JPS598208A - 高熱伝導性ガラスの製造法 - Google Patents

高熱伝導性ガラスの製造法

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JPS598208A
JPS598208A JP11711482A JP11711482A JPS598208A JP S598208 A JPS598208 A JP S598208A JP 11711482 A JP11711482 A JP 11711482A JP 11711482 A JP11711482 A JP 11711482A JP S598208 A JPS598208 A JP S598208A
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glass
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emulsion
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JP11711482A
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安藤 汀
伊藤 幸昭
沢木 昭
隆史 加藤
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Nippon Tokushu Togyo KK
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Nippon Tokushu Togyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱伝導率を顕著に改善し、しかも高絶縁性を保
持するガラスの製造方法に関するものである。
プリント配線基板の如き絶縁材料として高アルミナ磁器
等の酸化物セラミックスと共にアルミノケイ酸塩ガラス
系等の低アルカリ質のガラスが実用されている。
このガラスは量産性に富み、廉価に提供できるが熱伝導
度が低く高アルミナ磁器の0.0j〜0.07 Cal
/cm・Sec ・Cに比してo、ooコ〜σ007c
al/師・Sea・℃程度に止まるため電子回路の実装
密度が高くなるに伴なって発熱密度も大きくなる欠点が
あった。
本発明は上記プリント配線基板を初め、各種ガラスの絶
縁抵抗をさして低下させることなく熱伝導率を顕著に改
善した高熱伝導性ガラスの製造法を確立したもので、以
下実施例と共にその詳細を説明する。
なお、こ\にいうガラスは失透させたガラスセラミック
スを含むものである。
実施例1 (イ)あらかじめ、/310℃/時間熔融してから水中
へ投入して急冷した下記組成のガラス塊をボールミルで
粉砕し平均粒径O3!μのZnOA 4A 1%。
B、03コ2t%−5101/20%* Zr0m ”
 F %からなるガラス原料の微粉末(第7の原料粉末
)10tに 非イオン性界面活性剤(ノニオンE −,2JO。
HLB価 /Z、3、日本油脂)4Alt水     
                  、2/102を
配合、iグネチツクスターラによって混合して第1の分
散液Wを作る。
←)Moss  (市販品、平均粒径 0.jp)  
/301からなる無機質材料の微粉末(第一の原料粉末
)に ポリエチレンオキサイド (水溶性粒子結合剤)     0.7f水     
                   参JQcaを
配合、同じくマグネチツクスターラによって混合して第
一の分散液局を作シ、 (う四塩化エチレン(非水溶性の溶媒) /参got非
イオン性界面活性剤(OP−♂oB。
HI、B価4AJ、日本油脂)   Ifの両者を前と
同様マグネチツクスターラによって混合して非水溶媒0
を作シ、 に)上記OとW8を攪拌し乍ら混合し、非イオン性界面
活性剤によって第一の原料粉末を水に分散させたものを
非水溶媒中で乳化し、無数のW2塊が0中に分散して、
なる%−0エマルジョンを作る。
(へ)W2−0エマルジヨンと上記W1を攪拌し乍ら混
合シ、これらW2−Oエマルジョンと第1の分散液W1
に配合されたHLB価の異なる非イオン性界面活性剤に
よって% −0−%複合エマルジョンを作る。
この% −0−Wt複合工1ルジョンは、第1の分散液
県中に、非水溶媒Oによって被覆された塊状の第1の分
散液鵬が分散している。
(へ)% −0−Ws複合工1ルジョンを、ガス温度/
10℃、ディスク径/、20鰭、7.z o o RP
 M s毎秒4I−仁の条件によって噴霧乾燥した。
造粒された扶粒は、Mo5sの塊をガラス微粉末によっ
て被覆され、その平均粒径は20μであった。
(ト)u粒をノj 001!#/cAの圧力で金型プレ
ス成形した。
(イ)プレス成形品を露点30℃の水素雰囲気中におい
て700℃1時間加熱焼結および結晶化後空冷し?簡φ
X/mtのガラスセラミックスを得た。
このガラスセラミックスは粉末冶金状に焼結間隔をもっ
てガラスセラミックスの絶縁層と濡れ、強固に結合した
緻密な断面形状を呈した。
このようにして得たガラスセラミックの緒特性を測定し
た結果を第1表に示す。
上表から明らかにされるように、本発明、の上記実施例
によって得られたガラスセラミックは従来のガラスセラ
ミックに比して、懸念された絶縁抵抗の低下を無視しう
る程度に止め、目的とする熱伝導率を格段と上昇させ、
電子回路の実装密度を格段と高めることができる。
実施例コ SiO*4.2f 、 Al*Os 244 f 、 
Ti0z t/ r 、 MgO/、 7 fをあらか
じめ、1zooc、2時間熔融後、水中に投入して急冷
しだガラス塊をボールミルにて、粉砕し、平均粒径0.
7μの上記組成からなるコージライト系ガラスセラミッ
ク原料の微粉末(第1の原料粉末)lコfに 非イオン性界面活性剤(ノイゲンEA−/71117゜
HLB価 17、第一工業製薬)31 水                       l
り00ccの混合物からなる第1の分散液当と、 Fe(OH)s (市販品、平均粒径0.ip)   
 、27fMoss   (’市販品、平均粒径0.j
p)   /タコ?ポリビニルアルコール(デンカ9−
 oj)(水溶性粒子結合剤)    /1 水                        
!00ωの混合物からなる第一の分散液希と、 二塩化エチレン(非水溶性の溶媒)  タタOf非イオ
ン性界面活性剤(ノイゲンEA−33、HLB価参、第
一工業製薬)   タ1の混合物からなる非水溶媒0の
3者によって前例と同様、W2−0−%エマルジ目ンを
作υ、噴霧乾燥、プレス成形を行った後、露点コ!℃の
水素雰囲気中におい′″i:i、2ro℃、3時間保持
の条件で焼成して得たり簡φ×1IIIIIItの焼結
晶は、金j−jμの間隔をもってガラスの絶縁層と濡れ
、強固に結合した緻密な断面形状を呈した。
このガラスは第2表の通シ、絶縁抵抗にさして悪影響を
もたらすことなく熱伝導率を大巾に改善する著効を示し
た。
上記実施例/およびコは共にプリント配線基板を対象と
したが、本発明は薄板に限定されることなく、絶縁抵抗
を初めガラスセラミックスの諸物件と共に特に高い熱放
散性を要求されるICパッケージ等厚肉のガラスセラミ
ックスを初め板状体に限らず円筒、棒状体の製造に適用
すことができるだけでなく、高熱伝導性無機質材料の微
粉末からなる無数の塊を包蔵したガラスまたはガラスセ
ラミックスはガラス特有の金属との濡れ性を損なう惧れ
がないから、成形素体を金属板等金属の基盤表面に載置
して加熱、溶融してホーロー基板等とすることによって
更に熱伝達性を高めることができる。
また、絶縁性の第7の原料微粉末はコージライト系のよ
うな高熱伝導性を有するガラスセラミックスが好ましく
、高熱伝導性の第コの原料噂値オと、1は実施例におい
、オした2、。3.□。。3等焼成によって金属化する
酸化物に限らず他の化合物、あるいは金属を直接使用し
てもよく、また非酸化性雰囲気中において安定なSIC
,BN等の炭化物、窒化物酸化ベリリウム、酸化アルミ
ニウム等の酸化物類も使用できるが、これら第1と第コ
の原料微粉末は熱膨張係数および焼結温度が近4以する
材料の組合せが好ましい。
しかして、上記第1の原料微粉末によって形成される高
熱伝導性無機質材料からなる無数の導間の絶縁層の膜厚
はλμ程度の極めて薄い膜厚においても充分固有の特性
を示し、厚くした動台も膜厚に応じた熱放散性を示すの
でこの面からは特に限定されないが3〜lrμ程度が好
ましく、所望の膜厚に応じて第1の原料微粉末および第
コの原料微粉末の配合割合が定められる。
次に、満足すべき% −0−w1エマルジョンを製造す
るため好ましい条件は、先ずw2と0の合量はW、に対
して等量乃至//り(容量比、以下同様)、W2とOの
関係もw2が0に対して等量乃至l/4Iであり、更に
wl中の界面5−@性剤は水に対して0./−0,!=
%、0中の界面活性剤は非水溶性の溶剤に対して0.2
−.2W%、県中の第コの原料微粉末は水に対して、2
0− toyol %である。
なお、局および0に配合する非イオン性界面活性剤は、
前に述べた通り、それらのHLB価によって前者は水中
に油を加えて乳化し、後者は油中に水を加えて乳化する
ためのもので前者W1に配合する非イオン性界面活性剤
のHLB価は/j以上、後者0に配合する非イオン性界
面活性剤のHLB価は!以下である。
更に、上記各実施例において第1の原料粉末として使用
した5IO1,Cao9Mgoの一部または全部をけい
酸エチル、ステアリン酸カルシウム。
ステアリン酸\マグネシウム、ステアリン酸アルミニウ
ム、アルミニウムイソプロポキシド等非水溶性有機化合
物に代えて非水溶媒0に配合することによって該非水溶
媒の機能を高め、かつ焼成過程においてCaO→IIg
O−5ins系ガラスを生成して焼結されたFe + 
Moの微粉末と、これを被覆するガラスの絶縁層の密着
性を更に高めることができ、また第1の分散液w1にメ
チル砺−ス等水溶性の粒子結合剤の微量(水に対しぜf
ン て0.2%以下)を添加することによって噴霧乾燥によ
って造粒され九賎粒の表面を被覆するガラス微粉末から
なる薄層を硬化して取扱いを容易とし、上記非水溶媒0
に対して同じく非水溶性の粒子結合剤としてエチルセル
ローズ等の微量を添加することも有効である。
((ノー、 : 手続補正書(自発) 58年 ら月 ら日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年特許願第117114号 2、発明の名称 高熱伝導性ガラスの製造法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住 所  名古屋市瑞穂区高辻町14番18号名 称(
454)  日本特殊陶業株式会社住 所   郵便番
号 467 ・氏 名  名古屋市瑞穂区高田町4町目3番3号1、
明細書第12頁、下から第4行目〜最終行を下記に訂正
しまず。
「及至】、/4であり、また第1及び第2の原料粉末は
それぞれ第1の分散液W、及び第2の分散液W2中にス
ラリー状として分散させるように水に対する配合割合が
決定されるが、両者共全量中10〜40重量%程度であ
る。更に第1の分散液W、中の界面活性剤は水に対して
0.1〜2重量%の範囲であり、非水溶媒O中の界面活
性剤は非水溶性の溶剤に対して0.2〜4重量%である
。」 2、同第13頁、第7行目中、 r II L B価は5以下である。」をrHBL価は
5以下がそれぞれ好ましい。」に訂正します。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 /)(イ)高絶縁性ガラスの原料微粉末を第1の原料粉
    末とし、これに非イオン性界面活性剤と水とを加えて混
    合して第1の分散液W1を作る工程。 ←)上記第1の原料粉末よシも高い熱伝導率を有する、
    金属、焼成によって金属化する金属の化合物、炭化物、
    窒化物、酸化物等無機質材料から選ばれた1種以上の微
    粉末を第コの原料粉末とし、これに水溶性の粒子結合剤
    と水とを加えて混合して第1の分散液部を作る工程。 (ハ)非水溶性の溶剤と、(イ)の非イオン性界面活性
    剤よシもHLB価の低い非イオン性界面活性剤を混合し
    て非水溶媒0を作る工程。 に)上記局をOと混合、乳化してWs −0エマルジヨ
    ンを作る工程。 (ホ)上記県−0エマルジョンとWlを混合、%中%−
    0を分散させた複合エマルジョンW! −0−Wtを作
    る工程。 (へ)複合エマルジョン% −0−Wtを噴霧乾燥する
    工程。 (ト)  所望の形状にプレス成形する工程。 (イ)所定の雰囲気中において焼結する工程。 からなる高熱伝導性ガラスの製造方法。 λ) 高絶縁性ガラスを焼結結晶化する特許請求の範囲
    第1項記載の高熱伝導性ガラスの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60202945A (ja) * 1984-03-28 1985-10-14 Showa Denko Kk 放熱性基板
JPS60202607A (ja) * 1984-03-27 1985-10-14 昭和電工株式会社 熱伝導性フイラ−
US5314520A (en) * 1992-02-12 1994-05-24 The Furukawa Electric Co., Ltd. Method for manufacturing optical fiber preform

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