JPS598149A - 光学記録再生円盤の製造法 - Google Patents
光学記録再生円盤の製造法Info
- Publication number
- JPS598149A JPS598149A JP11664082A JP11664082A JPS598149A JP S598149 A JPS598149 A JP S598149A JP 11664082 A JP11664082 A JP 11664082A JP 11664082 A JP11664082 A JP 11664082A JP S598149 A JPS598149 A JP S598149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- metal
- thin film
- glass board
- thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学記録再生円盤の製造法に関するものである
。第１図は光学記録再生円盤の概要を示している。第２
図は第１図のＡの部分の拡大断面図であシ、第３図は信
号ピットの拡大平面図である。第１図、第２図および第
５図において、１は光学記録再生円盤で、透明な合成樹
脂よシなるディスク２と、金属反射膜５と保護膜４とよ
シなる。６は光学式ピックアップ５が発生するレーザ光
で、金属反射膜３に形成されている信号ピット７のディ
ジタル信号を再生する。この光学記録再生円盤は原盤（
スタンバ−）から複製されるが、その原盤を製作する工
程を一般にマスタリング工程と称しており、本発明はこ
のマスタリング工程の改良に関するものであって、その
目的とするところは以下述べる従来法のもつ問題点を解
決することにある。
。第１図は光学記録再生円盤の概要を示している。第２
図は第１図のＡの部分の拡大断面図であシ、第３図は信
号ピットの拡大平面図である。第１図、第２図および第
５図において、１は光学記録再生円盤で、透明な合成樹
脂よシなるディスク２と、金属反射膜５と保護膜４とよ
シなる。６は光学式ピックアップ５が発生するレーザ光
で、金属反射膜３に形成されている信号ピット７のディ
ジタル信号を再生する。この光学記録再生円盤は原盤（
スタンバ−）から複製されるが、その原盤を製作する工
程を一般にマスタリング工程と称しており、本発明はこ
のマスタリング工程の改良に関するものであって、その
目的とするところは以下述べる従来法のもつ問題点を解
決することにある。
本発明の改良の対象となる従来法を第４図によって説明
する。（α）ガラス盤８０表面に有機物質を生成分とす
るレジスト９を塗付し、＜ｂ＞これにレーザ光１０を照
射してディジタル信号１１を記録する。（Ｃ）次に現像
によって信号ピット１２を形成し、（ｄ）その上にニッ
ケルの薄膜１５を形成し、（−）さらにその上にニッケ
ルメッキの被覆層１４を形成する。（ｆ）最后にこれら
をガラス盤８から剥離してレジスト９を除去すると原盤
（スタンバ−）かえられる。ところで上記従乗法におい
て使用されるレジスト９は有機物質を主成分とするため
温度や湿度等の環境に影響され易く、かつ塗膜の厚さに
むらを生じ易い欠点かある。ｉ、／こレーザにょる霧光
後のレジスト問題点を解決することを意図するものであ
る。
する。（α）ガラス盤８０表面に有機物質を生成分とす
るレジスト９を塗付し、＜ｂ＞これにレーザ光１０を照
射してディジタル信号１１を記録する。（Ｃ）次に現像
によって信号ピット１２を形成し、（ｄ）その上にニッ
ケルの薄膜１５を形成し、（−）さらにその上にニッケ
ルメッキの被覆層１４を形成する。（ｆ）最后にこれら
をガラス盤８から剥離してレジスト９を除去すると原盤
（スタンバ−）かえられる。ところで上記従乗法におい
て使用されるレジスト９は有機物質を主成分とするため
温度や湿度等の環境に影響され易く、かつ塗膜の厚さに
むらを生じ易い欠点かある。ｉ、／こレーザにょる霧光
後のレジスト問題点を解決することを意図するものであ
る。
本発明の実施例を第５図について説明する。
（α）ガラス盤８の表面にアルミニューム薄膜１５をス
バタリングによって形成し、（ｂ）レーザ光１０を照射
してディジタル信号ピット１２を形成する。この場合、
露光したアルミ二−−ム薄膜１５は蒸発するので第４図
の従来法における現像工程（ｂ −＋ ａ ）は必要が
なく、超音波洗浄などによって露光した部分を完全に除
去することができる。（Ｃ）次にその上にニッケル薄膜
１３を形成し、（ｃＬ）さらにその上にニッケルメッキ
の被覆層１４を形成する。（Ｃ）最后にこれらをガラス
盤８から剥離してアルミニューム薄膜１５を化学的にエ
ツチングすると原盤（スタンバ−）すなわち、本発明に
おいては従来法において使用されていた有機物質よシな
るレジスト９に代ってアルミニー−ム薄膜１５を採用す
るため、膜厚を均一にすることができ、しかも温度や湿
度などの環境の変化に対して安定である。また、ゴミや
ホコリの混入がレジスト９を使用する場合よシもはるか
に少く、かつ現像工程を必要としないので高忠実度のス
タンバ−を安価に提供することができる。なお、アルミ
ニューム薄膜のほかに、銅、クロム、チタン等の薄膜の
使用も可能である。エツチング液は金属薄膜がアルミニ
ュームでスタンバ−がニッケルのｓ合ｈ、アルミニー−
ムを腐蝕し、ニッケルを腐蝕しないリン酸系若しくは硝
酸系のエツチング液が使用される。
バタリングによって形成し、（ｂ）レーザ光１０を照射
してディジタル信号ピット１２を形成する。この場合、
露光したアルミ二−−ム薄膜１５は蒸発するので第４図
の従来法における現像工程（ｂ −＋ ａ ）は必要が
なく、超音波洗浄などによって露光した部分を完全に除
去することができる。（Ｃ）次にその上にニッケル薄膜
１３を形成し、（ｃＬ）さらにその上にニッケルメッキ
の被覆層１４を形成する。（Ｃ）最后にこれらをガラス
盤８から剥離してアルミニューム薄膜１５を化学的にエ
ツチングすると原盤（スタンバ−）すなわち、本発明に
おいては従来法において使用されていた有機物質よシな
るレジスト９に代ってアルミニー−ム薄膜１５を採用す
るため、膜厚を均一にすることができ、しかも温度や湿
度などの環境の変化に対して安定である。また、ゴミや
ホコリの混入がレジスト９を使用する場合よシもはるか
に少く、かつ現像工程を必要としないので高忠実度のス
タンバ−を安価に提供することができる。なお、アルミ
ニューム薄膜のほかに、銅、クロム、チタン等の薄膜の
使用も可能である。エツチング液は金属薄膜がアルミニ
ュームでスタンバ−がニッケルのｓ合ｈ、アルミニー−
ムを腐蝕し、ニッケルを腐蝕しないリン酸系若しくは硝
酸系のエツチング液が使用される。
以上述べたように本発Ｆ！Ａはガラス盤の表面に光学的
および化学的エツチングの可能な金属よりなる第１の金
属薄膜（アルミニューム薄膜１５）を設け、これにレー
ザ光等を照射してディジタル信号ピットを光学的エツチ
ングによって形成し、子の上に前記金属と異なる種類の
金属よシなる給２の金属薄膜（＝ツケル薄膜１５５と金
属被覆ＩＮにニッケルメッキの被覆層１４）とを設けた
後、これらを前記ガラス盤から剥離して前記第１の金属
薄膜を化学的エツチングによって除去することを特徴と
する光学記録再生円盤の製造法であって、冒頭で述べた
従来のこの種の製造法における問題点を解決すること前
述のとおりであるから発明の目的を達成する効果を有す
る。
および化学的エツチングの可能な金属よりなる第１の金
属薄膜（アルミニューム薄膜１５）を設け、これにレー
ザ光等を照射してディジタル信号ピットを光学的エツチ
ングによって形成し、子の上に前記金属と異なる種類の
金属よシなる給２の金属薄膜（＝ツケル薄膜１５５と金
属被覆ＩＮにニッケルメッキの被覆層１４）とを設けた
後、これらを前記ガラス盤から剥離して前記第１の金属
薄膜を化学的エツチングによって除去することを特徴と
する光学記録再生円盤の製造法であって、冒頭で述べた
従来のこの種の製造法における問題点を解決すること前
述のとおりであるから発明の目的を達成する効果を有す
る。
第１図二光学記録再生円盤の概要を示す同第２同：第１
図Ａの部分の拡大断面図 第３図：ディジタル信号ピットの拡大平面図第４図：従
来の製造法の工程（α〜ｆ）を示す図 第５Ｎ：本発明の製造法の工程（ａ−−）を示す図 〔記号〕１・・・光学記録再生円盤、２・・・ディスク
、６・・・金属反射膜、４・・・保護膜、５・・・光学
式ピックアップ、６・・・レーザ光、７・・・ディジタ
ル信号ピット、８・・・ガラス盤、９・・・レジスト、
１０・・−レーザ光、１１・・・ディジタル信号、１２
・・・ディジタル信号ピット、１３・・・ニッケル薄膜
、１４・・・ニッケルメッキの被覆層、１５・・−アル
ミニューム薄膜 氾１図 馬３図 篤４図 軍５図 ２
図Ａの部分の拡大断面図 第３図：ディジタル信号ピットの拡大平面図第４図：従
来の製造法の工程（α〜ｆ）を示す図 第５Ｎ：本発明の製造法の工程（ａ−−）を示す図 〔記号〕１・・・光学記録再生円盤、２・・・ディスク
、６・・・金属反射膜、４・・・保護膜、５・・・光学
式ピックアップ、６・・・レーザ光、７・・・ディジタ
ル信号ピット、８・・・ガラス盤、９・・・レジスト、
１０・・−レーザ光、１１・・・ディジタル信号、１２
・・・ディジタル信号ピット、１３・・・ニッケル薄膜
、１４・・・ニッケルメッキの被覆層、１５・・−アル
ミニューム薄膜 氾１図 馬３図 篤４図 軍５図 ２
Claims (1)
- ガラス盤の表面に光学的および化学的エツチングの可能
な金属よりなる第１の金属薄膜を設け、これにレーザ光
等を照射してディジタル信号ビットを光学的エツチング
によって形成し、その上に前記金属と異なる種類の金属
よりなる第２の金属薄膜と金属被覆層とを設けた後、こ
を特徴とする化学記録再生円盤の製造法 ｌ：’ニ
ーｒ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11664082A JPS598149A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 光学記録再生円盤の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11664082A JPS598149A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 光学記録再生円盤の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS598149A true JPS598149A (ja) | 1984-01-17 |
Family
ID=14692204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11664082A Pending JPS598149A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 光学記録再生円盤の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS598149A (ja) |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP11664082A patent/JPS598149A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4732844A (en) | Method for manufacturing optical disk with address and guide grooves | |
| US5096563A (en) | Method of manufacturing optical disk | |
| JPS598149A (ja) | 光学記録再生円盤の製造法 | |
| JPS60173736A (ja) | 光学デイスク用スタンパの製造方法 | |
| JPS59224320A (ja) | 金型の製造方法 | |
| JPS6022080B2 (ja) | 高密度記録レプリカデイスクの金型製造方法 | |
| JP2689672B2 (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
| JPS6055534A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
| JPH0352141B2 (ja) | ||
| JPH11102541A (ja) | 光ディスク用原盤の製造方法 | |
| JP2693585B2 (ja) | スタンパ製造方法 | |
| JPS6120059B2 (ja) | ||
| JPS6310494B2 (ja) | ||
| JP2517161B2 (ja) | 光ディスク原盤およびマスタ―スタンパ―の製造方法 | |
| JPH01144247A (ja) | ディスク | |
| JPS61160850A (ja) | 光デイスク | |
| JPS61153850A (ja) | 光デイスク用原盤およびその製造方法 | |
| JP2661323B2 (ja) | 光ディスク媒体の製造方法 | |
| JPS6079351A (ja) | スタンパの作製法 | |
| JP3146766B2 (ja) | 光ディスク及び光ディスクの再生方法 | |
| JPH0855370A (ja) | 光ディスク製造方法とスタンパーと金型及び光ディスク | |
| JPS5877044A (ja) | デイスク原盤製造方法 | |
| JPH02123536A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
| JPS61275839A (ja) | フオトレジスト膜の形成方法 | |
| JP2770597B2 (ja) | マスタースタンパーの製造方法及び光ディスク原盤容器 |