JPH01282760A - 光記録部材の後処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は小孔形成型の追記型光記録部材の感震を向上さ
せるための後処理方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、光ディスク等の光記録部材は高密度記録、ランダ
ムアクセスが可能であり、しかも可搬であるという磁気
ディスク、磁気テープ等の従来の情報記録用部材にはな
い記録媒体としてコンピューター、ビデオ等の情報記録
の分野な注目きれている。

光ディスクはその記録・再生の特徴から、再生専用型、
追記型、消去可能型に大まかに分類できる。この中で追
記型光ディスクとは、１回のみ記録が可能であるものを
指す。この型の光ディスクは、−度記録した情報の消去
はできないが、逆に長期間の保存が必要であったり、消
去すると困る情報等の記録の分野での使用が期待されて
いる。

追記型光ディスクでは書き込みレーザパルス照射部分の
記録媒体の昇華・融解により、小孔を形成せしめ、記録
部分と非記録部分との反射率や透過率の違いから情報の
読み出しを行う小孔形成型光ディスクがよく知られてい
る。小孔形成型の光ディスクの記録媒体としてはＡ１、
Ｂｉ、　Ｔｅ５Ｐｂ、　Ｍ。

等の金属、半金属、半導体の単体の薄膜が使用可能であ
ることが知られている。

しかし、これらの金属、半金属、半導体の単体のみでは
経時変化が起こり、情報の保存安定性に問題のあること
も知られており、保存安定性を改良するために、上記単
体の他に他の金属、半金属、半導体や有機重合体を混合
する方法が提案されている。例えば、特公昭６０−２３
９９７号公報にＴｅ、、Ｂｉの少なくとも１つを含む記
録媒体にＳｅを加えることが提案されている。また、本
発明者等も有機化合物のプラズマ重合膜を保護層として
設けることを提案した（特願昭６１−３１４，２６１号
）。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上記の方法により保存安定性の改良を行った
場合には元の記録媒体に比べ感度が低下しζしまい、よ
り高いパワーのレーザ光を当てないと満足のい（記録特
性が得られないことが判った。

本発明の目的は保存安定性に（Ｊれ、高感度を有する光
記録部材を得るための後処理方法を提供することにある
。

〔課題を解決するための手段］ 本発明は上記の特願昭６１−３１４．２６１号で提案し
た発明の改良に関するもので、基板上に金属、半金属あ
るいは半導体から選ばれた少なくとも１つの元素を含有
する記録媒体層とその上に有機化合物のプラズマ重合膜
の保護層との少なくとも２層を有する小孔形成型追記型
光記録部材において、上記層を基板上に成膜後、温度４
０〜９５°Ｃ１相対湿度５０〜９０％の雰囲気中に０．
１〜１００時間曝すことを特徴とする光記録部材の後処
理方法を提供するものである。

本発明において後処理による光記録部材の感度向上の機
構は明らかではないが、湿気のある雰囲気において加熱
処理することにより記録媒体の構造に何らかの変化が起
こるため感度が向上するものと推察される。

以下、本発明を具体的に説明する。

本発明で用いられる記録媒体としては、従来小孔形成型
追記型光記録媒体として用いられているものでＡＩ、８
１％　Ｔｅ、　ｐｂ、　Ｍｏ、　５ｅＳＳｎ１＾ｓ、　
Ｐｔ。

Ａｕ、　Ｇｅ等の金属、半金属あるいは半導体から選ば
れた少なくとも１つの元素を含有するもので化学的に修
飾されたものも含む。

これらの記録媒体層は真空蒸着法、スパッタリング法等
の公知の方法によりガラス基板、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート等の樹脂基板上に薄膜状に形成
される。

上記記録媒体層は基板上に直接に、または薄膜状に形成
された重合物のような有機物層を介して基板上に形成し
てもよい。

保：Ｉ！層として用いられる有機化合物のプラズマ重合
膜はメタン、エタン、プロパン、ブタンなどの飽和炭化
水素、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等の不
飽和炭化水素、メタノール、エタノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ベ
ンゼン、トルエンなどの芳香族化合物、二硫化炭素、メ
ルカプタンなどの含硫黄化合物、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロプロピレンなどの含フツ素化合物、
エチルアミン、ピリジンなどの含窒素化合物などの有機
化合物を１〜１Ｏ−６Ｔｏｒｒ程度の真空度で高周波放
電あるいは直流放電により重合させることにより作成で
きる。なお、この保護膜としては前記不飽和炭化水素、
含硫黄化合物、含フツ素化合物、含窒素化合物が好まし
く、特に含硫黄化合物が好ましい。

この光記録部材は、例えばＴｅを含む場合は予め低湿度
条件で加熱処理により結晶化されていてもよい。

以上のように従来技術で形成された光記録部材を以下に
述べる後処理を施すことにより高感度を有する光記録部
材とすることができる。

後処理を行う光記録部材は単板でもよいし、またこれら
を貼合わせた形状のものでもよい。

後処理は温度が４０〜９５°Ｃの範囲で行うことができ
るが、基板に樹脂を用いる場合はその樹脂の熱変形温度
以下で行うことが必要である。好ましい温度範囲は４０
〜９０°Ｃで、５０〜８０℃が更に好ましい。

後処理時の相対湿度は５０〜９０％、より好ましくは６
０〜９０％である。後処理は上記の雰囲気中に光記録媒
体層、保護層が成膜された光記録部材を曝すことにより
行われる。曝す時間、すなわち後処理時間は処理温度、
部材の形状によって異なるので０．１〜１００時間の範
囲で温度を考慮して適宜法めればよい。０．１時間未満
の場合は処理の効果が得られず、一方、１００時間を超
えても感度向上の効果が見られず、かえって下がる（頃
向がみられるので好ましくない。

また、単板の場合は０．１〜４０時間がより好ましく、
１〜２０時間が特に好ましく、貼合わせの場合は１〜１
００時間がより好ましく、５〜５０時間が特に好ましい
。

後処理の際に所望の温度、相対湿度にする場合あるいは
室温に戻す場合、基板表面、光記録部材表面に結露を起
こさないために適当な昇温速度および降温速度を選択す
るのが好ましい。

〔発明の効果〕

本発明によれば、光記録部材を後処理することにより、
保存安定性を保った状態で記録感度の向上した光記録部
材を提供することができる。

〔実施例） 以下実施例により本発明を具体的に説明するが本発明は
これらにより限定されるものではない。

実施例　１ １３０ｅａｍφのプリグループｆナポリカーボ２）基板
を真空蒸着装置内にセットし、Ｃ３２ガスを導入し、高
周波コイルを用いてＣ３ｔプラズマ重合膜を基板上に形
成した。更にプラズマ重合を続けなからＴｅを抵抗加熱
方式のポートより蒸発させＴｅ・Ｃ５ｚ系膜を形成し、
ついでＴｅの蒸発を止め、次いでＣ３ｚプラズマ重合膜
を形成し全体で約４００人の３層構造の光記録媒体を形
成した。その後、この光記録媒体が形成された基板（以
下ディスク単（反々称する。）を取り出し、相対湿度３
０％の加熱炉中で７０゛Ｃ２１時間加熱処理をし、成膜
したＴｅの結晶化を行った。

このディスク単板２枚をスペーサーを介して光記録媒体
面が内側になるように接着剤で貼り合わせた。この貼り
合わせディスクの記録・再生特性を８３０ｒ＋ｍのレー
ザー光を用い、再生時のレーザーパワー（１，８ｍＷと
し、記録時のレーザーパワーを変化させて測定した。な
お、記録位置は半径４０ｍｍ、回転数１８００ｒｐｍ　
、周波数５ＭＨｚでレーザー光照射パルスは５０ｎｓで
あった。その結果、キャリヤーノイズ比（以下Ｃ／Ｎ　
と称する。）４５ｄＢ以上になる記録時レーザーパワー
は７ｍＷであった。

次にこの貼り合わせディスクを８０°０１８０％の相対
湿度の恒温恒湿槽中に４０時間置くことにより後処理を
行ったところ、Ｃ／Ｎが４５ｄＢ以上になる記録時レー
ザーパワーは６ｍＷであり、後処理による感度向上が確
認された。

実施例　２ 実施例１と同様にして蒸着、加熱処理をしたディスク単
板をそのまま８０°Ｃ１８０％の相対湿度の恒温恒湿槽
中に１０時間置くことにより後処理を行った。後処理の
前後での記録・再生特性を実施例】と同様に評価した。

　Ｃ／Ｎ　＞４５ｄＢとなる記録レーザパワーは後処理
前で７１、後処理後で６６であった。

実施例　３ 実施例１と同様にして光記録媒体を作製した。

ただ全体の厚みを約３５０人とし、３Ｎ目のＣ３２プラ
ズマ重合膜をやや薄くした。実施例１と同様に加熱処理
を行った後、２枚の光デイスク単板を０．５１厚のスペ
ーサーを介して記録媒体層を内側にして貼り合わせた。

この貼り合わせディスクを６０゛Ｃ１８０％相対Ｖ＝度
で３０時間後処理を行い、後処理の前後での記録・再生
特性を実施例１と同様に評価した。　Ｃ／Ｎ　＞５０ｄ
Ｂとなる記、録レーザパワーは後処理前で６．５ｍＷ　
、後処理後で６　ｍＷであった。

実施例　４ 実施例３と同様にして蒸着、加熱処理をしたディスク単
板をそのまま６０°Ｃ１８０％の相対湿度の恒温恒湿槽
中に１時間置（ことにより後処理を行い、後処理の前後
での記録・再生特性を実施例１と同様に評価した。　Ｃ
／Ｎ　＞４５ｄＢとなる記録レーザパワーは後処理前で
６゜５１１Ｗ、後処理後で５．５ｍＷであった。

実施例　５ 実施例１と同様の基板にスパツタリングによりＴｅ−５
ｅ合金を媒体として成膜した（Ｔｅａｓｅ（原子比）９
５：５）　、次いで系内にエチレンを導入し、プラズマ
重合を行い、保護層としてのエチレンプラズマ重合膜を
作成した。なお、全体の厚みは約３００人であった。得
られた光デイスク単板２枚をスペーサーを介して記録媒
体層を内側にして貼り合わせた。この貼り合わせディス
クを６０°Ｃ８８０％相対湿度で２０時間後処理を行い
、後処理の前後での記録・再生特性を実施例１と同様に
評価した。Ｃ／Ｎ　＞４５ｄＢとなる記録レーザパワー
は後処理前で７　ｍＷ、後処理後で６　ｍＷであった。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　基板上に金属、半金属あるいは半導体から選ばれた少
   なくとも１つの元素を含有する記録媒体層とその上に有
   機化合物のプラズマ重合膜の保護層との少なくとも２層
   を有する小孔形成型追記型光記録部材において、上記層
   を基板上に成膜後、温度４０〜９５℃、相対湿度５０〜
   ９０％の雰囲気中に０．１〜１００時間曝すことを特徴
   とする光記録部材の後処理方法。