JPS5952609A - ポリカ−ボネ−ト粒状体の連続製造方法 - Google Patents
ポリカ−ボネ−ト粒状体の連続製造方法Info
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- JPS5952609A JPS5952609A JP16212682A JP16212682A JPS5952609A JP S5952609 A JPS5952609 A JP S5952609A JP 16212682 A JP16212682 A JP 16212682A JP 16212682 A JP16212682 A JP 16212682A JP S5952609 A JPS5952609 A JP S5952609A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B9/00—Making granules
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2069/00—Use of PC, i.e. polycarbonates or derivatives thereof, as moulding material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリカーボネート粒状体の連続製造方法に関す
るものである。更l/C訂しくけポリカーボネート溶液
から嵩密度が大きく、粒径の揃ったホリカーボ不−ト粒
状体を連続的に製造する方法に関するものである。−1 ポリカーボネート溶液からポリカーボネート粉粒体を連
続的に得る方法として、従来多数の提案がなされており
、ポリカーボネート溶液を特殊2軸ニーダ−で粉末化す
る方法(%公昭53−15899号、特開昭54−38
97号)、ポリカーボネート溶液と水蒸気を、均一に攪
拌はれているポリカーボネート粒状体を収納した容器中
に供給する方法(特開昭54−162753号)などが
提案されている。
るものである。更l/C訂しくけポリカーボネート溶液
から嵩密度が大きく、粒径の揃ったホリカーボ不−ト粒
状体を連続的に製造する方法に関するものである。−1 ポリカーボネート溶液からポリカーボネート粉粒体を連
続的に得る方法として、従来多数の提案がなされており
、ポリカーボネート溶液を特殊2軸ニーダ−で粉末化す
る方法(%公昭53−15899号、特開昭54−38
97号)、ポリカーボネート溶液と水蒸気を、均一に攪
拌はれているポリカーボネート粒状体を収納した容器中
に供給する方法(特開昭54−162753号)などが
提案されている。
しかしながら、これらの公知の方法では、装翼内におい
てポリカーボネート溶液とポリカーボネート粒状体を同
時に攪拌させる為、長時間の連続運転において塊状物の
生成によるトラブルが生じたり、また装置内壁へのポリ
カーボネートの付着焼き付きを防止する為に除去した溶
媒を再度添加するなど熱的に不利な操作を要し、しかも
粒度分布が広くなりゃすく、粒度調整用の粉砕機を必璧
とする場合もあり、いずれも満足すべきものとはいい雛
い。
てポリカーボネート溶液とポリカーボネート粒状体を同
時に攪拌させる為、長時間の連続運転において塊状物の
生成によるトラブルが生じたり、また装置内壁へのポリ
カーボネートの付着焼き付きを防止する為に除去した溶
媒を再度添加するなど熱的に不利な操作を要し、しかも
粒度分布が広くなりゃすく、粒度調整用の粉砕機を必璧
とする場合もあり、いずれも満足すべきものとはいい雛
い。
本発明渚は、上述の如き困難を克111d してポリカ
ーボネート溶液から嵩密度が大きく粒径の揃ったポリカ
ーボイ、−ト粒状体を連続的に製造する方法について鋭
意研究を1ね/こ結果、帖断力を生ずるようK Lだ間
隙にポリカーホイート溶液を通過させて該溶液に剪断力
を加え、同時に溶媒の一部を気化させてポリカーボネー
トの結晶化と粒状化を促進させ、これによって溶媒を吸
蔵したポリカーボネートの粒状体を得、しかるのち残留
する溶媒を公知の方法で除去することによって容易に目
的を達し得ることを見い出し、本発明に到達したもので
ある。
ーボネート溶液から嵩密度が大きく粒径の揃ったポリカ
ーボイ、−ト粒状体を連続的に製造する方法について鋭
意研究を1ね/こ結果、帖断力を生ずるようK Lだ間
隙にポリカーホイート溶液を通過させて該溶液に剪断力
を加え、同時に溶媒の一部を気化させてポリカーボネー
トの結晶化と粒状化を促進させ、これによって溶媒を吸
蔵したポリカーボネートの粒状体を得、しかるのち残留
する溶媒を公知の方法で除去することによって容易に目
的を達し得ることを見い出し、本発明に到達したもので
ある。
本発明は、工業的に有利に良好な性状のポリカーボネー
ト粒状体を連続的製造する方法を提供することを目的と
するものである。
ト粒状体を連続的製造する方法を提供することを目的と
するものである。
かかる目的−1本発明の主たる特徴、すなわちポリカー
ボネート溶液からポリカーボネート粒状体を#造する方
法において、剪断力を生ずるようにした間隙にポリカー
ボネート溶液を通過させて該溶液に剪断力を加え、同時
に溶媒の一部を気化させて溶媒を吸紙したポリカーボネ
ート粒状体を得、しかるのち該粒状体中の溶媒を除去す
ることを特徴とするポリカーボネート粒状体の連続製造
方法によって達成される。
ボネート溶液からポリカーボネート粒状体を#造する方
法において、剪断力を生ずるようにした間隙にポリカー
ボネート溶液を通過させて該溶液に剪断力を加え、同時
に溶媒の一部を気化させて溶媒を吸紙したポリカーボネ
ート粒状体を得、しかるのち該粒状体中の溶媒を除去す
ることを特徴とするポリカーボネート粒状体の連続製造
方法によって達成される。
本発明の特徴は、上記した如く、ポリカーボネート溶液
に剪断力を加え、ポリカーボネートの結晶体を得るとと
もに継続する剪断作用により、生成するポリカーボネー
トl/状体をその嵩密度および粒度分布がその後の乾燥
、および溶融成形例えに溶融押出しに好適な状態で得ら
れることである。
に剪断力を加え、ポリカーボネートの結晶体を得るとと
もに継続する剪断作用により、生成するポリカーボネー
トl/状体をその嵩密度および粒度分布がその後の乾燥
、および溶融成形例えに溶融押出しに好適な状態で得ら
れることである。
本発明に用いられるポリカーボネートは、通常酸受客体
および分子間調節剤の存在下での2価フェノールとホス
ゲンの如きカーボネート前駆体との反応によって製造さ
れる。上記2価フェノールはビスフェノール類が好まし
く、特に2.2−ビス(4′−ビトロキシフェニル)プ
ロパン(以下、ビスフェノールAと称する)が好ましい
。またビスフェノールAの一部寸たは全部を他の2価フ
ェノールで置換[7ても」こい。ビスフェノールA以外
の2価フェノールとしては、例えはハイドロキノン、
4.4’−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタンもしくはエタン、1.1−ビス(
41−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシン、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルフィト、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホキシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エ
ーテル等の如き化合物、または2,2−ビス(31,5
1−ジクロモー41−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3+、s+−ジメチル−4′−ヒドロ片
ジフェニル)プロパンの如き核置挨ビスフェノール類が
あげられる。これらの2イ曲フェノールカ1から製造を
fするポリカーボネート−、ポモポリマー”J ftは
コポリマーであってよ<、Dl、fdそれらの混合物で
あつ又もよい。
および分子間調節剤の存在下での2価フェノールとホス
ゲンの如きカーボネート前駆体との反応によって製造さ
れる。上記2価フェノールはビスフェノール類が好まし
く、特に2.2−ビス(4′−ビトロキシフェニル)プ
ロパン(以下、ビスフェノールAと称する)が好ましい
。またビスフェノールAの一部寸たは全部を他の2価フ
ェノールで置換[7ても」こい。ビスフェノールA以外
の2価フェノールとしては、例えはハイドロキノン、
4.4’−ジヒドロキシジフェニル、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メタンもしくはエタン、1.1−ビス(
41−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシン、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルフィト、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホキシド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エ
ーテル等の如き化合物、または2,2−ビス(31,5
1−ジクロモー41−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3+、s+−ジメチル−4′−ヒドロ片
ジフェニル)プロパンの如き核置挨ビスフェノール類が
あげられる。これらの2イ曲フェノールカ1から製造を
fするポリカーボネート−、ポモポリマー”J ftは
コポリマーであってよ<、Dl、fdそれらの混合物で
あつ又もよい。
ポリカーボネート溶液を4/If成する溶媒としてit
、tJ化メチレン、クロロポルム、痩化エチレン等の如
き、ハロゲン化炭化水素を良溶媒上(5てあけることが
できる。
、tJ化メチレン、クロロポルム、痩化エチレン等の如
き、ハロゲン化炭化水素を良溶媒上(5てあけることが
できる。
本発明に用いられるポリカーボネート溶液は、前記のポ
リカーボネートを曲順1の溶媒に溶解したものであって
、その濃度は特に制限されず、過飽和領域のものまで用
いることが回前である3、しかしながら、濃度の高い方
が有利であり、好ましくは20〜50%1周の範囲であ
る。この#3嵐が20 Jk*%未満では間隙を構成す
る装置径を大きくするか、時間当りの処理量を少なくす
ることが必要になり、また50ル旬チを越える濃度では
本発明の方法を央行する前段階での流動性を維持するこ
とが非11 &r %Thしい。
リカーボネートを曲順1の溶媒に溶解したものであって
、その濃度は特に制限されず、過飽和領域のものまで用
いることが回前である3、しかしながら、濃度の高い方
が有利であり、好ましくは20〜50%1周の範囲であ
る。この#3嵐が20 Jk*%未満では間隙を構成す
る装置径を大きくするか、時間当りの処理量を少なくす
ることが必要になり、また50ル旬チを越える濃度では
本発明の方法を央行する前段階での流動性を維持するこ
とが非11 &r %Thしい。
本発明の方法においては、ホリカ゛−ボネート溶液を剪
断力が牛するよう:(シたI)4i Wkに連続的に供
給する導入部、並びに溶#;蒸気および生成したポリカ
ーボネート粒状餌の排出部を備え、かつポリカーボネー
トが固化する時間が得られるだけの移動鉗離をもった装
置を用いる。剪断力を生じるようl/Cした間隙は、少
なくとも1対の盤で構成はれるか、またU外!ψ−と内
壁で2挿構造をもった円錐体で構成されることが4Jま
しい。一対の盤で構成され、間1vtでポリカーボネー
ト溶液に剪断力を加えるとどのできる装置として、例え
ば添付した第1図に示きれているような主勿部を有する
装置がありられる。第1図は造#1装イ6の主萼部幹断
[1liln図である。第1図において別1tj1力を
牛じるようにした間隙とは固定盤2と回転盤3とによっ
てノヒ成される間隙4である。駆動刺15によって回転
盤3を回転させながらポリカーボネート溶液を供給11
1から供給すると、該溶液i−j間隙4に」、・いて固
定盤2と回転盤3との速度差によって1旬肪力を丈け、
同時に遠心作用も受ける。1+、、一対の盤で41j+
成される間隙を有する装置としては、第1図のように盤
の一力を回転されるものと回イ?・に、両方の盤を故な
る方向にブたはiくなる速ルーで回転せるようにしたも
のを用いることもできる。
断力が牛するよう:(シたI)4i Wkに連続的に供
給する導入部、並びに溶#;蒸気および生成したポリカ
ーボネート粒状餌の排出部を備え、かつポリカーボネー
トが固化する時間が得られるだけの移動鉗離をもった装
置を用いる。剪断力を生じるようl/Cした間隙は、少
なくとも1対の盤で構成はれるか、またU外!ψ−と内
壁で2挿構造をもった円錐体で構成されることが4Jま
しい。一対の盤で構成され、間1vtでポリカーボネー
ト溶液に剪断力を加えるとどのできる装置として、例え
ば添付した第1図に示きれているような主勿部を有する
装置がありられる。第1図は造#1装イ6の主萼部幹断
[1liln図である。第1図において別1tj1力を
牛じるようにした間隙とは固定盤2と回転盤3とによっ
てノヒ成される間隙4である。駆動刺15によって回転
盤3を回転させながらポリカーボネート溶液を供給11
1から供給すると、該溶液i−j間隙4に」、・いて固
定盤2と回転盤3との速度差によって1旬肪力を丈け、
同時に遠心作用も受ける。1+、、一対の盤で41j+
成される間隙を有する装置としては、第1図のように盤
の一力を回転されるものと回イ?・に、両方の盤を故な
る方向にブたはiくなる速ルーで回転せるようにしたも
のを用いることもできる。
1か、ニル構造の円ψ11一体で舌ってその外壁と内壁
で形成するIfJ+ 1!1iiでオリカーホネート沼
液((剪断力を加ヌることのできる装置としてVt1例
えに1切除し/【形の截鎮円鉛体を色も装置Fがあけら
れ、該に一餡は軸方向動面の101隙が必すしも旧線で
ある必要はなく、回転Vコよって遠心作用が生ずる構造
を有すれば良い。この装置1]における剪断力を加える
機構は11.1隙が一対の盤で形成されているものと峠
ソ同様であることが理解されよう。
で形成するIfJ+ 1!1iiでオリカーホネート沼
液((剪断力を加ヌることのできる装置としてVt1例
えに1切除し/【形の截鎮円鉛体を色も装置Fがあけら
れ、該に一餡は軸方向動面の101隙が必すしも旧線で
ある必要はなく、回転Vコよって遠心作用が生ずる構造
を有すれば良い。この装置1]における剪断力を加える
機構は11.1隙が一対の盤で形成されているものと峠
ソ同様であることが理解されよう。
本発明における間隙の大六さし1、H−リカーホイ・−
ト溶液PCかかる剪断力の効果とルー比例の関係にあり
、特に限定されるものではないが6+n以下程度が有利
であり、丙憶しくけ0 、1〜1.5vwhである。
ト溶液PCかかる剪断力の効果とルー比例の関係にあり
、特に限定されるものではないが6+n以下程度が有利
であり、丙憶しくけ0 、1〜1.5vwhである。
剪断力は大きい程ポリカーボネ−1・の結晶什を促進す
るが、エイ−的にはボリノ1−ホネート粒状体1 kg
ジII準で少なくとも(1,111kwhが必要である
。
るが、エイ−的にはボリノ1−ホネート粒状体1 kg
ジII準で少なくとも(1,111kwhが必要である
。
本発明の方法ではポリカーボネート溶液をかかる装置6
K I fi供給すると、該浴液は硬い剪断力を受ける
とともに回転による遠心作用で滞留することなくゆっく
りと移動シフ、ケル化継度に達する1で′Ij%縮が進
み、やがてa III性を失ないやわらかいヒモ状物を
形成するようになる。そしてヒモ状物の末端から崩れる
ように粒状体に賢化し、排出される1でに粉砕と造粒作
用をくり返し受け、粒度の揃った状態で排出部から連続
的に排出される。
K I fi供給すると、該浴液は硬い剪断力を受ける
とともに回転による遠心作用で滞留することなくゆっく
りと移動シフ、ケル化継度に達する1で′Ij%縮が進
み、やがてa III性を失ないやわらかいヒモ状物を
形成するようになる。そしてヒモ状物の末端から崩れる
ように粒状体に賢化し、排出される1でに粉砕と造粒作
用をくり返し受け、粒度の揃った状態で排出部から連続
的に排出される。
この場合、回転盤や回転円錐体に案内溝や山部を入れて
ポリカーボネートの移ル1;時間を調節することも可能
である。またポリカーボネートの結晶化を(Ii進する
目的で貧溶媒としてベンセン、トルエン等の如き芳香族
炭化水素を…1隙に添加してもか1わない。
ポリカーボネートの移ル1;時間を調節することも可能
である。またポリカーボネートの結晶化を(Ii進する
目的で貧溶媒としてベンセン、トルエン等の如き芳香族
炭化水素を…1隙に添加してもか1わない。
かく[7て、#媒を吸蔵したポリカーボネート粉状イヰ
が連続的に得られる。
が連続的に得られる。
不発1打において番−1、次いて+611.1−リカー
ホネート粉状体から溶媒のみを公知の方法で1肴、去す
る。例えは、ポリカーボネート粉状体を、溶媒の気化温
度以」−の混瓜に加熱して静溶媒を除去する。
ホネート粉状体から溶媒のみを公知の方法で1肴、去す
る。例えは、ポリカーボネート粉状体を、溶媒の気化温
度以」−の混瓜に加熱して静溶媒を除去する。
本発明は、溶媒を回収する目的で容器内で冥加1□4る
ことかでき、この与ら曾、ぞのにi内圧力は特に制限式
れないが好’E L < H,’帛圧以下か良い。
ことかでき、この与ら曾、ぞのにi内圧力は特に制限式
れないが好’E L < H,’帛圧以下か良い。
温度は供給IU (’J近を溶媒の沸沖より2〜3°C
ル、下に、排出口伺近は溶媒の沸点以上にした温屋勾配
をつける方法が以下に述べる理由で良い2、本発明にお
ける処理源ルーは、ホリカーホX−ト溶液旋度葦だは易
、囲気圧力(1夕11えは器内圧力)などによって左右
でれるが、俗液供給口伺M1V、を溶媒の気化による発
泡がホリカーボイ・−ト浴液の流れを妨害することがあ
るので、供給圧力に合わせて温度を訴1鉱することがり
了−テしい。1寸/こ排出口伺近の温度を高くし堝ぎる
と、非晶質で嵩密譲の小さい粒状体やフレークかで六る
ことがあり、消費1■ン力の増大を招き、灯゛チし7〈
ない。
ル、下に、排出口伺近は溶媒の沸点以上にした温屋勾配
をつける方法が以下に述べる理由で良い2、本発明にお
ける処理源ルーは、ホリカーホX−ト溶液旋度葦だは易
、囲気圧力(1夕11えは器内圧力)などによって左右
でれるが、俗液供給口伺M1V、を溶媒の気化による発
泡がホリカーボイ・−ト浴液の流れを妨害することがあ
るので、供給圧力に合わせて温度を訴1鉱することがり
了−テしい。1寸/こ排出口伺近の温度を高くし堝ぎる
と、非晶質で嵩密譲の小さい粒状体やフレークかで六る
ことがあり、消費1■ン力の増大を招き、灯゛チし7〈
ない。
本発明方法によilは0.3〜(1、7y/cm程度の
嵩密度を有する多孔質のポリカーボネート粒状体を得る
ことかでき、粒径が捕;つでいて微粉や巨大粒子を含ま
ないので、具部の乾炊、加工に好都合である。1だ間隙
に、す1断力が謂に作用している為、加熱や冷却を実施
しても、ポリカーボネートの固糸、焼き伺@在とか全く
発生しなく工業的に極めて有利である。。
嵩密度を有する多孔質のポリカーボネート粒状体を得る
ことかでき、粒径が捕;つでいて微粉や巨大粒子を含ま
ないので、具部の乾炊、加工に好都合である。1だ間隙
に、す1断力が謂に作用している為、加熱や冷却を実施
しても、ポリカーボネートの固糸、焼き伺@在とか全く
発生しなく工業的に極めて有利である。。
以下、実施例によって本発明をIt体的に訃;明する。
実施例1
伯径500鵡の1方をliji 51i°した回転円盤
よりなる、添付図1ffi (第1I!;!I) Pc
不#、十臂都を有する迄粒装置を用い、n圧状態にお
いて、ポリカーボネート粒状体の製造を行なった。ポリ
カー s= ネトM %、としてビスフェノールAを用
いて合成された平均分子1n23.000のポリカーボ
ネーl−を32 li it条名有する塩化メチレン溶
液を4i1時100 kgで伊、鼾;「11より9船I
、/こところ間隙4の求九1より毎町45A9のポリカ
ーボネート狛ン状体が得られた。この”lX出jlif
i4の大きさに0.75鵡、 l’+1隙末端(抽11
4口)イ1j近拵i用に50’C,回転盤3の回転iM
if、 180 rpn+でありポリカーボネート1
ky当りの4!lh力は0.15kwhであった。
よりなる、添付図1ffi (第1I!;!I) Pc
不#、十臂都を有する迄粒装置を用い、n圧状態にお
いて、ポリカーボネート粒状体の製造を行なった。ポリ
カー s= ネトM %、としてビスフェノールAを用
いて合成された平均分子1n23.000のポリカーボ
ネーl−を32 li it条名有する塩化メチレン溶
液を4i1時100 kgで伊、鼾;「11より9船I
、/こところ間隙4の求九1より毎町45A9のポリカ
ーボネート狛ン状体が得られた。この”lX出jlif
i4の大きさに0.75鵡、 l’+1隙末端(抽11
4口)イ1j近拵i用に50’C,回転盤3の回転iM
if、 180 rpn+でありポリカーボネート1
ky当りの4!lh力は0.15kwhであった。
吸蔵する溶媒を50〜60°Cのy、= Iμに該粒状
体を刀11熱して1去した後のポリカーボネートオーI
状体の嵩苦J糺は0.62 f/l:nlであった。こ
の粒1β分布r、t 24メツシユの篩を通過しないも
のは1%。
体を刀11熱して1去した後のポリカーボネートオーI
状体の嵩苦J糺は0.62 f/l:nlであった。こ
の粒1β分布r、t 24メツシユの篩を通過しないも
のは1%。
80メツシユをiil+過するものit 12 CI)
であった。
であった。
実施例2
実施例1と[tIIじ装置i°でnIF状態においてポ
リカーボネート粒状体の製造を?″Tなった。ポリカー
ボネー1−溶[1としてビスフェノールAを用いて合成
された平均分子i23,1)00のポリカーボネートを
25 ]+、 l] %含有する塩化メチレン溶液をイ
n゛時90 kyで供給口1よシ供給したところ間隙4
の末端(排出口)より角時38に9のポリカーボネート
粒状体が得られた。この時、間隙4(D大e サij:
1.5 m+、排出口(i 適温度ケ6oL01回転
盤3の回転数け18orptn′?l′廓・す、ポリカ
ーボネート1にg当りの剪助力try、’ +1.09
kwhでp・つプt。吸蔵する溶媒を、50〜60’
Cの温度で除去した稜のポリカーボネー1粒ル、体の嵩
密度は0・5717cmでおった。この*i lit力
布は12メツシユの篩を通過しないものViO%、80
メツシユを通過するものは5%であった、1※タイラー
憚準篩によって測定した。
リカーボネート粒状体の製造を?″Tなった。ポリカー
ボネー1−溶[1としてビスフェノールAを用いて合成
された平均分子i23,1)00のポリカーボネートを
25 ]+、 l] %含有する塩化メチレン溶液をイ
n゛時90 kyで供給口1よシ供給したところ間隙4
の末端(排出口)より角時38に9のポリカーボネート
粒状体が得られた。この時、間隙4(D大e サij:
1.5 m+、排出口(i 適温度ケ6oL01回転
盤3の回転数け18orptn′?l′廓・す、ポリカ
ーボネート1にg当りの剪助力try、’ +1.09
kwhでp・つプt。吸蔵する溶媒を、50〜60’
Cの温度で除去した稜のポリカーボネー1粒ル、体の嵩
密度は0・5717cmでおった。この*i lit力
布は12メツシユの篩を通過しないものViO%、80
メツシユを通過するものは5%であった、1※タイラー
憚準篩によって測定した。
第1図は本発明に用い得る造粒装置の主要部分を示す主
弁部縦断側面図である。 1・・・供給口、2・・・固定盤、3・・・回転盤。 4・・・間隙(排出兼脱気口)、5・・・駆動軸手
続 補 正 書 昭和57年11月li日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 57 − 162126 号2発明の名称 ポリカーボネート粒状体の連続製造方法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 代表者 山 崎 芳 樹 (1; 明細書第7頁下から3行に、「でk・る。」
とあるを「である。固定盤2には、図示]−でいないが
温度調節用媒体を通じ得ろジャケット等を配設すること
が可5ヒである。」に訂正する。 (2) 同第8頁1行に、「実げ」とあるを「受け」
に訂正する。。 以 上 −4:
弁部縦断側面図である。 1・・・供給口、2・・・固定盤、3・・・回転盤。 4・・・間隙(排出兼脱気口)、5・・・駆動軸手
続 補 正 書 昭和57年11月li日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 57 − 162126 号2発明の名称 ポリカーボネート粒状体の連続製造方法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 代表者 山 崎 芳 樹 (1; 明細書第7頁下から3行に、「でk・る。」
とあるを「である。固定盤2には、図示]−でいないが
温度調節用媒体を通じ得ろジャケット等を配設すること
が可5ヒである。」に訂正する。 (2) 同第8頁1行に、「実げ」とあるを「受け」
に訂正する。。 以 上 −4:
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1°ポリカーボネート溶液からポリカーボネート粒状体
を製造する方法において、剪断力を生ずるようにした間
隙にポリカーボネート溶液を通過させて該溶液に剪断力
を加え、同時に溶媒の一部を気化させて溶媒を吸蔵した
ポリカーボネート粒状体を得、しかるのちに核粒状体中
の溶媒を除去することを特徴とするポリカーボネート粒
状体の連続製造方法。 2 剪断力を、間隙を構成する少々くとも一対の盤の一
方を回転させるか、両方を異なる方向または異なる速度
で回転させることによって加えることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の方法。 3 剪断力を、間隙を構成する外壁と内壁で二重構造を
もった円錐体の該外壁または内壁の一方を回転させるか
、両方を異なる方向またはlムなる速度で回転させるこ
とによって加えることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16212682A JPS5952609A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | ポリカ−ボネ−ト粒状体の連続製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16212682A JPS5952609A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | ポリカ−ボネ−ト粒状体の連続製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5952609A true JPS5952609A (ja) | 1984-03-27 |
JPH0334492B2 JPH0334492B2 (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=15748530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16212682A Granted JPS5952609A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | ポリカ−ボネ−ト粒状体の連続製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5952609A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172055A (ja) * | 1984-09-18 | 1986-04-14 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト樹脂粒状体組成物 |
JPH03223330A (ja) * | 1989-03-28 | 1991-10-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ポリカーボネートプレポリマー多孔体とその製造方法、及びそれを用いる芳香族ポリカーボネートの製造方法 |
EP0465967A2 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-15 | Bayer Ag | Kontinuierliche Abscheidung aromatischer Polycarbonate in teilkristalliner Form aus Lösungen in CH2CL2 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51123266A (en) * | 1975-04-19 | 1976-10-27 | Idemitsu Kosan Co | Method of continuous production of copolymer type polycarbonate resin powder |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP16212682A patent/JPS5952609A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51123266A (en) * | 1975-04-19 | 1976-10-27 | Idemitsu Kosan Co | Method of continuous production of copolymer type polycarbonate resin powder |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6172055A (ja) * | 1984-09-18 | 1986-04-14 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト樹脂粒状体組成物 |
JPH03223330A (ja) * | 1989-03-28 | 1991-10-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ポリカーボネートプレポリマー多孔体とその製造方法、及びそれを用いる芳香族ポリカーボネートの製造方法 |
EP0465967A2 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-15 | Bayer Ag | Kontinuierliche Abscheidung aromatischer Polycarbonate in teilkristalliner Form aus Lösungen in CH2CL2 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0334492B2 (ja) | 1991-05-22 |
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