JPS59500845A - 外部電磁界に対して電子デバイスを保護するデバイス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

外部電磁界に対して電イデバイスをｔ′−１護するデバイス発明の分野 本発明は、原子又は核の壊変（ｄｉｓｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ　）に帰因するＬ Ｓ、わゆるＥ　Ｍ　Ｐ（Ｅｌｅｃｌｒｏ　ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｐｕ１ｓｃ　）（ ７）如ぎ外部電磁界によって／：１ミじる妨害（電圧）に対して、電子構成部品 及び／又は電イ回路の保護のためのデバイスに関する。 発明の背景 電磁場の存在により電子構成部品又は電子回路に電侵シ 圧が発生し、この電圧により電子構成部品の焼失は破壊が生じることが知られて ぃ仏従−って、これらの寄生電圧に対する保護が必砂と暖１、保護を確立するこ とか困難であればある０と、問題となる電磁界が、ある場合には数十ナノ秒に僚 づ°るスＩ］能件のある短い立上り時間（ｒｉｓｅ　ｔｉｍｅ　）で突発的に現 われやすくなる。このことは、例えば前述のＥ　Ｍ　Ｐの場合を示している。 この種の保護とし７て、保護されるべぎ電子回路又は電子構成部品をシールド又 はファシデーケージ内に覆うことは、公知である。しかしながら、この保護は不 十分であることがわがっている。これは、これらの構成部品又は回路が必然的に 外部との電気的接続を有しており、このため外部領域内にアンテナが形成され、 また保護されるべき素子内に寄生電荷が侵入するからである。 発明の要約 本発明の［−］的は、前述の問題点を解消することができる保護デバイスを提供 することにあり、これは保護されるべき素子の接続のそれぞれのレベルで寄生電 荷を外部に流し出ずことにより行なわれる。 本発明によれば、外部電磁界に対して入出力接続を有−号る電子デバイスを保護 するデバイスてあって、該デバイスは電気的接続手段を有し、該電気的接続手段 は第］の物質及び第２の物質を有し、該第１の物質は夕（都電磁界の作用のもと に増加する導電率を有し、前記第２の物質は導電性であるとともに前記第１の物 質−１−に位置決めされ、前記電気的接続手段は前記電子デバイスの前記入出力 接続の谷間に設けられろとともに、前記第］の物質の作用により前記入出力接続 の各々と電気的に接続され、もって外部電磁界により生ずる電荷を流し去り又は 蓄積することを特徴とする外部電磁界に対して電子デバイスを保護するデバイス が提供される。 図面の簡単な説明 本発明は、添付する図面を参照してより詳細に説明される。 第１図は電子構成部品の保護のために用いられる、本発明によるデバイスの第１ の実施例を示す図、第２図は１１チツプキヤリア１１形のハウジングに対して用 （・られる、本発明によるデバイスの第２の実施例を示す図、 第３図は第２図のデバイスの部分的断面図、第４図は１１チツプキヤリア１ｊ形 のハウジング眞対して用いられる、本発明によるデバイスの第３の’ｆｆ　ＭＱ 例を示す図、 第５．６及び７図はカート上の電子回路の保護のために用いられる、本発明によ るデバイスの３つの具体例を示す図、及び 第８．９及び１０図は電子回路を支持するカードに対するコネクタに対して用い られる、本発明によるデバイスの３つの具体例をかす図である。 好ましい実施例の説明 第１図には、４つの接続端子］、２．３及び４を有する電子構成部品Ｃが示され ている。ここで、これらの接続端子は通算の方法により導電性ワイヤ１０によっ て導電体１１　、１２　、１３及び１４にそれぞれ接続されている。これらの導 電体は、例えば、電子構成部品を支持するハウジングＢ（セラミック又はプラス チック）の基族上に設けられたストリップにより形成されている。この例では、 接続点３とストリップ１３とは接続され、デバイスに対するアース接続を形成す る。 本発明によれば、フレームはこれに密接する電子構成部品を取り囲む如くｂえら れている。フレームは、導電性電極Ｅによって覆われたパリスタンス（ｖａｒｉ ｓｔ；ｕ＋ｃｅ）物質による層Ｉｔによって形成されている。電極Ｅは、例えば 層■の幅°よりもわずかに小さい幅を有する。このアレーン・■は基底Ｂとスト リップ１１ないし１４上に付着さ゛れている。電極Ｅは導電体１５を介してスト リップ＋３に接続されている。 公知の如く、ドープされた酸化亜鉛（ビスマス、コバルト、クロト、モリブデン 、アンチモン等の酸化物を有する）によって通常形成されるパリスタンス物質は 、非線形抵抗を有する。これに与えられる電位差がしきい値電圧（Ｖｃ）を越え ないときは、パリスタンス物質は電気的に導通ではなく、このしきい値を越える ときは導通となる。この現象は電界効果によって引き起こされ、導通と非導通と 間の切換え動作は極めて高速である（１．ｎｓに等しいか又はこれより短かい） 。この性質を持つ物質は、周知の手法により付着させることができる。例えば、 ハウジングがセラミックであれば、電子構成部品Ｃの基底Ｂ上にスクリーン印刷 を用いて付着させることができ、またハウジングがプラスチック材料であれば陰 極蒸着（ｃａｔｈｏｄｉｃ　ｖａｐｏｕｒｉｓａｔｉｏｎ　）によって付着させ ることができる。 このデバイスの動作は次のとおりである。外部電磁界が存在していない場合にお いて、信号は、フレーム■又は電極Ｅによる影響を受けることなく、ストリップ １１−１４から電子構成部品Ｃの端子１−４へ通過する。 これは、パリスタンス物質が導通状態でなく、従ってからである。外部電磁界が デバイスに与えられたときに、その強さがパリスタンス物質のしきい値電圧ｖｃ に対して十分なものであれば、この物質は導通状態になり、この結果ストリップ 月、　１２　、１３及び］・１を互いに（そしてアースに）電極Ｅを介して接続 する。従って、外部電磁界によって生じろ電気的電荷は電子構成部品Ｃ内に現わ れることなく、デバイスのアースに流れ去り、これによりめられる保護作用が確 立される。 同じく公知の如く、パリスタンス物質のしきい値電圧ｖｃは厚みの関数であり、 この結果予期される電磁妨害フィールドの強さ−これが知られているならば−の 関数として選択可能である。すべての現象において、しきい値電圧ＶＣは電子構 成部品Ｃの最も高い動作電圧よりも高くなければならない。効果的な保護を確立 するために、この電圧聞は他方において電子構成部品の破壊電圧よりも低くなけ ればならず、前記動作電圧にできるだけ近接していることが好ましい。しかしな がら、パリスタンスを形成する層の厚みにおける保護の許容範囲に関する技術的 考察から、電子構成部品の最も高い動作電圧の２ないし３倍のオーダにＶｃを選 択可能であることがわかる。 例えば１２ボルトの動作電圧に対し、Ｖｃに対して選択される値は３０ボルトの オーダである。この電圧は多くの現存する電子構成部品の破壊電圧よりも低い。 本発明によるデバイスの１つの利点として、電子構成部品のハウジング内に集積 可能であるということが、前述の説明から明らかである。 第２図は十から見た図であり、”チップキャリア（ｃｈｉｐ　ｃａｒｒｉｅｒ） 　”形の・・ウジング内における、本発明によるデバイスの第２の実施例である 。この種のハウジングは接続ピン−−−これは金属刺着により置換される−〜が 存在しｌ工いことに本質的特徴があるということが想起されるであろう。 第２図は電子構成部品と、ＩＴチ、プキャリー子１１−・ウジングＣＣの基板上 に固着された接続接点のうちの一部分（１と３）を示す。基板は１１と１３の如 き金属付着により形成された多数の導電体−これらは半切欠き部（２０）のレベ ルで基板の周囲まてのびている−を支持する。公知の如く、導電性の付着層はこ れらの半切欠き部内にかつベースの断面領域を介してのびており、基底の下側で 終結し、この層の出力接続を形成している。 第３図−−−これは第２図の軸ＸＸＫ沿った部分断面図−−−−から明らかフ、

【ように、１１の如き金属被覆とアース金属被覆１３とは、基板ＣＣ−）：に直 接刺着されている。 金属ネル覆は、アース接続１３０レベルのところを除き、電子構成部品を取り囲 むパリスタンス物質の層Ｖで覆われている。電＋ＩＪ！１帖１層■を覆いかつ接 地ストリップ】；つ上にのびている。これにより、電極Ｅとアースストリノゾ］ ；３との間の電気的接続が確立される。 本発明によるこのデバイスの動作は、第１図に関して説明したものと同一である 。 第４図は、本発明による他の実施例を示している。 同図に示す実施例は伺じくチップギヤリア形の・・ウジング内に設けられて℃・ るが、更にハウシングのへ一ス内に集積されたキャパシタンスをｂ−Ｊ−る。 この図には、上から見たチップキャリアの基板ＣＣが再び示されている。この基 板は、この周囲で金属被覆（］］　、　】：＜　、　１６　）と、パリスタンス 物質Ｖ及び電板１号で形成されたフレームとを有する。金属被覆として、アース に接続された金属被覆１；３と、この図には示されていない電子構成部品に接続 された］］の如き金属被覆と、電子構成部品又はデバイスの外部に接続されるの ではなく、ストリップ１５を介する電極Ｅと基板ＣＣの一表面−４−にイ」着さ れた金属被覆２２との間に接続用として作用する金属被覆１６とが示されている 。金属＄捷２２はキャパシター−この誘電体は基板ＣＣで形成される−のプレー トの一方を形成し、他方のプレートは基板ＣＣの他方の表面」−にイ」着されて いる金属被覆２１によって形成されている。 第２図の実施例との比較から明らかなように、キャパシタンス（プレート２１と ２２）は電極■うと゛アースストリップ１；つどの間に挿入されている。 この実施例によれば、少７３【くとも外部電磁界により生じる電荷の一部がキャ パシタンスによりスポット上に蓄積される。この結果、例えば自己誘導による寄 生電圧などの問題を起こしやずいアースに対する過度の電゛荷の転送が防止され る。 キヤパシタンスをチップキャリア形のハウジングの基板上に集積することは知ら れている。これらは、特にＪキ非壜塙４墳安トムソン−セーエスエフ（ＴＨＯＭ ＳＯＮ−Ｃ８］”）による仏国特許願第７９・１１，８５２　、８０・１８９２ ７及び８０・２６０７６号に開示されている。前述の蓄積キャパシティは、これ らの特許出願に開示されているデカップリング（ｄｃｃｏｕｐｌ　ｉｎｇ　）キ ャパシティと同一であってもよく又同−・てなくどもよい。 第５．６及び７図は、同一のカード上における１つ」ン、上の電子回路（プリン ト回路又はセラミック回路）の保護に用いｐ）れる、本発明によるデバイスの３ つの実施例を示す。 第５図には、接続端において見られる１つ以上の電子構成部品又は回路（図示し ない）を支持するカードＳの端部が図示されている。すなわち、同図はコネクタ を介し７て他のカードと結合するようにされた導電性ストリップの終端を示す。 これらのストリップは２種類あり、例えば、一方においてカードＳの２つの端部 に位置し参照番号３１と３２で示される２つのアースストリップであり、他力に おいてカードＳによって支持さｉシる異なる回路及び電子構成部品の信号に対す る電源と入出力を供給するストリップ３３である。 この実施例（（よれば、カードＳは更に、パリスタンス物質Ｖｓのストリップ形 の層を支持する。この材料ｖＳは好ましくは先の図のフレーム■と同様の方法で ストリップ３３の端部上に付着形成されるとともに、電極ＥＳで覆われて℃・る 。電極Ｅｓはアースに接続されているストリップ（３１と３２）に接触している 。 カードＳがセラミック回路であるか又はプリン［・回路でおろかに従って、パリ スタンス材料■Ｓはシルク（ｓｉｌｋ）スクリーン印刷か又は陰極蒸着等によっ て付着作は、単一の電子構成部品に対して先に説明した動作と同一である。この ことは、外部電磁妨害フィールドが十分な強さをもっているときは、層へｌｓを 形成する物質は導通状態になり、カートの外部で形成され、ストリップ３３を介 して入って来る電荷は電極珠及びストリップ３］と３２を介してアースに流れ去 る。この結果、このような電荷はカードによって支持される回路に到達しない。 すなわち請求められる保護が形成される。 第５図に示されるこの保護デバイスは、カード上に用いられる電子構成部品又は 回路の各々のレベルで、先の図に示されているような保護デバイスに加えて利用 可能である。 第６図は電子カードの保護のためのデバイスの変形例を図示して℃・る。 この図には、カードＳ、アースストリップ３２及び異なる回路の人出カス）・リ ップ３３が再び示されている。 このカードは更に、ストリップ３２と３３の間に挿入された、カートＳの端部全 体をほぼ覆う小さなプレート３，１を支持する。このプレート３，１はセラミッ クであることが好ましい。更にプレート３１１は、パリスタンス層ｖｓ及び電極 Ｅｓ−−これらは、シルクスクリーン印刷によりプレート３．・１上にイ」着さ れることが好ま”しい−と、カードＳ上のストリップ３２と；３３に電気的に接 続されるプレート３．１」−に設けられた電極３６と３５とを支持する。この接 続は、第６図に示されるように、はんだ付けされた接続ワイヤ３７によって行な われるか、又は第７図に示ス如＜、前述したチップキャリアの半切欠き部のよう なろう付け（ｂｒａＺｅ　）された半切欠き部；３８によって確立される。 第６図又は第７図に示される変形例によれば、セラミックプレート３４の挿入の ために、カートＳがシルクスクリーン印刷とは異なるプリント回路カードであれ ば、この技術によりパリスタンス物質■Ｓを付着させることが可能である。 図示しない変形例として、前述した目的と同一の目的のために、電極Ｅとアース との間にキャノ々シタンスを挿入することは可能である。 第８．９．及び］Ｏ図は、電子回路又は電子構成部品を支持″するカートのため のコネクタに与えられる、本発明によるデバイスの３つの実施例を示す。 第８図には、接続ピン：つ］か絶縁ベースＣＴＫ形成された穴を介して貫通して いるコネクタの断面が示されている。絶縁ベースＣＴの同一表面上であってかつ ピン５１の各々の組の間には、図の右に位置するピン５１と接続されるろう付け されたジヨイント５３と電気的に接続された金属＄、覆Ｅｃ１が付着されている 。この金属＄、覆↑’Ｊｃ＋はパリスタンス物質ｖｃによる層で部分的に覆われ ている。ハリスタンス物質■ｃは、電極Ｅｃ司には接続されていないが、ろう付 けされたジヨイント５−１によって、図面の絶縁ベースＣＴの左側に位置する他 のピン５１に接続されている電極ＥＣ２によって覆われている。 このデバイスの動作は、先に示したデバイスの動作と同様である。パリスタンス 物質■ｃは、外部電磁妨害フィールドが存在しない場合には絶縁している如く、 選択されかつ寸法法めされている。この方法では、異なるピン５１が互いに電気 的に接続されていない。外部電磁妨害フィールドが存在する場合において、パリ スタンス物質■ｃは導通となり、２つの連続するピンが順に、ろう伺けされたジ ヨイント５４、第］の導電層ＥＣ２、導通状態のパリスタンス物質異、第２の導 電層ＥＣ］及び最後に第２のろう付げされたジヨイント５３を介して電気的に接 続される。前述した如く、外部電磁妨害フィールドによって生じる電荷は、コネ クタを通過するいかなる手段を欠℃・ているにもかかわらず、例えばアースに接 続されたピン５１のうちの１つに向って流れ去る。 更に先に示したように、コネクタのレベルで保護するための装置は、カードのレ ベルでの保護と回路又は？ｉｔイ構成部品自体のレベルで゛の＋８Ａ÷護とを加 えて用いることができる。 第９図は、第８図の変形例である。 同図には、接続ピン５１と絶縁べ・−スＣＴによって表わされたコネクタか再び 示されてし・る。電気的に接触していないが同一レベルに位置する２つの金属被 覆は、絶縁ベースＣＴの１つのかつ同一表面」−の２つの連続するピン５１０間 に刺着されている。パリスタンス物質ＶＣの層は、電極ＥＣ３，ＥＣ４上に“付 着されているとともに、これらの間にも付着されている。ピン５１との電気的接 続は、２つのろう付けされたジヨイント５４と５５を介してそれぞれ確立されて おり、電極Ｅｃ３とＢｃ４をこれらに対応するピン５１に接続する。 動作は前述［またものと同一である。唯一の相異点は、技術的特質にある。電極 Ｅｃ３とＥＣ４は１つのかつ同一の作業により付着可能であり、こ、れらの間の 空隙はレーザーによる型彫り（ｅｎｇｒａｖｉｎｇ　）により形成される。 第１０図は、本発明によるデバイスの別の実施例を示ず。この実施例は、第４図 に示されている方法と同様の方法で、集積されたキャノくシタンスを有する電子 回路カードに対するコネクタに用いられている。 この図には、第９図に示されている如く、接続ピン５１ど絶縁ベースＣ４・、及 び−例と１−て％　ｋ　］、＞（３とｌ’：（４及びパリスタンス物質■ｃか杓 Ｏ・示されている。し、かじながら、絶縁層ＣＴの他方の表面は更（Ｃ１例えば ２つのピン５］の間にある表面にわたって広がっている電極５３を有する。更に 、接続ピン５］と電気的な接続を形成するろう付す−された７ヨイントは、多少 変更されている。 従って、１つのピンはこのいずれかの９ｉ１部において金属被覆５５に接続され ているか、又は他の表面■・：、３又はＥＣ，Ｉ上に位置する金属被覆に接続さ れている。 動作中において、絶縁拐料ＣＴと電極５ｒ＋、ＥＣ３及びＦ〕Ｃ７１は、機能が 第４図に示されているものと同様のキ・トバンタンスを形成する。 ＦＩＧ、６ ＦＩＧ、８ ＦＩＧ、１０ ｍ沸調杏報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　外部電極磁界に対して入出力接続を有する電子デバイスを保護するデバイス であって、該デバイスは電気的接続手段を有し、該電気的接続手段は第１の物質 及び第２の物質を有し、該第１の物質は外部電磁界の作用のもとに増加する導電 率を有し、前記第２の物質は導電性であるとともに前記第１の物質上に位置決め され、前記電気的接続手段は前記電子デバイスの前記入出力接続の各間に設けら れるとともに、前記第１の物質の作用により前記入出力接続の各々と電気的に接 続され、もって外部電磁界により生ずる電荷を流し去り又は蓄積することを特徴 とする外部電磁界に対して電子デバイスを保護するデバイス。 ２　前記第１の物質がパリスタンス物質を有することを特徴とする特許請求の範 囲第１項に記載のデバイス。 ３　前記電子デバイスが接続接点を有する電子構成部品であり、該接続接点はこ れに接続される導電性ストリップを有するベース上に設けられ、前記電気的接続 手段は前記電子構成部品のまわりに設けられたフレーム形であり、前記第１の物 質は前記ベースと導電性ストリップ−Ｌに密着してイ」着されたノくリスタンス 物質で形成される層であり、前記第２の物質は前記電子デ゛バイスのアースに接 続されかつ前記パリスタンス物質の層上にわ・たって刺着された電極であること を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のデバイス。 ４、前記電子デバイスは少なくとも１つの電子構成部品と導電性ストリップとを 支持するカートであり、前記電気的接続手段はコネクタと組・メ、合わさる２、 うにされた前記カードの一端に向う如く設けられたストリップ形であり、前記第 １の物質は前記カート上及υ・ストリップにわたって密着して付着されたノくリ スタンス物質の層であり、前記第２の物質は前記電子デノ（イスのアースに接続 されかつ前記パリスタンス物質による層上にわたって刺着された電極であること を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のデバイス。 ５　前記電子デバイスは少なくとも１つの電子構成部品と導電性ストリップとを 支持するカードであって、前記保護デバイスは導電性ストリップを支持するプレ ートを有し、該プレートはコネクタと組み合わさるようにされた前記カードの一 端方向に前記カードのストリップ間に設けられており、前記第１の物質は前記プ レート及び゛ストリップに密着して付着されたパリスタンス物質の層であり、前 記第２の物質は前記電子デバイスのアースに接続されかつ前記パリスタンス物質 による層上にわたって刺着された電極であることを特徴とする特許請求の範囲第 １項に記載のデバイス。 ６　前記電子デバイスはコネクタ内に設けられたカードであり、該コネクタは接 続ピンによって横切られた絶縁ベースを有し、これらの接続ピンのうちの少なく とも１つはアースさ旧゛Ｃおり、前記電気的接続手段ハ前記ヘースの表面の一部 に刺着されかつ接続ピンと電気的に接触している第１の導電性層と、パリスタン ス層−１−に付着されかつ接続ピンと電気的に接触している第２の導り［ｉ層と を有し、第１及び第２の導電層と接続ピンとの間の電気的接触は接続ピン間の電 気的接触はパリスタンス層を介してのみ可能である如く確立されていることを特 徴とする特許請求の範囲第１項に記載のデバイス。