JPS60103818A - 弾性表面波装置の製造方法 - Google Patents
弾性表面波装置の製造方法Info
- Publication number
- JPS60103818A JPS60103818A JP21091883A JP21091883A JPS60103818A JP S60103818 A JPS60103818 A JP S60103818A JP 21091883 A JP21091883 A JP 21091883A JP 21091883 A JP21091883 A JP 21091883A JP S60103818 A JPS60103818 A JP S60103818A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist mask
- acoustic wave
- surface acoustic
- resist
- exposed
- Prior art date
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は弾性表面波共振子や弾性表面波フィルタ等とし
て用いられる弾性表面波装置の製造方法に関する。
て用いられる弾性表面波装置の製造方法に関する。
この種の弾性表面波装置の中で例えば弾性表面波共振子
は、第1図の概略図に示すようニ、<上歯状の電極指か
らなる励振電極(1)と反射m極(2)とを圧′酸性基
板(3)上に設けてなる。斜線部分は励振電極内を伝搬
する表面波の平面的な位相のみだれを補償するダミー電
極(4)でfり6゜この弾性表面波装置の、を極は写真
蝕刻法(PEjP)だよりつくられる。この場合、エッ
チ/り後の電極パターZ Id 、第2図に示すようV
こ、<シ歯状#f、極指(5) 、 +6)の先端部近
傍(力VC隣接するくし凶状#4L極指(8)の部分に
四部t91 、 (IQIが生じてし葦う。
は、第1図の概略図に示すようニ、<上歯状の電極指か
らなる励振電極(1)と反射m極(2)とを圧′酸性基
板(3)上に設けてなる。斜線部分は励振電極内を伝搬
する表面波の平面的な位相のみだれを補償するダミー電
極(4)でfり6゜この弾性表面波装置の、を極は写真
蝕刻法(PEjP)だよりつくられる。この場合、エッ
チ/り後の電極パターZ Id 、第2図に示すようV
こ、<シ歯状#f、極指(5) 、 +6)の先端部近
傍(力VC隣接するくし凶状#4L極指(8)の部分に
四部t91 、 (IQIが生じてし葦う。
このため設計を行った時点の電極ノ(ターンとは異なる
形状となシ、設計通シの周波数特性が得られない場合が
多い。特に周波数が市くなると電極指幅か細くなり、前
記凹形の大きさは無視することができなくなる。
形状となシ、設計通シの周波数特性が得られない場合が
多い。特に周波数が市くなると電極指幅か細くなり、前
記凹形の大きさは無視することができなくなる。
前記凹形の発生原因は、If電性基板に被別させた金属
膜レジストマスクを介してエツチング敢で溶かす工程に
おいて、対向するくし歯状′電極指の先端部に対応ツー
る部分ではエツチング欣のケ此れがよく、先端部に隣接
する部分の金属膜がエツチングされ易くなめことに起因
する。ウェットのエソチング工程全採用すれば、電極に
不所望な四部が発生することは避けられない見象で66
。
膜レジストマスクを介してエツチング敢で溶かす工程に
おいて、対向するくし歯状′電極指の先端部に対応ツー
る部分ではエツチング欣のケ此れがよく、先端部に隣接
する部分の金属膜がエツチングされ易くなめことに起因
する。ウェットのエソチング工程全採用すれば、電極に
不所望な四部が発生することは避けられない見象で66
。
本発明は、前記凹形が従来よシ軽減される弾性表面波装
置の製造方法を提供するものである。
置の製造方法を提供するものである。
丁なわら本発明は、凹形の発生する部分にあらかじめ凸
形に突出したレジストマスクを形成しておき、このレジ
ストマスクを用いて金属膜をエツチングして′電極を形
成することによシ、凹部の発生を軽減するものでb−る 〔発明の実施例〕 以F本発明の詳細全図面を参照して説明する。
形に突出したレジストマスクを形成しておき、このレジ
ストマスクを用いて金属膜をエツチングして′電極を形
成することによシ、凹部の発生を軽減するものでb−る 〔発明の実施例〕 以F本発明の詳細全図面を参照して説明する。
いま700 ME(Z の弾性表面波共振子を厚さtl
、5朋の水晶基板を用いて設計する。この場合、励損・
1極の゛電極指の幅ははぽ1.2μmとな/)olず水
晶基板αυ上にアルミニウムαυを0.1μm蒸庸させ
た後(第3図)、アルミニクムαυ上にポジ型ホトレジ
ストαり例えばAz −1350を塗布す/b(ML
4図)。この後フォトマスクを介して紫外餓蕗元を行う
(第5図〕。第5図において露光した部分音クロスハツ
チ/グで示す。紫外線露光でしなかった部分Hは、平面
図に示す第6図に斜勝を施して示されるように、複数の
条(141、叫、αりからなる。切断された各条の先端
部近勇a’D 、 (l樽、四Vζ二隣接する条の部分
には0.2μmから0.3μmの凸形12υ、Qυ、Q
望、(至)が加わっている。次にポジ型ホトレジストα
2を現像して紫外線で4元した部分のポジ型ホトレジス
トα乃を除去して、その部分のアルミニウム(11)が
露出したレジストマスクを得る(第7図)。
、5朋の水晶基板を用いて設計する。この場合、励損・
1極の゛電極指の幅ははぽ1.2μmとな/)olず水
晶基板αυ上にアルミニウムαυを0.1μm蒸庸させ
た後(第3図)、アルミニクムαυ上にポジ型ホトレジ
ストαり例えばAz −1350を塗布す/b(ML
4図)。この後フォトマスクを介して紫外餓蕗元を行う
(第5図〕。第5図において露光した部分音クロスハツ
チ/グで示す。紫外線露光でしなかった部分Hは、平面
図に示す第6図に斜勝を施して示されるように、複数の
条(141、叫、αりからなる。切断された各条の先端
部近勇a’D 、 (l樽、四Vζ二隣接する条の部分
には0.2μmから0.3μmの凸形12υ、Qυ、Q
望、(至)が加わっている。次にポジ型ホトレジストα
2を現像して紫外線で4元した部分のポジ型ホトレジス
トα乃を除去して、その部分のアルミニウム(11)が
露出したレジストマスクを得る(第7図)。
次に水晶基板aυをリン酸と硝酸と酢酸と水の混合液の
入ったビーカーに浸して、レジストをマスクとして露出
したアルミニウムαυをエツチングする(第8図)。こ
の後レジストマスクを除去する(第9図)。
入ったビーカーに浸して、レジストをマスクとして露出
したアルミニウムαυをエツチングする(第8図)。こ
の後レジストマスクを除去する(第9図)。
従来の方法では、0.3μnlから0.5μmの凹形が
・ぼ極相に発生していたが、本発明によれば、第10図
に示すように、出来上がった電極指(5) 、 (6)
、 +a+に発生した凹形は、0.1μIn以下にと
どよジ設計値に近いものが得られる。
・ぼ極相に発生していたが、本発明によれば、第10図
に示すように、出来上がった電極指(5) 、 (6)
、 +a+に発生した凹形は、0.1μIn以下にと
どよジ設計値に近いものが得られる。
なおレジストマスクの突出部の形状は、コノピユータを
利用した設計のしやすさを考慮した第11図に示すよう
な矩形状であっても、十分に従来よりよい効果が得られ
る。また上述の実施例では弾性表面波共振子についてだ
け説明したが、本発明は弾性表面波フィルタを製造する
場合にも適用できる。またフォトレジストはポジ型でな
くネガ型であってもよい。さらに本明細書VC>いては
、くλ し型電極はソリッド1極(7電極幅)構成で示したが、
ダブル′酸@(主電極幅)等の構成でも上記と同等の考
えで、前記条に突出部を設けることによって同様の効果
が得られる。
利用した設計のしやすさを考慮した第11図に示すよう
な矩形状であっても、十分に従来よりよい効果が得られ
る。また上述の実施例では弾性表面波共振子についてだ
け説明したが、本発明は弾性表面波フィルタを製造する
場合にも適用できる。またフォトレジストはポジ型でな
くネガ型であってもよい。さらに本明細書VC>いては
、くλ し型電極はソリッド1極(7電極幅)構成で示したが、
ダブル′酸@(主電極幅)等の構成でも上記と同等の考
えで、前記条に突出部を設けることによって同様の効果
が得られる。
以上説明したように本発明は、エツチング工程の前の段
階において、レジストマスクVC切m+8れた各条の先
端部近傍に瞬接する榮の部分に突出部を形成しておくた
め、出来上がった′1極指の形状と設計時に考えたその
形状との誤差は減少し、設計周波数特性によく合った周
波数特性を、実現することができる。
階において、レジストマスクVC切m+8れた各条の先
端部近傍に瞬接する榮の部分に突出部を形成しておくた
め、出来上がった′1極指の形状と設計時に考えたその
形状との誤差は減少し、設計周波数特性によく合った周
波数特性を、実現することができる。
第1図は弾性表面波装置の概略を示す平面図、第2図は
従来の方法によシ製造した弾性表面波装置のくし型電極
の部分の拡大平面図、第3図は圧′d性基板上に金属膜
を被着したことを示す図、第4図は金属膜上にレジスト
を塗布したことを示す図、第5図はレジスト上を露光し
たことを示す図、第6図は露光パターンを示す平面図、
第7図はレジスト膜を現像したことを示す図、第8図は
むきたしになった金属をエソチンダ液で溶かしたことを
示す図、第9図はレジストマスクを除去したことを示す
図、第10図は本発明により製造した弾性表面波装置の
くし型゛1他の部分の拡大−fL面図、第11図は突出
部がカロわったレジストマスクを示す拡大図である。 3・・・圧電性基板 14.15.16 ・・・条 17.18.19 ・・先端部近傍 20.21,22.23・・凸形 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (はが1名)第 l
図 を 第8図 第4図 第2図 第10図 第11図 第6図
従来の方法によシ製造した弾性表面波装置のくし型電極
の部分の拡大平面図、第3図は圧′d性基板上に金属膜
を被着したことを示す図、第4図は金属膜上にレジスト
を塗布したことを示す図、第5図はレジスト上を露光し
たことを示す図、第6図は露光パターンを示す平面図、
第7図はレジスト膜を現像したことを示す図、第8図は
むきたしになった金属をエソチンダ液で溶かしたことを
示す図、第9図はレジストマスクを除去したことを示す
図、第10図は本発明により製造した弾性表面波装置の
くし型゛1他の部分の拡大−fL面図、第11図は突出
部がカロわったレジストマスクを示す拡大図である。 3・・・圧電性基板 14.15.16 ・・・条 17.18.19 ・・先端部近傍 20.21,22.23・・凸形 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 (はが1名)第 l
図 を 第8図 第4図 第2図 第10図 第11図 第6図
Claims (1)
- 圧電性基板上に金属膜を被着する工程と、この金属膜に
レジスト膜を被着する工程と、このレジスト膜をフォト
マスクを介して露光して現像し、不要なレジスト膜を除
去し、各条が切1111された複数の条群からなるレジ
ストマスクを形成する工程と、この複数の条群からなる
レジストマスクを介して前記笠属膜をエツチングする工
程と、前記複数の条群からなるレジストマスクを除去し
、複数の条群からなる電極を形成する工程とを具備する
シスト膜を除去し、各条が切…1された複数の条群要な
レジスト膜を除去し、前iビ切断された各条の先端部近
傍に隣接する乗の部分に突出部が形成されている複数の
条群からなるレジストマスクを形成する工程でらること
を特徴とする弾性表面波装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21091883A JPS60103818A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 弾性表面波装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21091883A JPS60103818A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 弾性表面波装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60103818A true JPS60103818A (ja) | 1985-06-08 |
Family
ID=16597217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21091883A Pending JPS60103818A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 弾性表面波装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60103818A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010104830A (ko) * | 2000-05-16 | 2001-11-28 | 김남영 | 광대역 고조파 억제 특성을 갖는 코프레너 웨이브가이드스릿 구조의 여파기 |
-
1983
- 1983-11-11 JP JP21091883A patent/JPS60103818A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010104830A (ko) * | 2000-05-16 | 2001-11-28 | 김남영 | 광대역 고조파 억제 특성을 갖는 코프레너 웨이브가이드스릿 구조의 여파기 |
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