JPS5995264A - 4−置換アゼチジノン誘導体及びその製造法 - Google Patents

4−置換アゼチジノン誘導体及びその製造法

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JPS5995264A
JPS5995264A JP57206721A JP20672182A JPS5995264A JP S5995264 A JPS5995264 A JP S5995264A JP 57206721 A JP57206721 A JP 57206721A JP 20672182 A JP20672182 A JP 20672182A JP S5995264 A JPS5995264 A JP S5995264A
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Koichi Hirai
平井 功一
Yuji Iwano
雄次 岩野
Katsumi Fujimoto
藤本 克已
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Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカルバペネム誘導体の合成中間体でiちるアゼ
チジノン誘導体(IJおよびその製造法に関するもので
ある。
チェナマイシンで代表されるカルバペネム骨格をイイす
る抗生物質は強力かつ広傾囲な抗菌スペクトルを有する
ことが知られている。発明者等はその骨格合成を試み鋭
慧努力した債果、カルバペネム誘導体合成の重装中間体
であるアゼナジノン誘4体(IJを合成することに成功
し本発明を完成するに全っだ。
一般式(1〕 を有する化合物においてRは、水素原子を、低級アルキ
ル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル凍たはイノブチルなどのアルキル基を;アシル
アミノ基としては芳香環に飲換基(たとえばo、mある
いはp位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムまたはニ
トロ基など)を有してもよいフェニルアセチルアミン基
を、または芳香環に俗搏基(たとえば0゜mあるいはp
位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムまたはニトロ基
など)を有してもよいフェノキシアセチルアミン基を;
アルキルアミノ基としてはトリフェニルメチルアミン基
を;アラルキル基としては、芳香環に1哉侯基(たとえ
ばo、mあるいはp位にメチル、メトキシ、クロル、ブ
ロムまたはニトロ基など)を有しても良いベンジル基を
;または保禮(イ呆護基としてはたとえばトリメチルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、ベンジル、p
−ニトロベンジルオキシカルボニルまたはアリル基など
)された1−ヒドロキシエチル基ヲ示ス。
一イ;ケ式(1)を有する化合物は以下(・て示す方法
に従って−・4q造することができる。
一般式(IIJ を有する化合物においてRは上述したものを示し、R2
ば、低級アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル丑たはイソブチルなどのアルキ
ル基を;アリール基としては置俟基(01mあるいはp
位にメチル、メトキシ、クロル、ブロムまたはニトロ基
など)をイイしてもよいフェニル基を:アラルキル基と
しては餘〕泉基(Oh m’TEだはb位にメチル、メ
トキン、クロル、ブロムまたはニトロ基など)を有して
もよいベンジル基を、才たはアリールオキシメチル基と
して〜・ま尚侯基(0,mまたはp位にメチル、メトキ
シ、クロル、ブロム捷たはニトロ基など)を有してもよ
いフェノキシメチル基を示す。一般式([IJを有する
化合物をクロロホルム、塩化メチレン、ベンゼンまたは
テトラヒドロフランなどのRj 15中、 l役式11
J、8n<CH2CH=CH2)R3(1!IJ[式中
R3は、低級アルキル基としてはメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル1だはイソブチルなどのア
ルキル基を、アリール基としてはII″!:換基(01
mまたはp位にメチルまたはメトキシなど)を有しても
よいフェニル基を、アラルキル基としては11デ僕基(
0、rn丑たはp位にメチルまたはメトキシなど)を有
してもよいベンジル基を;寸たはアリル基を示す。」を
有する化合物を02〜2モル当量をルイス酸、たとえば
ボロントリフルオライドエーテルコンプレックス、四塩
化テクノまたは四塩化スズなどの存在下、o0〜so’
cで 5時間〜24時間反応さぞることにより一般式■
を有する化合物かイ()られろ。一般式σJにおけるR
は前述したものと同意義を有する。なお化合物(1カ・
ら化合物(IVJをイ4する反応は新規反応であり、本
反応は以下に述べるようにカルバペイ・ム誘辱体の合成
において重要な反応となっている。
一般式(IV)を有する化合物を、一般式(V)R’C
OH(V) [式中、R4はメチルまたはエチルがどの低級アルギル
基ヲ、フェニルまたlZm−クロルフェニルなどのアリ
ール基を、またはトリフルオロメチルなどのトリノ・ロ
メテル基を示す。]をイーする化合物1〜3尚量をクロ
ロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、ベンゼンまたは
これらの混合溶媒中0°〜50°Cで1時間〜20時1
’W]反応さ一?ることにより一般式(VLをイーする
化合物が祷られる。−(般式(1「DにおけるRは前述
したものと同意義を示す。
一般式(■を有する化合物を、一般式(■)M 、 C
N          ()TI)「式中、Mはナトリ
ウムまたはカリウムなどのアルカリ金属原子を示す」を
41丁化合物1〜5当邦をジメチルホルムアミド−水ま
たは18−クラウン−6乃至は15−クラウン−5の存
在下テトラヒドロフラン中、0°〜50℃で 1〜24
時間反応させることにより一般式(IJを有する化合物
が得られる。こ\に得られる一般式(+3 、 (1’
l)および(’V)をイアする化合物における好適なP
h5CNH一 本発明によって得られる一般式(1,1を有する化合物
が容易にカルバペネム誘導体に導けることを以下に示す
。一般式(IJを有する化合物を加水分解しβ−ヒドロ
キシアミド体を酢由してβ−ヒドロキシカルボン11丈
(1’りとし、これをエステル化Yk Ii化してβ−
ケトエステル体(1/jとし以下ジアゾ化、閉現反応に
よりカルバペネム誘導体(刈に2C,’jける。
コA (IJ          (Vり また一般式(1)を有する化合物は接触還元によりβ−
ヒドロキシアミノ体(1)とした後アミノ基(ビイ呆1
:)JJ シ、r1i化することによりφDへη¥き、
これにp−ニトロベンジルグリオキシレートハイドレー
トを反応させた後、塩イヒテオニル、トリフェニルホス
フィン、塩基の顔に反応させホスホラン(XIとしくX
I)を閉環することによりカルバペネム誘導体(XIX
りへ47.ける。
(1〕(χ0 (Xll)            (Xす(X1v) 以下に実施例および参考例を示し更に本発明を具体的に
示す。
実施例1 4−アリルアゼチジン−2−オン 4−アセトキシアゼチジン−2−オン550111j7
を無水塩化メチレン10mAに浴解し、テトラアリルス
ズ1.4gを加える。更にボロントリフロライド−エー
テルコンプレックス(BF6−0Et2)60rn9を
加え、20〜25℃にて15時間4覚拌する。塩化メチ
レンを加え、有機層を3回水洗。
MgS O4にて乾燥後、温媒を留去して、残渣をシク
ロヘキサン:酢酸エチル=2=1の浴好系を用いる分1
1!用ンfrロ’?iクロマトグラフィー(メルク社製
)にてRf : 0.2に対応する所望の化合物乞J1
1離楯製し、350+Q(収率74条)を得た。
NMR(ODC!3) δ : 22〜2.5(2H,
三重線様)。
24〜2.75(IH)、2.82〜3.21(IH)
3.45〜3.8 (I H、多重$J) 、 4.8
〜6.05 (3H。
二重結合上のH)、〜6.9(NH) 実施例 (3S 、 4 R)−3−[(RJ−1’ −(te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ)−エチル]4−ア
リルアゼチジン−2−オン (3R,4R)−4−γモトキシ−3−[(RJ1’ 
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−エテル
」−アゼチジン−2−オン 1gを無水塩化メチレン2
0aAに浴解し、1.46gのテトラアリルスズを加え
る。さらにBF s −0Et219 Q tダを加え
窒素雰囲気中15時間撹拌。塩化メチレンを更にカロえ
、有様1θを3[7」水洗。儲酸マグネシウム上乾燥後
、45媒留去。残渣をシリカゲルを用いるラビット、ク
ロマトグラフィーに付し、ソクロヘキザン、1非り戊エ
チル−5=1の温媒糸で留出させる事によりRf=0.
22(シクロヘキサン:酢酸エチル−2:1)に対応す
る所望の化合物8007ψを得た。
NMR(CDC15)δ: 0.06(8,6H)、0
.87(S。
9H) 、 119 (3H,a 、 J=6Hz) 
、 2.2〜2.5(2H)、2.74(1H,d、d
、d#y=5.3及び1.5Hz) 、 3.50〜3
.85 (I H)、 3.95〜4.35(IH)、
4.8〜5.9(3H,二重結合上のH)mp70〜7
7°(石油エーテルより再結晶〕元素分析:  c14
H27NO2SエトL テ削界11ば C,62,40
; H,10,10; N、 5.20夷υ111イ1
θ   0.  62.47   ;  H,10,0
5;  N、   5.24この反応なりF6−OEt
20代りにZ。モル当量のTiCl4をlIJいる帛に
より所望の物質を45係で又5nCt、4をノ11いる
事により30%でそれぞれ得られた。
宇こ7111列 3 (3R,4R)−4−アセトキシ−3−[い)−1’ 
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−エテル
」アゼチジン−2−オン 6 (] Tn9を2(((
水塩化メチレン6 mlに溶解し、トリノルマルブチル
アリルチン(Bu5Snハ”) 200 jaりを加え
。このF8液[BF3−0Et21 U、19を加え、
’i fa n囲気中16時間、室温にて撹拌。塩化メ
チレンを加えn機)侍を水洗3回。硫酸マグネシウムに
て乾燥イテー1.今jlLIII留去。残渣をシリカゲ
ル分取用TLCに付しシクロヘキサン:酢1゛レエテル
−2:1の系にてRf=Q、4に対応する所望の化合物
4 Q 111!7を倚た。
ml)70〜77°C 実施例4 2−オン 実施例2により得た4−アリルアゼチジノン誘導体80
Q+I+9を20mA(7:)無水塩化メチレンに溶解
し、水冷下m−クロル過安息香酸780 を殻を加え、
室温にて15時間書拌。反応液を5%重ノウ水次いて水
洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥。
温媒留去すると結晶性のエポキシド誘導体650jtη
をえた。石油エーテルから再結晶する事によりジアステ
レオマーの1つが純品となった。
mp83.5゜ TLC: Rf=0.45 シフ0ヘキサン:酢酸エチ
ル−1:2)N M R(ODO!3)δ: 0.08
(6H)、0.89(9H)。
1.22 (3H,d、J=6In)、1.5〜2.1
 (2J、23〜31(5H)、36〜4.4(2H)
工R(5Z 7B−ル) v tyn  、3080.
3140゜1760、  1712 元素分析:  C14H27NO3Siとして計−QI
IO258,91;  H,9,53;  N、  4
.90実育+t++11p   c、  59.02 
 ;  H,9,45;  N、  4.89実施例5 実ノj国例3により得た4−エポギシアゼチジノ7 %
7導体500+q9をDMF(3mA)及び水(1aA
)の混合液に溶解し、KON 250〜を加え室温にて
15[qj川用k)拌する。酸11タエチルを加え、有
機層を水洗、備i役マグネシウムにて乾魁・き。溶媒留
去し、残iJtをラピツド・クロマトグラフィー(シリ
カゲル)(テ付1〜、シクロヘキサン 酢酸エチル−1
=2にて Rf = o、 25に対応する所N′づの
化合物42(11119を得た。酢酸エチル及び石油エ
ーテルヨリ再結晶する手によりジアステレオマーの1つ
が結晶として単離された。
mp120〜125°C NIAR(CDCl2) b: 0.0B(6H)、0
.89(9H)。
1.21 (3H,a、y=6uz) 、 1.7〜2
.1 (2H) 。
2.45〜3.0 (3H) 、 3.5〜4.4 (
3H) 、 6.6(NH)−1。
■R(ヌジョール)v/17n  、3330.224
0.1700元素分析+  C15HC15H2BN2
0として計算値 C,57,66; H,9,03; 
N、 8.96実測値 0.57.87 ; H,9,
05; N、 8.92参考例■ 前記実施例■の二l−’Jル体3BOr、19を12m
Aアセトン及び12mb水にM D’fし550+uy
の炭酸ナトリウムを加える。室温にてのつくり30=1
過酸化水素水2001n9を加え、同YMにて20時間
はげし” (’i’l)拌する。11[−酸エチルを加
え、有機層を水洗、5幅・・イボ液、水洗後硫酸マグネ
シウムにて乾qr;。f′4[41″・′ンエチルにて
TLO上Rf = Q、 1を示すr9i望の化合物1
70Mg及び出発物質である二l−’Jル体17Qh1
9をえた。
粗化合物のml)  124〜126°CN M R(
CDC13)δ: 0.08(6H)、0.86(9H
)。
1.2及び1.24(共に/ CHx、 、 J−5H
2) 、 1.6〜2.0 (2H) 、 2.2〜2
.9 (3H) 、 3.5〜4.4(3H)。
6.15(IH)、6.45(IH)、6.89(NH
)参考例、?。
2−オン 前t;L袴考例■で得たアミド体170+l+yを4 
atのエタノールに溶解し、1401ダのKOHの4m
A水m液をゆっくり加え、室温にて24時間偕拌する。
水を加え、訃c′、夜エチルにて未加水分解部の出発物
質を2度抽出する。酢酸エチルを加え二層となし水層を
水冷下1係塩j牧水にてゆっくり酸性となし (PH2
)、酢目ツエチル層を分肯トし、史に抽出。抽出液を設
食塙水Vこで洗滌後、仙酸マグ坏シウムにて乾燥。消媒
留去後、残浩(140my)を3 tnlのDMFに浴
解し、1001メIりの1F、ソウを加え2001+y
のパラニトロベンジルブロマイドを加え、至τ晶にて2
0時間撹拌する。
酢酸エテルを加え、有様jヤjを水流圧C=、Mg5Q
41てて乾燥後、溶媒留去し、残7fテをシクロヘキサ
ン酸[火エテル−1:4の系のTLOに付しRf=0.
55の所も・lの化合物を単離した。100+i9N 
M R(ODC!7.)δ: 11.08([iJ、0
.88(9H)。
1.23 (3H,(1,J=6Hz ) 、 1.6
〜2.0 (2H)。
15〜2.9 (3H) 、 3.5−4.4 (3H
) 、 5.27(2H)。
6.38(NH)、7.48〜8.33(4H)参考例
■ オキシ)エチルシーアゼチジン−2−オン上記搭考例■
で得たハイドロキシ体35 IQを5 rnAの燕水塩
化メチレンに溶層し、ピリジニウム、クロロクロメート
(PCO) 120 rn9’l加え、室温にて8時間
撹拌する。塩化メチレンを刃口えハイポ水浴液にて過剰
の酸化剤を還元後、反応/(16合液をセライトろ過し
、塩化メチレン層を水洗3回。イll1i岐マグネシウ
ムにて乾燥体・、温媒留去し残油をシクロヘキサン=d
′μ酸エテル−1:4の系にてTLOに付し、Rf =
 0.61  に対応する所望の化合物21 +i’l
りをえた。
lnp  74〜76°(酢酸エテル゛石油エーテル−
1:20より再結晶) N M R(CDCl3)δ :  0.08(6H)
、0.88(9H,l。
1.17 (3H,d、 J=6H2) 、 2.4〜
3.0 (3H) 。
3.53 (2H) 、 3.7〜4.3 (2H) 
、 5.21 (2H) 。
6.03 (NH) 、 7.4〜8.3(4H)−1
工R(ヌジョール)ν錦  、3150. 3100゜
+765.1755,1750. 1715,1608
゜1528、 1350 元素分析+  C22H52N207 Slとして計算
値: 0.56.88 ; H,6,94; N、 6
.03実測値+ 0.57.08 ; H,6,87;
 N、 6.04参考例■ 一オン 821+i9のハイドロキシニトリル体(実施例4で得
だ〕を氷酢酸8 mlに溶解し、それに酸化白金42J
d9を加え、水素雰囲気下5時間撹拌する。
反応液をろ過して触媒を除去した後、減圧下温媒を留去
することにより、所望の棉記化合物を得た。
乃考例■ 参考例■により得たアミノアルコール体を5廐の塩化メ
チレンに溶解し、B S 0.7 Jn9のパラニトロ
ペンジルオキシ力ルポニルクロライド及び1.02,9
のジイソプロピルエテルアミンを刃口え、室温で終夜撹
拌する。50成の酢酸エチルを加え、2回水洗した後、
有機層を無X硫「伎マグネシウムにより乾燥する。溶媒
を減圧下胃去し、残渣ケラピッド。クロマトグラフィー
(シリカゲル;シクロヘキサン:酢酸エチル−i:+o
)にかけることにより所望の物質6131n9を油状で
えた。
TLc(4p酸エチル):Rf=Q、’5N MR(C
DCl3 )δ: 0.08(6H,S)、0.88(
9H。
S ) 、 1.22 (3H,d、 J=6H2) 
、 1.4〜2.1(4)1.m) 、2.6〜3.0
(IH,m)、3.0〜4.1(5H,m)、3.9〜
4.3(IH,m)、5.16(2H。
S)、5.66(IH,t、J=6H2)、6.65(
IH。
s)、y、3s、y、so、a、oe、5yz(ABq
)参考例■ tert −7”チルジメチルシリルオキシエテル)−
参考例■により得たアミノアルコールのPNZ体368
.61.i9を塩化メチレン20 +llt、ic 治
X’しピリジニウムクロロクロメート1.tz、!9?
、<加え室温にて3時間撹拌する。反応液をセライトを
通してろ過した後、塩化メチレンを加え、2回水洗し、
無水偕能マグネシウムにて乾燥する。溶媒を減圧下留去
した後、薄層クロマトグラフィー(シリカゲル;シクロ
ヘキサン:酢酸エチル−1:2)により分離することに
よりF−9T望の化合物242.9 h19 (66条
)をイ(すだ。
TLCRfコ0,6(シクロヘキサン:酢酸エチル−1
:2)N IA R(CDC13)  δ :  0.
07(6I(、S)、0.86(jlH,s)、tt9
(zH,d、J=5.+Hz)。
2.4〜3.0(4H,m)、3.42(2H,bq、
J=6Hz)、3.7−4.1 (IH,m)、3.9
〜4.4(1H。
m)、5.13(2m(、Eり、5.70(1)1.b
t、J=6Hz)、6.52(S、IH)、7.39,
7.52,8.09゜8、12 (ABq ) 8万例■ 一オン 鴛考例■で得たケトン体242.9 In9 (0,4
297mm01)及びp−ニトロベンジルグリオキシレ
ートハイドレート250+ngをベンゼン100+II
Aに懸濁し終夜力II水ンシj饗流する。トリエチルア
ミンを1筒刃りえ、6時間さらに還流する溶媒を減圧上
留去した後711層クロマトグラフィー(ヘキサン 酢
酸エチル、アセトン−8:6:3)により単”!!: 
ffJ製することにより標記化合物258.11ψ(8
6%)を得た。
Rf(ヘキサン、酢酸エチル:アセトン=8+6:3)
055及び0.50 Rf仙05のものに関してN M R(ODC13) 
 δ : 0゜02(3H,S)、0.05(3H,B
)、0.84(9H,S、l。
1.22(3H,d、J==5.4H2)、1.7〜2
.1 (IH。
m) 、2.4〜3.2(4H,+11)、  3.2
〜4.5(5H,I]I)。
5.0〜6.0 (6H,m) 、 7.2〜7.8 
(4H,m) 、 7.9〜8.5(4H,In、l・
・ 参考例■ 参考例■により得たハイドロキシケトン体258.1 
IK/(異性体混合物)(0,3677mm01)’v
無水テトラヒドロフラン22机に浴解し一30℃まで冷
却する。これに、0.064廐のルチジン及び0.04
 ml:の脇、化チオニルを加え、−30°Cにおいて
1時間撹拌し、TLCによりクロル体の生成を確認する
。セライトを通してろ過した後、溶媒を留去スる。クロ
ル体をジオキサン14mbVC浴解し、トリフェニルホ
スフィン192Iψルチジン0.0517を加え室温で
終及(に′に拌する。酢酸エチルン加え、2回水洗し、
無水硫ばマグネシウムにより乾燥する。溶媒を減圧上留
去し、薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エテル
゛アセトン−10°6:3)にて単離精製することによ
り、油状の標記化合物935〜(27%)y得た。
(Rf二0.4) 参考例■ 入イ 参考例■で得たホスホラフ 93.5111!/ (0
,09884mmolJを5 mlのメタノールに溶解
し、氷冷する。
こ汎(、τ10条塩鹸4 atを刃口え、氷冷下2o分
、室温で1時間Jτ、亡拝する。反応混合物を再び氷冷
し、Y・謙)l]]炭酸水素ナトリウム液37m/iを
カロえて、10分間価(4’4ミし、rly 酸エチル
にて3回抽出する。有(コ゛?・層を無71(匂f N
’l−マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を留去(減圧
下)する。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(
isi・L々エテル)にて分岐し、Rf=0.1のもの
ケ単し計することにより標記化合物52.51曽(64
%)をイくIた。
N M R(CD0Z 3)δ 1.09 (3H、a
 、 J=6.2Hz)。
1.5〜2.2 (4H,m) 、 2.2−4.2 
(5H,ml) 。
5.17 (4H,B) 、 5.1〜5.g(IH,
bS)、7.0〜B、1 (19H,m) 、 8.0
〜8.5 (4H,m)特許出願人 三共株式会社 代 理 人  弁理士 内 出 庄 治手続補正書(自
発) ■、小事件表示 昭和57年特許願第206721号 2、発明の名称 4−置換アゼチジノン誘導体及びその製造法3、補正を
する者 事件との関係  特許用願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称   (185”)三共株式会社 代表者 取締役社長  河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 6、補正の対象  明細書の発明の詳細な説明の欄7、
補正の内容  別紙の通り 1、 明細書第16頁第11行と第12行の間に以下の
語句を追加する。
「実施例 6 (3S、4R)−3−C(R)−1−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ)エチル〕−4−アリルア
ゼチノン−2−オン (3R,’4R)−又は(,3R,48)−4−アセト
キシ−3−[(R) −1−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ)エチル〕アゼテ・シン−2−オン
 115■を5 mlの無水塩イヒメチレンに溶解し、
115’1%’のテトラアリルスズを力Uえる。さらに
BF3−0Bt220 mgをカロえ窒素雰囲気中、室
温5時間攪拌。塩化メチレン10ゴをカロえ、有機層を
3回水洗。硫酸マグネシウム上乾燥後、溶媒留去。残液
をメルク社製分取用シ】ツカグルTLCに付し、シクロ
ヘキサン:酢酸エチル=2:1の系で展開し、R,=0
.5の部分を分取、抽出し、所望の表記化合物をいずれ
の出発物質からも101〜得た。収率 92.6チIR
ν(ニート)偲 、〜3300.〜1740゜1605
.1520,135O NMR(CDCt3)δ :  1.42(3H,d 
、 J =6.5Hz )2.36 (2H,t 、 
J=6.5Hz ) 、 3.0 (IH,dd 。
J =ニア、 5 and 2.5 Hz 、 D20
添加時) 、 4..9〜6.1(4H,m)、5.2
0(2H,a)、6.25 (1)1゜NH) 、 7
.4〜8.3 (4H、A2B2型)この反応を上記出
発物質の代りに(3R,4R−または(3R,48)−
4−ベンゾイルオキシ−3−〔(R)−1−(p−ニト
ロペン・ゾルオキシプルボニルオキシ)エチル〕アゼチ
ジンー2−ズンを用いる事によって所望の表記物質を9
7チ収率で得る事が出来た。」 2、明細書第20頁第16行の r4−(4−p−二トロペンジルオキシカル分ケ − r (33,4R)−4−C41ベトロペンジルオキε
カ ル ボ 」 と訂正する。
3 明細書第20頁第18行の r 1− tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
」を 、r (R) −1−tert−プチルノメチルシ1ノ
ルオキシエテ」 と訂正する。
4、 明細@第21真下から第2行の r4−(4−p−ニトロペンジルオキシカルホ」)  
を [(3S、4R)−4−(4−p−ニトロベンジルオJ
  キシカルボ」 i  と訂正する。
;5.  明細書第21頁下から第1行の「ニルアミノ
−2−オキソブチル)−3−(1−」を ?」「ニルアミノ−2−オキソブチル)−3−((6)
−1−」 と訂正する。
6、 明細書第23頁第2行の r4−(4−p−ニトロベンジルオキシカルカ」r (
3S、4R)−4−(4−11−ニトロベンジルオキシ
カルボ」 と訂正する。
7、 明細書第23頁第3行の [ニルアミノ−2−オキソブチル)−3−(1−」を [ニルアミノ−2−オキソブチル) −3−((R)−
1−」 と訂正する。
8、 明細書第24頁第6行の 「1−[[4−(4−p−ニトロベンジルオキシ」を r 1− [(38,4R)−4−(4−p−ニトロペ
ンノルオキシ」 と訂正する。
9、 明細書第24頁第8行の 「−(1−tert−ブチルジメチルシリルオキシ)工
」を j −((R) −1−tert−ブチルツメチルシリ
ルオキシ)工] と訂正する。
10、明細書第25頁第9行の r 1−[[:4− (4−p−ニトロペン・ゾルオキ
シ」を r 1−[(3S、4R)−4−(4−p−ニトロベン
ジルオキシ」 と訂正する。
11  明細書第25頁第11行の r(1−〕〜イドロキシエチル)〕〕アゼチジンー2−
を r ((R) −1−ノ1イドロキシエチル)〕アゼチ
、シン−2−」 と訂正する。
12、明細書第23頁第3行と第9行の間に次の語句を
追加する。
[参考例 10 (5R,6S)−6(、(R)−1−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル)−2−p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル−3−(2−p−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノエチル)−7−オキソ−1−アザ
ビシクロ[3,2,O〕へブタ−2−二ン 参考例8で得られたアゼチジノン(165,8η)を乾
燥ベンゼン(80ml)に溶がし、これにハイドロキノ
ン(51ψ)を加える。この溶液を5時間加熱還流する
。溶媒を留去し得られる清秋物eo−バーカラム(S1
60.シクロヘキサン−酢酸エチル2:3)で分1i1
ja製し油状物として表記化合物(85mσ、収率73
%)が得られた。
Rf値(シクロヘキサン−酢酸エチル2:3)0.4N
MR(CD(43)  δ 二 0.09(6H,s)
  、0.86(9H。
s ) 、1.23(3H,d、J =6.6Hz)、
 2.4〜3.7(7H,m)、3.8〜4.5(2H
,m)、4.8〜5.4(IH,m)、5.08(2H
,s)、5.1〜5.4(2H。
m) 、7.2〜7.8(4H,m)、7.8〜8.4
(4H,m)IR(neat ) : 3380cIr
L−’ 、 1765cIP:” 、 1715C1r
L’元素分析 計算値 C57,47H6,03N 8
.38実測値  57.66  6.15  8.81
参考例 11 (3S、4R)−3−((R)−1−ハイドロキシエチ
ル)−4−(4−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
アミノ−2−オキソブチル)アゼチジン−2−オン 参考例6で得られたアゼチジノン(248,91婿。
0.5049 mmol )のアセトニトリル(6−)
溶液を氷浴−中冷却する。これに、三フッ化ポランエー
テル錯体(0,125d)を加え、水浴中18分間攪拌
する。あらかじめ氷冷しておいた炭酸水素ナトリウム水
を加え、酢酸エチルにて抽出する。抽出液を合わせ、水
洗を2回する。無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後ロ
ーバーカラム(塩化メチレン−エタノール10:1)に
て分離精製することにより所望の表記化合物の白色結晶
(1(55,5m9.90係)を得た。
m、p、115〜116℃ Rf値 (酢酸エチル)0.1 1R(KBr ) : 3340cr/L、 1755
cm  。
1700cIrL 、1680m−’ NMR< 皇アセトン)δ: 1.18(3H,d、J
=6.2Hz ) 、 2.5〜3.0 (4H,m)
 、 2.89 (2H。
d 、J−=6.2Hz)、3.1〜3.6(2H,m
)、3.6=4.2(3H,m) 、5.14(2H,
s)、7.3〜7.8(2H,m)、8.0〜8.4 
(2H,m)元素分析   CI(N   (ト) 計算値  53.75  5.70  11.06実測
値  53.69 5.54 11.07参考例 12 (3S、4R)−4−(4−p−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ−2−オキソブチル)−3−((R)
 −1−p−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル)アゼチジン−2−オン参考fl111で得られた
ハイドロキシアゼチジノン(471,5mg、 1.2
918mmol )を塩化メチレン(3−)に溶解し、
水浴中冷却する。これに4−ジメチルアミノピリジン(
315,9mg)を加え、p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルクロライド(1,39グ、 6.4501mm
ol )の塩化メチレン溶液(5−)を6一時間30分
かけて滴下する。さらに、30分攪拌した後、反応液を
水洗し、希塩酸、右型ソウ水で洗浄する。無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した後ローバ−カラム(酢酸エチル)
により分離することにより油状の表記化合物(465,
2m& 、 0.8551 mmol )を得た。
N皿(CDCAs) 、δ:1.42(3H,d、J=
6Hz)。
2.3〜4.1(9H,m)、5.10(2H,s)、
5.18(2H,s)+4.2〜4.7(IH,m)、
6.50(IH。
bs ) 、 7.2〜7.7 (4H、m ) 、 
7.9〜8.4 (4I(、m)参考例 13 (38,4R)−1−(1−)・イドフキシー1−p−
ニトロベンノルオキシカルボニルメチル)−4−(4−
p−ニトロペンノルオキシカルボニルアミノ−2−オキ
ソブチル) −3−((R) −1−p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル)アゼチジン−2−オ
ン p−ニトロベンジルクリオキシレートモツノ1イドレー
ト(3B7.9rng、 1.7088mmol )を
100−のベンゼンに溶解し、共沸により水を除く。
これに参考例12で得られたp−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル体(465■)のベンゼン(5
trd!、 )溶液を加え、トリエチルアミンを1滴加
える。40℃にて5分間攪拌した後溶媒を留去し、ロー
パーカラム(塩化メチレン−テトラヒドロフラン7:1
)にて分陰精製することにより、所望の表記化合物のノ
アステレオマ−2つ ■。208mg(32係)および
n、 :322.1m?(49係)を得た。
Rf l10二E  (CH2Ct2−THF7  :
  1)   I   :  0.4.  II  :
  0.3I ’: NMR(CDCt3) 、δ: 
1.39 (3H、d 、 J=6Hz)2.2〜4.
7(IIH,m)、5.10(2H,s)、5.17(
2H,a)、5.21(2H,s)、4.7〜5.4(
LH。
m)、7.2’−7,6(6H,m)、7.9〜8.3
(6H,m)1  : NMR(CDC76)、δ: 
1.39 (3H、d 、 J=6Hz)。
2.4〜4.6 (1118,m) 、 5.10 (
2H,s ) 、 4.7〜5.8(3I(、m)、5
.17(2H,s)、7.1〜7.8(6B 、 m 
) 、 7.8〜8.4 (6H、m)参考例 14 1−p−二)ロベンジルオキシカルボニル−1−[3S
、4R)−4−(4−p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−2−オキソブチル)−;う−((R) −
1−p−ニトロベンノルオキシカルボニルオキシエチル
)アゼチジン−2−オン−1−イル〕メチレントリフェ
ニルホスホラン 参考例13で得られたノ・イドロキシ体(530■)を
テトラヒドロフラン(7vI7りに溶解し、−20℃に
冷却する。これにルチジン0.14 ml塩化チオニル
0.07−を加え30分攪拌する。
、  生成した白色沈澱をセライトろ過し、ろ液を濃縮
することによりクロル体ff1(nる。
このクロル体の・ジオキサン(7艷)溶ti、にトリフ
ェニルホスフィン(540,fl19 、2.0633
mmol )及びルチジン(0,25m)を加え、室温
で3時間40℃にて13時間攪拌する。室温まで反応液
を冷却し、酢酸エチルを加え2回水洗する。無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥し、溶媒を留去しり後、ローバーカ
ラム(シクロヘキサン:酢酸エチル−1:10)にて分
離精製することによp所望の表記化合物(481+V、
69%、oil)を得た。
R1値;(酢酸エチル−シクロ−、キサン10:1)0
.3NMR(CDCL−、) 、δ: 1.12 (3
H、d 、 J=6.2Hz )。
2.3〜3.0(5H,m)、3.0〜3.7(4H,
m) 。
4.5〜4.9(IH,m)、4.9〜6.3(6H,
m)。
7.1〜8.0(21H,rn’)、7.9〜8.3(
6H,m)参考例 15 (5R,6S)−2−1)−二トロベンジルオキシカル
ポニル−3−(2−p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノエチル) −6−((R) −1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエテル)−7−オキソ
−1−アザビシクロ(3,2,イ)〕−へ〕ブター2−
二 ン参考例1で得られたホスホラン(503mq。
0、4973 mrnol )を無水ベンザy(20+
りに溶解し、触媒量のハイドロキノンを加える。反応液
を5時間加熱還流し、室温まで冷却して溶媒を減圧下留
去する。残渣をラビッドクロマト(シリカゲル、塩化メ
チレン−エーテル 20;1)にて分離精製することに
より所望の表記化合物(194,5111g、 54%
)’c得た。
Rf値(塩化メfvン−エ−7# 20:1)0.2N
M夏2  (CDC+5)  δ  二 1.46(3
H,d、J =6.2Hz)。
2.3〜3.7(71H,m)、3.7−4.5(IH
,m)、4.7〜5.4 (8H,m)7.1〜7.8
 (6H,m)、7.8〜8.4(6H,m) IR(neat)  : 3400(1’ 、 177
5CrILT’ 。
1745cTl  、1720cm−1参考例 16 (5R,6S)−3−(2−アミノエチル)−6−((
R) −1−ハイドロキシエチル)−7−オキソ−1−
アザビシクロ[3,2,Olヘプタ−2−エン−2−カ
ルボン酸 参考例15で得られた1−アザビシクロ〔3゜2.0〕
ヘプテン(194,!Mす、 0.2705mmol 
)をテトラヒドロフラン(3,8yd)に溶解し、リン
酸バッファー(pti7,3.8艷)を加える。これに
10係パラジウム−活性炭(583,4rrtり)を加
え、水素雰囲気下2時間攪拌する。セライトを通して触
媒を除去した後、酢酸エチルにて洗浄し、凍結乾蛛をす
る。残液を水に浴解し、HP〜20のクロマトにて分1
ii[! (水)精製することによシ所菫のtそ”=s
E ;(に11合物 (149ノノノ≦;ン、 23%
 ) をイI;ノ1;::。
UV max (H2O)  : 267 nm参〆゛
j例 17 (5R,6S)−6−((R)−1−ハイドロキシエチ
ルJ−3−(2−ボルムイミドイルアミノエチルノー7
−オキソ−1−アザビシクロ(3,2゜0〕へブタ−2
−エン−2−カルボン酸核考例16で得たアザビシクロ
ヘゾテン体(10m9 、0.04167+mnol 
) f:pli777)’) ンmハソファーに溶解し
、氷耐下煩拌する。この浴液を10%Na011にてP
1イ8.5とし、Ii 8.2〜s、s −、、保もち
なからメチノはルムイミデート及びIolNaOH水を
加える。添加終了仮pH8,5にて10分出ノJi2P
I’L、I N塩酸でpi−17,0とする。との浴液
’z  j−IP −2+1の刀ラムによりクロマトで
分−比4”ll gl−ゐことによりル「扇の表記1し
合物(7mg + 63%)を句だ。
UVmax  (820) : 247 nm   J
以上

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  一般式(IJ (式中、Rは水素原子、低級アルキル基、アシルアミノ
    基、アルキルアミノ基、アラルキル基または保強された
    ヒドロキシエチル基な示す。)を有する4−(4換アゼ
    チジノン誘導体。
  2. (2)  一般式(II) (式中、Rは水素j■子、低級アルキル基、アシルアミ
    ノ基、アルキルアミノ基、アラルキル1.1士または保
    強さnたヒドロキシエチル基を、R2はIJ!:級アル
    キル基、アリール基、アラルキル基まだはアリールオキ
    シメチル基を示す。)を有する化合物に、一般式Uり 5n(O)12CH−OH2) Rg     (IJ
    (式中、R5は低級アルキル基、アリール基、アラルキ
    ル基またはアリル基を示す。)を有する化合物を反応さ
    せ、一般式(1v) (式中、Rは前述したものと同意義を示す。)を有する
    化合物とし、これに一般式TVJRCo3H(VJ (式中、Rは低級アルキル基、アリール基まだはトリハ
    ロゲノメチル基を示す。)を有する化合物を反応させ一
    般式(Vll (式中、R1は前述したものと同意義を示す。)を有す
    る化合物とし、ついで化合物(■に一般式(〜jυ M、ON         (■) (式中、Mはアルカリ金属原子を示す。)を有する化合
    物を反応させ一般式(1〕 (式中、Rは前述したものと同M kを示す)をイイす
    る化合物へ褥くことを特徴とするアゼチジノン誘導体(
    1〕の製造法。
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