JPH03240589A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH03240589A JPH03240589A JP2036281A JP3628190A JPH03240589A JP H03240589 A JPH03240589 A JP H03240589A JP 2036281 A JP2036281 A JP 2036281A JP 3628190 A JP3628190 A JP 3628190A JP H03240589 A JPH03240589 A JP H03240589A
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- JP
- Japan
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- film
- recording
- sb2s3
- trapping
- recording medium
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 229940007424 antimony trisulfide Drugs 0.000 claims abstract description 3
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ビームを用いて情報を記録再生するコンパ
クトディスク(以下CDとする)タイプの光情報記録媒
体のディスクに関するものである。
クトディスク(以下CDとする)タイプの光情報記録媒
体のディスクに関するものである。
CDと互換性のある追記型光ディスク(以下CI)−W
Oディスクと呼ぶ)の開発が盛んに行われている。CD
と互換性を持たせるために鏡面の反射率が70%以上で
あることが要求される。
Oディスクと呼ぶ)の開発が盛んに行われている。CD
と互換性を持たせるために鏡面の反射率が70%以上で
あることが要求される。
例えばG e−T e系材料では多層構造にしても70
%以上の反射率を達成するのは難しく、反射率を達成で
きたとしても記録特性、耐候性を満足するのは難しい。
%以上の反射率を達成するのは難しく、反射率を達成で
きたとしても記録特性、耐候性を満足するのは難しい。
このようにGe−Te系材料では、反射率、記録特性、
耐候性すべてを同時に満足させることはできない。
耐候性すべてを同時に満足させることはできない。
本発明の目的は、簡単な構造で反射率70%以上を達成
でき、記録特性、耐候性を満足させるCD−WOディス
クを提供することにある。
でき、記録特性、耐候性を満足させるCD−WOディス
クを提供することにある。
そのため本発明では、記録膜に窒素(以下N2と呼ぶ〉
を内部トラップした三硫化アンチモン(以下Sb2S3
と呼ぶ)を使用し、その上に金(以下Auと呼ぶ)反射
膜を積層したCD−WOディスクを提供するものである
。
を内部トラップした三硫化アンチモン(以下Sb2S3
と呼ぶ)を使用し、その上に金(以下Auと呼ぶ)反射
膜を積層したCD−WOディスクを提供するものである
。
上述のようなディスク構造では、Sb2S3膜中へN2
をトラップすることにより、屈折率、消衰係数の値を小
さくすることができる。また、記録メカニズムは、アモ
ルファス−結晶の相変化のメカニズムから、Nz)ラン
プにより熱的に安定な非晶質(アモルファス)状態にな
り基板変形のみの記録メカニズムだけとなって記録特性
が改善できる。さらに、N2 トラップにより不活性、
不動状態となり物理的、化学的安定性が高まり耐候性を
向上することができる。
をトラップすることにより、屈折率、消衰係数の値を小
さくすることができる。また、記録メカニズムは、アモ
ルファス−結晶の相変化のメカニズムから、Nz)ラン
プにより熱的に安定な非晶質(アモルファス)状態にな
り基板変形のみの記録メカニズムだけとなって記録特性
が改善できる。さらに、N2 トラップにより不活性、
不動状態となり物理的、化学的安定性が高まり耐候性を
向上することができる。
第1図に本発明による光情報記録媒体の一実施例を示す
。
。
図において、連続グループポリカーボネート基板1の上
にN2をトラップしたsb、s3膜2を、さらにAu反
射膜3.紫外線硬化(UV)樹脂膜4を積層した。Sb
2S3膜2及びAu反射膜3はスパッタリング法により
作製する。UV樹脂は、スピンナによりスピンコードす
る。
にN2をトラップしたsb、s3膜2を、さらにAu反
射膜3.紫外線硬化(UV)樹脂膜4を積層した。Sb
2S3膜2及びAu反射膜3はスパッタリング法により
作製する。UV樹脂は、スピンナによりスピンコードす
る。
まず、同−真空槽内で基板1に5b2s3記録膜2.A
u反射膜3を連続でスパッタリングする。
u反射膜3を連続でスパッタリングする。
Sb2S3記録膜スパンタリングは、アルゴンガス(A
r>とN2ガスの奪回気中で行い、N2を膜内に含んだ
Sb2S3記録膜2を作製する。この時N2はA、 r
に幻して、5%以下である。その後、UV樹脂膜4をス
ピンコードする。
r>とN2ガスの奪回気中で行い、N2を膜内に含んだ
Sb2S3記録膜2を作製する。この時N2はA、 r
に幻して、5%以下である。その後、UV樹脂膜4をス
ピンコードする。
本実施例によるディスク状光情報記録媒体に81で波長
780nmの半導体レーザを1.2 m/sec。
780nmの半導体レーザを1.2 m/sec。
の線速度で照射した。記録された信号は200KHzデ
ユーテイ比50150のパルスであり、記録された信号
を0.5mWで同様のI/−ザで再η:したところC/
N比は45dBであった。また、この時の5bzSa膜
の膜厚は150nm、Au膜は80nmで、基板側の反
射率は75%であった。第2図に記録された時のディス
ク断面図を示す。第3図には、EFM信号を記録したデ
ィスクをJISC5024M−]の温湿度サイクル試験
を行った時のブロック誤り率の変化を示す。なお、本試
験での1サイクルは通常環境下では1年に相当する。
ユーテイ比50150のパルスであり、記録された信号
を0.5mWで同様のI/−ザで再η:したところC/
N比は45dBであった。また、この時の5bzSa膜
の膜厚は150nm、Au膜は80nmで、基板側の反
射率は75%であった。第2図に記録された時のディス
ク断面図を示す。第3図には、EFM信号を記録したデ
ィスクをJISC5024M−]の温湿度サイクル試験
を行った時のブロック誤り率の変化を示す。なお、本試
験での1サイクルは通常環境下では1年に相当する。
第3図から明らかなように、本実施例によるN2を内部
トラップしたSb2S3記録膜2にAu反射率3を積層
したディスク構造での光情報記録媒体は、従来の相変化
による記録と異なりディスク基板の変形によりピットが
記録されるため、操作条件範囲内の温湿度変化にも充分
対応できブロック誤り率の変化も少ない。
トラップしたSb2S3記録膜2にAu反射率3を積層
したディスク構造での光情報記録媒体は、従来の相変化
による記録と異なりディスク基板の変形によりピットが
記録されるため、操作条件範囲内の温湿度変化にも充分
対応できブロック誤り率の変化も少ない。
以上本発明によれば、5bzS:+膜中へN2をトラッ
プすることにより、屈折率、消衰係数の値を小さくする
ことができる。また、記録メカニズムは、アモルファス
−結晶の相変化のメカニズムから、Nz トラップに
より熱的に安定な比品質(アモルファス)状態になり基
板変形のみの記録メカニズムだけとなって記録特性が改
善できる。
プすることにより、屈折率、消衰係数の値を小さくする
ことができる。また、記録メカニズムは、アモルファス
−結晶の相変化のメカニズムから、Nz トラップに
より熱的に安定な比品質(アモルファス)状態になり基
板変形のみの記録メカニズムだけとなって記録特性が改
善できる。
さらに、Nz l−ラップにより不活性、不動状態と
なり物理的、化学的安定性が高まり耐候性を向上するこ
とができる。
なり物理的、化学的安定性が高まり耐候性を向上するこ
とができる。
第1図は本発明による光情報記録媒体の断面図、第2図
は記録時の本発明による光情報記録媒体の断面図、第3
図は本発明によるディスク構造の光情報記録媒体のブロ
ック誤り率の変化を示す線図である。 1・・・基板 2・・・Sb2S3記録膜 3・・・Au反射膜 4・・・UV樹脂膜 5・・・ビット 6・・・記録レーザ光
は記録時の本発明による光情報記録媒体の断面図、第3
図は本発明によるディスク構造の光情報記録媒体のブロ
ック誤り率の変化を示す線図である。 1・・・基板 2・・・Sb2S3記録膜 3・・・Au反射膜 4・・・UV樹脂膜 5・・・ビット 6・・・記録レーザ光
Claims (1)
- 基体と該基体上に形成された記録薄膜へ光ビームを照射
し、情報を記録する光情報記録媒体において、前記記録
薄膜に窒素(N_2)を内部へ取り込んだ三硫化アンチ
モン(Sb_2S_3)で構成したことを特徴とする光
情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2036281A JPH03240589A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2036281A JPH03240589A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03240589A true JPH03240589A (ja) | 1991-10-25 |
Family
ID=12465403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2036281A Pending JPH03240589A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03240589A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990042064A (ko) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | 윤종용 | 귀금속 반사층을 구비한 상변화 광디스크 |
WO2008096680A1 (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Panasonic Corporation | 情報記録媒体およびその製造方法、スパッタリングターゲットならびに成膜装置 |
-
1990
- 1990-02-19 JP JP2036281A patent/JPH03240589A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990042064A (ko) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | 윤종용 | 귀금속 반사층을 구비한 상변화 광디스크 |
WO2008096680A1 (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Panasonic Corporation | 情報記録媒体およびその製造方法、スパッタリングターゲットならびに成膜装置 |
US8273438B2 (en) | 2007-02-09 | 2012-09-25 | Panasonic Corporation | Information recording medium, process for producing the information recording medium, sputtering target and film forming apparatus |
JP5226537B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2013-07-03 | パナソニック株式会社 | 情報記録媒体およびその製造方法、スパッタリングターゲットならびに成膜装置 |
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