JPS60105645A - アリ−ルコハク酸エステルの製造法 - Google Patents

アリ−ルコハク酸エステルの製造法

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JPS60105645A
JPS60105645A JP21303883A JP21303883A JPS60105645A JP S60105645 A JPS60105645 A JP S60105645A JP 21303883 A JP21303883 A JP 21303883A JP 21303883 A JP21303883 A JP 21303883A JP S60105645 A JPS60105645 A JP S60105645A
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JP
Japan
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alkyl
formula
alkyl group
acid
group
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JP21303883A
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English (en)
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Yasumitsu Tamura
田村 恭光
Junichi Haruta
春田 純一
Yoshiaki Shirouchi
城内 善昭
Takayuki Yakura
隆之 矢倉
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は了り−ルコハク酸エステルの製造法に多“る。
さらに詳しくは、一般式〔1〕(式中、八−は芳香族基
を R1,R2,R3゜R4はそれぞれ水素またはアル
キル基を示す。)で表されるγ−ケト酸と、一般式〔2
〕A2 、、、(< (2) (iい11.A2は芳香族基を、X、Yはそれぞれ陰・
イオンとして脱離する基を示す。)で表される二二価ヨ
ウ素化合物および。
一般式〔7口 Iン5C(OR’ )s (3) (式中、R5L;I水素またはアルキル基を’Reはア
ルキル基を示す。) で表されるオルトカルボン酸アルキルとを、@の存在下
に反応させることを特徴とする。
一般式〔4〕 (式中 AIは芳香族基を Hl、R2,R3はそれぞ
れ水素またはアルキル基を R6はアルキル基を示し、
R,7はR4が水素のときR8とおなしアルキル基を 
R4がアルキル基のときR4とおなしアルキル基を示す
。)で表されるアリールコハク酸エステルの製造法に関
する。
アリールコハク酸エステルは、抗炎症作用を有すること
が知られているインダンカルボン酸類の中間体として有
用である。たとえば市販されているクリダナソク (−
船名)はアリールコノ\り酸エステルより製造し得る。
アリールコハク酸の製造法としては従来、 (イ)芳香
族アルデヒドとマロン酸エステルを縮合させた後、シア
ン化カリウムでシアノ化し加水分解する方法(Org、
Syn、且83 (1950) i J、Med、Ch
em、。
長、1297 (1972)参照)、(ロ)芳香族アセ
トニトリルの炭酸エステルを用いるアルコキシカルボニ
ル化の後、ブロム酢酸エステルでアルコキシカルボニル
メチル化し加水分解する方法(Chem。
Pharm、 Bull、+19+646+ (197
1) ; Chem、Pharm。
Bull、 22537. (1974)参照)、(ハ
)芳香族エチレンと一酸化炭素を用いる塩化パラジウム
等を触媒とするオキソ反応(J、八m、chem、so
c、 981810(14176)参照)等の方法が公
知である。しかし。
これらの方法は、毒性の極めて高いシアン化アルカリを
用い、かつ多くの工程を要する(イ、および口、の方法
)、高価な触媒を用い苛酷な反応条件である(ハ、の方
法)等の欠点があった。本宛明者らは、これらの欠点を
克服すべく鋭意検討した結果本発明を完成した。
本発明の製造法において原料である一般式(1)(式中
、八fは芳香族基を R1、R2、R3゜R4はそれぞ
れ水素またはアルキル基を示す。)で表されるγ−ケ1
酸は、対応する芳香族化合物と11!(水−!ハ//酸
誘導体から容易に合成できる。
また、 ・般rlQ(2) A2−1< (2) (式中 A2は芳香族基を、X、Yはそれぞれ陰イオン
として脱離する基を示す。) で表される三価ヨウ素化合物は、たとえば、X。
Yがクロルの場合、ヨ”つ素化芳香族炭化水素(一般式
〔2〕におけるA2−1>に塩素を作用させてl A2−1< を得る。
I このジクロル三価ヨウ素化合物に、たとえば。
酢酸を作用させればクロルをアセトキシ基で置換するこ
とができ、同様にして他の陰性基を有する三価ヨウ素化
合物をも製造することができる。
一般式〔3〕 R5C(OR’ )s (3) (式中 R5は水素またはアルキル基を Reはアルキ
ル基を示す。) で表されるオルトカルボン酸アルキルは通常の方法で合
成し得る。
本発明の優れた特徴としては、対応する芳香族化合物か
ら一工程で容易に得られるT−ケト酸を原料として1工
程のみで得られること1本工程が高収率であり2反応源
作が簡便であること、および反応終了後に副生ずる一般
式:A21(式中。
A2は前記と同じ息味を示す。)で表されるヨウ化ベン
ゼン誘導体が容易に回収され、再度前記一般式〔2〕で
表される三価ヨウ素化合物に変換できること等が挙げら
れる。よって本発明になる製造法により簡便で安価なア
リールコハク酸の工業的製造が可能となった。
本発明の製造法において、前記一般式〔2〕で表される
三価甘つ素化合物:Δ2〈 における。
陰イオンとして脱離する基X、Yとしては、たとえばア
ノ!トキシ、!・リフルオロアセトキシ、ヘンソ゛イル
オニ1−シのようなアシルオキシ基、クロロ。
フルオIIなどが挙げられ、また、Xがトシルオキシ基
でYが水酸基の組合上でもよい。
前記一般式〔3〕で表されるオルトカルボン酸アルキル
として番よ、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルのよ
°)なオルトギ酸エステルが好ましい。
共存さ−Uる酸としては−aliIit酸あるいは60
%過塩素酸水溶液などが挙げられる。反応温度は0℃な
いし80℃、好ましくは50℃ないし60℃であり1反
応時間は原料の種頬、他の条件によっても異なるが通常
6時間以内である。 本発明を実施例をあげてさらに詳
細に説明するが1本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
実流±1.フェニルコハク酸ジメチルの製造β−ベンゾ
イルプロピオン酸0.356gとヨウ化ベンゼンジアセ
タート0.773gをオルトギ酸メチル15m1に加え
、室温下60%過塩素酸水溶液0.95gを加え10分
間攪はんした後50〜60℃で2時間攪はんした。反応
液を室温まで冷却し、エーテルを加え抽出し、水洗後エ
ーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮した。残さを
シリカゲルクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エ
チル=20/1)で精製し、フェニルコハク酸ジメチル
0.387gを無色結晶として得た。
融点54〜55℃(n−ヘキサン)収率:87%真扇、
ILL、〜実隻皿工・ 実施例1.に弔して第1表に示す化合物を製造した。
*:再粘品溶媒はいずれも石油エーテル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式〔1〕 (式中、八−は芳香族基を R1,R2,R3゜R4は
    それぞれ水素またはアルキル基を示す。)で表されるγ
    −ケト酸と。 一般式〔2〕 八”l< (2) (式中、Δ2は芳香族基を、 X、 Yはそれぞれ 3
    ゜陰−イオンとしてll1iIFIIする基を示す。)
    で表される三1IIIiFlつ素化合物および、 関・
    一般式〔3〕 R5C(01?’ )s (3) (式中、1セ5は水素またはアルキル基を Htlはア
    ルキル基を示す。) で表されるオルトカルボン酸アルキルとを、酸の存在下
    に反応させることを特徴とする。 一般式〔4〕 (式中 AIは芳香族基を R−、R2,R3:よそれ
    ぞれ水素またはアルキル基を B8はア」レキル基を示
    し R7はR4が水素のときR6とおなしアルキル基を
     R4がアルキル基のと%R4とおなしアルキル基を示
    す。)で表され乙アリールコハク酸エステルの製造法。
JP21303883A 1983-11-12 1983-11-12 アリ−ルコハク酸エステルの製造法 Pending JPS60105645A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0775690A1 (de) * 1995-11-24 1997-05-28 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von N-Lauroyl-L-glutaminsäuredimethylester
JP2007502259A (ja) * 2003-08-14 2007-02-08 グラクソ グループ リミテッド マトリックスメタロプロテイナーゼの阻害剤

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0775690A1 (de) * 1995-11-24 1997-05-28 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung von N-Lauroyl-L-glutaminsäuredimethylester
US5726331A (en) * 1995-11-24 1998-03-10 Hoechst Aktiengesellschaft Dimethyl n-lauroyl-l-glutamate
JP2007502259A (ja) * 2003-08-14 2007-02-08 グラクソ グループ リミテッド マトリックスメタロプロテイナーゼの阻害剤

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