ−）で４００ｎｍ以−
Ｆの可視領域に対しても感度を有することになり、紫外
線だけでなくタングスデンランプによる露光も可能とな
る。 尚この発明において光増感剤に代えあるいは光増
感剤とともに熱硬化付触媒として公知の有機過酸化物を
使用して光硬化後ざらに後処理として加熱処理し硬化を
改善させることもできる。
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルニーデル、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタルなどのカルボニル化合物、
ベンジルスルフィドの如き有機硫黄化合物、ハロゲン化
合物および光還元竹染利などが挙げられる。 光増感剤
の使用量は不飽和ポリエステル−イミド１００重量部に
対して通常５型開部以下とするのがよい。 また本発明
の耐熱性感光材料は、ケイ皮酸の特性による分光増感さ
ゼる特徴を有しており、この分光増感を行なわせる時は
、材料中にＮ−アセチル−４−ニトロナフチルジアミン
、５〜ニトロアセナフテンなどの公知の増感剤を配合す
ることができる。 この配合によ−）で４００ｎｍ以−
Ｆの可視領域に対しても感度を有することになり、紫外
線だけでなくタングスデンランプによる露光も可能とな
る。 尚この発明において光増感剤に代えあるいは光増
感剤とともに熱硬化付触媒として公知の有機過酸化物を
使用して光硬化後ざらに後処理として加熱処理し硬化を
改善させることもできる。
本発明は、上記の各成分の他に必要に応じて充填剤、接
着助剤などの公知の添加剤を配合してもよい。 また耐
熱性フォトレジストのようなレジスト材料などについて
は、トルエン、アセトン、デトラヒドロフランなどの有
機溶剤を適宜少量配合し、またビニル七ツマ−、ジビニ
ル化合物、アクリル（メタクリル）酸化合物、不飽和ポ
リエステル樹脂などの重合性不飽和化合物を配合して、
被膜形成時の粘度を低下させることもできる。
着助剤などの公知の添加剤を配合してもよい。 また耐
熱性フォトレジストのようなレジスト材料などについて
は、トルエン、アセトン、デトラヒドロフランなどの有
機溶剤を適宜少量配合し、またビニル七ツマ−、ジビニ
ル化合物、アクリル（メタクリル）酸化合物、不飽和ポ
リエステル樹脂などの重合性不飽和化合物を配合して、
被膜形成時の粘度を低下させることもできる。
本発明の耐熱性感光材料は保存安定性に非常にすぐれて
おり、液状ないし溶液状にしたものを室温に放置してい
ても短期間にゲル化することはない。 しかし長期間に
亘り保存するとぎは、その感光特性を考慮して暗室中ま
たは冷温室中に保存しておくのが望ましい。
おり、液状ないし溶液状にしたものを室温に放置してい
ても短期間にゲル化することはない。 しかし長期間に
亘り保存するとぎは、その感光特性を考慮して暗室中ま
たは冷温室中に保存しておくのが望ましい。
一方、使用に当たっては通常５０〜１００℃に加熱して
流動性となし、バーコータ、アプリケータ、−〇− スピンナなどによって被着体に塗工後、活性光線を照射
して光硬化させ、さらに必要に応じて耐熱性や接着性を
よりよく向上させるための後加熱処理を施こすことによ
って、すぐれた諸特性を有する光硬化膜を形成できる。
流動性となし、バーコータ、アプリケータ、−〇− スピンナなどによって被着体に塗工後、活性光線を照射
して光硬化させ、さらに必要に応じて耐熱性や接着性を
よりよく向上させるための後加熱処理を施こすことによ
って、すぐれた諸特性を有する光硬化膜を形成できる。
こうして得られた耐熱性感光材料は電気、電子分野に
お（プる保護材料、絶縁材料、ゾルダーレジスト、接着
剤、］−ティング剤等として利用できる。
お（プる保護材料、絶縁材料、ゾルダーレジスト、接着
剤、］−ティング剤等として利用できる。
［発明の実施例］
本発明を実施例によって説明する
実施例 １
撹拌器、コンデンサー、温度計を付した５００ｃｃ四つ
ロフラスコにトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート ２６１Ｑ （１モル）とケイ皮酸１４８ｇ
（１モル）を仕込み、フラスコ内湿度が１５０℃になっ
たら撹拌を開始してそのまま２２０℃まで温度を上昇さ
せた後にキジロールによる還流法を開始する。 約５時
間２２０℃で還流を行なわせて生成水１８Ｑ留出させた
。 次に１０〜２０ｍｍＨＱで減圧して残存水分を除き
、前記の分子内に感光１０− 基を有する二価アルコールを得た。
ロフラスコにトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート ２６１Ｑ （１モル）とケイ皮酸１４８ｇ
（１モル）を仕込み、フラスコ内湿度が１５０℃になっ
たら撹拌を開始してそのまま２２０℃まで温度を上昇さ
せた後にキジロールによる還流法を開始する。 約５時
間２２０℃で還流を行なわせて生成水１８Ｑ留出させた
。 次に１０〜２０ｍｍＨＱで減圧して残存水分を除き
、前記の分子内に感光１０− 基を有する二価アルコールを得た。
１〜リメリット酸３８．４ｇ（０，２モル）、ジアミノ
ジフェニルエーテル２０（］ （００，１モルをフラス
コに取り、室温で撹拌しながら反応を行ない約２時間で
１５０℃まで昇温させた後、感光基を有する二価アルコ
ール３９！；ｌ （０，１モル）を加え１８０〜２２０
℃で９時間反応させた後、約１０ｍ１ｌｌＨ（］、２０
０℃で２〜３時間反応させて酸価２２の不飽和ポリエス
テル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。
ジフェニルエーテル２０（］ （００，１モルをフラス
コに取り、室温で撹拌しながら反応を行ない約２時間で
１５０℃まで昇温させた後、感光基を有する二価アルコ
ール３９！；ｌ （０，１モル）を加え１８０〜２２０
℃で９時間反応させた後、約１０ｍ１ｌｌＨ（］、２０
０℃で２〜３時間反応させて酸価２２の不飽和ポリエス
テル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。
実施例 ２
トリメリット酸３８．４０ （０，２モル〉、ジアミノ
ジフェニルメタン１８．８ｇ（０，１モル）をフラスコ
に取り、室温で撹拌しながら反応を行ない、約２時間で
１５０°Ｃまで昇温させた後、実施例１の感光基を有す
る二価アルコール３９（１（０，１モル）を加え実施例
１と同様にして酸価１８の不飽和ポリエステル−イミド
を得て耐熱性感光材料とした。
ジフェニルメタン１８．８ｇ（０，１モル）をフラスコ
に取り、室温で撹拌しながら反応を行ない、約２時間で
１５０°Ｃまで昇温させた後、実施例１の感光基を有す
る二価アルコール３９（１（０，１モル）を加え実施例
１と同様にして酸価１８の不飽和ポリエステル−イミド
を得て耐熱性感光材料とした。
実施例 ３
１ヘリメリット酸３８．４０ （０，２モル）、ジメチ
ルパラフェニレンジアミン１３．６！］ （０，１モル
）をフラスコに取り、室温で撹拌しながら反応を行ない
、約２時間で１５０℃まで昇温させた後、実施例１の感
光基を有する二価アルコール３１，２（１（０，８モル
）、エチレングリコール１．２４ ａ （０，２モル）
を加え、実施例１と同様にして酸価１３の不飽和ポリエ
ステル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。
ルパラフェニレンジアミン１３．６！］ （０，１モル
）をフラスコに取り、室温で撹拌しながら反応を行ない
、約２時間で１５０℃まで昇温させた後、実施例１の感
光基を有する二価アルコール３１，２（１（０，８モル
）、エチレングリコール１．２４ ａ （０，２モル）
を加え、実施例１と同様にして酸価１３の不飽和ポリエ
ステル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。
以上の実施例１〜３で得られた耐熱性感光材料について
、保存安定性、硬化性、耐薬品性、密着性、耐熱性およ
び耐湿性の試験を行なったので、その結果を第１表に示
した。
、保存安定性、硬化性、耐薬品性、密着性、耐熱性およ
び耐湿性の試験を行なったので、その結果を第１表に示
した。
第１表
＊１ テトラヒドロフラン ３０重量％溶液＊２ 硬化
膜の外観状態を調べた ［発明の効果］ 本発明は光硬化性、保存安定性、接着性、耐湿性、耐薬
品性に優れた極めてバランスのとれた耐熱性感光材料で
電気、電子分野における保護材料、１３− ソルダーレジスト、コーティング材料に好適なものであ
る。
膜の外観状態を調べた ［発明の効果］ 本発明は光硬化性、保存安定性、接着性、耐湿性、耐薬
品性に優れた極めてバランスのとれた耐熱性感光材料で
電気、電子分野における保護材料、１３− ソルダーレジスト、コーティング材料に好適なものであ
る。
１４−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 分子内にイミド結合を有する二塩基酸と、一般式 〈但し、式中Ｒ１は三価のアルコール残基を表わす）で
示される分子内に感光基を有する二価アルコールとから
なる不飽和ポリエステル−イミドを主成分とすることを
特徴とする耐熱性感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21416283A JPS60108423A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 耐熱性感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21416283A JPS60108423A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 耐熱性感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60108423A true JPS60108423A (ja) | 1985-06-13 |
| JPH022884B2 JPH022884B2 (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=16651259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21416283A Granted JPS60108423A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 耐熱性感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60108423A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101015112B1 (ko) | 2004-07-12 | 2011-02-16 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 밀착력과 텐팅성이 향상된 감광성 수지조성물 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5917392B2 (ja) | 2009-05-01 | 2016-05-11 | ビミニ テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 組織及び細胞富化グラフトを最適化するシステム、方法及び組成物 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56120720A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Heat-resistant photosensitive material having improved storage stability |
| JPS5849748A (ja) * | 1981-09-19 | 1983-03-24 | Nitto Electric Ind Co Ltd | ふく射線感応型のポリアミドイミド系硬化性材料 |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP21416283A patent/JPS60108423A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56120720A (en) * | 1980-02-28 | 1981-09-22 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Heat-resistant photosensitive material having improved storage stability |
| JPS5849748A (ja) * | 1981-09-19 | 1983-03-24 | Nitto Electric Ind Co Ltd | ふく射線感応型のポリアミドイミド系硬化性材料 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101015112B1 (ko) | 2004-07-12 | 2011-02-16 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 밀착력과 텐팅성이 향상된 감광성 수지조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH022884B2 (ja) | 1990-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI359829B (en) | Photobase generator and curable composition | |
| US4540650A (en) | Photoresists suitable for forming relief structures of highly heat-resistant polymers | |
| US4430418A (en) | Radiation-sensitive polyimide precursor composition derived from a diaryl fluoronated diamine compound | |
| US4340453A (en) | U.V.-Curable resin with amine accelerator | |
| JPS60108423A (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| JPS5910732B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| US4180599A (en) | Crosslinking photoinitiators of acrylic benzophenonetetracarboxylates | |
| JPS5910731B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| JPS5910733B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| JPS5910730B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| JPS6121490B2 (ja) | ||
| TW200306458A (en) | New acid generator and thin film composition containing the same | |
| JPS6158085B2 (ja) | ||
| JPS61238809A (ja) | 感光性ポリイミドの樹脂液組成物 | |
| JPS5839446B2 (ja) | 保存安定性にすぐれる耐熱性感光材料 | |
| JPS58189261A (ja) | 溶融塗装用ポリエステル系樹脂組成物 | |
| WO2023054288A1 (ja) | 光塩基発生剤、化合物、光反応性組成物及び反応生成物 | |
| US4093577A (en) | Photocurable resin compositions | |
| JPS5839445B2 (ja) | 保存安定性にすぐれる耐熱性感光材料 | |
| CA1194250A (en) | Photopolymerisable resins | |
| JPS58160308A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
| JPH0156085B2 (ja) | ||
| JPS5936670B2 (ja) | 接着剤組成物 | |
| JPS5950970B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPS5932484B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 |