JPS596111B2 - エリアセンサ - Google Patents

エリアセンサ

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JPS596111B2
JPS596111B2 JP52142622A JP14262277A JPS596111B2 JP S596111 B2 JPS596111 B2 JP S596111B2 JP 52142622 A JP52142622 A JP 52142622A JP 14262277 A JP14262277 A JP 14262277A JP S596111 B2 JPS596111 B2 JP S596111B2
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信雄 鈴木
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、エリアイメージセンサに関する。
電荷転送デバイスを用いたエリアイメージセンサとして
は、C−H−Sequin、!■M−F−Tompse
tt著のlChargeTransferDevice
」(AcademicPress、Inc・、1975
)の152ページから157ページに述べられているよ
うに、フレーム・トランスファ形デバイスとインタライ
ン・トランスファ形デバイスがある。フレーム・トラン
スファ形デバイスは、構成が単純という長所がある一方
、転送回数が多く、転送損失による解像度の劣化や、転
送電極の光吸収による感度が低下し、フレーム・トラン
スファ期間によるスメアリングが起きるなどの欠点があ
る。他方、インタライン・トランスファ形デバイスは、
感光画素が転送部と独立に設けてあるのでスメアリング
がないなどの長所がある反面、有効な感光部が少ないの
で感度が低く、構造が複雑であり、転送回数が多いため
解像度が低下するなどの欠点がある。本発明は、上記点
に鑑みなされたもので、転送損失による解像度劣化を低
減した新規なエリアイメージセンサを提供するものであ
る。
すなわち、信号電荷を転送する列方向レジスタの複数の
転送電極に分散して転送することにより、転送部の面積
を小さくして、有効な感光部を大きくして感度を高め、
しかも転送損失を実効的に小さくし、解像度を高めたエ
リアイメージセンサを提供するものである。次に図面を
参照しながら本発明装置の実施例を説明する。エリア状
に設けられたセンサ例えば4×4画素の撮像デバイスに
適用した実施例を第1図に示す。
一導電形の半導体基板例えばn形のシリコン基板10上
に複数のセンサ例えば基板10と異なる導電形領域例え
ばp領域を設け1a、Ib、Ic、Id、2a、2b、
2c、2d、3a、3b、3c、3d、4a、4b、4
c、4dを行列方向に4×4のフォトダイオードに形成
する。該センサの各行に平行にアドレスするための行ア
ドレス用シフトレジスタ25を設け行アドレス用シフト
レジスタ25の行アドレス線31、32、33、34に
それぞれ電気的に接続され、前記センサに隣接し平行に
制御電極11a,11b,11c,11d,12a,1
2b,12c,12d,13a,13b,13c,13
d,14a,14b,14c,14dを設け、アドレス
されたフオトダイオードから転送された信号電荷を一時
蓄積し、前記制御電極に隣接し平行に列方向レジスタ2
0,21,22,23を設け該列方向レジスタ20,2
1,22,23の信号電荷群が並列に入力され、直列に
読出す列方向レジスタ24を設け、前記列方向レジスタ
20,21,22,23から列方向レジスタ24に転送
される転送路に一定期間積分した後、行方向レジスタ2
4へ転送するための積分用電極26a,26b,26c
,26dを設け、積分用電極26の信号電荷を行方向レ
ジスタ24へ並列転送するためのボトム電極27a,2
7b,27c,27dを設けてエリアセンサを構成した
ものである。前記4×4のフオトダイオード一は、半導
体基板10と反対導電形の島状半導体領域を前記半導体
基板10の表面付近に設けた構造となつている。列方向
レジスタ20,21,22,23および行方向レジスタ
24は、半導体基板10表面に薄い絶縁膜を介して近接
して設けられた転送電極の配列から成る電荷転送シフト
レジスタであり、特に第1図の実施例においては:2相
駆動電荷結合デバイスとなつている。列方向レジスタ2
0,21,22,23は極めて小さい面積に設けられて
いることがこの発明の特徴である。即ち各センサに対応
する列方向レジスタ20,21,22,23の各転送電
極の面積が各センサ面積より小さいことである。制御電
極11a,11b,11c,11d,12a,12b,
12c,12d,13a,13b,13c,13d,1
4a,14b,14c,14d、蓄積電極26a,26
b,26c,26d、ボトム電極27a,27b,27
c,27dはともに半導体基板10上に薄い絶縁膜を介
して設けられるCCD構造である。しかも、隣接する列
方向レジスタ20,21,22,23卦よび行方向レジ
スタ24の転送電極と近接して、いわゆる電荷結合状態
となつている。これをさらに具体的に明示した部分の平
面図が第2図である。この第2図は、第1図の列方向レ
ジスタ21に関連した一列分を示めした構成を示す。こ
の図に示す列方向レジスタ21と行方向レジスタ24の
転送電極21a,21b,21c,21d,218,2
1f,21g,21h,24a,24b,24cは、そ
れぞれ転送方向に非対称の電位の井戸が形成されるよう
に2相駆動電荷結合デバイスの転送電極構造となつてい
る。行アドレス用シフトレジスタ25は、例えばMOS
形トランジスタで構成され、スタートパルスφSFが印
加されるときを開始点としてクロツクパルスφVによジ
順次行を選択する機能をもつている。また、列方向レジ
スタ20,21,22,23、行方向レジスタ24など
フオトダイオード1a,1b,1c,1d・・・・・・
4a,4b,4c,4dを除く部分は人射光が照射され
ない手段が施されている。従つて、感光面中の制御電極
11a,11b・・・14c,14dおよび列方向レジ
スタ20,21・・・・・・23の部分を占める面積の
多いことはエリアイメージセンサとして得られる画質の
劣化を招き、著るしいとエリアイメージセンサとして利
用不可能である。
従つて、制御電極11a・・・・・・14dは勿論列方
向レジスタ20,21・・・・・・23を形成する電極
も列方向に長い細幅の電極とすることにより、フオトダ
イオード1a・・・・・・4dの各列間隔を小さくでき
、エリアセンサとして画質の劣化を小さくできる。この
場合、フオトダイオード1a・・・4dからの光信号に
応じた電荷を列方向レジスタ20・・・・・・23で収
容しきれないように思われるが、フオートダイオードの
各列例えばフオードダイオード1a,2a,3a,4a
の列について一つの画素毎に時系列で列方向レジスタ2
0に入れる。このレジスタ20は一画素到来する毎に蓄
積電極26aに電荷の転送を行うのである。従つてこの
蓄積電極26aについては蓄積容量がフオトダイオード
の一画素の蓄積容量以上必要である。依つて、列方向レ
ジスタ20の蓄積容量はフオトダイオードの一画素分の
蓄積容量以上あれば良いことになb、非常に狭幅の長い
構成にすれば良い。第1図では図面の明瞭化のため相対
的関係は正確でない。
次に、第1図を参照して動咋を説明する。
動咋説明を単純にするため、列方向レジスタ20,21
,22,23と行方向レジスタ24は同一のクロツクで
駆動し、かつ、1水平期間に1画素のブランキング期間
があり、垂直のブランキング時間はなしの場合について
説明を行なう。各電極端子に印加する電圧パルスのタイ
ミング図を第3図に示す。クロツクパルスφHl,φH
2またはφVTl,φVT2の1周期をTとすると、行
アドレス用レジスタ25のクロツクφvの周期は4T,
蓄積電極λ』とボトル電極11のクロツクφSl,φS
2の周期は5T、フレーム走査スタートパルスφSFの
周期は、20Tとなつている。な訃、第3図のクロツク
パルスは、信号電荷が電子である場合のデバイス構成と
した場合の波形を示す。すなわち、パルスの高レベルが
、転送電極において信号電荷を蓄積している状態に相当
する。第4図aはフオトダイオード1b,2b,3cの
信号電荷が列方向レジスタ21に沿つていかに転送され
るかを図示したものである。ここで、さらに各フオトダ
イオードの最大蓄積電荷は、列方向レジスタの最大転送
電荷の3倍に相当するものと仮定する。まず、スタート
パルスφSFが行アドレス用シフトレジスタ25に印加
された後、時刻T,で該レジスタ25で行アドレスパル
スφVを出力し、最初の正パルスが第1行目の各制御電
極11に印加され、フオトダイオード1からの電荷がレ
ジスタ20に転送される。
即ち第1ラインがアドレスされ、各制御電極11が0N
状態となり、各列フオトダイオード1の信号電荷が列方
向レジスタ20,21・・・・・・23に転送される。
しかし、列方向レジスタ20,21・・・・・・23の
1段の転送電荷量は小さいので、各レジスタ20・・・
・・・23について転送電極例えば21gの前後の段に
も信号電荷があふれ出る。この時の電位の井戸(WE)
の状態を第4図bに示す。さらに電荷の状態を記号的に
表現したものを合せて第4図bの下段に示してある。便
宜上、電極26b,27bをS段、電極21g,21h
を第1段、電極21e,21fを第2段、電極21e,
21dを第3段、電極21a,21bを第4段と名付け
ることにする。前述した表現を用いると、時刻t1にお
いて信号電荷Q,(記号ではO)は、第1段、第2段、
S段に分散して転送され、蓄積する。さらに時刻T2で
は、第1段とS段に分かれて蓄積している。時刻T2に
おけるS段の電荷は、時刻t1におけるS段の電荷と第
1段の電荷の和であジ、時刻T2における第1段の電荷
は、時刻T,における第2段の電荷と時刻T2にフオト
ダイオード1bから新たに転送された電荷の和である。
時刻T3では、大部分の信号電荷はS段に転送され、第
1段の電荷は転送損失による取ジ残し電荷である。しか
し、時刻T4では、この取シ残し電荷もS段へ転送され
、殆んど転送損失なくS段へ転送されたことになる。次
に時刻T5ではφSl,φS2のパルスが印加されS段
の電荷Q,が水平レジスタ24へ転送されるとともに、
制御電極12bが0N状態とな虱フオトダイオード2b
の電荷Q2が第1段、第2段、第3段へ転送される。以
下に第3図φVの行アドレスパルスに周期して(第3図
のφVの下にアドレスされる行を示す)次々と各行の信
号電荷が列方向レジスタに沿つて転送され、積分されて
行方向レジスタ24へ転送される。したがつて、第3図
に示すような出力信号(0UT)が得られる。この出力
信号について最初のパルスが小さいのは、行レジスタ2
4の出力側が長いからである。この転送方法の本質は、
列方向レジスタの面積を極力小さくすることによる起る
転送電荷量の低下と転送損失の増加を、複数の転送段に
よ勺信号電荷を転送し、列方向レジスタの一方の端で転
送されてくる電荷を積分することによ)実効的な転送電
荷量を増大し、かつ転送損失を低減することにある。一
方、行方向レジスタは十分な面積をとることにより各行
の信号電荷を一度に並列入力した後、直列に読出しする
ことができる。各フオトダイオードは、スタートパルス
φSFの間隔に相当する時間内に照射された光エネルギ
に相当する信号電荷が蓄積し、読出されることになる。
以上の動作説明から明←かなようにフレーム・トランス
フア形デバイスとインタライン・トランスフア形デバイ
スに比較してこの実施例には次のような利点がある。
まず第1に、列方向レジスタを細長くしかも占有面積を
小さくすることが可能となb、これに対応して、感光部
の占有面積が相対的に大きくな)、したがつて撮像デバ
イスとしての感度が高くなる。第2に列方向レジスタの
端で転送されてくる電荷の積分を行なうため、転送損失
による電荷の取勺残し分まで積分することにより列方向
の転送損失が大幅に低下し、したがつて列方向の解像度
が上虱良好な画質が得られる。本発明は、第1図の実施
例の他に様々な形で実施できる。例えば、第1図の実施
例では、列方向レジスタおよび行方向レジスタは、2相
駆動電荷結合デバイスであるが、当然のことながら、列
方向レジスタと行方向レジスタは単相、3相、4相駆動
の電荷転送デバイスで構成しても良い。また本発明は4
×4画素に限られることなく、一般的にn>(m画素の
撮像デバイスに適用できる。ただし、nおよびmは正の
整数。また、駆動条件の1例である第3図のタイミング
図に限られることなく、様々なタイミングパルスによシ
動咋可能である。例えば、クロツクパルスφH,,φH
2とクロツクパルスφVT,,φVT2は周期が同一で
なくとも良く、さらに水平のブランキング期間や垂直の
ブランキング期間も適当に設定することも可能である。
さらに、本発明の様々な形態の一部を図面を参照しなが
ら説明する。列方向レジスタの転送電極は、1感光画素
に対し1転送段が対応するように設ける必要がなく、例
えば第5図に示すように感光画素31制御電極32の次
の列レジスタの転送電極33につい・て2感光画素分で
1転送段、また第6図に示すように感光画素34制御電
極35の次の列レジスタの転送電極36について4感光
画素分で1転送段でも良い。一般的には、任意の段数に
対応することも可能である。この場合も、複数の転送段
に渡つて信号電荷が転送され、列方向レジスタの端に設
けた蓄積電極(図示せず)で一定期間積分することで、
実効的に良好な転送特性をもつ列方向レジスタとして振
舞うことになる。また、転送電極の面積が大きくなるこ
とによ)、単一の転送電極に信号電荷が収まる場合にも
、定期間積分することで、低転送損失の列方向レジスタ
として振舞う。したがつて第5図および第6図の動作方
法も本質的に第1図(第2図)の装置と同じであり、タ
イミングパルスが第3図と多少異るだけである。また、
感光画素配列37の長さより長く列レジスタを形成し、
前後にダミーの転送段39・・・・・・45を制御電極
38を介して第7図のように設けても良い。
さらに、インタレースを行うために、第8図に示すよう
に感光画素51・・・・・・54制御電極61・・・・
・・64列レジスタ70・・・・・・73について奇数
行と偶数行をアドレスする行アドレス用シフトレノスタ
75,76を分割して、蓄積電極78制御電極79行レ
ジスタ74を設けてもよい。また、感光画素は必ずしも
フオトダイオードである必要はなく、例えば透明電極一
絶縁膜一半導体基板で構成されるMOS形キヤパシタで
も第1図または、第8図の構成が適用できる。またこの
場合は、特に第1図または第8図における制御電極61
・・・・・64,79を一定の電位障壁を形成するバリ
ア電極85として共通に接続し、各感光画素81・・・
・・・84の透明電極を制御電極として行方向に共通な
アドレス線に接続し、さらに列レジスタ86・・・・・
・89、行レジスタ90,91、蓄積電極92、制御電
極93を設けた第9図の構成も可能となる。第9図の装
置では、第1図の装置と異なb、アドレス線が低レベル
になるときその行がアドレスされることになる。他の動
作は、第1図の装置と同じである。また、列方間レジス
タおよび行方向レジスタに電気的にフアツトゼロを導入
する入力部を設けても良い。
さらに上記実施例では感光センサの列センサの列方向に
各列間にレジスタを介在させた例について説明したが、
感光センサの行方向に各行間にレジスタを介在させても
よいことは説明するまでもないことである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明センサの実施例を説明するための構成
図、第2図は第1図の一部を拡大して示めす説明図、第
3図は第1図及び第2図の駆動パルス波形図、第4図は
第1図の実施例の動作説明図、第5図、第6図、第7図
は第1図の列方向レジスタの他の実施例説明図、第8図
および第9図は第1図の他の実施例の説明図である。 1a,1b,1c,1d,2a,2b,2c,2d,3
a,3b,3c,3d,4a,4b,4c,4d,51
a,51b,51c,51d,52a,52b,52c
,52d,53a,53b,53c,53d,54a,
54b,54c,54d・・・・・・フオトダイオード
、81a,81b,81c,81d,82a,82b,
82c,82d,82a,83b,83c,83d,8
4a,83b,83c,83d・・・・・・透明電極の
制御電極、25,75,76,91・・・・・・行アド
レス用レジスタ、20,21,22,23,70,71
,72,73,86,87,88,89・・・・・・列
方向レジスタ、24,74,90・・・・・・行方向レ
ジスタ、85a,85b,85c,85d・・・・・・
バリヤ電極、11,78,92・・・・・・積分用電極
、27,79,93・・・・・・ボトム電極、11,1
2,13,14,61,62,63,64・・・・・・
制御電極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 行列方向に配列された複数の感光画素と、列方向の
    感光画素の配列の間に設けられ、前記感光画素の幅より
    狭幅の転送路を有しかつ複数の転送電極に各々異なるク
    ロックパルスを印加して電荷を転送する列方向転送レジ
    スタ群と、行方向の感光画素配列を順次選択し、選択さ
    れた感光画素配列に蓄積された電荷を前記列方向転送レ
    ジスタ群に導入する手段と、前記列方向転送レジスタ群
    により転送された電荷を一時的に蓄積する蓄積電極と、
    この蓄積電極に蓄積した電荷を1行毎に受け入れ、出力
    部から電気信号として出力するための複数の転送電極か
    らなる行方向転送レジスタとを具備したことを特徴とす
    るエリアセンサ。 2 前記感光画素としてMOSキャパシタを用いたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のエリアセンサ
JP52142622A 1977-11-30 1977-11-30 エリアセンサ Expired JPS596111B2 (ja)

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