JPS5990246A - レ−ザ記録媒体 - Google Patents
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- JPS5990246A JPS5990246A JP57198977A JP19897782A JPS5990246A JP S5990246 A JPS5990246 A JP S5990246A JP 57198977 A JP57198977 A JP 57198977A JP 19897782 A JP19897782 A JP 19897782A JP S5990246 A JPS5990246 A JP S5990246A
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- recording layer
- recording
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- plasma
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B7/2572—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of organic materials
- G11B7/2575—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of organic materials resins
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- G11B2007/24316—Metals or metalloids group 16 elements (i.e. chalcogenides, Se, Te)
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- G11B7/2531—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising glass
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- G11B7/2534—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins polycarbonates [PC]
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザ光による熱作耳Iによりti’f報を
記録′4るレーザ記録媒体に関し、特に経時安定性に優
れ、かつ、l、’5 Itζ寺1縫のレーザ記録媒体に
関するもグ)′Cある。
記録′4るレーザ記録媒体に関し、特に経時安定性に優
れ、かつ、l、’5 Itζ寺1縫のレーザ記録媒体に
関するもグ)′Cある。
レーザ記@#i &;l、高密度かつ高速の記録が可能
なだめ、人界filファイルメモリとしての同月1が検
討さJl、−Cいる。
なだめ、人界filファイルメモリとしての同月1が検
討さJl、−Cいる。
従来、このような記録に用いる記録媒体としては、h(
板上にBi 、 Teなとの金1・4薄膜を記録層とし
て用いたものが知られている。しか17、これら金属薄
膜は、高い感度を得るために10〜100 nm惺度に
極めて薄く形成して用いる・1ネ要があり、従って耐候
性の点で劣る。そのため、長期間にわたる使用や保存に
より記録感度やコントラストの低下が生じるという問題
点を有している。一方、ファイルメモリとしてはlθ年
以−Hの長期経時安定性が要求されるので、記録層とし
て金属薄膜の代わりにAs −Se −TeなどのTe
化合物や金属う、・含有させたプラズマ重合膜を使用す
ることにより経時安定性を改善することが検刑されてい
る。
板上にBi 、 Teなとの金1・4薄膜を記録層とし
て用いたものが知られている。しか17、これら金属薄
膜は、高い感度を得るために10〜100 nm惺度に
極めて薄く形成して用いる・1ネ要があり、従って耐候
性の点で劣る。そのため、長期間にわたる使用や保存に
より記録感度やコントラストの低下が生じるという問題
点を有している。一方、ファイルメモリとしてはlθ年
以−Hの長期経時安定性が要求されるので、記録層とし
て金属薄膜の代わりにAs −Se −TeなどのTe
化合物や金属う、・含有させたプラズマ重合膜を使用す
ることにより経時安定性を改善することが検刑されてい
る。
これら記録媒体に用いる基板と17ては、プラスチック
、ガラスあるいは金属がある。このうり、プラスチック
としてはポリメチルメタクリレート樹脂やポリカーボネ
ート樹脂が用いられているが、透湿性があるだめに記録
層の経時安定性上好寸しくない。さらに、ガラスや金属
基板をIllいる場合には、トラックリーボ用の案内溝
を設ける必要があるが、この:4(内溝は、1〜板上に
アクリル系紫外線硬化樹脂を設け、この樹脂に凹凸をつ
けることによってjビJアされる。しかし、この紫外線
硬化樹脂には未硬化物など低分子量のものが残留しやす
く、そJ]に起因して記録層の酸化が促進されるなどし
て、媒体の経時安定性が低下する。まだ、記録層10も
記録層と基板の界面張力など界面状態によね変化−Jる
。し7かも、加えて、アクリル系紫外線硬化樹脂を月1
いることに、しりポリメチルメタクリレート樹脂上i+
’(1(「J’;f記lIt層を付着させた場合に較べ
て記録感度が低下するという問題点を有L2ている。
、ガラスあるいは金属がある。このうり、プラスチック
としてはポリメチルメタクリレート樹脂やポリカーボネ
ート樹脂が用いられているが、透湿性があるだめに記録
層の経時安定性上好寸しくない。さらに、ガラスや金属
基板をIllいる場合には、トラックリーボ用の案内溝
を設ける必要があるが、この:4(内溝は、1〜板上に
アクリル系紫外線硬化樹脂を設け、この樹脂に凹凸をつ
けることによってjビJアされる。しかし、この紫外線
硬化樹脂には未硬化物など低分子量のものが残留しやす
く、そJ]に起因して記録層の酸化が促進されるなどし
て、媒体の経時安定性が低下する。まだ、記録層10も
記録層と基板の界面張力など界面状態によね変化−Jる
。し7かも、加えて、アクリル系紫外線硬化樹脂を月1
いることに、しりポリメチルメタクリレート樹脂上i+
’(1(「J’;f記lIt層を付着させた場合に較べ
て記録感度が低下するという問題点を有L2ている。
そこで、本発明の目的は、これらの問題点を解決し7、
経時安定性にがれ、かつ記録感度の高いレーザ記)を媒
体省・提供することにある。
経時安定性にがれ、かつ記録感度の高いレーザ記)を媒
体省・提供することにある。
そのだめに、本発明の−の形J41でd1基板上にフル
オロカーボンのプラズマ重合膜を配置シ、ソの上に記録
層を+’b、!置する。
オロカーボンのプラズマ重合膜を配置シ、ソの上に記録
層を+’b、!置する。
本発明の(111,の形μ(jでは、基板上にポリフル
オロカーボンのスパッタ膜を配置し、その上に記録層を
配置する。
オロカーボンのスパッタ膜を配置し、その上に記録層を
配置する。
以下、図面を参照して本発明を111” q、llIに
説明する。
説明する。
第1図は本発明レーザ記録媒体の具体的構造の一例を示
す模式図であって、ここに/は塞板、2td基板/上に
配置したフルオロカーボンのプラズマηs 金膜あるい
はポリフルオロカーボンのスノくツタ膜、3は膜λ上に
配置した記録層、≠はトラックサーボ用の溝である。
す模式図であって、ここに/は塞板、2td基板/上に
配置したフルオロカーボンのプラズマηs 金膜あるい
はポリフルオロカーボンのスノくツタ膜、3は膜λ上に
配置した記録層、≠はトラックサーボ用の溝である。
第1図の例では、基板lけポリメチルメタクリレート樹
脂やポリカーボネート(☆f 脂などσ)プラスチック
で形成し、インジェクション法あるいはセルキャスト法
などにより直接プラスチック基板/上にトラックサーボ
Il’Jの溝qを形成する。
脂やポリカーボネート(☆f 脂などσ)プラスチック
で形成し、インジェクション法あるいはセルキャスト法
などにより直接プラスチック基板/上にトラックサーボ
Il’Jの溝qを形成する。
第2図は本発明レーザ記録媒体の具体的構造の他の例を
示し、ここではプラスチック、ガラスあるいはAlなど
の金属などから形成し7た基板/上に紫外線硬化樹脂膜
Sを塗布し、その樹脂膜Sには、凸凹を有するニッケル
スタンパ7よとを用いることによりトラックサーボ用1
の溝りが転写されるようにする。ここで紫外線硬化樹脂
としてはアクリル系樹脂やエポキシ系樹脂などを用いる
ことができる。+J7に、紫外線硬化樹脂膜S上にフル
オロカーボンのプラズマ重合膜あるいはポリフルオロカ
ーボンのスパッタ膜!を配置し、この膜−2上VCN己
fa層ψを配置する。
示し、ここではプラスチック、ガラスあるいはAlなど
の金属などから形成し7た基板/上に紫外線硬化樹脂膜
Sを塗布し、その樹脂膜Sには、凸凹を有するニッケル
スタンパ7よとを用いることによりトラックサーボ用1
の溝りが転写されるようにする。ここで紫外線硬化樹脂
としてはアクリル系樹脂やエポキシ系樹脂などを用いる
ことができる。+J7に、紫外線硬化樹脂膜S上にフル
オロカーボンのプラズマ重合膜あるいはポリフルオロカ
ーボンのスパッタ膜!を配置し、この膜−2上VCN己
fa層ψを配置する。
以上のよりなノ、(板/−ヒにフルオロカーボンCンの
プラズマ重合膜あるいはポリフルオロカーボンのスパッ
タ膜!を付着させるにあたり、フルオロカーボンとして
シ12、テトラフルオロエチレン、クロルトリフルオロ
エチレン、三弗化エチレン、六弗化プロピレン、弗化ビ
ニル、弗化ビニリデンを用い、これらをモノマとして容
駄式あるいは誘導式欣711を月1いることによりプラ
ズマ重合膜を形成する。
プラズマ重合膜あるいはポリフルオロカーボンのスパッ
タ膜!を付着させるにあたり、フルオロカーボンとして
シ12、テトラフルオロエチレン、クロルトリフルオロ
エチレン、三弗化エチレン、六弗化プロピレン、弗化ビ
ニル、弗化ビニリデンを用い、これらをモノマとして容
駄式あるいは誘導式欣711を月1いることによりプラ
ズマ重合膜を形成する。
ポリフルオロカーボンとしては、列?リテトラフルオロ
エヂレン、ポリクロルトリフルオロエチレン。
エヂレン、ポリクロルトリフルオロエチレン。
ポリ三弗化エチレン、ボり六弗化プロピレン、ポリ弗化
ビニル、ポリ弗化ビニリデンなどを用い、これらをター
ゲットとし′CArなどの不活性ガスでスパッタするこ
とによりスパッタ膜を形成する。
ビニル、ポリ弗化ビニリデンなどを用い、これらをター
ゲットとし′CArなどの不活性ガスでスパッタするこ
とによりスパッタ膜を形成する。
そして、この膜λの上に記録層3を形成するが、この記
録層3としては、As5eTeなどのTe化合物膜、T
eあるいはBiを含有させた金属含有プラズマ重合膜な
どレーザ光の熱作用による継解・蒸発によりビットを形
成するのに適した各種材料を用いることができる。
録層3としては、As5eTeなどのTe化合物膜、T
eあるいはBiを含有させた金属含有プラズマ重合膜な
どレーザ光の熱作用による継解・蒸発によりビットを形
成するのに適した各種材料を用いることができる。
以上のように構成された本発明レーザ記録媒体において
は、フルオロカーボン膜λを設けることによって次のよ
うな効果が得られる。寸ず、プラスチック基板を用いた
場合には、フルオロカーボン膜)には水分をiff’(
さない効果があるだめ、記録層3の酸化を防ぎ、記録媒
体の耐候性を高めることができる。寸だ、ガラスあるい
は金属基板/−にに紫外線硬化樹脂膜Jf:設けた記録
媒体を月1いる場合には、フルオロカーボン11クツに
より紫外線硬化樹脂膜夕中の未硬化物など低分子!1七
の残留物と記録層3とが1綺離するので、記録媒体の経
時安定性が向上する。さらに、記録感度にt flt!
Q層3と基板/の界面状態に依存するが、このフルオ
ロカーボン膜λを設けることにより、紫外線硬化樹脂上
に直接に記録層を8′5?けた場合、あるいL1ポリメ
チルメタクリレート樹脂やポリカーボネート樹脂などの
プラスチック4,1、板−上に直接に記録層を設けた場
合よりも窩い記録感度を示す。1だ、上述したフルオロ
カーボン膜はプラズマ重合やスパッタ法といったドライ
な方法で作製されるため、均一な膜厚の膜4−・容易に
得ることができ、作製中のごみなどの付着を避けやすい
など作製上の利点もある。
は、フルオロカーボン膜λを設けることによって次のよ
うな効果が得られる。寸ず、プラスチック基板を用いた
場合には、フルオロカーボン膜)には水分をiff’(
さない効果があるだめ、記録層3の酸化を防ぎ、記録媒
体の耐候性を高めることができる。寸だ、ガラスあるい
は金属基板/−にに紫外線硬化樹脂膜Jf:設けた記録
媒体を月1いる場合には、フルオロカーボン11クツに
より紫外線硬化樹脂膜夕中の未硬化物など低分子!1七
の残留物と記録層3とが1綺離するので、記録媒体の経
時安定性が向上する。さらに、記録感度にt flt!
Q層3と基板/の界面状態に依存するが、このフルオ
ロカーボン膜λを設けることにより、紫外線硬化樹脂上
に直接に記録層を8′5?けた場合、あるいL1ポリメ
チルメタクリレート樹脂やポリカーボネート樹脂などの
プラスチック4,1、板−上に直接に記録層を設けた場
合よりも窩い記録感度を示す。1だ、上述したフルオロ
カーボン膜はプラズマ重合やスパッタ法といったドライ
な方法で作製されるため、均一な膜厚の膜4−・容易に
得ることができ、作製中のごみなどの付着を避けやすい
など作製上の利点もある。
以下に本発明の実施例を示す。
(実施例1)
四弗化エチレンモノマを7×/θ−2TOrr導入した
容器中で、容(;」式結合を月1いた高周波TI℃極に
7、L!;、g MH7の1?% JiW波?if圧を
tau加してIjF ”ruを行彦い、四弗化エチi−
ンプラズマiIL金膜を形成した。基板としては厚き/
、j+amのポリカーボネート基板を用い、モノマガス
流1杖〃♂/分および放電ηLカ100V/で約S分間
車合を行ない、100 nmのプラズマ中介111′セ
をJ、I−[Q iで(=t 7γi式亡た。次いで、
このプラズマ中合嘆の土(・(−記2を層としてTe
i) 9ovo1%含有l、た′]゛e含ff二流化炭
素プラズマjJ4合膜を金膜?ll)nmf、1ヤ゛i
さ1)だ。
容器中で、容(;」式結合を月1いた高周波TI℃極に
7、L!;、g MH7の1?% JiW波?if圧を
tau加してIjF ”ruを行彦い、四弗化エチi−
ンプラズマiIL金膜を形成した。基板としては厚き/
、j+amのポリカーボネート基板を用い、モノマガス
流1杖〃♂/分および放電ηLカ100V/で約S分間
車合を行ない、100 nmのプラズマ中介111′セ
をJ、I−[Q iで(=t 7γi式亡た。次いで、
このプラズマ中合嘆の土(・(−記2を層としてTe
i) 9ovo1%含有l、た′]゛e含ff二流化炭
素プラズマjJ4合膜を金膜?ll)nmf、1ヤ゛i
さ1)だ。
このように1.てj1ツ虎しまた記録媒体について、波
長130 nmのGaAs半導体1ノ−ザ灸耳Iいて記
録・再生実験を行なつ/こ。その結果1二組31=4に
示す。ここで、記録媒体上のレーザパワー6mWおよび
ビーム径t、6μmで記録を行ない、0.3; mWの
レーザパワーで再生を行なった。第3図の1117輔は
半導体レーザのパルス幅(nr;ec ) 、w軸に1
1f生信−弓出力、すなわち記録前後の反射光強rat
: (4rl対航)の差をそれぞれ表わしている。図中
の曲線aに11本実施例の記録媒体を示すが、比較のだ
めに、四弗化ニーf−1/ ン7’ 5 f: V 、
Tli合膜金膜いずにポリヵーボネ−トノ、!j版板上
直接記録層を1没けた慟合を曲線b1ポリメチルメタク
リレート姑板土に直接記録層を設けた場合を曲線Cで示
す。この結果から本実施例の記録媒体が高い記録感度を
有していることがわかる。
長130 nmのGaAs半導体1ノ−ザ灸耳Iいて記
録・再生実験を行なつ/こ。その結果1二組31=4に
示す。ここで、記録媒体上のレーザパワー6mWおよび
ビーム径t、6μmで記録を行ない、0.3; mWの
レーザパワーで再生を行なった。第3図の1117輔は
半導体レーザのパルス幅(nr;ec ) 、w軸に1
1f生信−弓出力、すなわち記録前後の反射光強rat
: (4rl対航)の差をそれぞれ表わしている。図中
の曲線aに11本実施例の記録媒体を示すが、比較のだ
めに、四弗化ニーf−1/ ン7’ 5 f: V 、
Tli合膜金膜いずにポリヵーボネ−トノ、!j版板上
直接記録層を1没けた慟合を曲線b1ポリメチルメタク
リレート姑板土に直接記録層を設けた場合を曲線Cで示
す。この結果から本実施例の記録媒体が高い記録感度を
有していることがわかる。
次に、本実施例の記録媒体にp;+ して、yo℃。
90%川え1湿度の環境で加速度劣化テストを行なった
ところ、2ケ月経過後も反射率(IL下を・ic\さな
がつだ。記録層がlI俊化劣化を起こすと反射率および
透過率の低下が生ずるので、この結束から本実施例の記
’jxr fIV体が極めて耐酸化性に優れていること
がわかった。。
ところ、2ケ月経過後も反射率(IL下を・ic\さな
がつだ。記録層がlI俊化劣化を起こすと反射率および
透過率の低下が生ずるので、この結束から本実施例の記
’jxr fIV体が極めて耐酸化性に優れていること
がわかった。。
実施例
厚さ7.3mmのガラス基板上にアクリル系紫外線硬化
樹脂を約tottmの厚さに塗布1〜、その上に実施例
1と同様に四弗化エチレンプラズマ11(金膜および記
録層としてのTe含有二硫化炭素プラズマ重合膜を形成
した。
樹脂を約tottmの厚さに塗布1〜、その上に実施例
1と同様に四弗化エチレンプラズマ11(金膜および記
録層としてのTe含有二硫化炭素プラズマ重合膜を形成
した。
この記録媒体の感度は第3図の曲線aと同じであシ、ま
た耐酸化性も実施例1と同様に優れていた。一方、四弗
化エヂレンプラズマ■1合1喚を形成せずにアクリル系
紫外線硬化樹脂上に直接に記録層を設けた場合には、記
録感度は第3図の曲線dのようにかなり低い!1に度を
示した。
た耐酸化性も実施例1と同様に優れていた。一方、四弗
化エヂレンプラズマ■1合1喚を形成せずにアクリル系
紫外線硬化樹脂上に直接に記録層を設けた場合には、記
録感度は第3図の曲線dのようにかなり低い!1に度を
示した。
さらに、lIO℃、ワO%I11対湿度の加速度劣化テ
ストでは、/′J周間程度で基板とアクリル系紫外線硬
化1ifl脂との間にはく離が生じ、寸だ同条件下に1
ケ月程IICIiQ:置したと仁ろ、記録層の反射率に
trらが生し、部分的に酸化劣化が促進されているのが
みられた。この結果から、本発明により、四弗化エチレ
ンプラズマ重合膜を設けることにより、記録感度および
経時安定性ともに向上することがわかった。
ストでは、/′J周間程度で基板とアクリル系紫外線硬
化1ifl脂との間にはく離が生じ、寸だ同条件下に1
ケ月程IICIiQ:置したと仁ろ、記録層の反射率に
trらが生し、部分的に酸化劣化が促進されているのが
みられた。この結果から、本発明により、四弗化エチレ
ンプラズマ重合膜を設けることにより、記録感度および
経時安定性ともに向上することがわかった。
(実施例3)
モノマとして四弗化エチレンの代わりに六弗化プロピレ
ンを用い、その他は実施例1の場合と全く同様にして記
録媒体を形成したところ、記録感度および経時安定性と
もに実施5例1と同様な結果が得られた。
ンを用い、その他は実施例1の場合と全く同様にして記
録媒体を形成したところ、記録感度および経時安定性と
もに実施5例1と同様な結果が得られた。
(実施例4)
実施例1の容打[式電極の代わりに、コイル状の誘導式
電極を用い、モノマガス圧5X/θ−3Torr %ガ
ス流f11Jcm’/分および放’+tl電力、zoo
wで約3分間■(合を行ない、膜厚が約ioo nm
の四弗化エチシンプラズマ15合膜を形成した。その1
111は実DIG例1と同様にして記録媒体を形成した
ところ、実施例1と同様な結果が得られた。
電極を用い、モノマガス圧5X/θ−3Torr %ガ
ス流f11Jcm’/分および放’+tl電力、zoo
wで約3分間■(合を行ない、膜厚が約ioo nm
の四弗化エチシンプラズマ15合膜を形成した。その1
111は実DIG例1と同様にして記録媒体を形成した
ところ、実施例1と同様な結果が得られた。
(実施例5)
記録層としてAs、oSe、。Te8oの蒸着膜を用い
、その他は実施例1と同様にして記録媒体を形成した。
、その他は実施例1と同様にして記録媒体を形成した。
この1乃合グ)記J、41:名度は第31’21の曲線
Cに近い値を21、しだが、フル副ロカーボンプラズマ
φ金膜がない場合には曲線dに近い記録感度に−示すこ
とから、感度が大幅に同士していることがわかった。ま
た、グθ℃、90%相対湿度下で約3ケ月間経メトh後
にも反射率変化が生ぜず、耐酸化性にも優れていること
がわかった。
Cに近い値を21、しだが、フル副ロカーボンプラズマ
φ金膜がない場合には曲線dに近い記録感度に−示すこ
とから、感度が大幅に同士していることがわかった。ま
た、グθ℃、90%相対湿度下で約3ケ月間経メトh後
にも反射率変化が生ぜず、耐酸化性にも優れていること
がわかった。
実施例
ポリ四弗化エチレンをターゲットとしてArガス圧/X
10Torrでスパッタを行なった。基板としてはポリ
メチルメタクリレート樹脂基板を用い、敗′1いl’t
7J100 Wで約ざ分間にわたってスパッタを行な
い、膜厚約700 nmのスパック膜を形成した。
10Torrでスパッタを行なった。基板としてはポリ
メチルメタクリレート樹脂基板を用い、敗′1いl’t
7J100 Wで約ざ分間にわたってスパッタを行な
い、膜厚約700 nmのスパック膜を形成した。
次いで、記f々層を実施例1と同様にして形成したとこ
ろ、実施例1と同様な記録感度および経時安定性が得ら
11だ。
ろ、実施例1と同様な記録感度および経時安定性が得ら
11だ。
(実施例7)
ターゲットとしてポリ三弗化エチレンを用い、その他は
実施例6と同様にして記録媒体を形成したとこ7)・実
施例6と同様の結果が得られた。
実施例6と同様にして記録媒体を形成したとこ7)・実
施例6と同様の結果が得られた。
以上説明したように、本発明によるレーザ記録媒体は、
フルオロカーボンのプラズマi(+金膜あるいはポリフ
ルメロカーボンのスパッタ膜を配置aシたことにより、
経時安定性に優れ、しかも高感度な優れた記録特性を有
する。さらに加えて、このフルオロカーボン膜はドライ
プロセスで製作できるため、膜作製中にきすやほこりな
どの付着を防ぐことが容易であり、丑だ記録層も同一装
置内で形成することができるという利点を有している。
フルオロカーボンのプラズマi(+金膜あるいはポリフ
ルメロカーボンのスパッタ膜を配置aシたことにより、
経時安定性に優れ、しかも高感度な優れた記録特性を有
する。さらに加えて、このフルオロカーボン膜はドライ
プロセスで製作できるため、膜作製中にきすやほこりな
どの付着を防ぐことが容易であり、丑だ記録層も同一装
置内で形成することができるという利点を有している。
第1図および第1図は本発明記録媒体の!実施例の構音
を示す俟式的断面図、第3図は本5?!明記録媒体の記
@舶性を示す!持性曲線図である。 /・・基板、 λ・・・フルオロカーボン膜、 3・・・記録層、 弘・・・トラックサーボ川の尚、 !・・・紫外線硬化樹脂膜。 第1図 第3図
を示す俟式的断面図、第3図は本5?!明記録媒体の記
@舶性を示す!持性曲線図である。 /・・基板、 λ・・・フルオロカーボン膜、 3・・・記録層、 弘・・・トラックサーボ川の尚、 !・・・紫外線硬化樹脂膜。 第1図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ノ、(,4反を有し、r’r笑)、I−板上にフル
オロカーボンのプラズマ【11合膜を配置斤し、該プラ
ズマ重合膜の土に記録層を配置したことを唱・徴とする
レーザ記ζを媒体。 2)邦z板を(Tし、該基4反上にポリフルオロカーボ
ンのスパッタ膜を配置し、該スパッタ膜の上に記録層を
配置したことを特徴とするレージ’ jjlE 録
αμ 体 。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57198977A JPS5990246A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | レ−ザ記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57198977A JPS5990246A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | レ−ザ記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5990246A true JPS5990246A (ja) | 1984-05-24 |
Family
ID=16400067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57198977A Pending JPS5990246A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | レ−ザ記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5990246A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59171686A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Hitachi Ltd | 記録用部材 |
JPS60151847A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-09 | Nec Corp | 光記録媒体 |
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JPS62205553A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-10 | Toshiba Corp | 光デイスク |
JPS62219244A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-26 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体 |
US4737408A (en) * | 1985-08-21 | 1988-04-12 | Tdk Corporation | Magneto-optical recording medium having plasma-polymerized protective layers |
Citations (5)
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JPS5538665A (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical recording member |
JPS5898289A (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-11 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
-
1982
- 1982-11-15 JP JP57198977A patent/JPS5990246A/ja active Pending
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