JPS597362B2 - 導波管装置の製造方法 - Google Patents
導波管装置の製造方法Info
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- JPS597362B2 JPS597362B2 JP55043401A JP4340180A JPS597362B2 JP S597362 B2 JPS597362 B2 JP S597362B2 JP 55043401 A JP55043401 A JP 55043401A JP 4340180 A JP4340180 A JP 4340180A JP S597362 B2 JPS597362 B2 JP S597362B2
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/28—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
- G02B6/2804—Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals forming multipart couplers without wavelength selective elements, e.g. "T" couplers, star couplers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
- B29D11/00759—Branching elements for light guides
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有機光学導波管装置、特にY字形導波管接続器
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
本発明の製造方法は重合により導波物質を形成する有機
光活性組成物を準備する工程、基板上に所定厚の上記組
成物の層を形成する工程、パターンを決定するマスクを
通して上記組成物層を重合化のための紫外線照射に露出
させる工程、およびノ 上記層を現像してその不用部分
を除去し、そして上記パターンを有する導波物質部分を
残す工程を包含することを特徴とする。
光活性組成物を準備する工程、基板上に所定厚の上記組
成物の層を形成する工程、パターンを決定するマスクを
通して上記組成物層を重合化のための紫外線照射に露出
させる工程、およびノ 上記層を現像してその不用部分
を除去し、そして上記パターンを有する導波物質部分を
残す工程を包含することを特徴とする。
本発明の方法は簡単で安価であり、かつ良好な再現性を
有し、適用範囲が広い利点を有している。
有し、適用範囲が広い利点を有している。
5 以下本発明を図面に基づいて設問する。
第1a図において、ガラス、融解石英、ソーダガラスの
ような基板10上には有機光活性組成物の層12が付着
しており、この組成物は重合に基づいて導波物質を形成
することができる。この光活性組成物は (1)可視光および近赤外線範囲の光(即ち、0.4マ
イクロメートル〜2.5マイクロメートルの波長を有す
る光)を伝導するポリメチルメタクリレート又はポリビ
ニルアセテートのようなプラスチツク物質と;(2)上
記プラスチツク物質の吸収効率を改善するフエニルグリ
オキシル酸又はその誘導体のような光反応開始剤と;お
よび随意に(3) 0Ph0t0zid゛(無水マレイ
ン酸コポリマーとヒドロキシ末端アレーンスルホニルオ
キシドとの反応生成物であつて、これはアツプジヨン(
TheUpjOhリ)社、KalamazOOラMic
higanから購入される。
ような基板10上には有機光活性組成物の層12が付着
しており、この組成物は重合に基づいて導波物質を形成
することができる。この光活性組成物は (1)可視光および近赤外線範囲の光(即ち、0.4マ
イクロメートル〜2.5マイクロメートルの波長を有す
る光)を伝導するポリメチルメタクリレート又はポリビ
ニルアセテートのようなプラスチツク物質と;(2)上
記プラスチツク物質の吸収効率を改善するフエニルグリ
オキシル酸又はその誘導体のような光反応開始剤と;お
よび随意に(3) 0Ph0t0zid゛(無水マレイ
ン酸コポリマーとヒドロキシ末端アレーンスルホニルオ
キシドとの反応生成物であつて、これはアツプジヨン(
TheUpjOhリ)社、KalamazOOラMic
higanから購入される。
)のような感光件ポリマーと;を含有する。上記光活性
物質の組成は最終装置における所望の導波特性を得るた
めに変えることができる。
物質の組成は最終装置における所望の導波特性を得るた
めに変えることができる。
したがつて本発明の装置は種々の屈折率を有する光学繊
維に適応させることができる。有機光活性層12は基板
10を光活性組成物の溶液中に浸漬することにより付着
する。上記光活性組成物は直径が通常60〜100μm
である一般的なガラスおよびプラスチツク繊維に適合す
る装置を形成するために、厚さ60〜100μmの層を
形成する。この組成物層は第1a図から明らかのように
基板10の底面(背面)からアセトンを用いて除去され
る。場合によつては上記基板の背面に付着している上記
組成物層はそのまま除去されずに残留していてもよい。
次に公知の写真蝕刻技術を用いて、組成物層12と基板
10とから成る積層体を第1b図に示すようにマスク1
4を通して紫外線ビーム16に露光すると、光活性組成
物は重合して導波物質を形成する。Y字形パターンを希
望する場合には、マスクはその中にY字形の空間を有す
る。最後に付着した光活性層は適当な溶媒によつて現象
されて不要な部分が除去される。(即ちネガテイブレジ
ストが用いられた場合には非重合の部分が除去され、ポ
ジテイブレジストが用いられた場合には重合部分が除去
される。)第1c図に示すように基板10上に残留した
露光済みの光活性組成物のパターン18はマスク14t
こよつて規定された形状を有している。本発明の方法は
光活性組成物の付着・露光、および現像の3工程のみか
ら実質的に構成されるため、簡単である。
維に適応させることができる。有機光活性層12は基板
10を光活性組成物の溶液中に浸漬することにより付着
する。上記光活性組成物は直径が通常60〜100μm
である一般的なガラスおよびプラスチツク繊維に適合す
る装置を形成するために、厚さ60〜100μmの層を
形成する。この組成物層は第1a図から明らかのように
基板10の底面(背面)からアセトンを用いて除去され
る。場合によつては上記基板の背面に付着している上記
組成物層はそのまま除去されずに残留していてもよい。
次に公知の写真蝕刻技術を用いて、組成物層12と基板
10とから成る積層体を第1b図に示すようにマスク1
4を通して紫外線ビーム16に露光すると、光活性組成
物は重合して導波物質を形成する。Y字形パターンを希
望する場合には、マスクはその中にY字形の空間を有す
る。最後に付着した光活性層は適当な溶媒によつて現象
されて不要な部分が除去される。(即ちネガテイブレジ
ストが用いられた場合には非重合の部分が除去され、ポ
ジテイブレジストが用いられた場合には重合部分が除去
される。)第1c図に示すように基板10上に残留した
露光済みの光活性組成物のパターン18はマスク14t
こよつて規定された形状を有している。本発明の方法は
光活性組成物の付着・露光、および現像の3工程のみか
ら実質的に構成されるため、簡単である。
光活性組成物は通常の写真蝕刻技術の使用を可能にする
ため、本発明の方法は自由度が大きく、そして再現性が
高い。また形成される装置の厚さは付着する光活性組成
物層の厚さを選択することによつて容易に制御できる。
第2図はY字形のパターンを有する本発明の好ましい装
置の例を示す。基板10上には上述した方法で形成した
導波パターン18が付着している。第2図に示した角度
θは図示のY字形接続器によつて入射光が分割されるよ
うな角度である。第2図に示した装置は導波管接続器と
しての用途を有しており、この種の装置の形成は以下の
実施例で述べる。実施例 この実施例は本発明の有機光学導波管装置の形成方法を
説明する。
ため、本発明の方法は自由度が大きく、そして再現性が
高い。また形成される装置の厚さは付着する光活性組成
物層の厚さを選択することによつて容易に制御できる。
第2図はY字形のパターンを有する本発明の好ましい装
置の例を示す。基板10上には上述した方法で形成した
導波パターン18が付着している。第2図に示した角度
θは図示のY字形接続器によつて入射光が分割されるよ
うな角度である。第2図に示した装置は導波管接続器と
しての用途を有しており、この種の装置の形成は以下の
実施例で述べる。実施例 この実施例は本発明の有機光学導波管装置の形成方法を
説明する。
第1図で説明したように、ガラス基板を光活性組成物の
溶液中に浸漬する。
溶液中に浸漬する。
この溶液は1重量部のポリメチルメタクリレート、1重
量部の上述の8Ph0t0zi『゛および0.1重量部
のフエニルグリオキシル酸(又はその誘導体)をアセト
ン中に溶解したものである。付着した光活性組成物層は
100μm厚であつた。この組成物層の基板背面に付着
した部分はアセトンで除去された。次に上記付着層はY
字形パターンを有するマスクを通して紫外線ビームに1
分間露出され、その結果重合が生ずる。付着層はアセト
ンで現像されて未露出部分が除去され、そして第2図に
示すようにY字形構造物が残る。この構造物は角度θが
5度であり、これが露光された場合、10:1の光分割
が認められた。本発明は星形結合器のような複数形状の
導波管接続器をも包含する。
量部の上述の8Ph0t0zi『゛および0.1重量部
のフエニルグリオキシル酸(又はその誘導体)をアセト
ン中に溶解したものである。付着した光活性組成物層は
100μm厚であつた。この組成物層の基板背面に付着
した部分はアセトンで除去された。次に上記付着層はY
字形パターンを有するマスクを通して紫外線ビームに1
分間露出され、その結果重合が生ずる。付着層はアセト
ンで現像されて未露出部分が除去され、そして第2図に
示すようにY字形構造物が残る。この構造物は角度θが
5度であり、これが露光された場合、10:1の光分割
が認められた。本発明は星形結合器のような複数形状の
導波管接続器をも包含する。
第1a,1b,および1c図は本発明方法の工程を示す
断面図、第2図は本発明によつて得られるY字形パター
ンを有する導波管接続器の斜視図である。
断面図、第2図は本発明によつて得られるY字形パター
ンを有する導波管接続器の斜視図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 重合により導波物質を形成する有機光活性組成物を
準備する工程;基板上に所定厚の上記組成物の層を付着
させる工程;パターンを決定するマスクを通して上記組
成物層を重合化のための紫外線照射に露出させる工程;
および上記層を現像してその不用部分を除去し、そして
上記パターンを有する導波物質部分を残す工程;を具備
し、上記有機光活性組成物は可視光および近赤外線範囲
の光を伝導するポリメチルメタクリレート又はポリビニ
ルアセテートから成るプラスチック物質とフエニルグリ
オキシル酸又はその誘導体から成る光反応開始剤と感光
性ポリマーを含有することを特徴とする所定パターンを
有する有機光学導波管装置の製造方法。 2 上記光活性組成物は1重量部の上記プラスチック物
質と、0.1重量部の上記光反応開始剤と、1重量部の
上記感光性ポリマーとを含有する特許請求の範囲第1項
記載の方法。 3 上記光活性組成物層は100μm以下の厚さを有す
る特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の方法。 4 上記所定パターンはY字形である特許請求の範囲第
1項ないし第3項のいずれかに記載の方法。 5 上記感光性ポリマーは無水マレイン酸コポリマーと
ヒドロキシ末端アレーンスルホニルオキシドとの反応生
成物である特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれ
かに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US2570979A | 1979-04-02 | 1979-04-02 | |
US25709 | 1979-04-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55159404A JPS55159404A (en) | 1980-12-11 |
JPS597362B2 true JPS597362B2 (ja) | 1984-02-17 |
Family
ID=21827634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55043401A Expired JPS597362B2 (ja) | 1979-04-02 | 1980-04-02 | 導波管装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS597362B2 (ja) |
DE (1) | DE3011166A1 (ja) |
FR (1) | FR2453434B1 (ja) |
GB (1) | GB2045966B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6115471U (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-29 | ダイキン工業株式会社 | 冷凍装置の防雪フ−ド |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4609252A (en) * | 1979-04-02 | 1986-09-02 | Hughes Aircraft Company | Organic optical waveguide device and method of making |
JPS5882202A (ja) * | 1981-11-10 | 1983-05-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | プラスチツク光伝送体の製造法 |
JPS58116505A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | Nippon Carbide Ind Co Ltd | 光伝導シ−ト |
GB2170923A (en) * | 1985-02-07 | 1986-08-13 | Tektronix Inc | Optical waveguide structures and their fabrication |
DE3543002A1 (de) * | 1985-12-05 | 1987-06-11 | Bodenseewerk Geraetetech | Verfahren zur herstellung von integriert-optischen strukturen in glas |
GB2220080A (en) * | 1988-06-24 | 1989-12-28 | Marconi Gec Ltd | Improvements in optical waveguides |
GB2227854B (en) * | 1989-02-03 | 1993-05-12 | Stc Plc | Integrated optics asymmetric y-coupler |
DE19818012B4 (de) * | 1998-04-22 | 2004-04-15 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung integrierter digitaler thermooptischer Schalter |
JP4970364B2 (ja) * | 2008-06-27 | 2012-07-04 | 豊田合成株式会社 | 光分岐結合器及びその製造方法 |
Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JPS5022648A (ja) * | 1973-06-27 | 1975-03-11 | ||
JPS54130143A (en) * | 1978-03-31 | 1979-10-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of thick film optical plane branching circuit element |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2084045A5 (ja) * | 1970-03-02 | 1971-12-17 | Upjohn Co | |
US3689264A (en) * | 1970-03-19 | 1972-09-05 | Bell Telephone Labor Inc | Method for increasing index of refraction in transparent bodies and its application to light guides and the like |
DE2035848A1 (de) * | 1970-07-18 | 1972-01-27 | Badische Anilin- & Soda-Fabrik Ag, 6700 Ludwigshafen | Photosensible Gemische zur Herstellung von Druckplatten |
DE2131450B2 (de) * | 1971-06-24 | 1973-09-13 | Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung passiver, integrierter, optischer Bauelemente |
JPS547948A (en) * | 1977-06-21 | 1979-01-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical circuit of high molecule |
-
1980
- 1980-03-22 DE DE19803011166 patent/DE3011166A1/de not_active Ceased
- 1980-04-01 GB GB8010897A patent/GB2045966B/en not_active Expired
- 1980-04-01 FR FR8007322A patent/FR2453434B1/fr not_active Expired
- 1980-04-02 JP JP55043401A patent/JPS597362B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS54130143A (en) * | 1978-03-31 | 1979-10-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of thick film optical plane branching circuit element |
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JPS6115471U (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-29 | ダイキン工業株式会社 | 冷凍装置の防雪フ−ド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3011166A1 (de) | 1980-10-16 |
GB2045966A (en) | 1980-11-05 |
FR2453434B1 (fr) | 1987-04-10 |
FR2453434A1 (fr) | 1980-10-31 |
JPS55159404A (en) | 1980-12-11 |
GB2045966B (en) | 1983-05-05 |
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