JPS5948760A - 像生成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発１り口Ｔ柩状塊からの画像形成法に１１．ｌ−１（
７、更に卸しくけノ、す１１・」−の液１杢（・）ｋ装
′１り・りｆＡ７　ｆ、ｉ！ｉ気性榮件に暴廊しそして
次に化学線に暴トてイ・ことｒ（電Ｊ［り桜准体！ｆ装
物かＩ−）画像を形成する方法番で関する。 従来、光’ｉｌ１合一による画像形成は、４１１１発１
′１：汀他溶媒中に光１１１合１／、ト物質を言む浴液
を支持体にｔうを布し、溶媒全蒸発させて光重合性物−
質のフィルムを残し、該フィルムに画像を通して化学線
を照射して、１（＜（射さ１またフィルムの部分を光重
合１〜（そして溶解邸を低下させ）、一方照射から遮断
された部分＆′ｆ、実１ｉ１（的にに７響イ（・愛けｔ
「い状態に保持し、次に該フィルムの未照射、非光沖合
部分な、照射さｎ　ｆｔ′、重合さＪｌ、７’ｉｒ部分
を溶解１〜ｔ

【い猶当な溶ｈ１１により浴用することＱ
（より行わ才１ている。最後の段階は通常１１層ｆｊ’
　”として知られている。 有機ンを媒會用いず（・・−１光重合（’１．’吻４４
の層を支１、１体に伍布し、セしてこの層を実質的に固
体のｉ＃ちに照射できる非粘府件の状態に変換する方法
があれば望よしい。こり）段階で、ｄｊｌ・’ｌ　Ｊ、
３よひ引火の問題ｋ　＋ｊＡ起しセしてまたその回収に
費用がいる？Ｇ媒の便用か回避されるだけでなく、１α
ちに１（（４射できる？９二４丸支（、Ｊ１本°を、ｊ
φｋ・πペースで製造するのが才は易Ｉｔ（ｔｒるて漆
ンろう。 本発明８等は、この目的が妹気性柴件下にて硬化され（
以下１′１２気硬化と云う）且つ元１１１合されイ：Ｉ
る、液状の形体のある神の１勿′ｅ」又は物ｒ　’ＩＩ
Ｉ　Ｈｌ。 合物を使用することにより成し遂けらＪｌることを見出
Ｌ／れ。そのようｌ「物質の府からｒヤ索な一除去する
２、うＹ−中“合さ才′７る能力に影響を及ｌｆすこと
なく固化を引起すことができる。所望？（、、ｒ幻、イ
旧１＋’４物１グ）　　ＲＩＸ’ｆ化学線照射に１・１
してこｒらの部分に光架々、Ｃ５させ、従って史に溶媒
への浴１ｍに対して耐性ケ市めで４、よい。 米国狛許明細１１４第４２９１１１８号Ｖ（＆Ｊ、欧（
，１・光重合（’４＝、　Ｉｔ　Ｈのフィルムを化学硬
化によりｌｉ４：ｉ化し、／Ｋ　Ｋ　ｌ・“・１１）フ
ィルムケバターン１に状で化♀酎・ｔｐ（−暴に′ｈ又
げ＋Ｉ４　：バ°、みしてフィルムの一部ケ什字的ｔに
区別さ才する４、のとし、七（７て次Ｗｒヒ学純５ツバ
ターン暴門１−にさりさ才１．なかったンイルムも１へ
分を、溶媒で６〜−５ことにより選択的に除去すること
全特徴とする、ｆ）夕、体光重合性材刺び）フィルムか
らレリーフ像ケ形ｈｙする方法が記載されている。該十
すイ了十′ｙＪｉ１（−（′工ゝゝ々−もまた１史用で
きる“とｈ己１１戊さ第１ているが、記載された全ての
態祿において用いられた唯一の［＾゛（化法は化学線へ
か１’Ａ　’Ｔある。述べらｎ、ている１１１Ｌ−の光
重合（／ｌ材料はポリエンとポリチオールとの混合物で
ある。この方法は首尾、「り実施するのが容易ではない
。もし初期の固化全照射に、Ｖり行うと、正しい照射ｔ
を与えるために非常に注意を払わなければｔ〔らない。 何故なら、照射％Ｓが少ｔ（すぎると液体組成物が固化
せず、そして多すぎると２回目の照射後に良好な画像を
得ることができないであろう。更に、ポリエンとポリチ
オールとの反応は化学線に暴露することにより開始さオ
］るので病るが、そのような暴露が中断された場合もそ
の反応は継続する。質の良い画像を得ようとすると、画
像様暴露の段賠は遅延フ（り何わ１「ければならｔ【い
ことになる。このことは、該方法の工業的利用に対して
更に別の束縛となる。 １、ｌ：！気固化は２５年以上も１１１から知られてい
るが　！’、１！＋気重合性Ｉ旧、或いは本願におい一
〇は！＋ｉｋ気硬化性材料と呼ばれる４、４料の使用は
、接ス・Ｉ結合バリオ、）よび月正剤ｐｃ限られていた
。 嫌気中台性であり且つ光重合性″′Ｃある組成物は特開
昭５４−２２４４５号（１９７９）　（Ｄｅｎｗｅｎｔ
　ＣＰＩアブストラクト第２４５２７１３）および特開
昭５５−１１２２１１　（１９８０）（１）ｅｎｗｅｎ
ｔ　ＣＰＩ　アンスｌ−ラクト第７２５３３Ｃ）に記載
されている。ナツトとボルト又はその他の連動部に、或
いは空洞の旧市に（重用する場合、該組成物全物品に塗
布しそして嫌気条件で且つ光の作用に、シリ硬化すると
記載さ扛ており、ここで光の照射はｈｉｊＩ気硬化の前
、硬化中又は硬化で、ｋに行われる。嫌気０）！化を照
射前に行５嚇合、１４４！気イ１更化されなかったｉＦ
１成′じりの部分は前面のみであり、その表面はその後
の照射により硬化（−で結合剤又は到市剤の形成を光了
す石と計シ載されている。 本うぺ明は下６己を′特徴とする画像生ｒ７シ、法を提
供する （１）　　実′Ｌ′１的に酸素を含まない環境中に、基
体−１−に支持された ｆａｌ　　嫌気Ｔ１１’合４〈ト材料、および（ｂ）　
　光重合性材料 を當む敢体組成物力・らなる層を、該准仙組１＋’７物
が固化するに充分な時間保持し、 （２）　　註固化層を化学線に像様に暴露し、そして（
３）　　核層を現像液で処理して、（２）の工程で化学
線に暴露さノ１なかった層の部分全除去する。 ゝゝ像は′着露″の衣現は、不透明部分および透明部分
からなる、ｆ（ケ有する透明陽画を通しての暴Ｆ８　、
および例えばコンピュータにより指示す才］−ｃ　ｓｉ
　定のパクーン状に移動するレザービーノ、に付して画
イオを形成させることの両者を含む。 本発明に使用される硬化性ｄｋ体４１１ｂいクツは、印
に光重合性のみである一紳又にそＪ１以上の？／ｌ質と
共に（４Ｈｐ気件条件下にて硬化する一朴又は、七才］
以−にの物質の、：１．合！ｌＩ／Ｉを君みｆ！する。 或い（工、そＪ’Ｌは一神又げそれｊ）上のゝゝ２申−
′ｌ￥１１ヒ件“物質、即ち＆、ｌｌｉ気（＋男化（”
Ｌであり月つ）Ｖ、重合性である物質、竹に回じ分子内
に２（ｌ気硬化性の基を１個又はそれ以上およびψ、に
ラマ：沖合性のみである基音１昭又はそれり土イＪする
物質、會含みｆ４ｊる：この７；、１４様）Ａ’＋半−
Ｆ　ＩＩ（、ｔｔ９イては、（ａ）お」こび（Ｌ＋ｌ　
ｉ：同じ物質−〇アル。別のｊ、ｌｌｉ　４−１にン（
−」ｔ；いて（１丁、成体Ａ１１成物はそのようｌｃ　
２市官能性物質の１種又はそれ］以以上上１神又はそれ
以十の嫌気硬化性物ノｔゴおよζト／又は１種又はそれ
以−ヒの単に光重合性のノスでちる物質との混合物を含
み得る。 姉気巾合恰」４刺（１″良（知らハで１６りそにて多（
のものが市販されている。本発明で（１，＜出される嫌
気沖合ｆｌ−利オ」は一般に、 （１）　　任慈に遊離前基又げアミノ基ゲ含むアクリル
酸り〕エステル （ｉｉ）　　ｈＲ分（１）川の重合開始剤、および所望
９（より（川）成分（１）の知合の促進剤、 を詮む。 １薗し１７−アクリルｌ’ｌ立のエステル（１）（／（
（′ｊ、−イ曲アルコール ？ｊＢ　分ニスデル）、ヒドロキシープノカボン自シ　
ヒ１０ギアスルポン酸、およびヒ１′ロキシリン叱およ
（）・ヒドロキシアルキルアミンおよびヒドロキシアル
ギルニトリルのエステル、特にアクリレートｊ６よぴメ
タクリレート、およびアクリル除エステルーウレタンお
よび一ウレイドが含まｉ］る。そのようなエステルは最
も市場で人手し易く、入手−Ｃ？ないものは公知のエス
テル化法により製造し得る。 適したアクリル酊エフチルは次式Ｉ。 （式中、 ａけ１ないし８の轄数會表わし、 １）　ｋす１ｆ、「い（７２０の整数ケ着わし７、Ｃは
０又（ゴーを表わし、 １（＆ｘ　−Ｉｆ、　−Ｃ１１３，−Ｃ２Ｈ６，−ＣＩ
−１□ＣＭ−１又はへ− １（１は−１１，−Ｃ／＝、〜Ｃｔｌ、、　　又は−Ｃ
２１−１５ン一表わし、そして （） １ で衣わさ１％るものを含む。 上記化合物中でり１′ましいもの（ｊｏ、式ｉにおいて
ａが１ｔ「イし４を表わし、ｂが１４【いＬ　５　’ｅ
表わし、そ（〜てＨ’が一■又は−〇１１３ヲ表わす化
合物である。式１においてｂが２又はそ１１す５−にで
ある化合物（：′Ｉ米国特許第２８９５９５０号にム己
載さ第１ている。 仙り）通し斤エステルは、次式■ （式中、 １）、　Ｃ，Ｉｆ、’お」二び１（２はｔ」１１にＪｊ
えらｆＬ　ｆ　；ｉ、４味を′ｔｉ　Ｌ、 （１け０又は正のＪｊ数を表わすが、但しＣおよびｄは
両者共に０にはなら１”、 Ｃは１．２．　ｓ又は４を衣わし、セして１（３はその
炭素原子を介して指示されたｂ４面の酸素原子と１１１
’ｉ合し７？：、ｊｖ子１ｉ１１ｉ　ｅの有１１．Ｑ　
基’ＣＷ＜わす） ′ｔ′表わされる。 そのような化合ｑ％を中で好ｆしいものは、弐〇ｅＣお
いてす、ｃおよびｄがそれぞれ１であり、　　Ｉｌｌが
−Ｈ又は−Ｃ１３であり、そして【ｅがＩ　ＹＣいし６
個の炭素原子を含む脂肪族アルコールの炭化水である化
合物でル）る。 式ｎで表わされる化合物は英［１１特許明細書第１２２
８４７９号に記載さオ］ている。 史に他の適したエステルは次弐口１： （式中、 Ｃおよびｅは荊に与えらｒした意味ケ有し、１（４は−
１１又は−０１１３を表わし、そしてＩｆ５はカルボニ
ル基の炭素原子以外の自分自材の炭素原子を介して結合
した原子１曲ｅの有千凋基を衣わす） で表わさ第１．るエステルである。 更に特定的には、Ｃが０の場合、Ｉｆ５げ１ないし１８
個の炭素原子を含む、ヒドロキシル基を有スるアルコー
ル又はフェノールの残基を表わし得る。 従ってＩｆ５は下記の基を表わしイ！４る芳香族、芳容
脂肪族、アルク芳香族、脂環ｈ５１、相系へ族、又は襟
素埋脂肋族基、例えば任意に地累（ら入子又は各々１　
ｆｃいし９個の炭素原子からなるアルギル基により１ｄ
換さオフ、左、一つのみベンゼンｆ阜を含む芳香族基、
又は任意ｐｒエーテルへ′ｊ　＝＜（原子、炭素ハに子
ざシ１７Ｃいし４の脂肪族虜什。 〕１ζ素基又はスルポン基が介在してもよい２　ｔｃい
１、４１１１・１のベンゼンＩぶの連釦を含む芳香族Ａ
（、（名ベンゼン環は任意に塩Ｔ：、原子又は谷々炭素
原子叙１７（いし９のアルキル基により１ン゛１侯さ第
１ている）、 或いは好（Ｙしくは、エーテルｒ）り素結合を含んでい
てもよくそしてヒドロキシル基に−Ｃｆｉｆｆｉ　４ｍ
されていてもよい飽和又は不飽和の、耐鉛又は分枝鎖の
脂肪族基、竹に炭素ｊ駅子数１１【いし８の飽和又はモ
ノエチレン糸不飽和の直鎖脂肪族炭化水素基。 そのようｔ〔基の特定例は、式：　−Ｃ６Ｈ５又＆丁Ｃ
６Ｈ４ＣＨ３（コ（Ｄ場合、ｅは１である”ｌ　、　−
Ｃ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）　２　Ｃｓ　ＣＬ　　：陰よび−
Ｃ６Ｈ４ＣＨ２Ｃ６Ｈ４−（この場合、ｅは２であ−る
）、そして−Ｃ６１（４（（ｊ１２Ｃ６Ｈ３−）　ｆ　
−Ｃ１１２Ｃ６Ｈ４−（式中、ｆけ１又は２ヶ表わし、
こ（ＣＨ２ｈＣＨ２（コの隅台、ｅは６である）、（Ｃ
Ｈｚ）　４　　、　−ＣＩ□ＣＩ＝ＣＩ　ＩｃＨ□−，
−Ｃ１１２Ｃ［１ｚＯＣ）１２Ｃ蚤−Ｉ２−９又は−（
Ｃ）（２Ｃ１−１２（’））２Ｃｕ□Ｃ１ｌ□−（コの
場合、ｅは２である）、又は−（Ｃ１１２）３Ｃ１１３
，−（ＣＨ２）４０ＩＩ。 −ＣＨ２Ｃｌ　Ｉ＝Ｃ）１２．　又は−Ｃ１１２ＣＩＩ
＝ＣＩ−ＩＣＩ　ｌ□０Ｉ（（この場合、ｅは１である
）で表わ、される脂肪族基、である。 Ｃが１の場合、１（５は炭素原子１な（・し６０（１Ｍ
ｌ會含む、０個のカルボキシル基含有する砂の残基全表
わし得、好ましくは 塩素］駅子でＩｆｔ侯されていてもよくセしてエーテル
ば糸原子および／又はノＪルン１ｉニルン」−キシ（−
ｃｏｏ−）基が介在していてもよい、炭素原子数１７：
Ｃイ（、２０（Ｚ）　飽ＩＩＩ　又＆；ｊ　−ｒ−チ”
　’Ｊ　系不ｆ：’Ｊ和０）　ｉｒｊ釦又は分枝鎖脂肪
ＩＪｙ屍化水素基、又は１、ｉｘ　２．４ｇ原子で９”
：換、″ξオ′ｔでいてもよい、炭素原子数が少なくと
も４の１１゛ル相又はエチレン系不飽和脂環族又は１ｉ
ｉＴ肋−脂環族屍化水に、シー・、又は塩素原子で置換
さねていてもよい、炭素原予成６ノエいし１２の芳香、
族仄化水素基を表わす。 史シｃ好ましい化合物をよ、１ｅが、 任、ｌ；’！、にヒト［コギ／ル基：ｔこて（ｒ’＋侠
されている、炭％＜　ＪＩＪ！、子敬１ないｌ、　８の
飽相又（よエチレノ糸不飽（１」直鎖又は分枝鎖Ｌ）コ
叱水素基、又は炭素原子数４１１いし５０で且つ鎖中に
カルボニルオキシター：か介イＬした飽和又はエチレ不
飽和小飽和１［１蛸又は分枝旬ｊＩｋ＋肋族戻化水礼基
、又はｒ、；ｐ素ム、！、子冬又６　’／（いし８の飽
」１１又はエナレン系不飽ｑ１＋　＊」λ式又は二環式
脂環族炭化水素ソ１１、又は 炭先原子費１０ないし５１のエナレン系小飽相ＪＪ’ｏ
環族−脂肪族炭化水素基、又は炭素原予成６ないし一８
０単核芳杏族炭化水素基、？＆わす化合物である。 カルボン酸のこれらの残基の特定例は、式；％式％ び−Ｃ６１４５で表わされる残基（この場合、ｅ（丁１
である）、および−ＣＨ□Ｃ１１２−、−ＣＨ＝Ｃ１ド
および−Ｃ６Ｈ４−（この場合、ｅは２でル）る）で衣
わされる残基である。 一般式１１で衣わされる化合物は莢国’Ｆ’＋／＋明細
書第９８９２０１号、第１００６５８７号、第１２３５
７６９号、および第１２４１８５１号、並ひに米国特許
第３２２１０４３号、第３５４９５８３号、第３６３２
８５４号、第３６．４２７３９烏、第３６５７１１７号
、および第３６９７６’１９号に記載さ、Ｔ１．ている
。 史に他の適したニスデルは次式■： （式中、 ｌ（１は１１１１に与えられた意味を有し、Ｒ’は２ｆ
ｌｌｌＩの脂肪族、脂環族、芳香族、ヌは夙：杏１１ｆ
ｉ肋７Ｍ５児であって、その炭素原子を介して指示さｔ
’ｔだ一〇一原子および−Ｘ−原子又は基Ｖ・クジ雪合
さｔ′１　　ｋ基を表わ　１２、Ｘ　＋１ｔ　−（、’
Ｌ−，−Ｎｉｌ−、又は−Ｎ（了ノＬキル）−治″表わ
し、ここで暦亥了ルキルＩＩＩＱ丁１ｔＣいし８飼の炭
；に原子ケ有し、 ｇは少な（とも２そして多（て６の暗りＩを表わ（７、
そして １１’＆丁ｇ−価の’ｔｒｉ環族、芳香族、又は−ｙ、
−子＋−１１ｉ＋１１／ｉ　Ｉ＋ｊ、ニジＩ（て゛あっ
て、その炭素原子を介して４１１示さ、１１次Ｎ　１１
基に結合さ第１た基を２くわず）で衣わす第１．るアク
リレート−ウレタンお」ひアクリレート−ウレイドであ
る。 好ましくは１壜６は炭素１５（子敬２ないし６の２佃１
の１ｌｒｉ肋１ｉｘ児治二ｔくわしそしてｏ’＆ｔ：　
”’Ｆ　ｕ己の一つケ表わす。 １、にメに原子（父２　ｆｆいし１０の２１曲の用τ肪
ｌｈｋ堵（，１＋ｌｉ　、ｔば７ｘ式、　−（ＣＩ−１
□）ｓ−、−Ｃ１１２Ｃ（Ｃ１１３ｈ　ｌ□Ｃ１−１（
（ΣトＩ、）（Ｃｌム２）２　１　　又は−Ｃ１−１□
Ｃ１１１（Ｃ１１３）ＣＩＩ□Ｃ（（泪、）２−（ｃｈ
ｉ□）２ で表わされる基、或いは任意にメチル基又は塩素原子に
て置侯さｔまたフェニレン基：ナフナレン基：次式：　
−ｃ６１１．ｃ６１１４−、−Ｃ６１−１４ＣＩ−１２
Ｃ６１−１４−。 又は−Ｃ６Ｈ４Ｃ（ＣＩ　！−３）２Ｃ６Ｈ４−で表わ
さオ］るシ、に又は炭素原子数６　ｆｆいし１０の中核
アルギルシクロアルキレン又はアルキルシクロアルキル
アルキレン’ＩＪ６、例えばメナルシクロヘギシー２，
４−イレン、メナルシクロヘキゾー２．６−−ｆレン、
又は１．５．３−トリメチルシクロヘキシ−５−ｆレン
メチル基。 一般式■で衣わされる化合物は米国特許第３４２５９８
８錦Ｖ（川；載さオ竜ている。 更に他の適したアクリレートは次式： 各Ｒ’は前に与えられた。ム味を有１−１名ｆｔ８は−
［１、又は任意にシアン又はヒドロキンル基或いは次式
： （式中、１山丁前に与えられた慈吐を有する）で表わさ
７′する基にてｔｉ７換された炭素原子針１／〔いし６
のアルキル−＆を表わし、 る１西工炭素原子ｄｌ　１７（いし１ｏの２価の脂肪ｂ
ｍ）、芳香族、沖索専族又は脂環族残基であって、その
炭素原子を介して指示さ才またテノ＃ｌ拳子に結合さ７
また基を表わし、 １１（工０又は１′ｔ〔いし６の整数を表わし°、セし
て」より小さくはなく、 Ｊは０又は１を表わし、セしてｈが２又は６σ）とさ１
？ｆ−表わす〕 で表わされるアクリレートであ、５゜ 好ましく　＋１Ｒ８，まインプロピツリーｉを表わし、
そして好ましくはＩｔ’はエナレン、プロピレン又はｐ
−７エニレン基金表わす。 一般式■て表わされる化合物の特定例は次式■　： で表わされる化合物でｋ）る。 一股式■で衣わさＪするｆ）−合物ｃ１：莢国特許１す
目［ｎＮ第１３３９０１７　号ｆ’ｒ　記ｉ１＆　’ｅ
　ｎ　−Ｃイル。 成分（１）として有用な典型的多官ｆ１１り性アクリル
酸エステルは、エチレンダリコール、ブタン−１，４−
ジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、トリエチレンクリコー
ル、トリプロピレングリコール、トリメチロ〜ルブロバ
ン、ペンタエリトリット、１．４〜ビス（２−ヒドロキ
シ−６−メタクリロイルオキジブロボキ／）−ブタン、
ビスフェノールおよびフェノールーホルムアルテヒドノ
ボラノクのポリ（２−ヒドロキシ−６−（メタクリロイ
ルオキシ）プロピル）エーテル、２，４−ビス（２−メ
タクリロイルオキシエトキノカルボンアミド）トルエン
、２．６−ビス（２−メタクリロイルオギシーエトキシ
カルボンアミド）トルエンの了クリレートおよびメタク
リｌ／−トである。 好牙しいエステル（１）は一分子当り一つだけアクリル
酸エステル〃１、特にアクリレ−１・又（丁メタ・タリ
レート基を有する」−ス・ルでル・礼。これらには、脂
肪族アルコール、例えば２−メトギシエタノール又は了
りルアルコール、脂環式アルコール、例えば／りロヘキ
ザノール又はジシクロペンテニルアルコール、　＋Ｍ　
ｆ　Ｎ式）１ｉｉ　肋ｔＭ　フルコール、例えばフルフ
リルアルコール又はデトラヒトロフルフリルアルコール
、又ｉ；↑”ｋ　＠’＋１１ｉｔ肋１ｉ％　７ルコール で，ｉ；）リイ：する飽和−Ｖは不飽和−両アルコール
のアクリレートおよびメタクリレートニスアルか色゛ま
ノする。式１１１においてｅが１のニスデルもまたＳ３
ま，１１、例えば２−ヒドロキシ−６−メタクリロイル
オキジプロポキシベンゼン−ｔ，；　ｊ：　テ）’　２
−ヒドロギシ−３−アクリロイルオギシプ口ボギシーベ
ンゼン、および多価アルコールの部分エステルが含まれ
、該エステルはアルコールをエステル化−１−るか或い
は１．２−アルギレンオキシド全アクリル酸又はメタク
リル酸と反応させることにより製造し得、例えばエチレ
ンオキシド単位５７ｆいし２０を有するポリエチレング
リコールモノメタクリレート、プロピレンメキシド単位
５又は６を有するポリプロピレングリコールモノメタク
リレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレートおよび
２−ヒドロギシプロピルアクリレートである。他の適し
たエステルは、一つのアルコール糸ヒドロキシル基がア
クリロイルオキシ又はメタクリロイル基″Ｔ：置挾゛さ
第１．そして残りノアルコール糸ヒドロキシル基が他の
アシルオキシ基にて置換さｔ’ｔでいる（該了シルオキ
シ基ば例えば金楓キＬ／　　ｉ、化基であリイ！Ｉる）
多価アルコールのエステルであり、例えばアセトアセト
キシエチルメタクリレートである。別の適したエステル
（ｊヒドロキシカルボン酸、例えばクリコール師又は三
量化アクリル酸（６−ヒドロ例えば２−ヒドロキシェ々
ンスルボン酸；ヒドロキシリン酸、例えば２−ヒドロギ
シェテルニ水素すン醒、ヒドロキシアルギルアミン、例
えば２−（ジエチルアミノ）エタノール：およびヒドロ
キシアルキルニトリル、例えば２−シア、ノエタノール
、のアクリレ−［・オ、５よびメタクリレート、ｎｆひ
にエステル−ウレタン、例えば２−メタクリロイルオキ
シ−エトキシカルボンアミドベンゼン、である。 本発明に従って使用し得るＷ合間始剤又はｆｌＪ！媒Ｃ
Ｃはヒドロペルオキシド；ペルオキシド；α−ヒドロキ
シスルホン：芳香族α−アミノスルポン：および有機ア
ミンオキシドとスルホンラ・ン−又はカルボン酸−ヒド
ラシト、スルフィミド、ジスルホニルイミド又はアシル
ンアナミドのような１１〜＝酸化片物との混合物がざま
才する。ヒドロペルオキシド、ペルオキシ１゛、および
アミンオキシドとスルホン配ヒドラジドとの１１え合物
が好ましい重合開始剤である。使用し得る有供ヒドロペ
ルオキシドには式：　ｒｔ’ｏｏｏｎ　（式中、１（１
０は炭素原子数１８までの一価有機基、特に炭素Ｊ’ｌ
　子Ｐ、　”ｊｃいし１３のアルキル、アリール、又は
アルアルキル基、ケ表わす）で表わさｎ、るものが含ま
れる、典型的１（ヒドロペルオキシドｋｊエチルメチル
ケトンヒドロペルオキシ）”、Ｍ３ブチルヒドロペルオ
キシド、クメンヒドロペルオキシド、および−ヒテン又
げシクロヘキセンの酸素句加により形成さハるヒドロペ
ルオキシドであるが、第３ブナルヒドロベルオキシドお
よびクメンヒドロペルオキシドが特に効果的である。過
缶化水素も一！、た使用し得る。２，５−ジメチル−２
，５−ジ（第３ブチルペルオキシ）ヘキサン、ジー第６
ブナルベルオギシド、ジヘギシレングリコールペルオギ
シド、第３プチルクミルベルオギシド、インブナルメテ
ルケトンベルオキシドのよっな軸回の有機ペルオキシド
：および第６ブテルベルアセテート、第３ブナルペルベ
ンゾエ−１・、および第３ブナルベルフタレートのよう
なベルエステルもまた使用しイ与る。 好ましいアミンオキシドは、芳香族第３アミン、例えハ
Ｎ、Ｎ−ジメナルーｐ−トルイジンおよびＮ、　Ｎ−ジ
メナルーアニリン、のオキシドでル）す、そ第１らの塩
もまた使用し得る。好ましいヒドラジドは芳香族スルホ
ン酸、例えばベンゼンスルホン酸オよびｐ−トルエンス
ルホン酸、のヒドラジドでｋ）る。 適した促進剤（ｉｉｉ）には少なくとも２個の第１１１
ｔ■肋族アミノ基を有する脂肪族アミンおよびそ第１ら
のケチミン、例えばジエチレントリアミン又はトリエチ
レンテトラアミン、およＯ−セス１らのイソブチルメチ
ルケトンとのケチミン：ポリイソシアネート、例えばト
ルエン−２，４−ジ−イソシアネート：アルドイミン、
ｊ：＋’７３アミン、例えばＩ”、Ｉ、　Ｎ−ジメチル
ーベ、ンジルアミンおよびトリエチルアミン：イミドお
よびスルフィミド、例えば〇−安息香ばスルフィミド；
ジナオカルバメート；アミドおよびチオアミド、例えは
ホルムアミド；ナアゾール、例えば２−メルカブトベン
ズナγゾール：アスコルビン酵；有慎ポスフアイ）　’
、　；ｔ’ｓ、’四級アンモニウム塩および塩基？４１
答金属のｔ１犠：チオ尿素：およびポリメルカプタン、
特にメルカプタン−カルボン酸のエステル、例えばグリ
セロールトリス（ナオグリコラート）、が〜止才する。 ７１′Ｆ−に好ましい態様に１、）いては、促進剤は〇
−安、り香酸スルフィミドのようなスルフィミドとＮ、
　Ｎ−ジメチル−ｐ−）ルイジンのような芳香族第６ア
ミンとの（１八合物でル〕る。 重合開始剤（１１）の五１はエステル（１）のｏ、　ｏ
　ｉ　ｌ（い（〜４５−（”’７　［ｉｉ　％の間で変
化し得、１ないし１０重（ｉ係の量が一般に１すｌ用さ
、會１乙１，１史川さ才するＩｒｅ　；ｆｑ　Ａｌ（ｉ
ｉｉ）　（７）　ｉｔも’Ｅ　＊−’、’ｆ”Ｊ　Ｌ　
りｔｔｌ　ｘ　ステル（１）の１７：［イシ１０重量φ
である。 本発明で使用し得る光′！ｌ（台柱のみの月１＝４．　
ｔ＋））は、重合が輻射勝による感光性基の内接活性化
＋ｒｃより行わｊするような（４料、又は輻射Ｉ１１メ
が増力な光開始剤分子をｔ古代化し、その分子が次に重
合性基を活性化するような旧料でル）る。 感光性基ｔＩ−イする。１］料（了良く知らＪｌて１．
５す、はそれ以−ヒのアジド、クマリン、スチルベン、
マレイミド、ビリジノン、カルコン、プロペノン、ペン
タジェノン亡云厖基、又＆！６缶がアクリル基のエチレ
ン系２型結合と共役しにエチレン性不飽和又は芳香族性
を有する基ｆより１６侯さｒｌだアクリル酸基を有する
利料が含廿Ｊする。 光１０合が光開始剤の活性化により行わオ］、該開始剤
が次に重合性基を活性化するＪ５な材料に番すエボギシ
ド（会１月ｎ５フェノール４６４１］？ｊ、尿ミーホル
ムアルデヒド樹脂、環式エーテル、環式エステル、環式
スルフィド、環式アミン′およびオルガノシリコン環と
輻射胛−感生」′１芳香ＩＡｊオニウム境、例えばジア
ゾニウム、スルホニウノ・、ヨードニウム、オ６よびス
ルホキソニウムｊｆＡ１トの組合せが含まれる。 適したアジドの例は、少なくとも２１１＾１の次式： ％式％ （式中、Ａｒは全部で炭素原子６ないし多（て１４個を
含む単核又は２核の二価芳香族基、特にフェニレンまた
はナフチレン基ヲ表わす）で表わされる基をぎむアジド
である。 適［−たクマリンの例は次式■： （５中、　　１ｔ１１はｔ１’２　素原子、カルボニル
オキシ（−ＣＯＯ−）、スルホニル− キシ基？表わす） で表わきｉする基を含む４、のである。 スチルベン基をＳむものの例（ｉ、次式■。 （式中、ｌ（１２は全部で８貼まーＣの炭素原子を含す
ｊ、ベンゼン又はナノタレン核に融合した５員又（工６
員チノ素含有袂累環であって、該抜素埠のテラ糸ヘテロ
原子に１質接した該浅索環の炭素原子に介して、化７ト
さおだベンゼン法に結合したｉ口記初素環の残基、例え
ばペンズイミダソ°１ノル、ペンズオギサゾリル、ベン
ゾトリアゾリル、ベンゾチアゾリル、又はナフトトリア
ゾリル残基全表わす） で表わされる基金含むものである。 マレイミド単位ｆ富むものの例げ、次式Ｘ（式中、谷Ｈ
１３は炭素原子数１　ｆｃい（７４のアルキル基、塩素
原子、又はフェニル基、そして特にメナル基を表わす） で忙？わさ才］る基を有するもので多，る。 ビリジノン単位を含むイ、のの例す、次式×Ｉ：（式中
、 １＜１４は炭素原子数１ないし８のＩＩＭ肋１ｊｉ又１
ｔｔ’．　ｌＩ？’＋ｌｊ，す族基′（ｒ−表わし、そ
して ｋ　Ｆｊ．　Ｏ又ｋｌ　１　１：（、　ｕ　−　（、　
４　ノＩｉＨｆ　７ｊ７　ｉ：表ワス）で衣わされる児
を有するものでル〕る。 カルコン、プロペノン、およびペンタジェノ刈　　　　
　　　　　　　　Ｘｆｌｌ （式中、 各１（１５は〕・ロゲン原子：又は炭素原子数１ないし
９のアルキル、シクロアルキル、了ルケニル、シクロア
ルケニル、アルコキシ、シクロアルコキシ、アルケノキ
シ、シクロアルケノキシ、カルボアルコキシ、力５Ｉレ
ボシクロアルコキシ、カルボアルケノキシ、又（エカル
ボシクロアルケノキシ基：ニトロ基：又ｂｓ　ｔＢ　）
形体にあるカルボキシル基、スルホン酸基又はリン酸基
を表わし、 ｋは前に与えられた酋味を表わし、 Ｒ′８＆工原子ｌ１ｌＩＩＡ、−７合手又は水素原子を
表Ｊつし、Ｙは次式： で表わされる基を衣わし、 １（＋７および１ｔ１８はそｊそハ、水索ＩＪ１１子、
アルキル基、例えば炭素原子４７１ないし４のアルキル
基：又はアリール基、好ましくはフェニル基のような単
核基、を表わすか、或いは１１？と１（１８とは一緒（
／Ｃなって２ないし４１１６１のメチレン基からなるポ
リメチレン鎖−ｔＳわし、＋ｔ１９および１（２０は名
々水系原子、アルキル基、例えば炭素原子数１ないし４
のアルギル基：又はアリール基、好ましくはフェニル基
のような単核基、を表わし、 ｍれ号よび０は各々０．１．又は２を表わすが、但しそ
れらは両者共に０ではな（、そしてＺは酸索又＆１イオ
ウ原子′（ｒ−吸わす）で吸わされる基を含む化合物で
ある。 適した５−置換アクリレートは一般式Ｂ１１　二Ｒ”　
ＣＨ＝Ｃ（Ｉｔ’　）　０００−　　　　　　　　　Ｘ
■ｌ（式中、 １（２１汀、既に述べたように、示されたエチレン２重
結合と共役するエチレン系不飽和又は芳香族性を有する
（１１ｊ肋族又は単核芳香族、芳査鼎肋族、又は初累環
族基、例えばフェニル、２−フリル、２−又は６−ピリ
ジル、プロペ−２−エニル、又はスナリル基、を表わし
、そ１７て Ｉｔ’は前に与えられた意味ケ表わす）で表わされる１
１■を邑−む。 特定の例ハポリ（オギシアルキレン）グリコールのジン
ルベート、ポリビニルシンナメート、およびエポキシド
樹脂−ケイ皮酸生成物でル〕る、エポキシド樹脂又は他
のカナオン市合布台ＩＩ／ＪＪ刊とれ１合さｒ、た場合
に光重合性イ１１．金物を４えるオニウム塩は米国特許
明細店第４０５８４００号および第４０５８４０１刊に
記載さ第１ている。同じ目的に使用し得るｊｊζしたス
ルホキソニウム塩は米国特許間８１１１書第４２９９９
５８号および欧州特許出願第３５９６９号および第４４
２７４号に開示さ才１．ている。 本発明の方法に使用しイ４↓る適した２市官能性物質は
、嫌気硬化性材料の沖合に用いら才する嫌気条ｆｌ−ｖ
（て重合するアクリル酸エステル基を１個又はそれ以−
ヒ、および更に、前に記ｔｌ＋ｔ４　Ｌ　ｆｔ：よ５に
、照射された場合又は照射さ第１た分子により活性化さ
れた場合に沖合する基に１飼又目、それ以上含む。好ま
しい物質は、１１（−・１又４−ｊそオ」以−にのアク
リルｒ狭エステル基と、１１内又は七ＢＪ）、−ヒの式
Ｘ、Ｘｌｌ又（はＸ１１１で表わさ第１る基、又は１個
又はそれ以上のエポキシド基とを含むもσ）である。２
重官能性物質は、１個又汀、それ以上のアクリル酸エス
テル基を、既に１個又はそれ以上の光重合性基と更にま
た１個又はそれ以上の反応性基（例えばカルボン酸基、
フェノール又はアルコール性ヒドロキシル基、エポキシ
ド基又はイミド基）とを含む化合物に導入することによ
り製造し得る。 光１Ｆ合性基およびま女カルボン酸基ケ含む化合物類の
例は、アジド芳香族酸゛；カルボキシルー置換スチルベ
ンａ　ｍ　体、例エハスナルベンベンズイミダゾール、
スチルベンベンズオキサゾール、スチルベンベンゾトリ
アゾール、スナルベンナフトトリアゾール、およびスチ
ルベンベンゾチアゾール：カルボキシル含有マレイミｌ
゛（ここで、マレイミド環の二つのエチレン炭素原子は
炭素原子数１ないし４のアルギル基、フェニル基、又は
塩素１６１子によＶ置換され−（いる）；が置換された
アクリル酸である。 光重合性基およびまたフェノール系ヒドロキシル基を含
む［ヒ合物類の例はヒドロギシーＩＴ’／　ｆｌｕカル
コン、およびヒドロギシフェニルー置換プロペノンおよ
びペンタジェノンである７、光重合性基およびまたアル
コール糸ヒドロキシル基音汀む化合物類の例は、ヒ１０
キシ−ｔｌ′＋　Ｊ’４７Ｌ／　イミドおよびヒドロキ
シ−置換ビリジノンで′Ｉ））る。 そのようなヒドロキシル基−庁有化合′吻はアクリル酸
又はそのアシル化Ｗ＜　ｍ体と直接反応７１ｊるか、或
いはまずグリシジルエーテル［変換し７、そしてこれら
のニーデルを次にアクリルｆｉ＆又（すそのヒドロキシ
−置換エステルと反応さ−せることかでさる。 光重合性の基およびイミド基を有する化合物群の例とし
ては二置換マレイミドすなわちマレイミド環の２つのエ
チレン性炭素原子が一上記にオｄいて特定されたように
ｆ′を換さ第１ているものが昂げらハる。 適するアンド芳香族酸としては４−アジド安息含酸およ
び次式鳥： Ｎ３−Ａｒ−Ｃ０ＯＨＸＭＩＩ 〔式中、Ａｒは前述と同じ意味’ｋＷわす。〕で表わさ
ｒる他の化合物が挙げられる。 適するカルボキシル基を含むスチルベン誘導体としては
、４−（１−メチルベンズイミダゾール−２−イル）−
スチルベン−４′−カルボン酸、４−（２Ｈ−ナフト（
１，２−ｄ））リアゾール−２−イル）−ステルベン−
４′−カルボン酸およヒ一般式■− 〔式中、１ｔ１２は前述と同じ甘味を表わす。〕で表わ
される他の化合物が挙げられる。 適するツノルボキシル基音含むマレイミドとしてはＮ−
（カルボキシフェニル）−ジメチルマレイミドおよび一
般式ＸＸ： 〔式中、 各々のＨＩ３は前述と同じ意味を表わし、セしてｒ（２
２は炭素原子１４個までを含む、第−了ミノ基およびカ
ルボン酸基を除いた芳香族、脂肪族または脂環族アミノ
カルボン酸の残部を表わす。〕で表わされる他の化合物
が挙げられる。 適するヒドロキシ置換カルコン並びにヒドロキシフェニ
ルｆＥｔ換フロペノンおよびペンタジェノンとしては１
−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オキソ−６−フエ
ニルブロペンー１．１−（４−ヒドロキシフェニル）−
１−オキソ−５−フェニル−プロペン−２，１−（２−
フリル）−５−オキソ−５−（４−ヒドロキシフェニル
）−プロペン−１ＸＸＩ　　　　　　　　　　　　　Ｘ
Ｘｌ＋〔式中、名々のＩＬ１５．　ｌｃ、　ＹおよびＺ
は【）１１述と同じ意味全光わす。〕で表わされる他の
化合物が挙られる。 適するヒドロギシ置換マレイミドおよびヒドロキシ置換
ビリジノンとしてはＮ−（２−ヒドロキシエチル）ジメ
チルマレイミド、４，６−シメチルー１−Ｃ２−ヒドロ
キシエチル）ピリジン−２−オンおよび一般式ＸＸＩＩ
＋−１：たはＸＸＩＶ　：ｘｘ■ 〔式中、 各々のＨ１３，ＩＬ１４およびｋは前述と同じ意ｈ＋−
’ａ：表わし、セして １（２３は炭素原子８１１＾１より多くを盆また（・、
アミノ基およびアルコール性水酸基を除いた脂肪族呼た
は脂環族アミノアルコールの残部を表わす。〕で衣わさ
れる他の化合物が挙げられる。 〕肖するイミドとしてはジメチルマレイミドおよび一般
式ＸＸＶ　： 〔式中、 咎々の１ｔ１３はＭｉｌ述と回じ意味を表わす。〕で衣
わされる他の化合物が挙げ６才する。 適する３−置換アクリル酸は次式ＸＸＶＩ　：Ｈ”　Ｃ
ｌｌ　＝Ｃ（Ｈ’　）　ＣｔＪＯＩＩ　　　　　　　　
ＸＸ〜１〔式中、Ｉｔ’および１（２１は前述と同じ意
味を衣わす。）−Ｃ表わされる。 アクリル酸基は公知方法例えばアクリル散、またはアク
リル酸の反応性誘導体、またげアクリロイル基不＝含む
７′ルコール例えばヒドロキシエチルメタクリレ−トラ
使用するエステル化により上記化合物中に尋人すること
ができる。 更に下記物質すなわち、放射線感受性芳香族゛オニウム
塩”の存在下に、エポキシド基およびアクリル酸エステ
ル基の両方ヲ倉むものが二官能性物質とし２て使用し得
るものであり、好ましい化合物として（丁次式ＸＸＶＩ
Ｉ、Ｘ湘１およびＸ薫：ＸＸＩ池 および ｘｋ 〔式中、 ｌ（１は０１１述と同じ頷−味ヲ吸わし・１ｔ２４ば２
つのグリシジル４Ｍ　ｋ除いた残りのポリグリシジル化
合物残基全表わし、 １ｔ２５は２つのカルボン酸基を除いた残りのポリカル
ボン酸残基を表わし、 （ｔ２６は炭素１東子数１個ないし６個のアルキレン鎖
を衣わす。〕で表わさｔする化合物が量げられる。 適する１（２４としては２つのフェノール性水素原子を
除いた残りの二価フェノール特にビスフェノール残基、
２つのアルコール４’ｌ　７１ζ＊屍子ｔ　Ｌｔいた残
りのグリコール残基」、ｊよひ２つのアミド性水素原子
を除いた残りのヒダントイン残基が芋げられる。適する
１（２５としては２つのカルボン酸基を除いた残りの飽
和または不飽和の脂肪族または芳香族ジカルボン酸９５
基、および芳香族トリまたはテトラカルボン岐残及、例
えば≧１よくＭ、マロン酸、マレイン酸、フタールｌｉ
ｄ、ｌ・リメリット酸およびピロメリット醒残基か挙げ
らオシる。適するアルキレン基ＩＬ２６ｖｔ、エチレン
、プロピレンおよびブチレン基て゛ある。 こ才１らの化合物は、嫌気１−■１合性材料として１す
２）１１する１（めＶこ１〕記に１６いてすでに述べた
化合・拗の定妓の甲に入ることは明ら７Ｊ・である。１
・、゛・１射糾感受性カチオン性触媒例えば芳香族オニ
ウム塩の不存在下で（丁、これらの化合物のエポキシド
基は光１ｈ合しＹ「（・。 式ＸＸＶＩ＋ないしＸＸＩＸで表わさおる適する化合物
は、１．２−エポキシド基１個ま左はそれより多りを既
に含む化合′１〃目Ｃ次式：　−０Ｃｔ）Ｃ（Ｉｔ’）
＝Ｃ１１２で表わさ才する基を導入することにより、ま
たは逆に次式：　−０ＣＩ）（コ（Ｉｔ’）＝Ｃ）１□
で表わさ才］る基１１固またはそれより多くを既に含む
化合物に１，２−エポキシド基１飼またはそ才１より多
くを導入することにより製造することができる。 既にエポキシトノ１（ヲ含む化合物に次式。 −０ＣＯＣ（Ｒ’）＝ＣＨ２で表わされる基を導入して
例えば式ＸＸＭｉｌで表わされる化合物を製造するため
の便利な方法は、少フ、［りともジエボキシドと、次式
：　−０ＣＯＣ（Ｒ’）＝Ｃ［＋２で表わさ扛る基およ
び、分子中にアクリル酸エステル基少７’：ｃ　くとも
１つ全４’＞　人ｆる女、めに１，２−エポキシド基と
反応することができる基例えばカルボン酸、フェノール
性またはアルコール性水酸基またに、イミド基の両方を
含む化合物との反応よりなる。適するポリエポキシドは
ポリカルボン酸例えばこげく酸のポリグリシジルエステ
ル、多価アルコール例えばブタン−１，４−ジオールお
よび多価フェノール例えば２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンのポリグリシジルエーテルおよび
ボＩＪ（Ｎ−グリ／ジル）化合物例えばＮ、　Ｎ’−ジ
クリシジルヒターントインを含む。この方法は通常１．
２−エポキシド基およびアクリルＭｕの両方全回じ分子
−ヒに含む物質を１００％のＩｌ′ｊ、セ１で与えない
ことが坤解さｒるだろう。 生成物中の他の物質はエポキシド基′（ｌ：元の数含む
未反応の出発物質および総てのエポキシド基がアクリル
酸エステル基によって置換された物質の混合物よりなる
。しかしながら、本発明の方法ではこのような混合物も
充分使用し得るので、反Ｌ５’ｌ、生成物が混合物であ
るとい５句ｆ実は中袋ではｔｆい。 例えは式ＸＸＶＩＩで表わされる化合物を製造す／）た
めに次式：　−０ＣＯＣ（Ｈ’）＝ＣＨ２で衣わされる
逅−少なくとも１つを含む化合物中にエポキシド方（１
つまたはそｎ以十をｗ人するための便利な方法は、−ｆ
　ルコール１１ト水酸基′ｆ、ｒｉはカルボギシル髭少
なくとも１つを含む化合物全前駆体と［７て使用し、次
い−にれをｌ：　ｉ；ｒ’、の名−基を１，２−エポキ
シトノに変換するように、水ｒ）η基またはカルボギシ
ル基孕りリシジルエーテルまたはエステル基に変換する
ｋめのエポキシ樹脂ｉ７．．）技術で公知のノミ法を１
史用し７て′Ｊｔ理することよりｔ【る。例えば、塩化
水素受容体（通常強塩基例えばＮａ０ＩＩ）および好ま
しくは触ρ−１例えば第四アンモニウム化合物、第二ア
ミン、）グ＋″１．乍Ｊｇ４鳴、ナオエーテルまたはス
ルホニウム塩のイＩ−在下にエピクロルヒドリンと反応
させることンＣより上記化合物が生ずる。 通常、必す２とき几イ】埋ｉ；Ｔ！　’、’ｆ改を−に
まわるエピクロルヒドリンの＋ｉ＋＝ｔ　＠ｌ　’ｉｒ
□）が用いら才′し、通常３０°プｊいし１２０℃、好
ましくは４０°１．［いし６５℃で、そして反応中に生
成する水を１９ミクために通９１へ鋺圧下て゛行わ第１
る反応に対し−Ｃ過Ｎ＋ｔｌ−Ｗは溶媒とし一〇働く。 例えば式ＸＸ■で表わされる化合物全製造するための便
利／ｆ方法は、次式　−〇Ｃ０Ｄ（１イ１）−（づ１１
２で表わされる基を含むヒドロキン１１ｑ換化合物をポ
リカルボン酢無水物と反応させることＩｆ（よりＲｆ（
外的にエステルに変換することよりなるーαいで所離の
カルボン酸基全上記で概、ｉｉｌ、　Ｌ、た方法（／（
、Ｌリダリシジル化するか、またはエポキシド基２つま
女はそれリ−Ｌを含む化合物１と共に、例えば第（１１
，１アンモニウム化合物才たは遷移余線１席の存在下で
１出常６０プ「いし１２０℃で処理し５てエステル化す
ることがて′ぎる。 式ＸＸ’＆１１ないしＸＸＩＸで衣わさｒる卯ノ１．す
的ｊｃ（ｌ″、合物と（７て（１、グリシジルアクリレ
−ト、グリシジルアクリレート、２〜（４−グリシジル
オキシフェニル）〜２−（４−（３−アクリロイルスキ
ン−２−ヒト［コギシブロボキシ）フェニル）プロパン
、２−（４−（グリシジルオキシフェニル）　−２−（
４−（２−ヒドロキシ−６−メタクリロイノ

【・ンうキ
シ）ゾロボキシ）フェニル）フロノ蔦ン、　　１−（２
−メタグリＩ−１イルオキシエトキシカルボニルおよび
２．５−ビス（グリシジルオキシカルボニル）ベンゼン
、１−（２−アクリロイルオキシエトキシカルボニル）
−２，４−ｔ、；よび２，５−ビス（グリシジルオキシ
カルボニル）ベンゼン、２−アクリロイルオキシエトキ
シグリシジルこ（すく（Ｆｉ、２−メタクリロイルオキ
シエトキシグリシジルこは（酸、１−グリシジル−３−
（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）
−５，５−ジメチルヒダントイン、１−グリシジル−６
一（２−ヒドロキシ−６−メタクリロイルオキシプロピ
ル）−５，５−ジメチル上ダンｌ−イン、１−グリシジ
ルオキシ−４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロ
キシプロビルオキシ）ブタンおよび１−ゲリシジルオキ
シ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシ
プロピルオキシ）ブタンが挙げらＪｌ、る。 光重合は感光剤例えば５−ニトロアセナフテン、４−ニ
トロアニリン、２，４．７−ドリニトロー９−フルオレ
ノン、３−メチル−１，６−ジアザ−１，ｂ−ベンズア
ンｌ−ロン、ビス（ジアルキルアミン）ベンゾフェノン
特にミヒラーケトン例えばビス（ｐ−ジメチルアミノ）
ベンゾフェノンおよび２−クロロチオキサントンの存在
下で照射することにより行い得る。 元車台柱物貿の市ｈ４−に対して１．（ｔＨＨＯ２１ｔ
ｆいし２０重財チそｌ〜て好まｌ、　（Ｉｒ：ｌ：　０
５１（いし１５市゛Ｍ係の感光剤が用いられる。 本発明（ｒ（：＃；いて使用さ才する組成！ｌ′７１げ
紳々の助剤例えは早すぎる申合を妨げる女めの姑市ｒτ
１１、イ６釈ｆ（すおよび増粘剤もまた含み得ろ。非！
１．腎白な系正剤は式ノンまｋはヒドロキノンであり、
これｈは陽気硬化１ｊ’ｊ分（ａｌのΦ吋に”Ｘｊ　ｌ
−、て口００１１、Ｃい（７０１係の［ｉ（で用いるこ
とかでき〕）。 アクリル醒ケ４、且ｌｉｄ物中に？昆合することに、ｒ
す、アルカリ水溶准で処理することにより容易に現１な
でさる生ＩＪｙ物な二与えることが利かっｉ−０このよ
うな酸に′ついての好ましい添加割合は、イ１１成１勿
の総重量に対して０．５　フ、（いし５０係である。 この和ｈｖ、物は光分な一°の酸素のイ゛ｆ仕下で（・
ゴ長い間女定−（：ルンるがしかしｈ′素が（９１テか
２１女ときには硬化する。その結果これらは内に適白な
空気間隙を持ちそして／または空気浸透性の容器に貯蔵
するのが最も良い。 光重合の段階においては、２００ないし６００　ｎｍの
波長の化学ｌｖ！　’に便用するのが好ましい。化学線
の適する糾σ９は炭素アーク、水銀蒸気アーク、燐光物
質がＩＮ出する紫外線を用いた螢光ランプ、アルゴンお
よびキセノングローランプ、タングステンランプおよび
写真用投光ランプである。 これらのうち、水銀蒸気アーク、特にサンランプ、螢光
サンランプおよびハロゲン化＜Ｔ＞ｂ４ランプが最も適
している。同化層の露光に必要な時間は（中々の因子例
えば、用いられる個々の光重合性物質、ＸＪ４成物生物
中物質の割合、線掠の型およびわＩ酸物からの緑７１ｆ
ｊ、の距離に依存する。適する時間は光４１合技術にお
いて周知の時間によって容易に決められる。 本う西明のハ１１戊′１勿ＦＪ：　４７、アルミニウム
、を同、カドミウム、亜鉛、紙、プラスチックまたげ木
材のような基材に酸体として施用し得る。所望ならば、
基材が遷移金属り夕）のものであるとぎ、アルデヒドと
第一級または第二級アミンとの縮合生成物と硫黄含有フ
リーラジカル（Ｉｇ進剤との混合物で処理することによ
り、または１１り化されうる遷移金属を含む化合物と共
に処理することにより本発明の組成物を粘性化し得る。 このような活性化方法の詳Ｋ（１１はアメリカ合衆国特
♂１．明１ｖ１１１４Ｆ　’４５６１６０４　Ｑ　＋−
３中ＩＩＩ　４ｅ　９　’ａ　ｔ’１．　でイル。 基材上に塗膜ケ塗布した後例えば排気よｆｒ：け例えば
蒸気または乾燥窒素のような酸素ケ含まない気体によっ
て置換することにより酸素欠除く。準膜を嫌気的に固化
した後、こ第１を照射する。迦蔽板全通して照射するこ
とによる。Ｔ膜の部分的な露光において、硬化されなか
った部分は例えばシクロヘキザノン、２−エトキシエタ
ノール、　　ｌ−ルエン、アセトンおよびこおらの混合
物のような溶媒および例えば希釈炭醒すｌ−ＩＪウムま
／ζげ水［狭化すトリウム水浴敢のよ５な水浴液を用い
て洗い流すことができる。不才１故、本発明の組成物は
プリント板およびプリント回路の製造において便用する
ことができる。光重合性組成物よりプリント板およびプ
リント回路全製造する方法は良く知られている。 以下の実施例において本発明の詳細な説明する。総ての
部は重量基準である。 実施例において使用する物質は以下の方法に、［って製
造する。 １−（ｐ−（２−ヒドロキシ−５−メタクリロイルオキ
ソプロボギシ）フェニル）−５−フェニルベンター１，
４−ジエン−６−オン エタノール（５００ｍｌ）中に、１−フェニル−１−ブ
テン−６−オン（５ａ４ｙ）およびｐ−ヒドロキシベン
ズアルデヒド（４ａａｙ）ｋ溶解し、次いで水浴を用い
て１５℃以下の温度に冷却する。水（８０ｍｌ）に溶か
した水酸化ナトリウム（２０ｙ）の溶液を２時間かけて
加え、（（モ合物の温度を１５℃以下に保つ。次いでこ
の溶液を塩酸で希釈して中和し、ｐＨ７とする。油状固
形物が分離するので、これｋ濾過し、そしてトルエンで
洗浄して１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−５−フェニ
ルベンター１，４−ジエン−５−オン３０５７を得る。 この生成物（２５ｙ）ｋ、グリノジルメタクリレート（
１４，５１）、テトラメチルアンモニウムクロリド（０
，１２ｙ）および２，６−ジー第三ブチル−４−メチル
フェノール（０，０８ｙ）の８０℃に加熱シた混合物に
６０分かけて加える。混合物ケ史に４部時間８０℃に加
熱すると、この間にエポキシド言有叶＆ｊ、０．２４当
ＩＩｉ／に７に低下した。７１℃合物を冷却して、放置
すると固化する所望の生成物（３９ｙ）ケ得る。 樹脂＃欣１゛ １．５−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）ペンタ
−１，４−ジエン−５−オン（１００部）を２．２−ビ
ス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン（３部２部・）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン（２７，３部）、テトラエチルアンモ
ニウムプロミド（００５部）および２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート（１６６部）と混合する。この混合物
を１８１時間１００℃に加熱すると、こわによりエポキ
シド値は［１４４当量／　Ｋ９となり、そして２５℃に
おける粘度は、２６Ｐａ・Ｓとなる。この混合物が樹脂
溶液！である。 ｆす１脂溶ｎｉ＋＋： １．５−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）ペンタ
−１，４−ジエン−６−オン（１００音Ｋ　）、２．６
−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール（０８ｆ＜５
）および２−ヒドロギシエチルメタクリレー）　（１３
１部）の混合物ヲ１００℃に加熱し、セして５，５−ジ
メテルヒクーントイン（３０，５部）およびテトラメチ
ルアンモニウムクロリド（０４部）の混合物を２０分か
けて少しづつ加える。 次いでこの混合物を更に１５時間１００℃で攪拌実ると
、こ石により混合物は０５当ＭＥ　／　Ｋりのエポキシ
ド官有量および２５℃において５６．５Ｐａ−ｓの粘度
ヲ有するものとなる。この混合物が樹脂溶液ｌである。 １す１４行　浴　ｉｔり、　川　　： １．５−ヒス（４−グリシジルオキシフェニル）ペンタ
−１，４−ジエン−５−オン（１００部）を、２．２−
ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（３８，２’；１ｌｌ）、礼２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フτ１パン（２７，３Ｒｌｔ　）　、
テトラエチルアンモニウムプロミド（０，０５ゎｌ））
　Ｊ’６、Ｖひ２−メトキシエチルアクリレートとｒｊ
Ａ合する。このτｌｔ合物を６９時間１００℃に加熱す
ると、これによりエポキシド官有量は０５６当量／縁と
ｔ【す、そして粘度は３．４Ｐａ・Ｓと１．ｃる。この
混鋒物か樹）［１１溶液１１１である。 ｔＭＪ脂浴欣■ １．５−ビス（４−ヒドロキンフェニル）ヘンター１，
４−ジエン−６−オン（５＆５冨１（）、１．３−ジグ
リシジル−５−ペンタメテレンヒターントイン（５１，
６都）、　　２−ヒドロキンエチルメタクリレート（１
１１１部）およびテトラメテルア−ンモニウムフロミド
（０６部）を混合する。この混合物ケ１００Ｃで９時間
加熱し、次いで史１ｔＣｒトラエチルアンモニウムプロ
ミド（Ｏ４，Ｆ）ｋ加オー、そして史に６時間加熱を続
けると、これ（＃こよりエポキシド官有量は０１４当−
ｉｔ　／　ｈとなる。こび）段階でアクリル酸（２，５
部）を加え、そして１００１ ℃で更に１Ｔ時間加熱するとエポキシド含有量は無祝し
得る値まで減少する。この混合物が樹脂溶液■である。 樹）１賞溶液■： ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物（６９２部）
を２−ヒドロキシエチルメタクリレ−）（１１１７部）
、テトラメチルアンモニウムクロリド（６２部）および
２．、．６Ｔ−ジー第三ブチル−ｐ−クレゾール（２２
部）と混合する。混合物を８０℃で５時間加熱すると、
これにより無水物は全り１ｔりなる。この混合物が樹脂
溶液■である。 樹　月′ｒ１　　浴　液　■　　： フェニルクリシジルエーテル（ｉｏｏｏ部、エポキシド
含有量６３７当ｉ　／　Ｋ９）　ｆ　ト！Ｊフェニルホ
スフィ７　（３＋８Ｂ　）オ・５よび２，６−ジー第三
ブチル−４−メチルフェノール（２部）と混合し、そし
て１００℃ＶＣ加熱する。１時間かけ℃メタクリ／ｌ／
　酸（５４７，８ｆ隼）　’（ｆ　＋１＋＋え、Ｔ晶１
ｊ７１００℃ニ維持し、次いで更に６時間加熱ケ続ける
。冷刈１する０８４当ｔｆ：　／　Ｆ＝ｙとなり、そし
てその粘度は２５℃において０．０４２５Ｐａ−ｓとな
る。この生成物（１０部）にポリビニルシンナメート（
１０部）を溶解すると４η（脂溶液■を荀る。 樹脂ｖ１１： ＫＬ１肖す５６１当量のエポキシド含有量を有し平均分
子量４２０のフェノール−ホルムアルデヒドノボラック
より作られたポリグリシジルエーテルであるエポキシノ
ボラック樹脂（１００１１〜）と２．６−ジー・尼三ブ
チルーｐ−クレゾール（０２音＋＋　）および三オクタ
ン酸クロム（ＩＩＩ）（０１部）の混合物を１２０℃に
加熱し、次いで桂皮酸（８３ｆｙｌ〜）を１時間かけて
加える。１２０℃で更に３Ｔ時間加熱をわ゛じは、次い
で混合物を冷却する。生成物は室温で固体となり、セし
てにｇ当り０１６当１ｄのエポキシド含有刊を有する。 ４ｊ４１１’ｔｒ　Ｖｌｌｌ　−２−アクリロイルオキ
シエトギシカルボンアミドベンゼン ヒドロキシエテルアクリレート（６０Ｒ１り）ケフェニ
ルイソツアネ−１・（ｓ”Ｊ）とジブチル錫ジラウレー
ト（０２音１０の７１も合物に攪拌し１．【から滴加し
、次いでイソシアネートの総てが反応するまで７０℃に
加熱することによりこの物を製造する。 ＩＮ＋脂■： Ｋｙ当０５６１当量のエポキシド丼有量會有し平均分子
量４２０のフェノール−ホルムアルデヒドノボラック ルであるエポキシドノボラック樹脂（９６９部）と２　
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フロノくン（２．
６部）、４−アジド安息香酸（４８部）、２，６−ジ−
第三ブチル−ｐ−クレゾール（０１４名ＩＸ）、テトラ
メチルアンモニウムクロリド（００５部）Ｊｄよびシク
ロへギザノン（４０部）の混合物′（ｒ−（υ拌しなが
ら５時間１２０℃に加熱すると、こｔ１２によりエポキ
シド含有も・１は無視し得る値に低下する。 ？Ｘいて減圧下で蒸留してシクロへキサノン會除く。 実施例１： Ｎ−（２−アクリロイルオキシエナル）ジメチルマレイ
ミド（１０部）、１，　１．　１−トリメチロールプロ
パントリスメタクリレート（　２　Ｍｌｆ　）、クメン
ヒドロペルオキシド（０５部）、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−
ｐ−トルイジン（００１部）、安，ジノ有酸スルフィミ
ド（００２部）および２−クロロチオキサトン（　０．
２　ＲＬＳ　）を含む組成物全銅板に回転塗装によって
ｈａｌ、用し，、１８μｍのｊツみに塗布する。室温で
５０分間♀索（（より置換して空気を除いた容と１；中
にこの板装置くと一定時間抜塗膜が固化し粘盾件のない
フィルムとなる。 このフィルム’ｉ５０００Ｗの〕・ロゲ〉′化金机ラン
プ全便・用して７５０ｇ＋４＋１の距ＰｉｌＦＪ：す１
５分間陣画を辿して照射する。シクロへキ勺ノ／中で現
トス１−（ｐ−（２−ヒドロキシ−５−ツタクリロイル
オキシプロポキシ）フェニル）−５−フェニルベンター
１，４−ジエン−３−メン（１００部）、トリメチロー
ルプロパントリスメタクリレート（６０都）、／’メン
ヒトロタ／（−オキシド（０３部）、Ｎ、　Ｎ−ジメチ
ル−ｐ４ルイジン（００１部）、安息香酸スルフィミド
（０，０２８Ｂ　）およびベンジルジメチルケタール（
０，２音１５）（この最後の！ｌグｊの目的ｉｆｆ　６
１・気ｔｙ合していないいくらかのトリスメタクリレー
トの光重合を触媒することである）を包む組成物ケ製造
する。この散状組成物を銅で被覆したラミオー１−７−
　ｈ上に回転塗装ＶＣよって施用し、２２μｍの厚みに
塗布する。この板を気密性容器中にｂ′ｔさ、容器内の
大気中の酸素含有量が０５容世係以下とｊ【るまで窒素
を′１出す。 室温で５０分放置恢板奢取出ず；散状Ａ、１１成物は粘
着性のないフィルムに固化した。 このフィルム２ｓｏｏｏＷのノ・ロゲン化金属ランプ’
（＋−使用して７５０ηＩＩＩの距離より１５分曲陰画
全辿して照射する。トルエン中で現像すると板上に良好
な画像を得る。 実施例６： Ｎ−（２−アクリ「１イルオキシエチル）−ジメチルマ
レイミド（９０部）、クメンヒドロベルオー’ｒ−シ）
°（０，５７％［（）、ｌ　タフ’）　／しｒｉ”−（
１０智１’　）　、Ｎ＋へ一ジメチルーｐ−トルイジン
（００１部）、９ｉ息査酸スルフイミド（００２部）、
２−クロロチ；」キサントン（０２↑−Ｂ　）　ｔｔ；
よびべ／ジル、ジメチルククール（０２部）を含む川１
）＼ξ惣ＩＪＡ：ｌ！（卜？、−する。このに「ｌ［１
ψ１ｑ４．ノケ１ｉｉｉｌで被ヤ°′）シたうＦネート
上に・づ、イ１】（、シ・）１素りツ囲反（中にイｌ、
＋−持１７、そ（−２て′、ヒビ１゛バ＋例２でＪ・Ｌ
ベグζ方法ｔｒ、　ｌ：ッ−ＣＩ！ｆｉ　ＵＪｔ　ｌ−
＋。２　％　水！７’＜化−）　トリ’ｉ　ム水Ｎ−（
２−メタクリ０イルオキシエチル）ジメチルマレイミド ＩＪ　／ｌ，メルクリレート＜　１．０　部）　、り、
メンヒドロパーオキシド（０．３都）、Ｎ，　Ｎ−ジメ
チル−ｐ−トル・ｔ　／ンｃｏ．ｏ　１ｆｌＩ（　）、
　！？ｊ息Ｎｒｒｉ２スフ１，　−ｙ　４　ミド（ｏ．
ｏｚ部）、２−クロロチオキサントン（０２部）ニド５
よ０・ベンジルジメチルケタール＋　０．２　＋４１Ｓ
　）　’に含む組ｂ（４物不：剰）青する。実）Ｊ１Ｔ
ｈ例２で述べ１こ方法によってｔ同でネ皮＋’．！ｉ　
シたシミネートにこの塗装を行う。 次いで湿っている塗ｌｌｂをシリコーン塗布剥離紙で糟
い、そしてラミネートと剥離紙の開音真空（　６　７ｒ
ｎｍ＋ー４９　）とする。６０分後に頁空ｆｆｉ　％／
ｌｌき、セして剥離紙を除く。塗膜は乾燥して粘着性の
ないものとなる。次いで実施例２で述べた方法によって
１（ρ両を通して照射し、次いでトルエンで現像処理す
ると良好７’ｊ画像が得られる。 実施例５： Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）ジメチルマレ
イミド（９．０ｉｌ，テトラヒドロ７ルフリルメタクリ
レート（１．０部）、メタクリル酸（１．０部）、ベン
ジルジメチルケタール２−クロロチオキサントン（０１
部）、クメンヒドロＡ′７ｂオキシド（　ＣＪ７＠Ｉｓ
　）および、トリエチレンテトラミン（１モル）とイン
ブチルメチルケトン を含む組成物全製造する。実施例２で述べた方法により
銅で被＆したラミネート上にこの組成物を塗イ１ル、そ
して気密チャン・（−中に楢゛く。 ４０℃に加諦した水を〕ｌｕシて加湿しｆｃ窒素により
常圧で空気全置換する。 １０分後に窒素雰囲気から取出すと、塗膜は乾燥して非
粘着性となる。こｎをｓ　ｏ　ｏ　ｏｗのハロゲン化金
属うンフヲ使用して７５０解の距＾・Ｗより１０分間陰
画を通して照射する。２％水酸化ナトリウム水溶液で現
像処理すると員好な両イ）゛がイ！４られる。 ’ｔ’　Ｉｉ１１例６： ４ｉ１１　）ＩＭ　浴ｉＱｉ．　ｌ　（　１　０．　０
　ｆｌｌ〜）、クメンヒドロベルオギシド（０３音１〜
）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−ｔ−ルイジン（００１都）
、安，１香酸スルフイミド（００２部）およびベンジル
ジメチルケタール（０２部）ヲ含む組成物を製造する。 このハｌ酸物を銅でぞＵ也（７たラミネ−トに施用して
６ＪＬｍの厚みの傾膜奮形成し、次いでラミネートを窒
素ガス雰囲気下に５分間Ｊ）装置すると、これＶこより
塗膜の粘着性がなくなる。これｉ５０００Ｗのハロゲン
化金楓ランプを・使用ｊ−て７５０細１の距離より１０
秒間真空ＴｖＣｌ栗画を辿して照射する。シクロヘキ＠
ｒノン中で現像すると板上に良好な画像＊　、？ｒｐる
。 実施例７： 樹脂溶液１］　（１０名１モ）、クメンヒドロペルオキ
シド（０３部）、Ｎ、　Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン
（［１０１部）およびベンジルジメチルケタール（０２
部）を含む組成物を製造する。この組成物を銅で抜枠し
たラミネートに施用して８μｍの厚みの塗膜を形成する
。このラミネートｉ１０分間窒素カス中に放置すると、
こｒ−により塗膜の粘着性がなり４【る。これ６ｓｏｏ
ｏＷのハロゲン化金属ランプを使用して７５０朔の距離
より１０秒間真空下に陰画を通して照射する。フクロヘ
キサノン中で現像すると板上に良好な画像を得る。 実施例８： ２．２−　ビス（４−（２−ヒドロキシ−ろ−メタクリ
ロイルオキシ）フェニル）プロパン（６０部）、トリプ
ロピレンクリコールジアクリレート（２０ｆ４１Ｓ）、
”−ヒドロキシエチルメタクリレート（２０↑９１１）
、クメンヒドロペルオキシド（３賛１慝）、安７い香酸
スルフィミド（０，２部）、Ｎ、Ｎ−ジメテナルケター
ル（２部）を含む和酸物ケ装造する。 この組成物をドローバ−技術（ｄｒａｗ　ｌ〕；＋ｒｔ
ｅｃｈｎｉｑｕｅ　）を用いて、銅で被覆し斤−ラミ不
一トに施用して２５ないし２８μｍの厚みのｒト膜を得
る。次いでこのラミオーｌ−を１５分曲頃素２ｆ囲気下
に放置すると、これてより？ｆ１１位の粘ＭＹ性がｆ〔
りなる。これを５０００Ｗのハロゲン化會属ランプを・
使用して７５０．の距離、ｒす６０秒間真空下に１部１
画を通して照射する。アセトン中で現像するとイ）ノー
ト二に良好な画像を得る。 実ｈＡｉ例９： 樹脂溶液ＩＩＩ　（１０部）、クメンヒドロペルオキシ
ド（０６部）、Ｎ、　Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン（
００２音Ｉｓ　）および安息香酸スルフィミド（００４
部）を含む組成物を製造する。この組成物を銅で破核し
たラミネートにｈｔｆＶ用して１０ないし≠１４μ品の
ノワみの塗膜をえ、次いで２０分ｌｆｆ１　’ｌ素雰囲
気下に放ｍｌすると粘着性グ）ない塗膜にイ”４る。 こｇｆ　５００　ｏＷのハロゲン化金属ランプを使用し
て７５０ｍｍの距離より６０秒間真空下に陰画を通して
照射する。プチルジゴール中でｖｌ、像すると良好な画
像ｌ−得る。 実施例１０： ＋Ｊ脂俗液■（９８１へ）、樹脂浴欣Ｖ（１部）、クメ
ンヒドロペルオキシド（０５ＦｊｌＳ　）　、Ｎ、　Ｎ
−ジメチル−ｐ−トルイジン（０，０１ｐ、（１）およ
び安息嘔酸スルフィミド（００２台１〜）を含む組成物
（Ｉ−製造する。このＡ′且Ｉｔｓ、物を１司で禎榎し
たラミイ・−トに施用して１８ないし２０μｍの厚みの
堅膜全え、次いで１５分間窒素雰囲気下にこのラミネー
トを放ｔ’１ｉｔｌ）と、これにより塗膜の粘着性がな
くなる。これを５０００　Ｗのハロゲン化金属ランプ全
使用して７５０脳の距離よ！１１５０秒間賃窒下に陰画
全通して照射する。２％炭酸す）　ＩＪウム水溶敢中で
ブラッシングにまり現イ象して画像を得る。 実施例１１： ＪＩＩｄ　ｌｌ＊浴７（り１　（１０（］部）、ｐ−ｌ
・ルエンスルホン酸水和物（１部）、安溶査を伎スルフ
ィミド（１部）およびＮ、　Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイ
ジン−Ｎ−オキシド（１部）を含む系［１成物をル゛Ａ
造する。 この組成物ン・予備洗浄した錦で被覆１〜ｆｒラミネー
ト」−に（１布し、次いで５分間４５℃てヤノー分囲へ
下に放置すると２５μｍの厚−２この粘佑ｆｌｕび）１
１゛い塗１１１：ＩＴを得る。この浄膜を、５０００Ｗ
のハ［７ゲン化金属ランプを使用して７５０＋ｎ＋＋＋
のｂ！ｉ離、ｔす６０秒間１宕両°ケ通して照射する。 ベンジルアルコール中で現像すると良好ｔ【画像が得ら
おる。 実ノド１１１例　１２　： クメンヒドロペルオキシド（ｏ、ｂ　ｇｌ（）、安、Ｉ
ａ香「ｊ３．スルフィミ＋゛（ｏ、ｏ　４　：’＋Ｒ）
　＞、くよぴＮ、　Ｎ−ジメチル−ｐ−１−ルイジン（
０，０２Ｍ３　）　Ｋ　）ｉｌ　脂浴ｔｌ’ｔ、■（２
部部）を混合（７、次いｆ錐で＋Ｒ・覆したラミオート
に画用して６μｎ］の厚みの塗膜を形成する。、、６、
いでこのラミオー１を１５分間窒素雰囲気下にノ・（Ｉ
ｔ’ｒ　して粘７ｉ性のない４ミル“４とする。これ台
７５０００〜・のハ【１ゲン化り１）属ランプを１史用
して７５　ＥＪ　１；、＋１グ）距離１（（より５分間
真空１に１（−画を１山して（１（（帽する。 トルエンおよびアセトン（９：１）の７１ノ１合＋Ｐ、
＋１中で現像すると板上に良好な画像を得る。 実施例１３： ５６１当ｔ／Ｋｙのエボギシド含有ｔ（ｔ−有し、分子
−ｊ、１４２０のフェノール−ホルムアルデヒドノボラ
ックより作られるポリグリシジルエーテルであるエボギ
シノボラックィＩ（脂（５０部）、５２０当量／　ＩＷ
のエポキシド含有量ヲ有する１、　１．２．２−テトラ
キス−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのテトラグリ
ンジルエーテル（５ｏ１（）　、　　’＋　’−ブタン
ジオールジメタクリレート（６０部）、クメンヒドロペ
ルオキシド（７部）、ビス−（４−メチルフェニル）ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェート（２部）および
促進剤Ｎｌ、５３Ａ（Ａｌ＼ｚｏ　Ｃｈｅｍｉｅ　Ｕ、
に、Ｌｔｃｔ、、　Ｗａｎｄｓｗｏｒｔｈ、　Ｌｏｎｄ
ｏｎＳ、Ｗ、　１８　、製のｄ］販品）およびホワイト
スピリット（ｗｂｉｔｅ　５ｐｉｒｉｔ）中のコバルト
金属溶液（１０％）として定義されるもの（１部）の混
合物全施用して、銅で被覆したラミネート上に１２０な
いし１６０μｍの厚みの塗膜を形成する。次いで塗装し
たラミイ、−トを４０℃の温度に予備加熱しそして千Ｈ
素で空気金ＩＭ　ｍ　Ｌ、た気密チャンバー中に５分間
放散しｋｏ堕膜は乾燥１−セして粘着性がなくなる。次
いでこｉ″Ｉをｓ　ｏ　ｏ　ｏＷのハロゲン化金属うン
プゲ使用して７５０＋ｎ＋ｌ＋の距離より３分間陰画ケ
通［２て照射する。アセトン中で現像することにより良
好な画像が得られる。 実施例１４： 樹脂■（１ｏ　ｓｒｓ　）、Ｎ、　Ｎ−ジエナルアミノ
エナルアクリレート（５部）、クメンヒドロ△’／Ｌ−
オキシド（０６部）、安勝香酸スルフィミド（００５名
１５）ふｉよひミヒラーケトン（０２名１〜）の混合！
１勿會釦ｊ奮核榎したラミネートに施用し−（１５ない
し１７μｍのｊ４みの塗膜形成する。この塗装したラミ
ネートを４０℃に予備加熱し気密ヲーヤンバー中に空気
を窒素により置換して３分間放散した。 竺喚は乾燥しそして粘着性がなくなる。次いでこれ１５
０００Ｗのハロゲン化金拠ランプを使用して７５０＋ｎ
＋１１の距離より６分間陰画會通して照射する。エタノ
ール中で現像することにより良好な画像が得られる。 実施例１５： 樹脂■（６部）、樹脂■（４部）、クメンヒドロへ゛ル
オキシド（０，５部）、安息香酸スルフィミド（００５
部）′ｔ６よびミヒラーケトン（α２部）の混合物を銅
で被覆したラミネートに節用して８ないし１０μｍの厚
みの塗膜を形成する。この塗装したラミネートを４０℃
に予備加熱し気密チャンバー中で空気を窒素により置換
して、５分間放置すると、乾燥した、粘着性のない塗膜
が得らｒる。次いでこれｋ、５００口Ｗのハロゲン化金
属ランプを使用して７５０關の距離より１分間陰画を通
して照射する。エタノール：アセトン（１９：１）中で
現像すると良好な画像が得られる。 実１４ｑ例１６： 樹脂ｈｌＸ（８ｏｉｔ＋）、２−シアノエチルアクリレ
−ト（２０部）、クメンヒドロペルオキシド（５部）お
よび鉄ブフタレン（ホワイトスピリット中の６％浴液）
　（０，１：ＥＩ＋　）の混合物を施用して銅ケｌシ覆
したラミネート上（１０ないし１２μｍの厚みで塗膜を
形成する。次いでこの塗装したラミネートを４０℃に予
備加熱し気密チャンバー中に９素により空気を置換して
、１０分間放Ｉｔイすると塗膜の粘着性がな（１（る。 次いでこＪｌ、　Ｑ５０００Ｗのハロゲン化金属ランプ
を使用して７５０＋ｎｍの距離より２分間陰画全通して
照射する。 トルエン中で現像することにより良好な画像が得られる
。 （ほか１名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１） （１）実質的［酸素を宮まない環境中に、基体上に支持
   さｒだ （ａ）　　盛気′！Ｉ（合性Ｈ料、および（ｂ）　　光
   重合性旧制 を含む蔽体＃、Ｈ成物からなる層會、該散体組成物が固
   化するに光分な時間保持し、 （２）　　該固化層を化学心にｆｚ様ＶＣ暴障し、七じ
   て （３）　　該層を現像散で処理員て、（２）の］皿程で
   化学糾に暴ｊｘ＞さｎ、　１．ｒかった層の部分を除去
   する ことを特徴とする像生成法。 （２）　１．ｊ’ｐ気中合１＜１ｇ　４１’　１ｌ（ａ
   ）が（１）　　任意＆Ｃ遊ｔｊｉｉＬ、　ｌ”、１２：
   基又も、［了ミ７基を含むアクリルｌ眩のニスデル、 （１１）成分（１）用のＭ」−合開始剤、オＳよび所望
   により （ｉｉｉ）　　成分（１）の重合〆の促進剤、（ｒ、δ
   −む特許請求の範囲ｉＩ→、１月ニＩ記載の方法。 （３）　　エステル＋１）が−価又は多価アルコール、
   ヒドロキシスルポン酸、ヒドロキシスルポンｎ’２　。 又はヒドロキシリン酪、又はヒドロキシアルキルアミン
   、又はヒドロギシーｒルキルニトリルのエステルである
   か、或いげアクリル酸エステル−ウレタン又はアクリル
   「挾エステルーウレイドでル）るｌ特許請求の距［Ｊ囲
   記２」貝記載の一方法。 （４）　　ニスーｒル（１）が１分子当り１個たけ了ク
   リル酸エステル基を有する特許請求の範囲第１又＆１第
   ２．１ｔ′１記載の方法。 （「））　　重合開始剤（１１）が式：　Ｉｔ”（’１
   ０１１　（式中、１ｔ１０は１８１１１５１までの炭素
   原子を含む１愉有後基を表わす）で表わされる有機ヒト
   ロペルオギシド、□過（−′ｙ化水索、有機ペルオキシ
   ド、又は有機アミンオキシドどスルフ１＝ン醍ヒドラジ
   ドとの７昆合物で下）る特許請求の範囲第２　ｔｆいし
   第４項のいずｒ！が１項りに載の方法。 （６゛　　光重合性材料（１））が少なくとも２１１−
   のアジド、クマリン、スチルベン、マレイミド、ヒリシ
   ノン、カルコン、フロベノン、ペンタジェノン基、又は
   ５位がアクリル基のエチレン系二φ結合と共役１．、　
   ｆｃエチレｈ飽相又は芳香族性をイｆする基（ｆ（、ｉ
   り置換されたアクリル酸基ケ有するＱ、、ｖ訂精永の軸
   回、！じ１ないし５項のいずれか１〕ｆｉ記載の方法。 （７）　　光重合イ′（−相料山）がエポギシド樹脂、
   フェノール樹脂、尿素−ホルムアルテヒド樹１１ｉ’ｊ
   　、世代エーテル、社；を式エステル、１呈式スルフィ
   ド、卑式了ミンよ、ｉよひ詞ルガノシリコン埠と６射）
   ・ｙ−感受性芳香族オニウム塩との組合せを含む特許請
   求の範囲第１１ｃいし槁５項のいずれか１重Ｍ　ｍｌシ
   ）成の力ｌ去。 （８）Ｕ体＃ｌｆ　ｂ’ｘ：物が、（ａ）　：Ｎよび（
   ＋））　、！：　シテ６　（Ｅ　ス６ρ１１！気市合性
   の基と光重合性でｋ）る基の両方を何する２Ｍ】官能性
   物ＩＡ！ｊを、場合によっては嫌気重合性物質および／
   又は光重合１／１のみである物質と共に含む特許請求の
   範囲榮１ｆパいし第５ツバのいずれが１項記載の方法。 （９）　２重官能ｆト物質が、ｂ（シ気件条件下＋？′
   て重合するアクリル１１１ρ工ステル基１個又は七ｒ１
   以上、１、・Ｊ、ひ史に竹ｆＦ稍求の範囲第６頃記、１
   ．１．Ｂの感うＹ。 性基１個又はそれ以−ヒを含む→”ｒ　Ｍ’ｆ粕求の＋
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   ステル基１促ｌＶは上２１」７１上、おまびｊｌ（（射
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   る基１個又はそれ１２Ｊｈヶ含む私許詞刃（の範囲第８
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