JPS598048B2 - 磁気ヘッド用コア - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 Ｉ 技術分野 本発明は、磁気ヘッド用コアに関する。

■ 先行技術 非晶質磁性合金薄板が、そのすぐれた軟磁気特性などか
ら、磁気ヘッド用材料として注目を集め、その実用化研
究が活発に行われている。

このような磁気ヘッド用非晶質磁性合金材料組成の１例
として、原子比率で、Ｆｅ２〜５ａｔ％程度、５ｉ１〜
５ａｔ％程度、Ｂ１５〜２５ａｔ％程度を含み、残部が
実質的にＣｏからなるものが知られている。

このようなガラス化成分中のＢ過剰の組成をもつ非晶質
磁性合金材料は、磁歪がきわめて小さく、又７．５ＫＧ
以上のきわめて高い飽和磁束密度Ｂｓをもつ。このため
、このような・材料からヘッドを構成すれば、Ｆｅ−Ｎ
ｉ系合金やＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金を磁性粉とし、これ
をバインダー中に分散して塗布設層してなるいわゆるメ
タルテープ等の高保磁力磁気記録媒体に対しても、有効
に記録を行うことができる。しかし、このような組成の
非晶質磁性合金材料も以下に述べるような欠点をもつ。

まず、その耐摩耗性に問題があり、特に、それからヴイ
デオ用の磁気ヘツド等を構成して、磁気記録媒体と高速
で接触走行させると、その摩耗量はきわめて大きい。

又、その耐食性にも問題があり、化学的要因に基づき摩
耗を生じる。

すなわち、磁気記録媒体との接触走行を長期間に亘つて
行うと、テープ磁性層塗膜がしばしば有するところの化
学的腐食性雰囲気により、あるいは空気中に存在する炭
酸ガス、水分等により、ヘツドを構成する非晶質磁性合
金材料表面に酸化物等の皮膜が生じ；これがテープ走行
に基づく応力や塗膜中の磁性粉体の研摩作用により剥離
して、ヘツド摩耗を生起するのである。そして、この化
学的摩耗は、高温かつ高湿等の苛酷な使用条件はもとよ
り、通常の条件下でもきわめて大きいものである。又、
きわめて高温かつ高湿の条件下で長期間ヘツドを保存な
いし放置したようなとき、材料表面には、水分等の影響
により、材料表面に皮膜が生二じ、この皮膜によりスペ
ースインクロスが増大し、その後の記録再生使用におい
て、高域入出力レベルが低下する。

又、媒体との摺接により、特にヘツドキヤツプ近傍で皮
膜が剥離し、実効ギヤツプが増大したり、ギヤツプが目
づまりしたりして、 ｚ高域入出力レベルはこれによつ
ても低下する。さらに、磁気ヘツド用コア作製最終段階
では、テープ摺接面を研削液を用いて機械的に研削する
。この場合、研削後には洗浄を行うが、研削液を十分に
除去できないことがある。そのような場合に ｊは、そ
の後高温高湿下にさらされると、コアが腐食をうけるこ
とになる。更には、上記のような合金磁性粉を用いるい
わゆるメタルテープに対して、記録再生を行うときには
、媒体の接触走行に従い、高域での入出力レ ３ベルが
低下してしまい、周波数特性が劣化してくる。

又、ヴイデオ用磁気ヘツドとして用いるときには、Ｓ／
Ｎ比や解像力が悪化する。このような現像は、ヘツド表
面が摩耗しておこるものではなく、ヘツド表面に変質層
が生じることにより生起４している。そして、この変質
層は、おそらく、合金磁性粉と磁気ヘツドを構成する非
晶質磁性合金材料とがある種の反応を起こし、合金磁性
粉あるいは非晶質磁性合金の構成元素の変質体が付着し
て生じるものであると考えられる〇加えて、板厚が厚く
、表面性の良好な薄板が得られにくい。

すなわち、常法に従い、片ロール法により薄板を得る場
合、例えば、板厚が４０μｍを超えると、表面性がきわ
めて悪くなる。このため、オーデイオ用ヘツドとして、
薄板を積層してコアを形成する場合、占積率を高めよう
として４０μｍ以上、特に４５〜１２０μｍの板厚の薄
板を積層すると、その表面の悪さのため、占積率は逆に
低下し、記録特性が低下する。又、ヴイデオ用ヘツドと
しては、積層の際の２次ギヤツプによる高域記録再生効
率の低下を防止するため、薄板自体から、それを積層せ
ずに形成するのが好ましく、そのとき板厚としては、苛
重摩耗を減少させるため、トラツク巾の倍程度、少なく
とも４０μｍはある必要があるが、そのような板厚の表
面性の良好な薄板を得ることができず、種々の不都合を
生じる。更には、非晶質磁性合金薄板から磁気ヘツドを
作製するには、製造上、その薄板から所定の形状に打抜
き、これを用いてヘツドを構成することが好ましい。

しかし、上記のような材料を金型を用いて打抜くと、せ
ん断端面にヒビワレや、いわゆるバリを生じ、歩留りが
悪い。又、打抜枚数が多くなると、金型が摩耗、破損し
、このため、打抜枚数の増加とともにバリが増大し、一
つの金型で数万枚程度の打抜きしかできず、生産性が悪
い。しかもこのような打抜き薄板を積層して磁気ヘツド
を作製すると、端部のバリのため占積率が下がり、又機
械的な歪が残り、記録再生出力が低下してしまう。加え
て、理由は明白ではないが、直流でのＢ一Ｈループを測
定すると、Ｂ−Ｈループが測定時に原点とした点からΔ
Ｈだけ直線移行し、保磁力Ｈｃが原点に関し非対称とな
り、あたかも直流が重畳されたかのようなＢ−Ｈループ
が観察される。

（ＪＯｕｒｎａｌＯｆＪａｐａｎｅｓｅＡｐｐｌｉｅｄ
Ｐｈｙｓｉｃｓｌ７Ｓ）．１．Ｐ２５７１９７８）そし
て、このＢ−ＨループのシフトΔＨは、薄板からコアを
作製し、各種記録再生装置に磁気ヘツドとして組みこむ
とき、電気的設計上、頻瑣となり、好ましくない。特に
、本発明者らの実験によれば、ガラス化元素成分がＳｉ
（５Ｂとを主体とした場合、上記のように、Ｂ過剰、特
にＳｉ比が０．４以下となると、このＢ−Ｈルートのシ
フトは顕著となる。このような事実は後記実験例によつ
て示される。このような、Ｂ過剰のガラス化元素成分を
もつ非晶質磁性合金薄板の欠点に鑑み、本発明者らは、
先に、上記のようなガラス化元素成分中のＢが過剰な組
成の非晶質磁性合金に所定量のＲｕと、所定量のＣｒと
を併用添加する旨の提案を行つている。この先の提案に
係る非晶質磁性合金薄板は、Ｂｓが高く、又表面性がき
わめて良好で、さらには、打抜性がきわめて良好でバリ
も格段と少ない。

しかも、耐摩耗性にすぐれ、磁気記録媒体を高速走行さ
せたときにも摩耗量がきわめて少なく。さらに、耐食性
にすぐれ、化学的要因に基づく摩耗が格段と少なく、劣
悪な条件下の保存によつてもほとんど変質せず、加えて
、いわゆるメタルテープを用いるときにも、磁気特性は
ほとんど経時劣化しない。しかしながら、このようにす
ぐれた特性をもつ先の提案に係る薄板も、Ｂ−Ｈループ
のシフトの点では改良されず、Ｂ−Ｈループのシフトが
きわめて大きいという欠点がある。

発明の目的 この出願の発明は、このような実状に鑑みなされたもの
であつて、上記したような、先の提案に係る、ガラス化
元素成分中のＢが過剰で、しかもＲｕおよびＣｒを含む
組成の高飽和磁束密度で上記したような種々のすぐれた
特性をもつ非晶質磁・性合金薄板に対し、これに別途新
たな添加元素を含有させ、その種々のすぐれた特性を同
等に保持した上で、特にそのＢ−Ｈループのシフトを実
用上満足できる程度にまで減少せんとするものである。

より具体的には、この出願の発明は、Ｂｓが高く、表面
性が良好で、表面性の良好な板厚の厚いものが得られ、
又打抜性が良好でバリも少なく、さらには耐摩耗性にす
ぐれ、磁気記録媒体を高速で接触走行させたときにも摩
耗性が少なく、さらに耐食性が高く、化学的要因に基づ
く摩耗が少なく、劣悪な条件下の保存によつても変質せ
ず、しかもメタルテープに対する記録再生を行うときに
も、周波数特性やＳ／Ｎ比等が経時劣化せず、加えて、
Ｂ−Ｈループのシフトが少なく、総合的にみてきわめて
すぐれた磁気ヘツド用コアを提供することを、その主た
る目的とする。

本発明者らは、このような目的につき鋭意検討を繰返し
た結果、所定量のＲｕとＣｒとに加え、更に所定量のＴ
ｉを併用添加してなる薄板と、それを用いた磁気ヘツド
用コアとが、このような目的を有効に達成することを見
出し、この出願の発明をなすに至つたものである。

すなわち、この出願の発明は、下記式で示される組成を
有する非晶質磁性合金の薄板から形成されてなることを
特徴とする磁気ヘツド用コアである。

式 上式において、Ｍは、鉄族元素、Ｒｕ，ＣｒおよびＴｉ
以外の遷移金属元素の１種以上を表わし、Ｘは、Ｓｉお
よびＢ以外のガラス化元素の１種以上を表わす。

又、ｘ＋Ｙｆｚ＋ｗ＋ｖ＝１００ａｔ％であり、このう
ちｙは０．０１〜８ａｔ％、ｚは０．５〜８ａｔ％、Ｗ
は０．０５〜２ａｔ％、ｖはｏ〜４ａｔ％、ｕは２０〜
２６ａｔ％である。更に、ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００％、ｋ＋
ｌ＋ｍ二１００％であり、このうちｐは３〜７％、ｒは
０〜１０％、ｋは０．５〜２０％、ｍは０〜２％である
。発明の具体的構成 次に、この出願の発明の具体的構成について詳細に説明
する。

上式で示されるこの出願の発明における磁気ヘツド用非
晶質磁性合金薄板中の鉄族元素（Ｆｅ，ＣＯ，Ｎｉ）の
含有量Ｘは、後に詳述するＲｕ，Ｔａ上記Ｍならびにガ
ラス化元素（ＳｉＢおよびＸ）のそれぞれの含有量Ｙ，
ｚ，ｗおよびｖの和を１００ａｔ％から差引いた値であ
り、５２ａｔ％以上、７９．４４ａｔ％未満である。

この場合、鉄族元素としては、ＦｅおよびＣＯを必須成
分とする。

そして、鉄族元素成分中のＦｅ組成比率ｐは３〜７％、
ＣＯ組成比率ｑは８３〜９７％である。

従つて、鉄族元素成分の原子比率Ｘと、鉄族元素成分中
のＦｅ組成比率ｐの積として得られるＦｅ原子比率Ｐｘ
は、１．５〜 ５．６ａｔ％、好ましくは２．１〜 ４
．８ａｔ％である。１．５ａｔ％未満および５．６ａｔ
％より大では、磁歪が大きなものとなつてしまい、又透
磁率が減少する。

又、ＣＯ原子比率Ｑｘは４３．１〜７７．１ａｔ％、好
ましくは５０〜７６ａｔ％である。

これ以外の値では飽和磁束密度Ｂｓが減少し、Ｂｓが７
．５ＫＧ未満になつてしまい、高保磁力磁気記録媒体へ
の記録再生に適さなくなつてしまう。鉄族元素成分とし
ては、ＦｅおよびＣＯに加えＮｉが含まれていてもよい
。

ただ、Ｎｉ量が増大すると飽和磁束密度Ｂｓが減少し、
又耐摩耗性が低下するので、その鉄族元素成分中のＮｉ
組成比率ｒは１０％以下である必要があり、Ｎｉ原子比
率Ｒｘとしては７ａｔ％以下であることが好ましい０こ
れに対し、ガラス化元素成分の含有量は、２０〜２６ａ
ｔ％である。

そして、ガラス化元素成分としては、ＳｉおよびＢを必
須成分とする。この場合、ガラス化元素成分中のＳｉ組
成比率ｋは０．５〜２０％、好ましくは２．５〜２０％
、より好ましくは５〜２０％である。そして、Ｓ１原子
比率Ｋｗは、０．１〜５．２ａｔ％、好ましくは０．５
〜５０ａｔ％、より好ましくは１．０〜５．０ａｔ％で
ある。０．１ａｔ％未満となると、Ｂｓが７．５ＫＧ未
満となつてしまい、又非晶質薄板の表面性が悪くなり、
面精度の良好な薄板を得られない。

一方、５．２ａｔ％を超えると、本発明所定の効果は得
られない。すなわち、耐摩耗性、耐食性、打抜加工性、
メタルテープ使用時の経時特性、表面性とも不十分であ
る。更には、５．２ａｔ％より大では飽和磁束密度Ｂｓ
も低い。この場合、鉄族元素成分含有量ｘを増大し、ガ
ラス化元素成分含有量をその下限２０％とすれば、７．
５ＫＧ程度のＢｓを得ることもできることもある。しか
し、７．５ＫＧ程度のＢｓが得られる組成では、非晶質
化度が悪くなり、又表面性の良好な薄板が得られなくな
る。又、薄板化した後の歪除去のための熱処理も困難と
なる。他方、ガラス化元素成分中のＢ組成比率ｌは７８
〜９９．５ａｔ％、好ましくは７８〜９７．５ａｔ％、
より好ましくは、７８〜９５ａｔ％である。

そして、Ｂの原子比率１ｗは１５．６〜２５．９ａｔ％
、好ましくは１５．６〜２５．３ａｔ％、より好ましく
は１５．６〜２４．７ａｔ％である。１５．６ａｔ％未
満および２５．９ａｔ％より大では、上記のように本発
明所定の効果が実現せず、又高いＢｓが得られない。

この場合、ＳｉおよびＢ中のＳｉ組成比ｋ／（ｋ＋ｌ）
は０．２以下で、しかも０．００５以上、より好ましく
は０．０５以上であることが好ましい。

そして、ｋ／（ｋ＋ｌ）が０．０８〜０．２の範囲の値
になるとより一層好ましい結果を得る。なお、ガラス化
元素成分としては、ＳｉおよびＢに加え、上記Ｘとして
、その他のガラス化元素、例えばＰ，Ｃ，Ｇｅ，Ｓｎ，
Ａｌ等の１種以上が含まれていてもよい。

ただ、Ｘの組成比ｍが２％を超えると、非晶質化しにく
くなるので、Ｘの原子比率Ｍｗは０．５ａｔ％以下であ
る。これに対し、本発明の非晶質磁性合金材料中には、
必須成分として、０．０１ａｔ％以上、８ａｔ％以下の
Ｒｕが含まれる。

０．０１ａｔ％以下では、耐摩耗性、耐食性、メタルテ
ープ使用時の経時特性、および打抜加工性とも不十分で
ある。

又、８ａｔ％を超えると非晶質化が困難となり、又Ｂｓ
が７．５ＫＧ未満となる。この場合、Ｒｕ原子比率ｙが
１〜８ａｔ％、より好ましくは２〜６ａｔ％となると、
更に好ましい結果を得る。

なお、特開昭５２−１１４４２１号公報には、上記にお
いて示される式にあつて、ガラス化元素の含有量ｖ＝２
５ａｔ％、ガラス化元素中のＳｉおよびＢ組成比ｋ＝６
０％、ｌ＝４０％、ＳｉおよびＢの原子比率Ｋｗ＝１５
ａｔ％、１ｗ＝１０ａｔ？、ｋ／（ｋ＋ｌ）＝０．６で
あつて、Ｒｕを２ａｔ％添加した非晶質磁性合金の例が
記載されている。

しかし、このような材料では、耐摩耗性、耐食性、打抜
加工性、メタルテープ使用時の経時特性、特に４０μｍ
以上の板厚における表面性とも不十分な特性しか得られ
ない。そして、このような材料中のＲｕ添加量ｙを３ａ
ｔ％より大とし、更に、これにＣｒおよびＴｉを併用添
加したとしても、これらの特性はさして改良されず、特
性上不十分である。このような事実は後記実施例から明
らかになるであろう。又、同公報には、上記のようなＳ
ｉ過剰の非晶質磁性合金薄板において、ＲｕとＲｈとが
同等の作用をもつ添加元素である旨が記載されている。

しかし、上式で示されるＢ過剰の材料では、ＲｕをＲｈ
にかえて添加すると、耐摩耗性、耐食性、打抜加工性、
表面性、メタルテープ使用時の経時特性とも不十分な特
性しか得られない。このような事実も、後記実施例から
明らかになるであろう。更に、上式で示される非晶質磁
性合金薄板中には、必須成分として、０．５〜８ａｔ％
、より好ましくは１〜５ａｔ％のＣｒが含まれる。この
場合、０．５ａｔ％未満では特に高速摩耗が大きく、又
打抜性およびメタルテープ使用時の特性経時劣化、表面
性、特に４０μｍ以上の板厚での表面性とも十分満足で
きない。又、８ａｔ％を超えると、Ｂｓが７．５ＫＧ以
下となり、又非晶質薄板化が難しくなり、表面性、特に
４０μｍ以上の板厚での表面性が悪くなる。なお、この
ようなＣｒ添加がもたらす効果は、Ｃｒを、同じくＢ族
元素に属するＷ，ＭＯｌにかえたときには実現しない。
このような事実も、後前実施例から明白になるであろつ
Ｏ加えて、この出願の薄板中にはＲｕおよびＣｒに加え
て、さらに必須成分として０．０５〜２ａｔ％のＴｉが
含まれる。

Ｔｉ含有量は０．１〜１ａｔ％となると、より好ましい
結果を得る。この場合、Ｔｉが０．０５ａｔ％未満とな
ると、直流のＢ−Ｈループを渭徒したときのＢ−Ｈルー
プのシフトが大きい。

又、Ｔｉが２ａｔ％を超えると、非晶質化が困難となり
、表面性が悪くなる。これに対し、Ｔｉが０．０５〜２
ａｔ％では、このような不都合はない。このような効果
は、後記実施例に示されるであろう。他方、土式で示さ
れる非晶質磁性合金薄板中には、４ａｔ％以下の範囲で
、鉄族元素、Ｒｕ，ＴｉおよびＣｒ以外の他の遷移金属
元素（Ｓｃ−Ｚｎ：Ｙ−Ｃｄ：Ｌａ−Ｈｇ：Ａｃ以上）
の１種以上が含まれていてもよい。

ただ、これら上記Ｍが４ａｔ％を超えると、Ｂｓが減少
し、又この出願の発明の効果は減じられてしまう。そし
て、Ｍの原子比率は０〜２ａｔ％であることが好ましい
。このような、その他の遷移金属元素Ｍの好ましい例と
しては、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，，Ｎｂ，ＭＯ，Ｗ，Ｍｎ等
の１種以上を挙げることができる。

以上詳述した、上式で示される組成をもつ本発明の非晶
質磁性合金薄板は、実質的に長範囲規則性をもたない非
晶質状態にある。

又、板厚は、概ね１０〜２００μｍ程度である。

この場合、表面性の良好さがその組成と比べて顕著にな
ること、その結果、上記したような各種不都合が生じな
いという点では、板厚は、４０μｍ以上、特に４５μｍ
以上であることが好ましい。ただ、板厚が、１２０μｍ
を超えると、表面性は悪化してくるので、板厚は４５〜
１２０μｍであることが好ましい。このような、非晶質
磁性合金薄板は、通常以下のようにして製造される。

すなわち、対応する組成の合金を、気相または液相から
超急冷する。

この場合、通常は、合金を融液となし、液相から１０４
℃／Ｓｅｃ以上、通常１０４〜１０６℃／Ｓｅｃの冷却
速度で超急冷し、固化させることによつて非晶質磁性合
金薄板を得る。溶融状態の合金を超急冷するには、溶融
合金をノズルから噴射させ、双ロール法、片ロール法、
遠心急冷法等公知の種々の方式、就中片ロール法に従い
急冷すればよい。このような非晶質磁性合金薄板は、そ
れを好ましくは絶縁性接着剤層を介して積層して、所望
の形状のコア半体とされ、これを突き合わせて磁気ヘツ
ド用コア、特にオーデイオ用等の磁気ヘツド用コアとさ
れる。

あるいは、薄板を積層せず、薄板自体を所望の形状のコ
ア半体となし、このコア半体を突き合わせて磁気ヘツド
用コア、特にヴイデオ用等の磁気ヘツド用コアとされる
。この場合、薄板は、種々の方法で所定の形状とされた
ものであつてよいが、特に、せん断端面を有する打抜体
から形成されることが好ましい。

このようなとき、形状加工の際の生産性が格段と良好と
なり、又この出願の薄板は打抜バリがきわめて少ないの
で、良好な磁気特性を示す。なお、このような効果を担
保するためには、薄板は、少なくともその一部にせん断
端面をもつていればよい。このような磁気ヘツド用コア
は、通常以下のようにして作製される。まず、好ましく
は、超急冷法によつて得られた薄板に対し、所定の熱処
理を施す。

この熱処理としては、例えば、結晶化温度未満、キユリ
一点以上の温度で施す無磁場中での、特に内部歪取りを
目的とする焼鈍処理でもよく、又、結晶化温度およびキ
ユリ一点未満の温度で行う、歪取りと磁気特性の改良を
目的とする磁場中での焼鈍処理であつてもよい。そして
、この後者の磁場中での焼鈍処理としては、静磁場、回
転磁場等のいずれを用いてもよい。これら焼鈍熱処理お
よびその条件は、非晶質磁性合金の組成と所望の磁気特
性とから、適宜選択して行えばよい。次いで、通常は、
このような非晶質磁性合金薄板を金型により打抜き、所
定の形状となし、一般に、その複数枚を絶縁性接着剤に
より所定トラツク巾となるよう積層して、コア半体を作
製する。

この場合、本発明の非晶質磁性合金材料は打抜き加工性
が良好で、せん断端面のヒビ割れや、バリがきわめて少
なく、この打抜き加工を用いて、効率よく、又歩留りよ
く、コア半体を得ることができる。又、バリが少ないの
で占積率も高く、記録再生出力は低下しない。なお、上
記熱処理は、この打抜き後に施してもよい。又、場合に
よつては打抜きにかえホトエツチングを用いたり、ある
いは、積層コアとするときには、積層後の薄板から研削
加工によりコア半体を得てもよい。更には、ヴイデオ用
磁気ヘツドとして用いるときには、通常、薄板を積層す
る必要がない。この後、通常はコア半体に巻線を施し、
これを ｚコアホルダー中に挿入し、ギヤツプ突合せ面
を研摩した後、ギヤツプ内にギヤツプ形成材料を所定間
隙だけ設け、コア半体同志を突合せ、コアとなし、更に
、シールドケース内に収納し、樹脂モールドして磁気ヘ
ツドが作製される。

このように作製される磁気ヘツド用コアは、オーデイオ
用、ヴイデオ用、電子計算機用、カードリーダー用等の
特に接触形ヘツド用のコアとして、いずれの用途におい
てもきわめて有用である。

Ｖ発明の具体的効果この出願の発明の磁気ヘツド用コア
は以下のような効果を発揮する。

まず薄板は、飽和磁束密度Ｂｓが高く、メタルテープ等
の高保磁力媒体に対する記録再生用ヘツドとしてきわめ
て好ましい特性をもつ。

さらに、 ３その耐摩耗性は高く、ヴイデオ用ヘツドと
して構成したときも、高速接触走行下での摩耗量はきわ
めて少ない。しかも、その耐食性は高く、媒体の接触走
行に際して化学的に生起する摩耗は少なξ、又劣悪な条
件下での保存によつても高域入出力レ ４ベルの低下も
きわめて少ない等のすぐれた特性をもつ。更に、メタル
テープと称される合金磁性粉を用いる高保磁力媒体と接
触走行させても、変質層が生じ、周波数特性やＳ／Ｎ比
、解像力が経時劣化することもない。加えて、打抜き加
工性はきわめて良好で、せん断端面にヒビワレが生じる
ことはなく、又打抜きに生じるバリもきわめて小さく、
打抜き歩留りが高く、しかも同一の金型を用いて打抜け
る打抜枚数も格段と多くなり、更にはバリによる占積率
の低下や、記録再生出力の低下もない。以下、本発明を
実験例および実施例により更に詳細に説明する。

実験例 （Ｆｅ５．５ＣＯ９４．５）７５（ＳｉｋＢｌＯＯ−ｋ
）２５にて１ｋをＯ〜６０％の範囲でかえた、幅１５ｍ
１１Ｌ１厚さ５０１ｔｍの７種の非晶質磁性合金薄板を
得た。

これら７種の薄板につき、直流にてＢ−Ｈループを測定
し、Ｂ−Ｈループの原点のシフトΔＨを測定したところ
、下記表１に示される結果を得た。表１の結果から、Ｂ
−Ｈループのシフトは、Ｓｉ過剰のときは問題ないが、
Ｂ過剰、特にｋが２０％以下となると顕著になることが
わかる。実施例 １（Ｆｅ５．５ｃＯ９４．５）７０Ｒ
ｕ４Ｃｒ４（ＳｉｌＯＢ９Ｏ）２２にＴｉをＯ−０．５
ａｔ％添加して、非晶質磁性合金薄板を作製し、実験例
と同様に、Ｂ−ＨループのシフトΔＨを測定した。

結果を、下記表２に示す。表２に示される結果から、Ｔ
ｉ添加量０．１ａｔ％以上にて、Ｂ−Ｈループのシフト
は、実用上十分満足できるだけ低減することがわかる。

実施例 ２ の、巾１５ｍζ厚さ５０μｍの非晶質磁性合金薄板を得
た。

これら各薄板のＢｓは表１および表２に示される。

又、各薄板の表面性を評価した。

すなわち、各薄板を所定表に裁断し、その巾方向におけ
る板厚の最大と最小の差、すなわち最高表面粗さを測定
し、これを長手方向に亘りくりかえし、平均して、各薄
板の表面粗さとした。結果を表１および表２に示す。更
に、表１および表２には各薄板の実験例１と同様に測定
したＢ−ＨシフトΔＨの値が示される。

この後、各薄板から、超硬合金の金型を用い、ヴイデオ
ヘツド用コア半体形状にて、打抜きを行つた。この場合
、コア半体は、公知のフエライトあるいはセンダストヴ
イデオ用ヘツドにおけるそれと同様、一方をＣ字状、他
方を捲線可能なＤ字状の形状とした。このような打抜き
を１０万枚くりかえし、１０万枚目までの１０枚のせん
断端面のバリを測定し、これを平均して、表１および表
２に示される結果を得た。

次いで、これらの各薄板１−１〜１−１１から得られた
コア半体用打抜体を用い、ヴイデオ用ヘツドを作製した
。

すなわち、一方のコア半体用打抜体の先端部を研削して
所定のトラツク巾厚さとした後、両コア半体の先端ギヤ
ツプ面を鏡面仕上げし、このギヤツプ面にギヤツプ形成
材料としてＳｉＯ２を所定厚にて真空蒸着した。この後
、両コア半体を突き合わせ、両者を接着し、ヴイデオ用
ヘツドとした。このようにして作製した計１１種のヴイ
デオ用ヘツドにつき、ＣＯをドープしたγ−Ｆｅ２Ｏ３
を磁性粉とする、いわゆるクロムポジシヨンタイプの市
販ヴィデオテープを用い、これを２５℃相対湿度５０％
にて、５．５ｍ／Ｓｅｃで１００時間走行させた。

走行後の、ヘツド前面の摩耗深さを表面粗さ計で測定し
た結果を表１および表２に示す。一方、これとは別に、
各薄板を用い、オーデイオ用ヘツドを作製した。すなわ
ち、各薄板を超硬合金の金型を用い、ほぼＣ字状に打抜
いた。

この場合、１０万枚の打抜バリの高さは前記と同一であ
つた。次いで、それぞれの打抜体の複数枚を用い、打抜
体の片面にエポキシ系接着剤を塗布し、０．６ｍ１Ｌ厚
となるよう積層し、これを加温硬化して、コア半体を得
た。

この後、この各コア半体に捲線を施し、コアホルダー中
に収納し、コア半体のギヤツプ突き合わせ面を、研摩お
よびポリシンク化て鏡面仕上げした。

そして、コア半体を、常法に従い、所定のギヤツプをも
つて突き合わせ、磁気ヘツドとし、１７種の薄板からな
るオーデイオ用磁気ヘツドを作製した。このようにして
得た各オーデイオ用ヘツドにつき、γ−Ｆｅ２Ｏ３を磁
性粉とし、塩化酢酸ビニル系の熱可塑形のバインダーを
用いるテープによる化学的摩耗量を測定した。

すなわち、この布販テープを４０℃、相対湿度９５％に
て４．７５（７Ｌ／Ｓｅｃの走行速度で１０００時間走
行させ、走行後の摩耗深さを表面粗さ計で測定した。結
果を１００時間当りの値に換算して、下記表１および下
記表２に示す。表１および表２に示される結果から、こ
の出願の発明の薄板は、先の提案に係るＲｕおよびＣｒ
を含む薄板同様、Ｂｓが高く、表面性が格段と良好で、
しかも打抜バリがきわめて小さく、更には、化学的要因
に基づく摩耗も、高速摩耗もきわめて少ないというすぐ
れた特長をもち、しかもその上で、Ｂ−Ｈループのシフ
トが実用上満足できるだけ減少しており、この結果、総
合的にみてきわめてすぐれた特性をもつものであること
がわかる。

そして、表１に示される結果から、このような効果は、
所定量のＲｕ，ＣｒおよびＴｉを含有せしめたとき、選
択的に生じるものであることがわかる。又、表２に示さ
れる結果から、ＲｕをＲｈにかたとき、ＣｒをＭＯまた
はＷにかえたとき、そて、Ｓｉ含有量ｋを２０ａｔ％よ
り大にしたとには、このような効果は実現しないことが
わかる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記式で示される組成を有する非晶質磁性合金の薄
   板から形成されてなることを特徴とする磁気ヘッド用コ
   ア。 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上記式中、Ｍは、鉄族元素、Ｒｕ、ＣｒおよびＴｉ以
   外の他の遷移金属元素の１種以上を表わし、Ｘは、Ｓｉ
   およびＢ以外の他のガラス化元素の１種以上を表わす。 また、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｗ＋ｖ＋ｕ＝１００％であり、この
   うち、ｙは０．０１〜８ａｔ％、ｚは０．５〜８ａｔ％
   、ｗは０．０５〜２ａｔ％、ｖは０〜４ａｔ％、ｕは２
   ０〜２６ａｔ％である。さらに、ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００％
   、ｋ＋ｌ＋ｍ＝１００％であり、このうち、ｐは３〜７
   ａｔ％、には０〜１０ａｔ％であり、またｋは０．５〜
   ２０ａｔ％、ｍは０〜２ａｔ％である。〕２ ｙが、１
   〜８ａｔ％である特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘ
   ッド用コア。 ３ 薄板の板厚が、４０μｍ以上である特許請求の範囲
   第１項または第２項に記載の磁気ヘッド用コア。 ４ 薄板の板厚が、４５〜１２０μｍである特許請求の
   範囲第３項に記載の磁気ヘッド用コア。 ５ 薄板が、せん断端面を有する打抜体である特許請求
   の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁気ヘッ
   ド用コア。 ６ 薄板の打抜体を積層してなるコア半体を突き合わせ
   て形成される特許請求の範囲第５項に記載の磁気ヘッド
   用コア。 ７ 薄板の打抜体自体をコア半体となし、当該コア半体
   を突き合わせてなる特許請求の範囲第５項に記載の磁気
   ヘッド用コア。