JPS61194407A - 光導波路の作製方法 - Google Patents

光導波路の作製方法

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JPS61194407A
JPS61194407A JP3581585A JP3581585A JPS61194407A JP S61194407 A JPS61194407 A JP S61194407A JP 3581585 A JP3581585 A JP 3581585A JP 3581585 A JP3581585 A JP 3581585A JP S61194407 A JPS61194407 A JP S61194407A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
active light
layer
sectional shape
resin layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP3581585A
Other languages
English (en)
Inventor
Kohei Kodera
小寺 孝兵
Hiroo Inoue
博夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Publication of JPS61194407A publication Critical patent/JPS61194407A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ゛ 〔技術分野〕 本発明は、光ファイバを利用した情報伝送システムに用
いられる光分岐結合、あるいは光を利用したセンサー、
データタブレット、あるいは表示、ディスプレイに用い
られる光導波路の作製方法に関する。
〔背景技術〕
従来、光導波路の作製方法としては、第1図に示すよう
に、屈折率の低い基板1上に形成された感光性樹脂層2
に、マスク3を通して活性光4を照射し、感光性樹脂層
2の露光部2aを硬化させ、次いで、未露光部2bを現
像液により溶解除去することにより、第2図のような光
成形体5を得る。
更に、上記光成形体5より低屈折率の樹脂により外部ク
ラッド層6を形成し第3図のような光導波路を作製して
いた。
しかしながら、上記方法により得られる光成形体5の断
面形状は、活性光4の方向に対して、先の広がプた台形
状となり、光ファイバとのつき合わせ接続においては、
各々の断面形状の差異に基づく接続損失が生じるという
問題があ)た。
なお、光成形体5の断面形状が上記のように、活性光4
の照射方向に対して先広がりになる原因としては、(7
)活性光4の平行度、(イ)マスク3面での散乱拡散、
(つ)上部硬化樹脂による散乱・拡散、(勾基板1上で
の反射等が考えられる。
従って、光ファイバとの接続損失を低減するためには、
光成形体5の断面形状を円形に近づける必要がある。こ
のためには、マスク3の開口部を連続的に変化させると
共に、上記変化と連動して、基板1を感光性樹脂液中で
引き下げる等の方法が提案されている。
ところが、上記方法では、マスク3の開口部を連続的に
変化させることが困難であり、装置が複雑である等の理
由により実用化に至ってぃない。
〔発明の目的〕
本発明は上記の点を改善するために成したものであって
、光ファイバとの接続において、断面形状の差異による
接続損失の少ない光導波路の作製方法を提供することに
ある。
〔発明の開示〕
本発明の特徴は、感光性樹脂層の略中央部に、活性光を
遮断又は吸収する不活性層を設け、両面から活性光によ
り露光して、断面形状が略六角形の光成形体を作製する
ことにある。
以下実施例として掲げた図面に基づき説明する。
第4図は本発明の一実施例を示す図であり、照射光4を
遮断又は吸収する不活性層7の両面に、感光性樹脂層8
a 、 8bを形成した積層体8を作る。
上記感光性樹脂層Ba 、 8bは液状、固体状あるい
は両者の組み合わせであっても良く、感光性樹脂層8a
 、 8bの各々は、組織的に異なるものを用いても良
いが、屈折率の整合を取るため、同一のものを用いた方
が良い。上記積層体8の上下面に、所望パターンを有す
る同一のマスク9,10を位置合わせをしたうえで、各
々設置し、活性光11 、12を各々照射する。不活性
層7の存在により、感光性樹脂層8aの露光部s al
は、活性光11によってのみ硬化され、感光性樹脂層8
6の露光部8b’は、活性光託によってのみ硬化される
。次いで、感光性樹脂層8a 、 8bの未露光部及び
、不活性層7の上記未露光部にはさ゛まれだ部分を、現
像液により、同時に溶解除去し、第5図に示すような断
面形状が六角形の光成形体+3を得る。更に、第4図で
示すように、上記光成形体13より低屈折率の樹脂層1
4で覆い、第6図のような光導波路とする。
上記光成形体13の断面形状をより顕著に、六角形にす
るためには、活性光11 、12として、散乱光を用す
るか、あるいは活性光11 、12をマスク9゜10而
に対して、斜めに入射させることが有効である。
上記不活性層7としては、紫外線吸収剤を含んだ熱可塑
性樹脂により構成され、感光性樹脂層8a、 8bと同
程度の屈折率を有する透明なフィルムを用いるのが望ま
しい。例えば、紫外線吸収剤を練り込んだアクリル樹脂
、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアミド樹脂等が良い
。また、露光については、前記のように、マスク9.1
0を通して行なう以外に、マスク9,10を使用せずに
、活性光ビームを描画する方法によっても可能である。
上記光導波路作製方法に基づいて、具体的に作製した例
を示す。不活性層7として用いるペンゾフヱノンヲ含有
スる厚さ200μmのアクリルフィルムと、厚さ38μ
mのPETフィルム上に、下記配合の厚さ370μmの
感光性樹脂層8a 、 sbを 形成したフィルム2枚
を、上記アクリルフィルムを中心に、しかもPETフィ
ルムが外側になるように1、    ラミネータロール
で張り合わせるととにより、積層体8を作製する。上記
感光性樹脂の配合は、ポリメチルメタアクリレート10
0重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート5
0 fi 置部、ヘンゾインエチルエーテ)v 2重量
部とする。
次に、上記PETフィルムの外(illから、第7図に
示すようなマスク9.10を、各々の開口部Qa 。
9b (幅0.5FJX長さ50m)が一致するように
位置合わせした上で、活性光11 、12により、両面
を同時露光する。
光源としては、ケミカルランプ(拡散光)15W片側2
灯を用い、照射距離lO−で約5分間露光した後、表面
PETフィルムをはく離し、塩化メチル/トリクロルエ
タン混合液で現像することにより、厚さ940μm、上
下の幅550μm1中心部の幅1050μmの六角形断
面形状の直線状の光成形体13を得た。上記光成形体1
3の屈折率は1.52であ)た。
更に、上記光成形体13を、ガフス基板1上において、
屈折率1.45のシリコン樹脂14ヲコーテイングする
ことにより、光導波路を作製した。
上記光導波路とコア径970μmのプラスチック光ファ
イバとの接続損失を、中心波長660 nm のLED
光源により測定したところ、約Q、4 dBであ)た。
一方、上記と同一の感光性樹脂を用い、従来方法により
作製した、上辺750μm、下辺1050μm1高さ9
00μmの台形状の断面形状を有する光成形体5を、シ
リコン樹脂6でコーティングし、同じくコア径970μ
mのプラスチック光ファイバ との接続損失を測定した
結果、約0.9dBであった。
従って、本発明の作製法により、作製した光導波路の方
が、光ファイバとの接続損失は、断面形状の差異に基づ
く接続損失が減少した分、小さくなった。
〔発明の効果〕
上記のように本発明によれば、活性光を遮断又は吸収す
る不活性層の両面に、感光性樹脂層を形成した積層体を
作製し、上記@層体の上下面から所望パターンのマスク
を通して、活性光を照射することにより、上記感光性樹
脂層を露光し、未露光部を除去し、断面形状が、略六角
形状の光成形体を得るようにしたので、光ファイバとの
接続における、断面形状の差異による接続損失の小さい
光導波路の作製方法が提供できた。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第3図は、本発明に作る従来例を示
す断面図、第4図、第5図及び第6図は本発明の一実施
例を示す断面図、第7図は同上におゆるマスクの平面図
である。 7・・・不活性層、8・・・積層体、Ba、 8b・・
・感光性樹脂層、9.】0・・・マスク、11 、12
・・・活性光、13・・・光成形体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)活性光を遮断又は吸収する不活性層の両面に、感
    光性樹脂層を形成した積層体を作製し、上記積層体の上
    下面から、所望パターンのマスクを通して、活性光を照
    射することにより、上記感光性樹脂層を露光し、未露光
    部を除去し、断面形状が、略六角形状の光成形体を得る
    ことを特徴とする光導波路の作製方法。
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