JPS5967296A - グルコフラノ−ス誘導体酸化物の製造方法 - Google Patents

グルコフラノ−ス誘導体酸化物の製造方法

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JPS5967296A
JPS5967296A JP57175327A JP17532782A JPS5967296A JP S5967296 A JPS5967296 A JP S5967296A JP 57175327 A JP57175327 A JP 57175327A JP 17532782 A JP17532782 A JP 17532782A JP S5967296 A JPS5967296 A JP S5967296A
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JP
Japan
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hypochlorite
glucofuranose
ruthenium
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JP57175327A
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Takashi Ebisu
戎 高志
Yoshiaki Tateno
立野 芳明
Naoki Okamoto
岡本 直記
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Towa Chemical Industry Co Ltd
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Towa Chemical Industry Co Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Saccharide Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はグルコフラノース誘導体酸化物の製造方法に関
する。
一般式〔■〕で示される化合物は一般式〔■〕で示され
る化合物を酸化することによって得られる物質で、(a
)で示すケトン体と(b)で示す水和物の両者の形を取
シ得る。(bl を加熱脱水すると(alとなる。
一般式〔■〕の化合物は下記に示すようにX線造影剤と
して用いられる3−デオキシ−3−ヨード−D−グルコ
ース〔■〕の合成中間体として、又3−デオキシ−3−
アミノーD−グルコース〔■′〕の合成中間体として有
用な物質である。
ri     6H 一般式CI)の化合物は公知の方法によりD−グルコー
スをチタール化することにより容易に得られる物質であ
るが、この〔■〕の物質の酸化方法として次の方法が知
られている。
(1)  無水クロム酸−ピリジン錯体を用いる方法〔
0arboh、ydr−、Res、、 26 441’
−7(1973) :](2)  DMSO−無水酢酸
を用いる方法CCan、J 、Chem、。
、、44 836(1966)) (3)DMSO−五酸化リンを用いる方法(J、Am、
C!h、em。
Soc、、色L 4651(1965)〕(4)  四
酸化ルテニウムによる方法[Proc、Chem。
Soc、、 3 j2 (1964) 〕(5)二酸化
ルテニウム−過ヨー素酸による方法〔Can、J、Ch
em、、 43 3452 (1965) 〕(1)の
方法はクロムの処理が必要なこと、 (2L (3)の
方法は収率が低く、悪臭を発すること、 (4)I (
5)の方法は収率は高いが試薬が極めて高いこと等のた
め工業的生産に適していない。
本発明者等は工業的生産に適した酸化方法を種種検討し
たところ、二酸化ルテニウム−次亜塩素酸塩による方法
が工業的生産に適していることを見い出した。本発明の
反応機構を示すと次の通りである。
2Nail又は     2NaCIO又は」12 CI) h2 〔■〕 即ち次亜塩素酸塩が二酸化ルテニウムを酸化して四酸化
ルテニウムとし、四酸化ルテニウムが一般式〔丁〕の化
合物を酸化すると同時に二酸化ルテニウムとなる。この
反応系により高価な二酸化ルテニウムの使用を節減する
ことができる。
本発明に使用する一般式〔■〕の化合物のR1゜R2は
メチル、エチル又はプロピル等の低級アルギル基である
が、特にメチル又はエチル基が取扱上好ましい。酸化剤
として次亜塩素酸すトリウム。
次亜塩素酸カルシウム等の次亜塩素酸塩と二酸化ルテニ
ウムを用いるが塩化ルテニウムや硝酸ルテ化され二酸化
ルテニウムとなるので使用することができる。
次に酸化方法について述べると、一般式Cf’]の化合
物とルテニウム化合物を水に混合させ、攪拌下で次亜塩
素酸塩水溶液を滴下しつつ酸又はアルカリでPHを2〜
8好捷しくは3〜5に調節する。反応終了後残存する四
酸化ルテニウムをイソプロピルアルコールにて二酸化ル
テニウムに分解した後。
クロロホルム等の溶媒から抽出する。その抽出物から溶
媒を除去、結晶化せしめることにより一般式〔■〕の化
合物を70〜80係の収率で得ることができる。
反応時の一般式〔■〕の化合物の濃度は水に対する溶解
度の関係で15%以下が好寸しい。ルテニウム化合物の
量は多いほど反応時間を短縮できるが、実用的には一般
式〔■〕の化合物に対して0.2〜1 % (w/w)
である。又二酸化ルテニウムは回収して再使用するとと
ができる。次亜塩素酸の使用量は一般式CIIの化合物
1モルに対して1〜3モル好捷しくは]、5〜2モルで
ある。反応時の温度は10〜50Cが奸才しい。
本発明の酸化方法の特徴は悪臭、廃棄物等公害をほとん
ど生じないため工業的生産に適すること及び次亜塩素酸
ナトリウムや次亜塩素酸カルシウムが工業的に多量にか
つ安価に製造されているととよシ、目的の〔■〕の化合
物を安価に製造できる点にある。
実施例 1 11容の丸底フラスコに207の1.2:5.6−ジー
0−インプロピリデン−α−D−グルコフラノース(化
合物[T’:l)、0.15?の二酸化ルテニウム及び
400m1の水を入#−25Cに保温した。
この混合液を攪拌しつつ、これに170m1の次亜塩素
酸水溶液(有効塩素として12%水溶液)を180分で
滴下した。滴下中は10%水酸化ナトリウムでPI(を
35に調整した。更に60分間攪拌後、イソプロピルア
ルコール10m1を加えて残存する四酸化ルテニウムを
分解した。反応液をクロロホルム80m11!で3回抽
出した。クロロホルム層に無水硫酸マグネシウムIOg
を加え乾燥した後。
F液を濃縮して1.2:5.6−ジーO−インプロピリ
デン−α−D−リボヘギソフラノースー3−ウロース(
化合物〔■〕)の含水結晶16.2fi’を得た。
対理論収率76.3係、融点112r、純度97.8%
(ガスクロマド分析による)。このもの1d、薄層クロ
マトグラフィ(展開液ベンゼン、メタノール=8+1)
で標準物質と同一物質であることが確認された。又N1
vH(分析の結果、1,2:5,6−ジーO−イソプロ
ピリデン−α−D−グルコフラノースのδ= 2.50
 (a −3H)の消滅が見られた。
実施例 2 11容の丸底フラスコに207の1..2:5,6−ジ
ー0−インプロピリデン−α−D−グルコフラノース(
化合物[I) )、  0.16 !i’の三塩化ルテ
ニウム及び400m1の水を入れ25Cに保温した。
この混合液を攪拌しつつ、これを120m1の次亜塩素
酸す) IJウム水心液(有効塩素として12介係水溶
液)を150分で滴下した。以下実施例1と同じ方法で
行ったところ、  1..2 : 5,6−ジー0−イ
ンプロピリデン−α−D−リボヘキソフラノースー3−
ウロース(化合物〔■〕)の含水結晶15、29を得た
。対理論収率71.6係、融点112C7,純度980
%(ガスクロマド分析による)。
実施例 3 11容の丸底フラスコに207の1,2:5,6−ジー
0−インプロピリデン−α−D−グルコフラノース(化
合物CI))、0.157の二酸化ルテニウム及び40
0m1の水を入れ25tZ’に保温した。
この混合液を攪拌しつつ、これを200m6の次亜塩素
酸カルシウム(有効塩素として10%水溶液)を180
分にて滴下した。滴下中は10%水酸化すI・リウム水
溶液でPH4に調整した。以下実施例1と同じ方法で行
ったところ、1,2:5,6−ジー0−イソプロピリデ
ン−α−D−リボヘキソフラノースー3−ウロース(化
合物〔I■〕)の含水結晶1507を得た。対理論収率
7o、6係、融点112C9純度97.6 % (ガス
クロマド分析による)。
特許出願人 東和化成工業株式会社 代理人 久 高 将 信 外  −名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1一般式[I) バ2 (但しR□及びR2は炭素数1〜4の低級アルキル基)
    で示されるグルコフラノース誘導体をルテニウム化合物
    と次亜塩素酸塩で酸化することによる一般式(II)で
    示されるグルコフラノース誘導体酸化物の製造方法。 求の範囲牙1項記載の方法。 3 次亜塩素酸塩が次亜塩素酸ナトリウム又は次亜塩素
    酸カルシウムである特許請求の範囲矛1項記載の方法。
JP57175327A 1982-10-07 1982-10-07 グルコフラノ−ス誘導体酸化物の製造方法 Granted JPS5967296A (ja)

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JPS5967296A true JPS5967296A (ja) 1984-04-16
JPH0471079B2 JPH0471079B2 (ja) 1992-11-12

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005075784A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Nagase & Co Ltd カルボニル化合物の製造方法

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JP2005075784A (ja) * 2003-09-01 2005-03-24 Nagase & Co Ltd カルボニル化合物の製造方法

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