JPH0361079A - 情報記録媒体 - Google Patents
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- JPH0361079A JPH0361079A JP1196521A JP19652189A JPH0361079A JP H0361079 A JPH0361079 A JP H0361079A JP 1196521 A JP1196521 A JP 1196521A JP 19652189 A JP19652189 A JP 19652189A JP H0361079 A JPH0361079 A JP H0361079A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、レーザビーム等の光ビームを記録層に照射し
、その照射条件によって照射部分に相変化を誘起させて
情報を記録あるいは消去し、この相変化に伴う反射率、
透過率等の光学特性の変(従来の技術) 従来、情報を記録及び消去が可能な大容量の情報記録媒
体、いわゆるイレーザブル光ディスク等の一種として、
相変化型のものが広く知られている。この相変化型情報
記録媒体は、例えばガラス又はプラスチック(ポリカー
ボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等)から
なる延板と、この基板上に形成された記録層とを備えて
いる。
、その照射条件によって照射部分に相変化を誘起させて
情報を記録あるいは消去し、この相変化に伴う反射率、
透過率等の光学特性の変(従来の技術) 従来、情報を記録及び消去が可能な大容量の情報記録媒
体、いわゆるイレーザブル光ディスク等の一種として、
相変化型のものが広く知られている。この相変化型情報
記録媒体は、例えばガラス又はプラスチック(ポリカー
ボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等)から
なる延板と、この基板上に形成された記録層とを備えて
いる。
この記録層を形成する材料としては、たとえば。
GeTe等のカルコゲナイド系合金が知られており、こ
れらは異なる条件の光(例えば、レーザビーム)を照射
することにより、例えば結晶と非結晶との間で可逆的に
相変化するので、この相変化を利用して情報を記録及び
消去し、これらの相変化に伴う反射率又は透過率等の光
学的特性の変化を読取ることができる。
れらは異なる条件の光(例えば、レーザビーム)を照射
することにより、例えば結晶と非結晶との間で可逆的に
相変化するので、この相変化を利用して情報を記録及び
消去し、これらの相変化に伴う反射率又は透過率等の光
学的特性の変化を読取ることができる。
このような記録層としては、光の照射条件によって相変
化が生じ易い共晶組成を有する桐材や金属間化合物を形
成する材料が適している。
化が生じ易い共晶組成を有する桐材や金属間化合物を形
成する材料が適している。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、従来、相変化型情報記録媒体の記録層と
して用いられているGeTe等の合金は、一応上述の条
件は満足するものの、未だ情報記録媒体として十分な特
性を保持しているとは言えない。特に、初期化、記録及
び消去を高速化することが望まれている。また、結晶−
非晶質間の相変化により情報を記録あるいは消去する場
合には、通常記録部分が非晶質になるが、一般に非晶質
は比較的安定性が低いため、非晶質状態をより安定化さ
せることも要求されている。更に、信頼性を一層高める
ことも要求されている。
して用いられているGeTe等の合金は、一応上述の条
件は満足するものの、未だ情報記録媒体として十分な特
性を保持しているとは言えない。特に、初期化、記録及
び消去を高速化することが望まれている。また、結晶−
非晶質間の相変化により情報を記録あるいは消去する場
合には、通常記録部分が非晶質になるが、一般に非晶質
は比較的安定性が低いため、非晶質状態をより安定化さ
せることも要求されている。更に、信頼性を一層高める
ことも要求されている。
そこで、この発明は、かかるJ1情に鑑みてなされたも
のであり、初期化、記録及び消去を高速化することが出
来、記録した情報が安定であり、更に1;動牲がIi:
9いj+’/報記む媒体を提I」(することを目的とす
る。
のであり、初期化、記録及び消去を高速化することが出
来、記録した情報が安定であり、更に1;動牲がIi:
9いj+’/報記む媒体を提I」(することを目的とす
る。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するために、基板と。
光の照射によって照射部分が平衡相と非平衡相との間で
相変化する記録層とを有する情報記録媒体であって、記
録層は一般式(I nxSbyTez)+oo−,MI
+(ただし、Xl yl Zl αは原子%、Xl−y
+ z = ]、 00であり、夫々25≦x≦55
.27<y≦55.20≦z≦50,0<a≦20の範
囲内にあり、MはCr、Co、Mn及びMgからなる群
から選択される少なくとも1種の元素である)で表され
る組成の合金で形成されていることを特徴とする情報記
録媒体を提供する。
相変化する記録層とを有する情報記録媒体であって、記
録層は一般式(I nxSbyTez)+oo−,MI
+(ただし、Xl yl Zl αは原子%、Xl−y
+ z = ]、 00であり、夫々25≦x≦55
.27<y≦55.20≦z≦50,0<a≦20の範
囲内にあり、MはCr、Co、Mn及びMgからなる群
から選択される少なくとも1種の元素である)で表され
る組成の合金で形成されていることを特徴とする情報記
録媒体を提供する。
(作 用)
InxSbyTez (イ旦し、x十y+z=100
0 x、y、z’は原子%。)において、x。
0 x、y、z’は原子%。)において、x。
y及び2か夫々25≦x≦55.27<y≦55゜20
≦2≦50の範囲の組成ををする金属間化合物は、非晶
質化しやすいという利点を有しているので、この組成又
はこの近傍組成にMを添加した上述の組成の合金は、前
述のような相変化型情報記録媒体の記録層としての条件
を満たす飼料である。また、上述のMで示される元素は
、20原子%よりも低い範囲で含有させることにより、
In5b−Te合金の結晶化温度を上昇させるので。
≦2≦50の範囲の組成ををする金属間化合物は、非晶
質化しやすいという利点を有しているので、この組成又
はこの近傍組成にMを添加した上述の組成の合金は、前
述のような相変化型情報記録媒体の記録層としての条件
を満たす飼料である。また、上述のMで示される元素は
、20原子%よりも低い範囲で含有させることにより、
In5b−Te合金の結晶化温度を上昇させるので。
非晶質状態の安定性が向上する。また、これらの元素を
添加する事により耐酸化性か改善され、信頼性が向上す
る。更に、上述の組成の伺料は非晶質化しやすいことに
加えて結晶化速度が大きいので、初期化、記録及び消去
の高速化を達成することができる。
添加する事により耐酸化性か改善され、信頼性が向上す
る。更に、上述の組成の伺料は非晶質化しやすいことに
加えて結晶化速度が大きいので、初期化、記録及び消去
の高速化を達成することができる。
(実施例)
以下、添付図面を参照してこの発明について具体的に説
明する。第1図は、この発明の実施例に掛かる情報記録
媒体を示す断面図である。裁板1はポリオレフィン、エ
ポキシ、ポリカーボネ1− (PC) 、ポリメチルメ
タクリレート(PMMA)等のプラスチック、又はガラ
ス等、この技術分野で通常用いられる材料で形成されて
いる。この基板1の」一方に、保護層3、記録層2、保
護層4及び保護層5がこの順に形成されている。
明する。第1図は、この発明の実施例に掛かる情報記録
媒体を示す断面図である。裁板1はポリオレフィン、エ
ポキシ、ポリカーボネ1− (PC) 、ポリメチルメ
タクリレート(PMMA)等のプラスチック、又はガラ
ス等、この技術分野で通常用いられる材料で形成されて
いる。この基板1の」一方に、保護層3、記録層2、保
護層4及び保護層5がこの順に形成されている。
保訛層3および保護層4は、記録層2を挟むように配設
されており、有機高分子材料、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂若しくは紫外
線硬化樹脂(いわゆる2P樹脂)、またはS I O2
、A I 203 、A I N −。
されており、有機高分子材料、例えばポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂若しくは紫外
線硬化樹脂(いわゆる2P樹脂)、またはS I O2
、A I 203 、A I N −。
Z n S s若しくはZrO2等の誘電体で形成され
る。これら保護層3.4は記録層2が空気中の水分の影
響を受けることを未然に防止する作用、記録及び消去の
際にレーザビーム等の光により記録層2の照射部分が飛
散したり穴が形成されてしまうことを防止する作用を有
している。これら保護層3.4はスピンコード法、蒸着
法、スパッタリング法等によって好適に形成することが
できる。
る。これら保護層3.4は記録層2が空気中の水分の影
響を受けることを未然に防止する作用、記録及び消去の
際にレーザビーム等の光により記録層2の照射部分が飛
散したり穴が形成されてしまうことを防止する作用を有
している。これら保護層3.4はスピンコード法、蒸着
法、スパッタリング法等によって好適に形成することが
できる。
なお、これら保護層3.4の厚みは、10オングストロ
ーム乃至数10マイクロメートルであることが好ましい
。
ーム乃至数10マイクロメートルであることが好ましい
。
保護層5は、情報記録媒体を取扱う際の表面での傷やほ
こり等を防止するために配設されるもので、スピンコー
ドi等により紫外線硬化樹脂を塗酊し、これに紫外線を
照射して硬化させること等により形成される。この保護
層5の層厚は]−00オングストローム乃至数10マイ
クロメートルであることが好ましい。なお、保護層3.
4.5は設けることが好ましいが、必ずしも設けなくて
もよい。
こり等を防止するために配設されるもので、スピンコー
ドi等により紫外線硬化樹脂を塗酊し、これに紫外線を
照射して硬化させること等により形成される。この保護
層5の層厚は]−00オングストローム乃至数10マイ
クロメートルであることが好ましい。なお、保護層3.
4.5は設けることが好ましいが、必ずしも設けなくて
もよい。
記録層2は(I nxSbyTez)+oo−6M。
(ただし、x、y、z、αは原子%、x+y+z=10
0であり、夫々25≦x≦55.27<y55.20≦
2≦50、O<a≦2oの範囲内にあり、MはCr、C
o、Mn及びMgからなる群から選択される少なくとも
1種の元素である)で表される組成の合金で形成されて
いる。ここで、記録層2は実用レベルにおいての信号再
生値(C/N)が45dB以上であることが望ましく、
このような信号再生値(C/N)は、記録層2の反射率
変化が4%以上の時に得られる。反射率変化が4%以上
となる場合のInX5byTezのそれぞれの組成範囲
は、In、Sb及びTeの全元素を100原子%とすれ
ば、Inが25原子%以上55原子%以下[(S t)
7oT e 30) I n xの状態て Inを変化
させたとき。Xは原子%。]であり、Sbが27原子%
より多く55原子%以下[(InsoTeso)SbY
の状態で、sbを変化させたとき。yは原子%。]であ
り、Teが20原子%以上50原子%以下 [(Ins
oSbso)Tezの状態で、Teを変化させたとき。
0であり、夫々25≦x≦55.27<y55.20≦
2≦50、O<a≦2oの範囲内にあり、MはCr、C
o、Mn及びMgからなる群から選択される少なくとも
1種の元素である)で表される組成の合金で形成されて
いる。ここで、記録層2は実用レベルにおいての信号再
生値(C/N)が45dB以上であることが望ましく、
このような信号再生値(C/N)は、記録層2の反射率
変化が4%以上の時に得られる。反射率変化が4%以上
となる場合のInX5byTezのそれぞれの組成範囲
は、In、Sb及びTeの全元素を100原子%とすれ
ば、Inが25原子%以上55原子%以下[(S t)
7oT e 30) I n xの状態て Inを変化
させたとき。Xは原子%。]であり、Sbが27原子%
より多く55原子%以下[(InsoTeso)SbY
の状態で、sbを変化させたとき。yは原子%。]であ
り、Teが20原子%以上50原子%以下 [(Ins
oSbso)Tezの状態で、Teを変化させたとき。
2は原子%。コである。
つまり これら組成範囲内でIn、SbおよびTeによ
り記録層2が構成されていれば、実用レベルでの信号再
生値(C/N)が得られるためIn Sb及びTeの
組成をInx5byTezにおいて 25≦x≦55.
27<y≦55及び20≦2≦50 (但し、x+y+
z=100.x。
り記録層2が構成されていれば、実用レベルでの信号再
生値(C/N)が得られるためIn Sb及びTeの
組成をInx5byTezにおいて 25≦x≦55.
27<y≦55及び20≦2≦50 (但し、x+y+
z=100.x。
y及び2は原子%である。)とする。この領域において
は、記録層2の結晶化温度が約240度と。
は、記録層2の結晶化温度が約240度と。
室温に比較し高い温度になっている。記録層2は結晶化
温度が高いと、非晶質状態が安定となり。
温度が高いと、非晶質状態が安定となり。
かつ一般に結晶化の活性化エネルギーが高くなる傾向を
示すので、従って結晶化速度も速くなり高速消去に適し
たものとなる。
示すので、従って結晶化速度も速くなり高速消去に適し
たものとなる。
以上の組成で形成される記録層2は、蒸着状、スパッタ
リング法等によって好適に形成することができる。尚、
合金ターゲットを使用して蒸着あるいはスパッタリング
する場合には、ターゲット組成と実際に形成される層の
組成とに差があることを考慮する必要がある。また、多
元同時蒸着あるいは多元同時スパッタリング等によって
成層することもできる。記録層2の層厚は、100乃至
3000オングストロームであることが好ましい。
リング法等によって好適に形成することができる。尚、
合金ターゲットを使用して蒸着あるいはスパッタリング
する場合には、ターゲット組成と実際に形成される層の
組成とに差があることを考慮する必要がある。また、多
元同時蒸着あるいは多元同時スパッタリング等によって
成層することもできる。記録層2の層厚は、100乃至
3000オングストロームであることが好ましい。
記録層2を構成する (InxSbyTez)+oo−
aM、は、照射する光の条件を変えることにより、平衡
相と非平衡相(非晶質相、準安定結晶相等)との間で相
変化し得る材料であり、In。
aM、は、照射する光の条件を変えることにより、平衡
相と非平衡相(非晶質相、準安定結晶相等)との間で相
変化し得る材料であり、In。
sb及びTeが非晶質化しやすい組成であることから非
平衡相としての非晶質状態の安定性が優れている。また
、結晶化速度が大きく、かつ非晶質化しやすいことから
初期化、記録及び消去の速度が大きい。更に、Cr、C
o、Mn又はMgの存在により耐酸化性が大きい。
平衡相としての非晶質状態の安定性が優れている。また
、結晶化速度が大きく、かつ非晶質化しやすいことから
初期化、記録及び消去の速度が大きい。更に、Cr、C
o、Mn又はMgの存在により耐酸化性が大きい。
次に、第2図及び第3図を参照しながら、この実施例に
掛かる情報記録媒体の記録層の形成方法の1例について
説明する。第2図はこの実施例の記録層を形成するため
に用いられるスパッタリング装置の概略構成を示す縦断
面図、第3図はその横断面図である。図中はぼ中央部に
真空容器10を示し、この真空容器10はその底面にガ
ス導入ポート11及びガス排出ポート12を有している
。
掛かる情報記録媒体の記録層の形成方法の1例について
説明する。第2図はこの実施例の記録層を形成するため
に用いられるスパッタリング装置の概略構成を示す縦断
面図、第3図はその横断面図である。図中はぼ中央部に
真空容器10を示し、この真空容器10はその底面にガ
ス導入ポート11及びガス排出ポート12を有している
。
このガス排出ポート12は、排気装置13に接続されて
おり、この排気装置13により排出ポート12を介して
真空容器10内が排気される。また、ガス導入ポート1
1は、アルゴンガスボンベ14に接続されており、この
ボンベ14から真空容器10内にガス導入ポート11を
介してスパッタリングガスとしてのアルゴンガスが導入
される。真空容器10内の上部には、基板支持用の円板
状の回転基台15がその面を水平にして配設されており
、その下面に基板1が支持され1図示しないモータによ
って回転されるようになっている。また。
おり、この排気装置13により排出ポート12を介して
真空容器10内が排気される。また、ガス導入ポート1
1は、アルゴンガスボンベ14に接続されており、この
ボンベ14から真空容器10内にガス導入ポート11を
介してスパッタリングガスとしてのアルゴンガスが導入
される。真空容器10内の上部には、基板支持用の円板
状の回転基台15がその面を水平にして配設されており
、その下面に基板1が支持され1図示しないモータによ
って回転されるようになっている。また。
真空容器10内の底部近傍には、基台]5に対向0
するように、それぞれ記録層2を構成する所定元素で形
成されたスパッタリング源21.22.23が配設され
ており、各スパッタリング源21.22.23には図示
しない高周波電源が接続されている。これらスパッタリ
ング源21.22.23の上方には、夫々モニタ装置2
4.25.26が設けられており、これらモニタ装置2
4.25.26により各スパッタリング源21.22.
23からのスパッタリング量をモニタし、記録層が所定
の組成になるように各スパッタリング源21.22.2
3に投入する電力量を調節する様になっている。
成されたスパッタリング源21.22.23が配設され
ており、各スパッタリング源21.22.23には図示
しない高周波電源が接続されている。これらスパッタリ
ング源21.22.23の上方には、夫々モニタ装置2
4.25.26が設けられており、これらモニタ装置2
4.25.26により各スパッタリング源21.22.
23からのスパッタリング量をモニタし、記録層が所定
の組成になるように各スパッタリング源21.22.2
3に投入する電力量を調節する様になっている。
このようなスパッタリング装置においては、先ず、排気
装置13により真空装置10内を10Torrまで排気
する。次いで、ガス導入ポート11を介して、真空装置
10内にアルゴンガスを導入しつつ、排気装置13の排
気量を調節して真空容器10内を所定圧力のアルゴンガ
ス雰囲気に保持する。この状態で、基板1を回転させつ
つ、スパッタリング源21.22.23に所定時間所定
の1 電力を印加する。これにより、基板1に所定組成の記録
層が形成される。尚、保護層を形成する場合には、記録
層2の形成に先立ち、保護層の組成に調整されたスパッ
タリング源21.22.23を用いて、上辻したように
スパッタリングすることにより、基板1上に保護層3を
形成し、その後記録層2を形成し、更に保護層3を形成
する場合と同様の条件で記録層2の上に保護層4を形成
することができる。
装置13により真空装置10内を10Torrまで排気
する。次いで、ガス導入ポート11を介して、真空装置
10内にアルゴンガスを導入しつつ、排気装置13の排
気量を調節して真空容器10内を所定圧力のアルゴンガ
ス雰囲気に保持する。この状態で、基板1を回転させつ
つ、スパッタリング源21.22.23に所定時間所定
の1 電力を印加する。これにより、基板1に所定組成の記録
層が形成される。尚、保護層を形成する場合には、記録
層2の形成に先立ち、保護層の組成に調整されたスパッ
タリング源21.22.23を用いて、上辻したように
スパッタリングすることにより、基板1上に保護層3を
形成し、その後記録層2を形成し、更に保護層3を形成
する場合と同様の条件で記録層2の上に保護層4を形成
することができる。
次に、この発明の情報記録媒体における初期化並びに情
報の記録、消去及び再生について説明する。
報の記録、消去及び再生について説明する。
初期化
記録層2は成層直後には通常非晶質であるが、情報が記
録されるには結晶である必要があるので、レーザビーム
等の光を記録層2に全面照射して加熱徐冷し、記録層2
を結晶化させる。
録されるには結晶である必要があるので、レーザビーム
等の光を記録層2に全面照射して加熱徐冷し、記録層2
を結晶化させる。
情報の記録
高出力でパルス幅か短い光を記録層2に照射して、照射
部分を加熱急冷して非晶質に相変化させ2 て、記録マークを形成する。
部分を加熱急冷して非晶質に相変化させ2 て、記録マークを形成する。
情報の消去
記録層2に形成された記録マーク部に、記録の際よりも
低出力でパルス輻が長い光を照射して記録マーク部を結
晶に相変化させ、情報を消去する。
低出力でパルス輻が長い光を照射して記録マーク部を結
晶に相変化させ、情報を消去する。
情報の再生
情報を記録した記録層2に比較的弱い光を照射し、記録
マーク部と非記録部との間での光学的特性、例えば反射
率の差を検出して情報を読取る。
マーク部と非記録部との間での光学的特性、例えば反射
率の差を検出して情報を読取る。
尚、この発明に係る情報記録媒体は、結晶化速度が大き
いことからオーバーライドが可能である。
いことからオーバーライドが可能である。
オーバーライドとは、1li−の光71+χから放射さ
れるレーザビーム等の光を、第4図に示すように、2段
階のパワーレベルPP: (消去)及びPw (記
録)の間でパワー変調して、消去パワーレベルの光に記
録パワーレベルの光を重畳させ、既に記録された情報を
消去しながら新しい情報を重書きすることである。
れるレーザビーム等の光を、第4図に示すように、2段
階のパワーレベルPP: (消去)及びPw (記
録)の間でパワー変調して、消去パワーレベルの光に記
録パワーレベルの光を重畳させ、既に記録された情報を
消去しながら新しい情報を重書きすることである。
次に、この発明の試験例について説明する。
試験例1
3
耐熱ガラス基板上に、第2図および第3図に示すスパッ
タリング装置により、種々の組成からなるInx5by
Tez合金薄層を形成し、X線回折によりこれら薄層の
構造を確認した。第5図の3元系組成図において斜線で
示す範囲、すなわち25≦x≦55.27<y≦55お
よび20≦2≦50の組成範囲で確認した結果、いずれ
も成層直後は非晶質であった。この組成範囲において、
結晶化温度は130℃以上であり、室温においては非晶
質状態が安定に存在する。また、レーザビームの照射条
件を選択することにより、情報の記録及び消去か可能な
相変化型の記録層として利用し得ることが確認された。
タリング装置により、種々の組成からなるInx5by
Tez合金薄層を形成し、X線回折によりこれら薄層の
構造を確認した。第5図の3元系組成図において斜線で
示す範囲、すなわち25≦x≦55.27<y≦55お
よび20≦2≦50の組成範囲で確認した結果、いずれ
も成層直後は非晶質であった。この組成範囲において、
結晶化温度は130℃以上であり、室温においては非晶
質状態が安定に存在する。また、レーザビームの照射条
件を選択することにより、情報の記録及び消去か可能な
相変化型の記録層として利用し得ることが確認された。
試験例2
試験例1の組成範囲のInx5byTezに対して、C
r、Co、Mn及びMgを各々添加したサンプルを作成
した。その結果、いずれのサンプルにおいても、結晶化
温度の増加を示した。
r、Co、Mn及びMgを各々添加したサンプルを作成
した。その結果、いずれのサンプルにおいても、結晶化
温度の増加を示した。
これらの添加元素の中で、Cr、Co及びMnは。
いずれも融点が高い材料であり、Crが18634
℃、Coが1494°C及びMnが1246°Cである
。納品化温度は、通常、非晶質合金の絶対温度で示した
融点の1/2〜2/3の温度となることか知られている
から、これら元素の添加により合金の一点力司曽加し、
それに伴い納品化温度が州側したものと考えられる。
。納品化温度は、通常、非晶質合金の絶対温度で示した
融点の1/2〜2/3の温度となることか知られている
から、これら元素の添加により合金の一点力司曽加し、
それに伴い納品化温度が州側したものと考えられる。
また、Mgは融点か649℃と活性な元素であるため、
In、Sb及びTeとの結合を生じゃす<、Mgの添加
により結晶化温度が増加したものと考えられる。
In、Sb及びTeとの結合を生じゃす<、Mgの添加
により結晶化温度が増加したものと考えられる。
したがって、Cr、Co、MnおよびMgは。
Inx5byTezの非晶質状態を安定化させる効果が
あることが確認された。
あることが確認された。
試験例3
試験例2で作成したサンプルに対し、照射条件をかえな
から基板側からレーザビームを照射し、結晶化速度を調
べた。第6図にCrをそれぞれ5.10.20.30原
子%添加したサンプルにおける寥、1.果について示す
。第6図は横軸にJ(((射するレーザビームのパルス
幅をとり、縦軸に反射率変化5 量をとって、これらの関係を示すグラフである。
から基板側からレーザビームを照射し、結晶化速度を調
べた。第6図にCrをそれぞれ5.10.20.30原
子%添加したサンプルにおける寥、1.果について示す
。第6図は横軸にJ(((射するレーザビームのパルス
幅をとり、縦軸に反射率変化5 量をとって、これらの関係を示すグラフである。
このグラフにおいて、反射率の変化は非晶質と結晶との
間の相変化に対応する。尚、第6図は照射するレーザビ
ームのパワーが7mWの場合である。
間の相変化に対応する。尚、第6図は照射するレーザビ
ームのパワーが7mWの場合である。
この図に示されるように、Crが無添加の場合に比較し
、Crが5原子%では結晶化速度が速くなり、10原子
%、20原子%では逆に結晶化速度か低下した。史に、
Crが30原子%では結晶化速度か1μs以上となり2
反射率の変化量も大きく減少した。これはCrの添加に
より融点が上昇するため、相変化に要するエネルギが増
加したためと考えられる。実用性を考えると、結晶化速
度は1μs以下が望ましいので、Crの添加量としては
20原子%以下が適当である。
、Crが5原子%では結晶化速度が速くなり、10原子
%、20原子%では逆に結晶化速度か低下した。史に、
Crが30原子%では結晶化速度か1μs以上となり2
反射率の変化量も大きく減少した。これはCrの添加に
より融点が上昇するため、相変化に要するエネルギが増
加したためと考えられる。実用性を考えると、結晶化速
度は1μs以下が望ましいので、Crの添加量としては
20原子%以下が適当である。
Crの代わりに、Co、Mn及びMgを夫々添加した合
金を形成したサンプルについて同様の試験を行った結果
、同様な結果が得られ、これらについても実用上添加量
が20原子%以下が適当であることが確認された。
金を形成したサンプルについて同様の試験を行った結果
、同様な結果が得られ、これらについても実用上添加量
が20原子%以下が適当であることが確認された。
また、これらの元素は、いくつか組合わせて添6
加しても同様の効果を得ることかできた。この場合にも
l・−タルの添加量が20原子%を越えると記録感度か
低下するので、実用上は20原子%以下が適当である。
l・−タルの添加量が20原子%を越えると記録感度か
低下するので、実用上は20原子%以下が適当である。
試験例4
試験例2で作成したサンプルの内、Cr、Co。
Mn及びMgを夫々5原子%添加したものと、これら元
素を添加しないサンプルを75℃、80%RHの条件下
に保持し、その際の表面反射率の経時素化を71111
定し、第7図にその結果を示す。第7図は各サンプルに
おける反射率の経時変化を示すグラフである。明らかに
、Cr等を添加しないInx5byTez合金は時間を
経るに従って、徐々に反射率の低下を示すことが分る。
素を添加しないサンプルを75℃、80%RHの条件下
に保持し、その際の表面反射率の経時素化を71111
定し、第7図にその結果を示す。第7図は各サンプルに
おける反射率の経時変化を示すグラフである。明らかに
、Cr等を添加しないInx5byTez合金は時間を
経るに従って、徐々に反射率の低下を示すことが分る。
これに対し、夫々Cr、Co、Mn及びMgを5原子%
添加したサンプルは試験開始直後にわずかの反JIJ率
代下かあるものの、その後1000 II!j間経過す
るまでほとんど反射率が変化しなかった。これは、In
x5byTez合金にこれらCr等の元素を添加するこ
とにより耐酸化性が向上し、記録層の7 信頼性が改善されたことを示すものである。
添加したサンプルは試験開始直後にわずかの反JIJ率
代下かあるものの、その後1000 II!j間経過す
るまでほとんど反射率が変化しなかった。これは、In
x5byTez合金にこれらCr等の元素を添加するこ
とにより耐酸化性が向上し、記録層の7 信頼性が改善されたことを示すものである。
以上の結果により、上述した範囲において(InxSb
yTez)、、。−5M、合金を相変化型の記録層とし
ての使用が可能であること、このような記録層はM元素
の添加に伴って非晶質状態の安定性が増加すること、結
晶化速度が1μs以下と高速であること及びM元素の存
在により耐酸化性が向」ニされることが確認された。
yTez)、、。−5M、合金を相変化型の記録層とし
ての使用が可能であること、このような記録層はM元素
の添加に伴って非晶質状態の安定性が増加すること、結
晶化速度が1μs以下と高速であること及びM元素の存
在により耐酸化性が向」ニされることが確認された。
尚、この丈施例においては、延板として平板状のものを
使用した例について示したが、これに限らず、テープ状
あるいはドラム状等種々の形態をとることが可能である
。
使用した例について示したが、これに限らず、テープ状
あるいはドラム状等種々の形態をとることが可能である
。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、非平衡相である
非晶質状態の記録安定性に優れ、また初期化、記録及び
消去を高速で実施することができ、また記録層の耐酸化
性か向上し、信頼性の高い情報記録媒体を得ることがで
きる。
非晶質状態の記録安定性に優れ、また初期化、記録及び
消去を高速で実施することができ、また記録層の耐酸化
性か向上し、信頼性の高い情報記録媒体を得ることがで
きる。
第1図は本発明の一実施例に係る情報記録媒8
体を示す断面図、第2図は記録層を形成するための装置
の概略構成を示す縦断面図、第3図はその横断面図、第
4図はオーバーライドの際のレーザビームのパワーを示
す図、第5図は本発明に係る情報記録媒体の記録層の基
本となるIn−8bTeB元合金の組成範囲を示す組成
図、第6図は照射するレーザビームのパルス幅と反射率
変化量との関係を示す図、第7図は本発明の試験例に係
るザンプルの環境試験の際の反射率の軽量変化を示す図
である。
の概略構成を示す縦断面図、第3図はその横断面図、第
4図はオーバーライドの際のレーザビームのパワーを示
す図、第5図は本発明に係る情報記録媒体の記録層の基
本となるIn−8bTeB元合金の組成範囲を示す組成
図、第6図は照射するレーザビームのパルス幅と反射率
変化量との関係を示す図、第7図は本発明の試験例に係
るザンプルの環境試験の際の反射率の軽量変化を示す図
である。
Claims (1)
- 基板と、光の照射によって照射部分が平衡相と非平衡相
との間で相変化する記録層とを有する情報記録媒体であ
って、前記記録層は、一般式(InxSbyTez)_
1_0_0_−_αM_α(ただし、x、y、z、αは
原子%、x+y+z=100であり、夫々25≦x≦5
5、27<y≦55、20≦z≦50、0<α≦20の
範囲内にあり、MはCr、Co、Mn及びMgからなる
群から選択される少なくとも1種の元素である)で表さ
れる組成の合金で形成されていることを特徴とする情報
記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1196521A JPH0361079A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1196521A JPH0361079A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0361079A true JPH0361079A (ja) | 1991-03-15 |
Family
ID=16359122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1196521A Pending JPH0361079A (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0361079A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07232478A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Nec Corp | 情報記録媒体 |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1196521A patent/JPH0361079A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07232478A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Nec Corp | 情報記録媒体 |
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