JPS59501881A - 電気接続回路 - Google Patents
電気接続回路Info
- Publication number
- JPS59501881A JPS59501881A JP83503356A JP50335683A JPS59501881A JP S59501881 A JPS59501881 A JP S59501881A JP 83503356 A JP83503356 A JP 83503356A JP 50335683 A JP50335683 A JP 50335683A JP S59501881 A JPS59501881 A JP S59501881A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- node
- circuit
- voltage
- capacitive
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/30—Power supply circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/12—Programming voltage switching circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/14—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
- G11C16/16—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/32—Timing circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/06—Modifications for ensuring a fully conducting state
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
- Dc-Dc Converters (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
選択的に動作しうる電気接続回路
技術分野
この発明は、第1の容量性ノードの第1の電圧が入力ラインの入力電圧を越えた
ときに、前記第1の電圧に応答して前記入力電圧を出方ラインに接続するように
なしたカップリング手段を含み、入力ラインを出力ラインに選択的に接続する種
類の電気回路に関する。
この電気回路は不揮発性メモリー・アレイを持つ共通チソゾに集積したときにそ
のメモリー・アレイに書込及び消去電圧を接続することに特定の応用を有する。
背景技術
この回路は不揮発性メモリー・システムを開示している公開された英国特許出願
第2,094,086号から知るととができる。すなわち、この英国特許出願の
第4図から、接続された不揮発性メモリー・アレイの行ラインが選ばれたときに
、その行ラインに対してブース) (boost)電圧を供給するよう選択的に
作動可能なブースト電圧配分回路を知ることができる。この既知の回路では、そ
こにある発振器制御ポンプ手段がブースト電圧源と上記回路に接続されている行
ラインとの間に接続されているソース/ドレイン路を持つトランジスタのケゝ−
トに接続されたノードの電圧を上昇するようにしている。
この既知の回路は、実施中、漏洩電流、分布容量、極端な供給電圧、製造公差及
び極端な温度などが同時に考慮されたときに、その出力電圧のマージンが不十分
であるという欠点を有するということが判明したb−を提供することである。
故に、この発明によると、第1の電圧が第2の容量性ノードの第2の電圧を越え
たときに入力ラインから前記第2の容量性ノードに電荷を転送するようになした
電荷転送手段と、前記第2の容量性ノードから第1の容量性ノードに対して直接
的でなく周期的に電荷を転送するようになした電荷ポンプ手段とを含む種類の回
路を提供する。
上記の適用技術分野によ)、この発明の回路は不揮発性メモリー・アレイを持つ
共通チップに集積されたときにそのメモリー・アレイに書込及び消去電圧を供給
するに特に適している。そのような書込及び消去電圧は一般にそこに使用される
比較的低い動作電源電圧に対比して相当高い振幅を持つものであるから、ここに
説明する好ましい実施例の回路は便宜的に高電圧(HV )パス(pass )
回路と呼ぶことができる。故に、不揮発性メモリー・アレイについて使用するこ
の発明の好ましい実施例は入力ラインから出力ラインに相当高い電圧を通過させ
るか、又は単一の低電圧エネーブル信号に応答して入力ラインか出力ラインのい
ずれかに供給される高い電圧を選択的に阻止するよう特に適合するように構造さ
れた集積回路を提供する。ここに使用された特別な電界効果トランジスタ(FE
T )の構成又は配置においては、その回路はしきい値電圧の損失外しに入力か
ら出力に高い電圧を通過させる一方、−高圧を供給する電源からの過渡電流が流
れるのを制限する。この発明の一実施例においては、この回路は比較的普通のn
−チャンネルFETを利用し、公称5ボルト電源で動作し、不揮発性メモリー・
アレイのための書込及び消去制御の関係において20ボルト以上の通過に適合し
うるように構成される。
好ましい高電圧パス回路の複合実施例において、そのボンプロ路と高電圧ドライ
ブ回路とは、負電圧保護回路と、多数のデカップリング回路と、1対の負電圧阻
止回路とが追加されてここに説明する第4レーシヨン又は動作を実行する。特徴
のあるポンプ回路は二相クロックによって同期駆動される。高電圧電源からケゝ
−) FETを通して電荷がひき出され、分布容量を持つ第1のノードの電圧を
増加する。その後、二相クロックのポンプ作用が第1のノードの電圧を増加し、
本来のしきい値FETを通して第2の容量性ノードに電荷を一方向性に転送する
。第2のノードは高電圧ドライブ回路と前述のゲートFETとの両方にエネーブ
ル電圧を供給する。このような方法で、この回路は電荷の移動がエネーブル信号
で始動され、その後二相クロックのポンプ作用によって維持され、高められるよ
うにした閉ルーフ構造の形をとる。エネーブル・ラインがポーンゾ作用を始動す
る通路は、又エネーブル信号が゛′ロー″レベルにあるときには高電圧・ぐス回
路をディセーブルするように働く。
上記したように、複合高電圧Aス回路は各種形式の負電圧からの保護を含む。高
電圧パス回路の高電圧入力ラインにおいて特徴のある負電圧阻止回路は高電圧入
力ラインの電圧が負であるときに、デプリーションFETによって適切にディセ
ーブルされた直列接続FETを有する。通過動作中の負電圧阻止回路を通るしき
い値電圧の喪失は直列接続FETのダート電極の電圧を高めることによって避け
ることができる。容量的に負荷されたノードをクロック信号でポンプし、デプリ
ーションFETのボディ(body )効果によって電荷の流れを制御すること
によってよシ高い電圧を発生することができる。
高電圧パス回路の出力側における第2の負電圧阻止回路は高電圧ドライブ回路の
FETのダートとドレイン電極とを短絡する1対のFETから成る。高電圧ドラ
イブ回路のFETは入力ラインから出力ラインへの実際の高電圧の通過を制御す
る。
高電圧パス回路の出力ラインの負電圧を通して、エネーブル・ラインへの通路が
負電圧保護回路によって遮断される。それは、1つの形式としては、ダート電極
の負電圧によって選択的にバイアスされる直列FETで構成することができる。
実施例として、高電圧・ぐス回路は、又1群のデカップリング回路を含む。これ
ら回路は二相クロックから高電圧・ぐス回路のクロック入力を選択的にデカップ
ル(decouple :減結合)して、それがディセーブルされたときに高電
圧・ぞス回路の容量性負荷を除去する。模範的な不揮発性メモリー・アレイに対
する適用を考えたときに、多数の高電圧パス回路は、そうでなければ、実際に動
作する高電圧・ぐス回路の数に関係なく、二相クロック・ラインに有力な負荷を
かけたであろうということがわかる。ここに実施するデカップリング回路はクロ
ック信号ラインと直列に接続され、エネーブル・ラインでダートされるグー)
FETを含む。エネーブル・ラインはそれ自体純方向バイアスFETを通して接
続される。純方向バイアスFETはクロック信号がポンプ又は阻止回路に進行中
にしきい値電圧降下を受けないということを保証するに十分なケ゛−) FET
のダート電圧をブートストラップ(bootstrap )する。
図面の簡単な説明
次に、下記の添付図面を参照してその例によりこの発明の詳細な説明する。
第1図は不揮発性メモリー・プレイのための書込及び消去制御システムのブロッ
ク図である。
第2図はこの発明の特徴を実施した高電圧742回路の回路図である。
第3図は第2図の回路を形成する作用部分を描いたブロック図である。
第4図は第2図及び第3図に表わしたポンプ及び高電圧ドライブ回路の簡素化し
た作用的等価を表わす回路図である。
第5図は第2図の高電圧・やス回路の種々のノード及びラインにおける電圧信号
の模範的波形を表わす。
発明を実施するだめの最良の形態
この高電圧・ぞス回路の利点を理解し、その適用範囲の認識を得るために、次の
説明はこの高電圧パス回路を利用することができる前後関係の簡単な説明から始
めるものとする。この点に関し、第1図に全体的に表わした不揮発性メモリー・
アレイのための書込及び消去制御システム1に注意を向けよう。書込及び消去動
作を実行するに適切な公称電圧は次の表Iに表わす。
7
ことに例示した制御システムはシリコン−窒化物−酸化物一半導体(5NO8)
形装置に作られた不揮発性(NV )メモリー・アレイのブロック消去、ページ
消去(16バイトのグループ)又は書込に利用される。この好ましい構造におい
ては、このアレイはメモリー・アレイのデータを読出し、消去し、又は書込むに
必要なほとんどすべての回路を含む単一の集積回路チップの一部であるように作
られる。第1図のシステムの説明は比較的省略されたものであることを認めるべ
きであシ、その中の5NOSメモリー・アレイ及び従来通シに関連する高電圧供
給ポンプ、デコード、発振器及び配分器は相当一般的に知られたものであるが、
そこにある形式の高電圧パス回路はそうではない。第1図を見て注目するべきこ
とは、高電圧・やス回路構造は、設計が装置レベルで効′率良く行われていない
場合、消費する領域に有意義に寄与することができるように、その制御システム
内に反覆して現われる。次に、模範的メモリー・アレイ制御システム1が実行す
る簡単な動作の説明を行う。
第1図において、発振器エネーブル回路2は書込エネーブル・ライン4か又は消
去エネーブル・ライン6に信号が現われたときに二相発振器クロック回路3の動
作を始動するよう信号を発生する。二相発振器回路3からの出力信号であるクロ
ック信号11及びif2は高電圧供給ポンプ回路7、消去配分器回路17及び高
電圧パス回路8,9,15に供給される。更に、クロック信号「□及びg2はメ
モリー・ダート・ページに対応し、高電圧・ぐス回路11〜14を含む複数の高
電圧・そス回路に対し、2線バス16を介して接続される。
高電圧供給ポンプ回路7で発生した相当高いレベルのDC電圧は高電圧・ぐス回
路8及び9の囮イン端子に接続される。ラインWに現われた高電圧パス回路8の
HVアウト端子からの出力は高電圧・ぐス回路11〜14のHVイン端子に配分
される。高電圧・ぐス回路9からの出力ライン18は消去配分器17内7全通し
て、夫々チップ基板の及びメモリー・エピタキシャル層の電気接続である1対の
ラインHVS及び)IvWに接続される。消去配分器17からの第3の出力ライ
ンは高電圧・ぐス回路15のHvイン端子に接続される。消去配分器17は単に
ライン18に信号が現われたときに既アウト信号を模写するものであるが、その
出力ラインを互いにデカップル(depouple ;減結合)している。
NVメモリー・アレイの選ばれたに一部の消去はラインVWを介しNV 5NO
8装置の指定されたメモリー・ケ゛−ト電極に対し消去電圧を選択的に送信する
ことによって行われる。この実施例の装置は#1乃至#Nまで番号が振られたイ
ー・ゾに従ってグループに組織されている。
消去又は書込まれるべき被−ノ(page:頁)のアドレスはアドレス・コード
に対応する高電圧・ぐス回路を選択的に可能化するデコーダ19に対してバイナ
リ・ビット・コードとして挿入される。エネーブル信号はエネーブル・パス21
に送信される。この実施例から見て疑いな(、NVメモリー・アレイのNページ
への分割は個有的にN個の個々の高電圧パス回路を必要とする。次に、メモリー
・アレイ制御システム1の動作の説明を行う。
ここで、表■に明示した動作は第1図の対応する作用ブロックに関係させること
ができる。ブロック消去動作中、高電圧/4’ス回路11〜14の肝アウト端子
に接続されているすべてのメモリー・ダート・ラインは適当なページ・アドレス
によって0ボルトに保持すれる一方、ラインHVW及びI(VSは夫々高電圧2
92回路9を使用して+20V及び+22VKバイアスされる。
ライン18の+20Vの電圧をラインH〜′Sの+22’Vに高くすることは消
去配分器17内の単一のクロックド・ポンプ回路によって行われる。その2がル
トのマージンはそのチップの他の場所にある特定のバイポーラ・トランジスタを
ディセーブル(disable ) K維持する。その期間中、+5v信号がエ
ネーブル・ライン6を消去するために供給される。
ページ消去動作はページ・アドレスが11かう始マるグループから14まで延び
る高電圧ノソス回路を選択的に指定して可能化するということを除き、すべて類
似する。この場合、高電圧・ぐス回路9からのライン18の+20Vは高電圧ノ
Pス回路15′f!:通してラインWに接続される。その後、ライン■の+2Q
V(dxネーブル・パス21の信号に従って消去されるべきでない啄−ジに選択
的に配分される。この動作中、消去エネーブル・ライン6及びページ消去エネー
ブル・ライン20の両方とも+5Vである。
メモリー・プレイ制御システム1によって行われる書込動作は書込エネーブル・
ライン4の+5V信号で開始する。書込エネーブル信号は高電圧・ぐス回路8を
作動して暇アウト端子からの+20Vをライン■lに接続する。その後、+20
■はパス21のページ・アドレスに従って、メモリー・ケ8−ト・ライン41〜
−II−Hに対して選択的に接続される。書込動作中、ラインHVS及びHVW
は夫々別々の手段によって約+4v及び−2,5Vにバイアスされる。書込して
いる間、高電圧パス回路9はディセーブルされ、高電圧791回路15はライン
HVWの−2,5Vをライン贈からデカップルする。
このシステムで処理できなければならない各種信号と共に、・高電圧パス回路が
このメモリー制御システムに現われる周期が与えられると、そのような高電圧・
ぐス回路の能力と寄与とを認識し始めるであろう。高電圧・ぞス回路の完全な構
造は第2図に表わす。第2図に構成する作用ブロックの相互接続は相互関係の理
解の助けとするために第3図に表わす。第3図のブロックによって規定された複
雑な作用は物理的には第2図に表わすような活性の半導体装置で実施することが
できることによシ、その能力を認めうるであろう。それにもかかわらず、制御シ
ステム1(第1図)に実施しだ高電圧A’ス回路の色々な構造は特定の回路要求
に従って作られ、例えば、高電圧・ぐス回路15は第2図及び第3図に実際に描
いた作用部分のすべてを含みうるだけだということを理解するべきであるゆその
回路の場所によって、高電圧・ぐス回路に期待する電圧の変化性すべてを受ける
であろう。故に、下記の説明はこの簡単な構造を代用としてその配置又は構成を
利用して述べることにする。
第2図及び第3図の回路は以下2つの別々な段階において説明する。第1の段階
はその作用ブロック及びそれらの相互関係を考慮した複合的説明を含む。第2の
段階は作用ブロック内の別々の装置によって実行される動作の説明を含む。
第3図について、この発明の中心的要素はポンプ回路部分22、高電圧ドライブ
回路部分23、及び負電圧阻止回路部分27に含まれている特徴によって表わさ
れるということを理解するべきである。しかし、更に補足して完全にされた実施
例は負電圧阻止回路28.1対のデカップリング回路24.26及びポンプ回路
22内に組込まれている負電圧保護回路を含む。デカップリング回路24.26
はクロック・ラインgl+z2でドライブされる負荷を減少することによって作
用する。第3図の点線ブロック29は第2図の構造では要求されず、この構造の
ために要求されたデカップリング回路の存在を描いたものである。負電圧阻止回
路27.’28は端子取インとHVアウトとの間の負電圧の通過を防止する。負
電圧保護回路30(第3図)は訂アウト端子の負電圧がエネーブル・ラインに伝
播するのを防止するような構造に作られたポンプ回路22の作用的構成を表わす
。この発明の基本には本質的なものでないが、前記後者で説明した補足の回路は
明らかに高電圧パス回路の融通性を拡張するものである。
作用ブロック・レベルの説明を更に続け、次の説明は不揮発性メモリー・アレイ
の書込及び消去に必要な機能の遂行に際する高電圧パス回路の動作に焦点を合わ
せることにする。しかし、この発明はその応用のような狭い範囲に限定されるべ
きものではない。高電圧パス回路15の基本的特徴はしきい値電圧の損失を受け
ることなく肝イン端子及び■アウト端子間に高い電圧を通過させる能力である。
これを達成するために、ポンプ回路22がライン31から高い電圧を受け、二相
クロック信号Bl及びil’2に使用してライン32に更に高くされた電圧を供
給するようにする。それによって上昇した電圧は、そうでなければ高電圧ドライ
ブ回路23全通してライン31の高電圧を送信する際に生じるであろうしきい値
電圧の損失を補償するであろう。ポンプ回路22はエネーブル・ラインの+5V
信号によって可能化される。
制御入力ラインvpは端子式アウトに負電圧が予期されない場合、+5vに維持
される。その場合、それは−5vにバイアスされる。ライン■Pの一5v信号−
はマージニング(margining )タイプのテストと同時におこる。デカ
ップリング回路24.26及び潜在的デカップリング回路29はディセーブルさ
れている高電圧パス回路からのクロック・ラインPf1及びz2の容量性負荷を
大体除去するために提供される。選ばれたページに従ってメモリーを消去及び書
込みするに利用される複数の高電圧パス回路については、クロックの負荷はたぶ
ん許容限界内に残されるであろう。デカップリング回路を通るクロック信号の通
過は+5V信号がエネーブル・ラインに現われるときにのみ生じる七いうことに
注意しよう。
負電圧阻止回路27はライン31に対するいかなる端子HVインの負電圧の通過
をも禁止する。高電圧パス回路15が可能化されたときに、負電圧阻止回路27
の中にあるポンプ構造によってHVイン端子とライン31との間に電圧損失がお
こらない。そのポンプはデカップルされたクロック信号/1によってドライブさ
れる。
残る負電圧阻止回路28は、取アウトが負電圧を受けたときに、端子HVアウト
とライン32との間に実質的に短絡させることによって、端子聞アウトの負電圧
が高電圧ドライブ回路23のFETを通して戻されることはないということを保
証する。このとき、ラインVMGは+5vバイアス信号の供給を受ける。一般に
、負電圧はW装置のメモリー・ウィンドウのマージニング・タイプのテスト中に
のみ取アウトに現われる。その処理手順は5NO8形取メモリー装置の製造者で
あれば日常的に実行していることである。
作用レベルの関係を明確にするだめ、次の説明は第2図に実施しだ回路内の各種
アクティブ(active )及び・やツシブ(passive )装置の組織
及び特性の寄与又は分担に焦点を幽てることにする。この実施例の考察に当シ、
第2図に表わす設計は+5■電源からVcc電圧が与えられるということに注意
するべきである。この装置は約25Vのフィールド・プレート・ツェナ(fie
ld plate zener )能力を持つ。この装置の幅対長さ比は夫々第
2図の各装置の側に表わす。この実施例においては、キャパシタ33.34.3
6は従来のエンハンスメント・キャノeシタであす、そレバ、多くはソース及び
ドレイン電極が共に接続されたポンプ・ンスメン) FETという点に特徴があ
る。FET 37 、38 。
39.41,42,43,44.46,47.48は約0.8Vのしきい値電圧
(VT)を持つ比較的従来のエンハンスメント形装置である。負電圧阻止回路2
7のFET 49は約−1,5Vのしきい値電圧を持つ軽いデプリーション形装
置である。FKT 51は約Oポルトのしきい値電圧を持ち、一般に自然(na
tural ) FETとして知られる構造を持つ。キヤ・ぐシタCN1及びC
N2は夫夫のノード≠1及び≠2に有効に分布されたノード・キャパシタンスを
表わす。一般的設計規則として、キヤ・ぐシタ33,34は有意義にCN1及び
CN2よシ犬きく’(10:1以上の率で)してポンプ回路22から有効な動作
−を得るべきである。その回路内にある個々の装置のその他の関係は、各回路が
個々に考察されたときに明確にするであろう。
第2図の高電圧パス回路15に接続される信号は一部前述した。しかし、ライン
z1及びz2のクロック信号は全体的に矩形波であり、位相が約180°異なり
、0ボルト乃至+5ゴルトの範囲を有し、5〜20 MHzの公称周波数を持つ
ということに注意する価値がある。
各高電圧・ぐス回路の動作は工尿−ブル・ラインの+5ボルト信号で開始され、
エネーブル・ラインのOボルト信号で終了する。ラインvpは前述したように通
常+5ボルトであるが、メモリー・アレイの5NO8形W装置のメモリー・ウィ
ンドウのマージニング・テスト中、他の電圧でバイアスすることもできる。しか
し、その使用はこの発明では二次的要素であシ、十分この発明の範囲に入る。
次に、ポンプ回路22と高電圧ドライブ回路23との組合せに注意を集中しよう
。その組合せの作用的等価を第4図に表わす。その参照記号にプライム(′)記
号が付されているのは第2図と第4図の要素間で作用的に対応するということを
表示する。
第4図に表わす動作等価回路の構造は二相クロック信号z1及び827間に配置
されたキャパシタ33、ノード+2、ダイオード51′、抵抗51“、ノード+
1及びキャノクシタ34で表わされる。ノード4=1及び≠2は夫々のキャパシ
タCN1及びCN2を通して容量的に接地電位に接続されるものとして表わして
いる。ノードΦ1は更に高電圧ドライブ回路23のFET41のダート電極及び
ダイオード44′を通してエネーブル・ラインに接続される。ノード+2はFE
T 46を通る通路で爪′イン′から分離される。
第4図の等何回路において、Iンプ回路22の動作はエネーブル・ラインにおけ
る正信号によって始まる。
この信号はFET 46をターン・オンして葭イン′からノード≠2に電荷を供
給し、ひき続きノード≠1に供給する。その後、クロック信号が利用されてノー
ド+2の電位を上げ、それが更にダイオード51′及び抵抗51“全通してノー
ド≠1に電荷の転送を行う。閉ル−プ方式によシ、ノード≠1の電圧の上昇はF
ET 46をバイアスして、更にノード≠2を酵インIからの電圧で荷電する。
そのクロッキング及び電荷の転送はノード≠2がHVイン′の電圧の振幅に達し
、ノードΦ1が少くとも5ボルト大きくなるまで繰返えされるrそれによって、
ドライブ回路FET 41のケ8−ト電極は既イン′の電圧よシ十分に上昇され
、肝アウトの電圧がFET 41を通過する際にしきい値電圧の降下を受けるこ
とがないということを保証する。
ポンプ回路22及び高電圧ドライブ回路23の動作゛を特徴づける動作シーケン
スは第5図に表わす種々の信号波形を参照することによって最も良く理解するこ
とができる。第4図及び第5図を共((考察すると、ノード+1は5ボルトのエ
ネーブル信号がくる前は0ボルトに保持されているということがわかる。これは
FET 44 (第2図)で達成される。時間T1において、エネーブル信号が
+571−=ルトに上昇した後に続き、ノード・キヤ・ぞシタンス又は容量CN
1が荷電されてノード≠1を約5ゴルトに上昇する。時間T2までにエンハンス
メントFET 41 、46は導通状態となシ、端子肝イン′をHVアウト端子
及びノード≠2の両方に接続する。ノード≠1の電圧は普通時間T2においては
安定しているが、ノード≠2の電圧はFET 46の相互コンダクタンスに応答
して端子取イン′とキャ・ぐシタCN2との間に流れる電荷によって時間T3ま
で増加し続ける。時間T3直後からの期間中、ノード≠1と≠2の電圧はFET
46のしきい値によって差異が生じる。ポンプ動作はノード≠2の電圧が端子
HVイン′の電圧に達するまで周期的に繰返えされる。
ダイオード44′を通るエネーブル・ラインからの信号の配分は無視されるべき
でない。それはノード≠1をプリチャージ(prjcharge )するのに用
いられる。
そのプリチャージはFET 46の可能化を速めて石イン′からツードナ2に電
荷の転送を開始するのに必要である。そのエネーブル電圧がないと、FET 4
6は通常そうであるように、エンハンスメント形装置のために非導通のままとな
るであろう。しかし、作用ダイオード44′はエネーブル・ラインがQ&シルト
あるときにそのFET構造に戻シ、ノードΦ1を同一電位にひきこむということ
を認めるべきである。
次に、時間T3の前のエネーブルの過渡現象が静った後の二相クロックの配分を
理解するためには、時間T4乃至T9における第4図の等価回路を考察するべき
である。例えば、時間T4においては、クロック信号z1及びz2′はそれらの
O及び+5ボルトレベル間の遷移を開始する。時間T4及び15間の期間中、ノ
ード+2の電位は比較的大きなキヤ・ぐシタ33と比較的小さなキャパシタCN
2との間の電荷の分配を通し、信号M2の正立上り遷移によって上昇する。電荷
は、又ある程度までキヤ・ぐシタ34とキャieシタCN1との間に割当てられ
るが、抵抗51“がその間にはさまれているため、その程度は少ない。クロック
信号z2′が増加するときに、信号Z工はOボルトの方に遷移する。
ノード+1は下の方に遷移するに従い、相当大きなキャノeシタ34と相当小さ
なキャノeシタCN1との間の電荷の配分によって負の方にひっばられる。この
動作は、より大きな電圧の差異のため、ノードΦ2からノード41にそれ以上の
電荷さえも引きこむことになる。時間T6前のある時点において、ノード4P1
及び4P2の電圧は安定し、FET 51 (第2図)のしきい値によって大き
さが異なるようにされる。
時間T6及び77間の時間中に信号I3+及びy2′は反対の一遷移を受ける。
そのラインz1の信号め上昇はキャパシタ34とCN1との間の電荷配分として
ノード41を約3ボルトまで上昇させる結果を生じさせるであろう。ノード≠2
は、それと対照的に、ラインy2′の電圧の降下によって引き下げられる。ダイ
オード51′の阻止作用と認められるノード+2の電圧降下量が少いということ
はライン肝イン′からF’ET 46を通して補給される電荷によるものである
。ノード≠2は時間’r8tで石イン′からFET 46を通して電荷を受け続
け、その時点におけるノード+−1の電圧はノード≠2のそれより大きなしきい
値となる。その周期動作は、時間T9において昔アウトが肝イン′に等しくなる
まで5MHzクロック速度で繰返えされる。
キヤ・ぐシタ34は、電荷配分にもとづくポンプ効率を高めるため、キヤ・ぐシ
タCN1よシもその容量が目立って大きいということが望ましい。それは、一般
に、3又はそれ以上の倍数が適切であるが、10以上の倍数が好ましい。以上説
明したものに類似する特別な関係がキャパシタ33とキャノ9シタCN2との間
にも考えられる。ポンプ動作の効率も又、キヤ・ぐシタ33と34との値が等し
いということを暗示している。第4図の等価回路及び第5図の波形を考察すると
、それらはダイオード51′で表わしであるFET51(第2図)及び抵抗51
“は約θぎルトのしきい値電圧と最少有効抵抗を持つ装置であるということを表
わしている。これらの考察はポンプ回路の基本動作に1犬なものではないが、こ
の発明の実施のため好ましい構成を表わすものである。
以上、ポンプ回路22と高電圧ドライブ回路23を特徴づける構造上及び動作上
の特徴の理解のために説明したが、次にこの発明の他の面を考察するだめに注意
を第2図に戻す。次の注意の焦点はライン既インに現われる負電圧を阻止して電
圧降下なしにライン肝インからライン31に正電圧を通過させるために用いられ
る負電圧阻止回路27に向けられる。その阻止動作は、ライン肝インがライン3
1に対して負になるときはいつでもデプリーション・モードFET 49を通し
てFE、T 39のダート及びソース電極間に電気的接続をなすことによって実
行される。
FET 49から得られるその役割について理解するために、負電圧阻止回路2
7の適切な動作のために必要な要求に関する装置を考察することにする。正電圧
を通過させるためには、ノード≠3に接続されているFET39のダート電極5
0は少くとも肝イン端子の電圧より高いあるしきい値電圧にポンプされなければ
ならない。この実施例におけるポンプ作用はFET 38及びキャノ4シタ36
を通してノードJ#−3に転送されるZlクロック信号を利用することによって
達成することができる。もし、FET 49が従来のデプリーション・モード装
置であれば、キヤ・ぐシタ36を通して行われるポンプ作用はFET 49を通
してライン肝インに至る導通路のために有効に働かない。それにも拘わらず、F
ET 49は負電圧阻止回路が行う基本的負電圧阻止作用を提供するだめにデプ
リーション・モード装置でなければならない。FET 49に要求される動作対
象の明らかな両立性は非常に軽くドープされたデシリージョンFETを使用する
ことによって克服することができる。
この実施例における構造において、デプリーション・モードの動作は負電圧の阻
止のために保持される。しかしながら、取インが高い正電圧のときに、FET
49のボディ(body )効果はそのしきい値をわずか涸渇したレベルかられ
ずか増進(enhanced ) したレベルまでシフトするであろう。FET
49がエンハンスメント・モードの場合には、ノード≠3はz1信号のポンプ
作用によって膠イン以上に上昇することができる。このような方法により、FE
T 49の特別に規定された特性は負電圧を阻止し、しきい値の損失を受けるこ
となく選択的に正電圧を通過させる両能力をその負電圧阻止回路27に提供する
ことになる。
渭インとライン31との間の通路におけるFET 39の存在は、HVインの電
圧が最大電圧にある間、ライン32がエネーブル・ラインのOボルト・レベルノ
タメに接地電位又はその近くにある場合、FET 41のだめのフィールド・グ
レート・ツェナ(イ1eld platezener )の保護を適度に増加さ
せるものである。このような状況下において、ノードΦ3の電圧既インにおける
ものであシ、しきい値及びボディ効果の組合せはFET 39の両端に約3ボル
トの電圧降下を生じさせる。
このマージンの追加により、取インの最悪状態の電圧においてさえ、FET41
はフィールド・プレート・ツェナ現象をおこさないということを保証する。
次に、第2図に表わす負電圧阻止回路28の構造及び働きについて注目しよう。
この実施例における負電圧阻止回路280目的はライン敲アウトの負電圧がエン
ハンスメント・モードFET 41を通してライン31に接続されるのを阻止す
ることである。肝アウトが負電圧のときにFET 41が導通するのを防止する
ために、ラインVMGがその通常のOボルト・レベルから+5ボルト・レベルに
変化される。その状態において、…T41のダート電極はそのソース電極に直接
短絡される。
VMGの+5ボルト信号はライン31に対し、−5ボルトを越えないように負電
圧の通過を防止するが、FET 48及び47を通してノード≠1に達するライ
ン肝アウトの負電圧のだめの通路を形成する。ツードナ1の負電圧はそれ自体問
題を生じさせない。しかし、FET 44が導通していれば、負電圧はエネーブ
ル・ラインに接続されるであろう。これを避けるために、負電圧が爪′アウトに
現われるときはいつでもライン■Pを一5ボルトにバイアスする。この動作は第
3図の負電圧保護回路30によって作用的に表わしである。
両ラインvp及びVMGの電圧の各種状態が表■に要約され、それらが発生する
とき及びそれら回路の°効果をそこに表わした。上記最後の状態は該チップのW
装置に対する電圧マージニング・テスト中にのみ発生するから、それはラインv
p及びVMGに供給される電圧を制御するだめの予報手段を提供することになる
。
表 ■
負電圧阻止回路280FET 47はフィールド・プレート・ツェナ破壊効果か
らFET 48を保護するために設けられる。FET 47はツードナ1がFB
’l’ 48の公称破壊電圧を越える大きさである約27ボルトのレベルまでポ
ンプされうるところから要求される。そのようなフィールド・プレート・ツェナ
保護回路は一般的に公知技術であるため、構成の説明は必要がないであろう。
第2図の高電圧・ぐス回路の残シの部分はデカップリング回路24.26を含む
。第3図には、それに対応するデカップリング回路29が、適切に前に存在した
デカップリング回路ではあるがこの実施例からは除かれたということを表示する
。第2図に戻ってそれを参照すると、回路24は高電圧・97回路15が動作し
ていないとき、すなわち、エネーブル・ラインの信号が0ボルトにあるときに、
負電圧阻止回路27にクロック信号it を負荷するのを減結合するように作用
する。
デカップリング回路26はポンプ回路22に対する残りのクロ、り入力へのクロ
ック信号z2について上記と同じ動作を実行する。前述したように、24 、2
6及び29のような回路に必要にものは複数の高電圧、6ス回路と二相クロック
発振器3(第1図)のドライブ能力に関するものである。
デカ、プリング回路24.26の動作は大体同一でアル。エネーブル・ラインの
電圧がOボルトのとき、FET 38及び43は夫々ラインzl′及び方2′を
ライフ2厘及びff2から遮断する。0ボルトから+5?ルトヘのエネーブル電
圧の変化はFET38及び43のダート電極に5ボルトを接続してFET 37
及び42に関連するしきい値の降下を少くする。しかし、ラインg、及びZ2の
クロック信号の周期的遷移に従い、FET 38及び43のゲート電極はエネ←
プル・ラインが導入されたDCレベルより大きな約5vの電圧にブートストラッ
プされる。ライン151′及びM2′の信号はこのような方法によって、FET
38及び43を通過する際にしきい値損失を受けることがない。
ポンプ回路22に対してZlを接続するラインにデカップリング回路を設けない
ということはエネーブル・ライン及びノードΦ1が約0ゴルトになったときに、
エンハンスメント・キャノeシタ34を通して与えられる結合が実質的に存在し
ないということになる。すなわち、キヤieシタ34のダート電極52がQ&シ
ルトときに、エン・・ンスメント・キヤ・ぐシタ34を構成するチャンネルが存
在しないということである。
エンハンスメント・キャパシタ33と36とについて、0ボルトの同じダート電
圧状態は存在しない。エンハンスメント・キャ/ぐシタ36の場合には、ライン
肝インに高電圧が存在すると、それはノードΦ3及びダート電極53に接続され
る。ポンプ・ンスメント・キャノ4シタ33の場合には、ダート電極54がノー
ド+2に接続される。ゲート54がFET 51によってノード≠1の接地電位
から絶縁されるので、ある条件のもとに十分な電位に浮かせる(フロートする)
ことがでキ、エンハンスメント・キャノクシタ33 K有意義す容量を形成する
ことができる。可能化されていない高電圧ノeス回路にクロック・ラインを負荷
するのを避けるために、この実施例は必要に応じて24.26のようなデカップ
リング回路を組入れている。
第2図及び第3図に例示した好ましい実施例は高電圧パス回路をポンプするため
に二相クロック信号を利用する。ラインMl及びZ2の信号間の標準相対位相差
は180°が期待されるが、名目的に異なる位相角は動作を維持するであろう。
しかし、その場合、Iンプ効率のレベルが減少する。この点に関し、一般的な高
電圧・ぐス回路も、ある限定条件のもとに単一位相クロック信号によってポンプ
することができるということに注意するべきである。以下、単一クロック信号を
使用する意味を簡単に考察してみよう。
高電圧ieス回路の好ましい実施例は取インが20ボルトのときに、ノード+1
の電圧を約27ビルトまで上昇させることができる。ノード≠1に接続されてい
るライン32(第2図)の電圧と取インの電圧であるライン31の電圧との間に
ある7ぎルトの差異は完全な20がルトがラインHVアウトに現われるというこ
とを保証する。しかし、例えば、15ポルトのようにライン葭アウトに許容しう
る電圧がよシ低い場合はポンプ回路22の単一位相クロック信号の実施例が適当
である。ライン32で測定される単一位相ポンプのだめの公称出力電圧は22ボ
ルトの範囲にある。
単一位相クロックを持つ高電圧・ぐス回路の構造は第2図に表わした二相クロッ
クの実施例に類似する。特に、キャノクシタ34及びラインZ1は除去される。
その構成によると、ノード+1は直接ポンプされず、常に自然のFET 51を
通してツードナ2から荷電される。
FIG、4
国際調査報告
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.第1の容量性ノード(ノード1)の第1の電圧が入力ライン(31)の入力 電圧を越えたときに前記第1の電圧に応答して前記入力電圧を出力ライン0■ア ウト)に接続するようになしたカップリング手段を含み、前記入力ライン(31 )を前記出力ライン(HVアウト)に選択的に接続する回路(15)であって、 前記第1の電圧が第2の容量性ノード(ノード2)の第2の電圧を越えたときに 前記入力ライン(31〕から前記第2の容量性ノード(ノード2)に対して電荷 を転送するようになした電荷転送手段と、前記第2の容量性ノード(ノード2) から前記第1の容量性ノード(ノード1)に対して一方向性に電荷を周期的に転 送するようになした電荷ポンプ手段とを含む電気接続回路。 2 前記回路(15)を可能化するだめに前記第1の容量性ノード(ノード1) をプリチャージし、前記回路(15〕をディセーブルするために前記第1の容量 性ノード(ノード1)を放電するようになした可能化手段(4,6,20,21 )を含む請求の範囲1項記載の回路。 3 前記電荷ポンプ手段は第1の端子によって前記第2の容量性ノード(ノード 2)に接続される第1の容量性装置(33)と、前記第1の容量性装置(33) の第2の端子に接続される第1のクロック信号源(Z2)を含むクロック信号手 段と、前記第2の容量性ノード(ノード2)からの電荷を前記第1の容量性ノー ド(ノード1)に通過させるように接続さ゛れたダイオード手段(51)とを含 む請求の範囲2項記載のの容量性ノード(ノード1)に接続される第2の容量性 装置(34)を含み、前記クロック信号手段は前記第2の容量性装置(34)の 第2の端子に接続され前記第1のクロック信号源(z2 )から発生した反対位 相のクロック信号を持つ第2のクロック信号源(2] )を含む請求の範囲3項 記載の回路。 5 前記カップリング手段はそのソース/ドレイン電極が個々に前記入力ライン (31)と前記出力ライン(HVアウト)に接続され、そのケ8−ト電極が前記 第10ノード(ノード1)に接続された電界効果トランジスタ(41)を含み、 前記電荷転送手段はそのソース/ドレイン電極が個々に前記入力ライン(31) と前記第2の容量性ノード(ノード2)に接続されそのゲート電極が前記第1の ノード(ノード1)に接続されたエンハンスメント電界効果トランジスタ(46 )を含み、前記ダイオード手段はそのノース電極が前記第1の容量性ノード(ノ ード1)に接続されそのケ゛−ト及びドレイン電極が前記第2の容量性ノード( ノード2)い容量を持つ請求の範囲3項記載の回路。 ド(ノード1)又は前記第2の容量性ノード(ノードレタモのソース/ドレイン 電極通路ヲ持つエンハンス(39)のダート電極に接続されその第2の端子によ って前記クロック信号手段に接続された容量性手段(36)と、前記エンハンス メント電界効果トランジスタ(39)の前記ダート電極に接続された1方のソー ス/ドレイン電極と前記入力手段に接続されたそのケ°−ト電極及び他方のソー ス/ドレイン電極とを持つデプリーション電界効果トランジスタ(49)とを含 み、前記デプリーション電界効果トランジスタ(49)は前記入力手段の十分に 高い電圧のために生じるボディ効果が前記デプリーション電界効果トランジスタ (49)をエンハンスメント形モードで動作させるようになしたものである請求 の範囲3項記載の回路。 9 前記クロック信号手段は前記可能化手段(4,6゜20.21)から供給す る信号と同期して動作するデカップリング回路(24,26)によって前記回路 から選択的に減結合される請求の範囲8項記載の回路。 10 前記可能化手段(4,6,20,21)は第2のエンハンスメント電界効 果トランジスタ(44)のソース/ドレイン通路を通して前記第1のノード(ノ ード1)に接続される請求の範囲9項記載の回路。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/433,292 US4527074A (en) | 1982-10-07 | 1982-10-07 | High voltage pass circuit |
PCT/US1983/001550 WO1984001659A1 (en) | 1982-10-07 | 1983-09-29 | Selectively operable electrical connection circuit |
US433292 | 1995-05-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59501881A true JPS59501881A (ja) | 1984-11-08 |
JPH0666117B2 JPH0666117B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=23719609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58503356A Expired - Lifetime JPH0666117B2 (ja) | 1982-10-07 | 1983-09-29 | 電気接続回路 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4527074A (ja) |
EP (1) | EP0120939B1 (ja) |
JP (1) | JPH0666117B2 (ja) |
DE (2) | DE3374735D1 (ja) |
WO (1) | WO1984001659A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200055556A (ko) * | 2018-11-13 | 2020-05-21 | 삼성전기주식회사 | 네가티브 전압 회로 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60182488A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-18 | 日本電気株式会社 | 駆動用電子回路 |
JPS6148197A (ja) * | 1984-08-13 | 1986-03-08 | Fujitsu Ltd | チヤ−ジアツプ回路 |
JPH06103736B2 (ja) * | 1987-05-29 | 1994-12-14 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
NL8800408A (nl) * | 1988-02-18 | 1989-09-18 | Philips Nv | Geintegreerde geheugenschakeling met een hoogspanningsschakelaar tussen een programmeerspanningsgenerator en een wisbaar programmeerbaar geheugen, hoogspanningsschakelaar geschikt voor toepassing in een dergelijke geheugenschakeling. |
JP2531267B2 (ja) * | 1989-06-20 | 1996-09-04 | 日本電気株式会社 | チャ―ジポンプ |
IT1251011B (it) * | 1991-02-18 | 1995-04-28 | Sgs Thomson Microelectronics | Dispositivo di controllo di corrente particolarmente per circuiti di potenza in tecnologia mos |
US5322812A (en) * | 1991-03-20 | 1994-06-21 | Crosspoint Solutions, Inc. | Improved method of fabricating antifuses in an integrated circuit device and resulting structure |
US5196739A (en) * | 1991-04-03 | 1993-03-23 | National Semiconductor Corporation | High voltage charge pump |
US5500612A (en) * | 1994-05-20 | 1996-03-19 | David Sarnoff Research Center, Inc. | Constant impedance sampling switch for an analog to digital converter |
JP4043060B2 (ja) * | 1996-06-14 | 2008-02-06 | 富士通株式会社 | トランジスタのしきい値補正回路及び半導体記憶装置並びにしきい値補正方法 |
WO2013147727A1 (en) * | 2012-03-25 | 2013-10-03 | Intel Corporation | Charge pump redundancy in a memory |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57140029A (en) * | 1981-02-24 | 1982-08-30 | Nec Corp | Output circuit |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4061933A (en) * | 1975-12-29 | 1977-12-06 | Mostek Corporation | Clock generator and delay stage |
GB2094086B (en) * | 1981-03-03 | 1985-08-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Non-volatile semiconductor memory system |
-
1982
- 1982-10-07 US US06/433,292 patent/US4527074A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-09-29 JP JP58503356A patent/JPH0666117B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-29 DE DE8383903353T patent/DE3374735D1/de not_active Expired
- 1983-09-29 WO PCT/US1983/001550 patent/WO1984001659A1/en active IP Right Grant
- 1983-09-29 EP EP83903353A patent/EP0120939B1/en not_active Expired
- 1983-09-29 DE DE198383903353T patent/DE120939T1/de active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57140029A (en) * | 1981-02-24 | 1982-08-30 | Nec Corp | Output circuit |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200055556A (ko) * | 2018-11-13 | 2020-05-21 | 삼성전기주식회사 | 네가티브 전압 회로 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE120939T1 (de) | 1985-01-03 |
EP0120939B1 (en) | 1987-11-25 |
EP0120939A1 (en) | 1984-10-10 |
JPH0666117B2 (ja) | 1994-08-24 |
US4527074A (en) | 1985-07-02 |
DE3374735D1 (en) | 1988-01-07 |
WO1984001659A1 (en) | 1984-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2718375B2 (ja) | チャージポンプ回路 | |
KR960007636B1 (ko) | 불휘발성 반도체 기억장치 | |
RU2138085C1 (ru) | Цепь усиления напряжения для использования в полупроводниковом запоминающем устройстве | |
US5546044A (en) | Voltage generator circuit providing potentials of opposite polarity | |
JPS59501881A (ja) | 電気接続回路 | |
TW200428743A (en) | High voltage ripple reduction and substrate protection | |
KR20030021647A (ko) | 향상된 프로그램 방지 특성을 갖는 불휘발성 반도체메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법 | |
US6137344A (en) | High speed charge pump circuit having field effect transistors possessing an improved charge transfer efficiency | |
US20040095806A1 (en) | Boosting circuit and non-volatile semiconductor storage device containing the same | |
JPH06284705A (ja) | 上昇率を制御するチャージ・ポンプ | |
JP4090537B2 (ja) | 半導体メモリ装置の内部昇圧電圧発生器 | |
US5914632A (en) | Negative charge pump circuit | |
KR950015743A (ko) | 반도체 집적회로의 전압 승합회로 | |
KR19990083335A (ko) | 승압회로 | |
US7282956B2 (en) | High voltage switching circuit of nonvolatile memory device | |
US6573780B2 (en) | Four-phase charge pump with lower peak current | |
KR910003387B1 (ko) | 주승압회로의 출력전압승압용 부승압회로 | |
US6191642B1 (en) | Charge pump circuit | |
US6028473A (en) | Series capacitor charge pump with dynamic biasing | |
US5986935A (en) | Semiconductor memory device with high voltage generation circuit | |
KR100227620B1 (ko) | 네가티브 챠지펌프 회로 | |
US5917366A (en) | Voltage booster circuit and a voltage drop circuit with changeable operating levels | |
KR970051254A (ko) | 반도체 메모리장치의 센스앰프 회로 | |
KR100564414B1 (ko) | 반도체장치의 차지펌프 | |
JP2000011673A (ja) | 負昇圧回路 |