JP2895900B2 - ３―ホルミルセフエム誘導体の製造法 - Google Patents
３―ホルミルセフエム誘導体の製造法Info
- Publication number
- JP2895900B2 JP2895900B2 JP2056955A JP5695590A JP2895900B2 JP 2895900 B2 JP2895900 B2 JP 2895900B2 JP 2056955 A JP2056955 A JP 2056955A JP 5695590 A JP5695590 A JP 5695590A JP 2895900 B2 JP2895900 B2 JP 2895900B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- derivative
- general formula
- reaction
- compound
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は３−ホルミルセフエム誘導体の製造法に関す
る。
る。
（従来の技術） 従来一般式（２） （式中R1はアミノ基又は保護されたアミノ基、R2は水素
原子又はカルボン酸保護基を示す）で表わされる３−ホ
ルミルセフエム誘導体を製造する方法としては、例えば （Ａ）３−ヒドロキシメチル−３−セフエム誘導体を酸
化する方法〔ｉ）ジメチルスルホキシド−無水酢酸;Hel
v.Chim.Acta,57,2044（1974），特開昭47−933号,ii）M
nO2;J.Med.Chem.,10（５）,966（1967）,iii）六価クロ
ム；特公昭46−20707号，特開昭49−80097号，特開昭50
−71691号〕、 （Ｂ）３−ハロメチル−２（又は３）−セフエム誘導体
を酸化する方法〔特開昭51−122087号〕、及び （Ｃ）３′−ブロモラクトンセフエム誘導体を酸化する
方法〔Chem.Pharm.Bull.,28,1339（1980）〕等が知られ
ている。
原子又はカルボン酸保護基を示す）で表わされる３−ホ
ルミルセフエム誘導体を製造する方法としては、例えば （Ａ）３−ヒドロキシメチル−３−セフエム誘導体を酸
化する方法〔ｉ）ジメチルスルホキシド−無水酢酸;Hel
v.Chim.Acta,57,2044（1974），特開昭47−933号,ii）M
nO2;J.Med.Chem.,10（５）,966（1967）,iii）六価クロ
ム；特公昭46−20707号，特開昭49−80097号，特開昭50
−71691号〕、 （Ｂ）３−ハロメチル−２（又は３）−セフエム誘導体
を酸化する方法〔特開昭51−122087号〕、及び （Ｃ）３′−ブロモラクトンセフエム誘導体を酸化する
方法〔Chem.Pharm.Bull.,28,1339（1980）〕等が知られ
ている。
しかし、方法Ａでは、セフエム環二重結合の異性化
（△３→△２）やラクトン化のような副反応を伴ない、
又、原料の３−ヒドロキシ−３−セフエム誘導体の合成
にも数段階の反応工程が必要であるなど目的物を得るた
めには単離、精製操作が繁雑となり収率が低下するとい
う欠点を有している。一方、方法Ｂでは酸化剤としてAg
F−ジメチルスルホキシドという高価な試薬が必要であ
り、生成物としては３−ホルミル−２−セフエム体しか
得られないという欠点を有している。更に方法Ｃにおい
ては、原料となる３′−ブロモラクトンセフエム誘導体
の合成に数工程を有し収率も低いという欠点を有してい
る。
（△３→△２）やラクトン化のような副反応を伴ない、
又、原料の３−ヒドロキシ−３−セフエム誘導体の合成
にも数段階の反応工程が必要であるなど目的物を得るた
めには単離、精製操作が繁雑となり収率が低下するとい
う欠点を有している。一方、方法Ｂでは酸化剤としてAg
F−ジメチルスルホキシドという高価な試薬が必要であ
り、生成物としては３−ホルミル−２−セフエム体しか
得られないという欠点を有している。更に方法Ｃにおい
ては、原料となる３′−ブロモラクトンセフエム誘導体
の合成に数工程を有し収率も低いという欠点を有してい
る。
（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は上記従来法の如き欠点がなく、安全、
簡便な操作で且つ入手容易な３−ハロメチルセフエム誘
導体から工業的に有利な方法で、高収率、高純度で３−
ホルミルセフエム誘導体を製造しうる方法を提供するこ
とにある。
簡便な操作で且つ入手容易な３−ハロメチルセフエム誘
導体から工業的に有利な方法で、高収率、高純度で３−
ホルミルセフエム誘導体を製造しうる方法を提供するこ
とにある。
（課題を解決するための手段） 本発明は一般式 （式中R1はアミノ基又は保護されたアミノ基、R2は水素
原子又はカルボン酸保護基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる３−ハロメチルセフエム誘導体を酸素の存
在下に酸化して、一般式 （２） （式中R1,R2は上記に同じ）で表わされる３−ホルミル
セフエム誘導体を得ることを特徴とする３−ホルミルセ
フエム誘導体の製造法に係る。
原子又はカルボン酸保護基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる３−ハロメチルセフエム誘導体を酸素の存
在下に酸化して、一般式 （２） （式中R1,R2は上記に同じ）で表わされる３−ホルミル
セフエム誘導体を得ることを特徴とする３−ホルミルセ
フエム誘導体の製造法に係る。
本発明で得られる３−ホルミルセフエム誘導体は例え
ばβ−ラクタム系抗生物質の中間体として有用である。
ばβ−ラクタム系抗生物質の中間体として有用である。
本発明によれば、一般式（２）で表わされる３−ホル
ミルセフエム誘導体は、一般式（１）で表わされる３−
ホルミルセフエム誘導体を酸素存在下に酸化するという
簡便な方法で高収率、高純度で製造され得る。
ミルセフエム誘導体は、一般式（１）で表わされる３−
ホルミルセフエム誘導体を酸素存在下に酸化するという
簡便な方法で高収率、高純度で製造され得る。
本明細書において、ＸはCl,Br,I等のハロゲン原子
を、好ましくは沃素原子を示す。R1で示される保護され
たアミノ基としてはフエノキシアセトアミド、ｐ−メチ
ルフエノキシアセトアミド、ｐ−メトキシフエノキシア
セトアミド、ｐ−クロロフエノキシアセトアミド、ｐ−
ブロモフエノキシアセトアミド、フエニルアセトアミ
ド、ｐ−メチルフエニルアセトアミド、ｐ−メトキシフ
エニルアセトアミド、ｐ−クロロフエニルアセトアミ
ド、ｐ−ブロモフエニルアセトアミド、フエニルモノク
ロロアセトアミド、フエニルジクロロアセトアミド、フ
エニルヒドロキシアセトアミド、フエニルアセトキシア
セトアミド、α−オキソフエニルアセトアミド、チエニ
ルアセトアミド、ベンズアミド、ｐ−メチルベンズアミ
ド、ｐ−ｔ−ブチルベンズアミド、ｐ−メトキシベンズ
アミド、ｐ−クロロベンズアミド、ｐ−ブロモベンズア
ミド、或いはTheodora W.Greene著の“Protective Grou
ps in Organic Synthesis"第７章（p218〜287）に記載
されている基、或いはフエニルグリシルアミド及びアミ
ノ基の保護されたフエニルグリシルアミド、ｐ−ヒドロ
キシフエニルグリシルアミド及びアミノ基、水酸基又は
その両方が保護されたｐ−ヒドロキシフエニルグリシル
アミドを例示できる。フエニルグリシルアミド及びｐ−
ヒドロキシフエニルグリシルアミドのアミノ基の保護基
としてはTheodora W.Greene著の“Protective Groups i
n Organic Synthesis"第７章（p218〜287）に記載され
ている基を例示できる。又ｐ−ヒドロキシフエニルグリ
シルアミドの水酸基の保護基としてはTheodora W.Green
e著の“Protective Groups in Organic Synthesis"第２
章（p10〜72）に記載されている基を例示できる。
を、好ましくは沃素原子を示す。R1で示される保護され
たアミノ基としてはフエノキシアセトアミド、ｐ−メチ
ルフエノキシアセトアミド、ｐ−メトキシフエノキシア
セトアミド、ｐ−クロロフエノキシアセトアミド、ｐ−
ブロモフエノキシアセトアミド、フエニルアセトアミ
ド、ｐ−メチルフエニルアセトアミド、ｐ−メトキシフ
エニルアセトアミド、ｐ−クロロフエニルアセトアミ
ド、ｐ−ブロモフエニルアセトアミド、フエニルモノク
ロロアセトアミド、フエニルジクロロアセトアミド、フ
エニルヒドロキシアセトアミド、フエニルアセトキシア
セトアミド、α−オキソフエニルアセトアミド、チエニ
ルアセトアミド、ベンズアミド、ｐ−メチルベンズアミ
ド、ｐ−ｔ−ブチルベンズアミド、ｐ−メトキシベンズ
アミド、ｐ−クロロベンズアミド、ｐ−ブロモベンズア
ミド、或いはTheodora W.Greene著の“Protective Grou
ps in Organic Synthesis"第７章（p218〜287）に記載
されている基、或いはフエニルグリシルアミド及びアミ
ノ基の保護されたフエニルグリシルアミド、ｐ−ヒドロ
キシフエニルグリシルアミド及びアミノ基、水酸基又は
その両方が保護されたｐ−ヒドロキシフエニルグリシル
アミドを例示できる。フエニルグリシルアミド及びｐ−
ヒドロキシフエニルグリシルアミドのアミノ基の保護基
としてはTheodora W.Greene著の“Protective Groups i
n Organic Synthesis"第７章（p218〜287）に記載され
ている基を例示できる。又ｐ−ヒドロキシフエニルグリ
シルアミドの水酸基の保護基としてはTheodora W.Green
e著の“Protective Groups in Organic Synthesis"第２
章（p10〜72）に記載されている基を例示できる。
R2で示されるカルボン酸保護基としてはベンジル基、
ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ジフ
エニルメチル基、トリクロロエチル基、ｔ−ブチル基或
いはTheodora W.Greene著の“Protective Groups in Or
ganic Synthesis"第５章（p152〜192）に記載されてい
る基を例示できる。
ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ジフ
エニルメチル基、トリクロロエチル基、ｔ−ブチル基或
いはTheodora W.Greene著の“Protective Groups in Or
ganic Synthesis"第５章（p152〜192）に記載されてい
る基を例示できる。
本発明においては、上記一般式（１）で表わされる３
−ハロメチルセフエム誘導体を酸素或いは空気存在下
に、必要ならば0.01〜20kg/cm2、好ましくは0.01〜10kg
/cm2の酸素或いは空気の加圧下に反応させる。本反応は
有機溶媒中で行うのが好ましい。有機溶媒としては一般
式（１）の化合物を溶解し、且つ該反応条件下不活性な
ものが使用できるが、好ましくはジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等のアミド類が挙げられる。
斯かる溶媒の使用量は、一般式（１）の化合物1kg当
り、0.5〜100程度、好ましくは１〜20程度とするの
が良い。
−ハロメチルセフエム誘導体を酸素或いは空気存在下
に、必要ならば0.01〜20kg/cm2、好ましくは0.01〜10kg
/cm2の酸素或いは空気の加圧下に反応させる。本反応は
有機溶媒中で行うのが好ましい。有機溶媒としては一般
式（１）の化合物を溶解し、且つ該反応条件下不活性な
ものが使用できるが、好ましくはジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等のアミド類が挙げられる。
斯かる溶媒の使用量は、一般式（１）の化合物1kg当
り、0.5〜100程度、好ましくは１〜20程度とするの
が良い。
本反応における反応温度は、原料物質、酸素圧等によ
り好ましい範囲は変化するが、通常−10〜80℃程度、好
ましくは０〜50℃程度である。本反応においては、通常
酸素のみで反応が進行するが、反応をより低い温度、よ
り短時間で完結させるために、添加物としてでんぷん、
亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸ト
リブチル、亜リン酸トリフエニル等の亜リン酸エステル
類、酸化ロジウム（III）、塩化ロジウム（III）、ロジ
ウムアセチルアセトナート（III）、ロジウムアセテー
トダイマー（II）等のロジウム塩類、バナジウムアセチ
ルアセトナート（III）、塩化バナジウム（III）、三酸
化バナジウム（III）、四酸化バナジウム（IV）、五酸
化バナジウム（Ｖ）、バナジルアセチルアセトナート、
硫酸バナジル、シユウ酸バナジル等のバナジウム塩類等
を加えることもできる。これら添加物の使用量は、一般
式（１）の化合物に対して0.0001〜５倍モルとするのが
よい。
り好ましい範囲は変化するが、通常−10〜80℃程度、好
ましくは０〜50℃程度である。本反応においては、通常
酸素のみで反応が進行するが、反応をより低い温度、よ
り短時間で完結させるために、添加物としてでんぷん、
亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸ト
リブチル、亜リン酸トリフエニル等の亜リン酸エステル
類、酸化ロジウム（III）、塩化ロジウム（III）、ロジ
ウムアセチルアセトナート（III）、ロジウムアセテー
トダイマー（II）等のロジウム塩類、バナジウムアセチ
ルアセトナート（III）、塩化バナジウム（III）、三酸
化バナジウム（III）、四酸化バナジウム（IV）、五酸
化バナジウム（Ｖ）、バナジルアセチルアセトナート、
硫酸バナジル、シユウ酸バナジル等のバナジウム塩類等
を加えることもできる。これら添加物の使用量は、一般
式（１）の化合物に対して0.0001〜５倍モルとするのが
よい。
本発明では上記反応終了後、例えば通常の抽出操作を
行うことにより目的とする一般式（２）で表わされる３
−ホルミルセフエム誘導体を単離し得る。更に精製の必
要があれば、再結晶、カラムクロマトグラフイー等の慣
用の精製手段を採用すればよい。
行うことにより目的とする一般式（２）で表わされる３
−ホルミルセフエム誘導体を単離し得る。更に精製の必
要があれば、再結晶、カラムクロマトグラフイー等の慣
用の精製手段を採用すればよい。
（発明の効果） 本発明においては、目的とする一般式（２）で表わさ
れる３−ホルミルセフエム誘導体が工業的に入手容易に
３−ハロメチルセフエム誘導体（１）より極めて簡便な
方法で且つ高収率で製造することができる。
れる３−ホルミルセフエム誘導体が工業的に入手容易に
３−ハロメチルセフエム誘導体（１）より極めて簡便な
方法で且つ高収率で製造することができる。
（実 施 例） 以下に実施例を挙げて本発明をより一層明らかにす
る。尚、Phはフエニル基、ｔ−Buはtert−ブチル基を示
す。
る。尚、Phはフエニル基、ｔ−Buはtert−ブチル基を示
す。
実施例１ 化合物１（1g）をジメチルホルムアミド（10ml）に溶
解する。この溶液をオートクレーブに加え、酸素を圧力
2.5kg/cm2まで封入する。室温で撹拌しながら、２時間
反応させる。このようにして得られた反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、無水MgSO
4で乾燥し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーを用いて精製することに
より化合物２が収率60％で得られた。
解する。この溶液をオートクレーブに加え、酸素を圧力
2.5kg/cm2まで封入する。室温で撹拌しながら、２時間
反応させる。このようにして得られた反応液に水を加
え、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、無水MgSO
4で乾燥し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーを用いて精製することに
より化合物２が収率60％で得られた。
NMR（CDCl3）；δ ppm 3.24,3.96（ABq,2H,J＝18Hz）,
3.63,3.68（ABq,2H,J＝16Hz）,3.80（s,3H）,4.98（d,1
H,J＝5Hz）,5.27,5.30（ABq,2H,J＝11Hz）,5.95（dd,1
H,J＝5Hz,9Hz）,6.04（d,1H,J＝9Hz）,6.90（d,1H,J＝6
Hz）,7.20〜7.40（m,7H）,9.79（s,1H） 実施例２ 化合物１（1g）をジメチルホルムアミド（10ml）に溶
かす。この溶液をオートクレーブに加え、バナジルアセ
チルアセトナート（0.1g）を加える。酸素を圧力5kg/cm
2まで封入する。室温で撹拌しながら、１時間反応させ
る。このようにして得られた反応液に水を加え、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗し、無水MgSO4で乾燥
し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーを用いて精製することにより化合
物２が収率90％で得られた。
3.63,3.68（ABq,2H,J＝16Hz）,3.80（s,3H）,4.98（d,1
H,J＝5Hz）,5.27,5.30（ABq,2H,J＝11Hz）,5.95（dd,1
H,J＝5Hz,9Hz）,6.04（d,1H,J＝9Hz）,6.90（d,1H,J＝6
Hz）,7.20〜7.40（m,7H）,9.79（s,1H） 実施例２ 化合物１（1g）をジメチルホルムアミド（10ml）に溶
かす。この溶液をオートクレーブに加え、バナジルアセ
チルアセトナート（0.1g）を加える。酸素を圧力5kg/cm
2まで封入する。室温で撹拌しながら、１時間反応させ
る。このようにして得られた反応液に水を加え、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗し、無水MgSO4で乾燥
し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーを用いて精製することにより化合
物２が収率90％で得られた。
実施例３ 化合物１（1g）をジメチルホルムアミド（10ml）に溶
かす。この溶液をオートクレーブに加え、塩化ロジウム
（10mg）を加える。酸素を圧力5kg/cm2まで封入する。
室温で撹拌しながら、２時間反応させる。このようにし
て得られた反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出する。
抽出液を水洗し、無水MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。
得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーを用いて精製することにより化合物２が収率80％で得
られた。
かす。この溶液をオートクレーブに加え、塩化ロジウム
（10mg）を加える。酸素を圧力5kg/cm2まで封入する。
室温で撹拌しながら、２時間反応させる。このようにし
て得られた反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出する。
抽出液を水洗し、無水MgSO4で乾燥し、減圧濃縮する。
得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーを用いて精製することにより化合物２が収率80％で得
られた。
実施例４〜７ 実施例２と同様に下記第１表に記載の化合物（１）を
反応させて相当する化合物（２）を得た。これらのNMR
スペクトルは別法で合成された化合物（２）のそれと一
致した。
反応させて相当する化合物（２）を得た。これらのNMR
スペクトルは別法で合成された化合物（２）のそれと一
致した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹岡 三千雄 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 城井 敬史 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 菊池 亮 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 昭51−122087（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 501/00 - 501/62 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中R1はアミノ基又は保護されたアミノ基、R2は水素
原子又はカルボン酸保護基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる３−ハロメチルセフエム誘導体を酸素の存
在下に酸化して、一般式（２） （式中R1,R2は上記に同じ）で表わされる３−ホルミル
セフエム誘導体を得ることを特徴とする３−ホルミルセ
フエム誘導体の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2056955A JP2895900B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | ３―ホルミルセフエム誘導体の製造法 |
| DE69119941T DE69119941T2 (de) | 1990-03-08 | 1991-03-07 | Verfahren zur Herstellung eines 3-Formylcephem-Derivats |
| EP91103514A EP0445821B1 (en) | 1990-03-08 | 1991-03-07 | Process for preparing a 3-formylcephem derivative |
| US07/665,838 US5142040A (en) | 1990-03-08 | 1991-03-07 | Process for preparing a 3-formylcephem derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2056955A JP2895900B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | ３―ホルミルセフエム誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03258783A JPH03258783A (ja) | 1991-11-19 |
| JP2895900B2 true JP2895900B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=13041968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2056955A Expired - Fee Related JP2895900B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | ３―ホルミルセフエム誘導体の製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5142040A (ja) |
| EP (1) | EP0445821B1 (ja) |
| JP (1) | JP2895900B2 (ja) |
| DE (1) | DE69119941T2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5856474A (en) * | 1994-04-25 | 1999-01-05 | Biochemie Gesellschaft, M.B.H. | Cephalosporin synthesis |
| US5631366A (en) * | 1995-01-12 | 1997-05-20 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for making 3-formylcephem derivatives |
| JP4749533B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2011-08-17 | 大塚化学株式会社 | セファロスポリン結晶 |
| JP4953501B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2012-06-13 | 大塚化学株式会社 | ３−セフェム誘導体結晶の製造方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH556876A (de) * | 1971-05-19 | 1974-12-13 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von cephalosporansaeurederivaten. |
| SE412238B (sv) * | 1971-05-24 | 1980-02-25 | Ciba Geigy | Forfarande for framstellning av 7 beta-amino-cefem-4-karboxylsyraforeningar genom dekarbonylering av en 3-formyl-cefem-4-karboxylsyraforening |
| JPS523951B2 (ja) * | 1972-12-08 | 1977-01-31 | ||
| US3950329A (en) * | 1972-12-11 | 1976-04-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated cephalosporins |
| JPS51122087A (en) * | 1975-04-14 | 1976-10-25 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | A method for preparing 7-acylamino-3- formyl-2-cephem-4-carboxylic aci d derivatives |
| US4546101A (en) * | 1982-09-10 | 1985-10-08 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | New cephem compounds useful for treating infectious diseases in human being and animals and processes for preparation thereof |
| JPS61199009U (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-12 | ||
| JPS6280318U (ja) * | 1985-11-09 | 1987-05-22 | ||
| JPH0571691A (ja) * | 1991-05-31 | 1993-03-23 | Nec Corp | 機器の高さ調節機構 |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2056955A patent/JP2895900B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-03-07 DE DE69119941T patent/DE69119941T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-07 US US07/665,838 patent/US5142040A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-07 EP EP91103514A patent/EP0445821B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03258783A (ja) | 1991-11-19 |
| US5142040A (en) | 1992-08-25 |
| DE69119941T2 (de) | 1996-10-24 |
| EP0445821B1 (en) | 1996-06-05 |
| DE69119941D1 (de) | 1996-07-11 |
| EP0445821A1 (en) | 1991-09-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0592965A (ja) | α，β−不飽和ケトラクトンの製造法 | |
| US3947465A (en) | 3-Alkylsilyl-2-oxazolidonone compounds and synthesis thereof | |
| JP2895900B2 (ja) | ３―ホルミルセフエム誘導体の製造法 | |
| KR20020068518A (ko) | 페니실린 결정 및 그 제조 방법 | |
| EP0018546B1 (en) | Process for the production of phenylglycyl chloride hydrochlorides | |
| KR100458233B1 (ko) | 3-비닐-세펨화합물의 제조방법 | |
| JPH034555B2 (ja) | ||
| JP3298929B2 (ja) | カルボン酸エステル又はカルボン酸チオエステルの新規製造方法 | |
| EP0481118B1 (en) | A method for producing butyl 3'-(1H-tetrazol-5-yl) oxanilate | |
| JPH0247473B2 (ja) | ||
| JP2898029B2 (ja) | セフェム誘導体ジメチルホルムアミド溶媒和結晶 | |
| SU1047390A3 (ru) | Способ получени 1-детиа-1-оксацефалоспоринов | |
| KR100404685B1 (ko) | 4-히드록시페닐글리신 무수물을 이용한 세팔로스포린화합물의 제조방법 | |
| JPH02282372A (ja) | Ｏ―アシルチアミンジスルフィド類の製造法 | |
| JP3876079B2 (ja) | １，２４−ジヒドロキシコレステロール類の製造法 | |
| JPH0812658A (ja) | シドノン類の製造法 | |
| JPS60105645A (ja) | アリ−ルコハク酸エステルの製造法 | |
| JPH07103129B2 (ja) | ペニシラン酸誘導体の改良された新規合成方法 | |
| KR900001854B1 (ko) | 세펨유도체의 제조방법 | |
| KR100202279B1 (ko) | 세푸록심 에스테르 유도체의 제조방법 | |
| JPH06306059A (ja) | 新規ヒドラゾン化合物、及びトリアゾール化合物の製造法 | |
| JPH0157117B2 (ja) | ||
| JPS62212391A (ja) | セフエムアルコキシ基の脱離法 | |
| JPS61126087A (ja) | ２α−メチル−２β−（１，２，３−トリアゾ−ル−１−イル）メチルペナム−３α−カルボン酸誘導体の製造法 | |
| JPH0892230A (ja) | ベンゾチアゾロン化合物の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080305 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090305 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |