JPS5948728A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents
光ビ−ム走査装置Info
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- JPS5948728A JPS5948728A JP57160466A JP16046682A JPS5948728A JP S5948728 A JPS5948728 A JP S5948728A JP 57160466 A JP57160466 A JP 57160466A JP 16046682 A JP16046682 A JP 16046682A JP S5948728 A JPS5948728 A JP S5948728A
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- Japan
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- cover
- polygon mirror
- air
- light beam
- rotating
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔利用分野〕
本発明は回転支持された多数の反射面を有する多面鏡を
回転させることによりレーザビーム等の光ビーム全偏向
するための光ビーム走査装置に関する。
回転させることによりレーザビーム等の光ビーム全偏向
するための光ビーム走査装置に関する。
レーザプリンタ等に用いられる光ビーム走査装置は、ｊ
ｉ］ｌ 獣多面鏡を用いたものか主流であり、その構成
は光ビームを出射する光源と、光ビームを収束させる収
束レンズと、光ビームを走査させる回転多面鏡と、光ビ
ームを目的の方向へ反射さぜる反射ミラーとから構成さ
れるのが一般的であった。これらの光ビーム走査装置を
構成するユニントは、通常光学部品と称されるものであ
り、高い光学性能特に鏡面では反射率、レンズでは透過
率か要求されるために空気中の塵等を極力きらう。
ｉ］ｌ 獣多面鏡を用いたものか主流であり、その構成
は光ビームを出射する光源と、光ビームを収束させる収
束レンズと、光ビームを走査させる回転多面鏡と、光ビ
ームを目的の方向へ反射さぜる反射ミラーとから構成さ
れるのが一般的であった。これらの光ビーム走査装置を
構成するユニントは、通常光学部品と称されるものであ
り、高い光学性能特に鏡面では反射率、レンズでは透過
率か要求されるために空気中の塵等を極力きらう。
そのため光ビーム走査装置は、全体かす一部ぼり防塵カ
バー内に納められており外部空気から遮断されている。
バー内に納められており外部空気から遮断されている。
第１図及び第２図は防塵カバー内に装置か収容されたー
具体例を示している。図中１は多数の反射面を有した回
転多面鏡、２は第３図にその詳細を示す通り、多面鏡を
固定保持する固定台３を固着した回転！ｑ１）、・１は
固定台３とで多面鏡１を堅固に固定するバランス調整部
材、５に回転軸２を回転自在に保持する回転機１：ｌ、
Ｉ取付台である。該取付・台５に１１ｆｂ受６及び７を
介して回転’１ｉｌｌｌ ２か取Ｅ丁けられており、回
転１ｑｈ ２はδ劾１！Ｉｌｌ ２の下端に取付けられ
たモータロータユニット９と該ユニット９と対向して設
けられ取付台下面に固定されたモータステータユニ７）
１（ｌとて？ｆ’７成される回転機１１４により回転さ
れる。即ち、モータステータユニｙ ｌ−１０にて例え
ば回転磁界を形成し、この回転磁界に応じてモータロー
タユニット９か回転され、上記回転軸２を回転さぜる。
具体例を示している。図中１は多数の反射面を有した回
転多面鏡、２は第３図にその詳細を示す通り、多面鏡を
固定保持する固定台３を固着した回転！ｑ１）、・１は
固定台３とで多面鏡１を堅固に固定するバランス調整部
材、５に回転軸２を回転自在に保持する回転機１：ｌ、
Ｉ取付台である。該取付・台５に１１ｆｂ受６及び７を
介して回転’１ｉｌｌｌ ２か取Ｅ丁けられており、回
転１ｑｈ ２はδ劾１！Ｉｌｌ ２の下端に取付けられ
たモータロータユニット９と該ユニット９と対向して設
けられ取付台下面に固定されたモータステータユニ７）
１（ｌとて？ｆ’７成される回転機１１４により回転さ
れる。即ち、モータステータユニｙ ｌ−１０にて例え
ば回転磁界を形成し、この回転磁界に応じてモータロー
タユニット９か回転され、上記回転軸２を回転さぜる。
また符号２２１し一ザビーム等の光、セ゛−ムを出射す
る先高１．２３は光源からの尤ビームを収束し回転多面
鏡１等にて反射された光ビームを感光体又は原稿上に焦
点を結ぶ収束レンズ、２４け多面鏡１からの反射ビーム
な：所定の位置へ反射する反射ミラー２５を同定するミ
ラ一台である。上記光源・、ｉ：、＼２、収束レンズ２
３及びミラー２５等からなる光学系は、光学系取付台２
１土の適所に位置（＝１けされて配置されており、該光
学系取付台２１ば、多面鏡１か光路に位置するように取
付台５に固定されている。捷だ、光学系取付台２ｆｉ□
−Ｖその」二面を覆うカバー２０か取付けられている。
る先高１．２３は光源からの尤ビームを収束し回転多面
鏡１等にて反射された光ビームを感光体又は原稿上に焦
点を結ぶ収束レンズ、２４け多面鏡１からの反射ビーム
な：所定の位置へ反射する反射ミラー２５を同定するミ
ラ一台である。上記光源・、ｉ：、＼２、収束レンズ２
３及びミラー２５等からなる光学系は、光学系取付台２
１土の適所に位置（＝１けされて配置されており、該光
学系取付台２１ば、多面鏡１か光路に位置するように取
付台５に固定されている。捷だ、光学系取付台２ｆｉ□
−Ｖその」二面を覆うカバー２０か取付けられている。
従７．て、カバー２０、光学系取付台２１及び回転機ｈ
７ｊ取付台５とで、多面鏡１、光源２２、収束レンズ２
３、反射ミラー２５宿から構成される光学系ユニットを
１呆護する防塵ケースを構成している。
７ｊ取付台５とで、多面鏡１、光源２２、収束レンズ２
３、反射ミラー２５宿から構成される光学系ユニットを
１呆護する防塵ケースを構成している。
ｉ、ｌ／、、上部防頑カバー２０には、偏向された反射
ミラー２５にて反射された光ビームの出射窓１８か設け
られている。この出射窓１８は、無反射処理かｂｌｏさ
れたガラス板１９か取付られでおり、防１ｔル効果を損
わないようにしである。
ミラー２５にて反射された光ビームの出射窓１８か設け
られている。この出射窓１８は、無反射処理かｂｌｏさ
れたガラス板１９か取付られでおり、防１ｔル効果を損
わないようにしである。
上１ｊｋの様に光学系を防１１九ケースで覆って光ビー
ノ、走査装置を構成するものによれば、多面鏡１等の光
学系か防塵ケースにて密閉されることから、塵等Ｖこで
反射率、透過率等に同等支障なく利用できる点に大きな
効果を有する。
ノ、走査装置を構成するものによれば、多面鏡１等の光
学系か防塵ケースにて密閉されることから、塵等Ｖこで
反射率、透過率等に同等支障なく利用できる点に大きな
効果を有する。
しかし、多面鏡ｌの回転機（ｔを構成する回転軸２のＪ
ＩＩｉ受７は第４図に示す様に、潤滑剤１７か片側に」
３；１人される。４′・“Ｒｉ”Ｉ剤Ｉ７としては、一
般に高粘度のグリースか使用され、シールド板７−４に
よって外部に飛散しないようになっている。しかし、軸
受内輪７−１とシールド板７−４との間にはわずかなが
らすき間か牛し、多面鏡１の高速回転時に潤滑剤１７か
矢印ａの様に飛散する用台かある。！（￥に図に示す様
に潤滑剤封入側か、回転多面鏡１側に位置するように軸
受７か組立てられ、軸受内輪７−１とシールド板７−・
１との間から潤滑剤１７か食み出していると、回転時の
遠心力によって矢印ａのように潤滑剤１７−１か飛散す
る。
ＩＩｉ受７は第４図に示す様に、潤滑剤１７か片側に」
３；１人される。４′・“Ｒｉ”Ｉ剤Ｉ７としては、一
般に高粘度のグリースか使用され、シールド板７−４に
よって外部に飛散しないようになっている。しかし、軸
受内輪７−１とシールド板７−４との間にはわずかなが
らすき間か牛し、多面鏡１の高速回転時に潤滑剤１７か
矢印ａの様に飛散する用台かある。！（￥に図に示す様
に潤滑剤封入側か、回転多面鏡１側に位置するように軸
受７か組立てられ、軸受内輪７−１とシールド板７−・
１との間から潤滑剤１７か食み出していると、回転時の
遠心力によって矢印ａのように潤滑剤１７−１か飛散す
る。
軸受７は防塵ケース内に位置するために飛散した潤滑剤
は、防塵ケース内に広かり、回転多面鏡ｌ、収束レンズ
２３、反射ミラー２５、ガラス板１９等か飛散した潤滑
剤により曇り、実用的で（弓なかった０ 上述の如く回転多面鏡を一用いる光ビーノ、走査装置は
非常に高い精度か要求されるため超精密な光学部品か使
用される。これら光学部品は空気中に含−ＨｌＪ、る塵
や機構部の軸受から飛散する渇゛１滑剤をきらう。その
ため、光ビーム走査装置δは防塵ケースで覆う必要か生
じ、これにより、回転多面鏡の回転機（１４にけ許１ｍ
剤を使用しない特殊な軸受である気体軸受か使用された
り、防塵ケース内の空気を清ａトに保つため清浄空気強
制循環装置などで防卯ケース内への塵等の浸入や防塵ケ
ース内の空気汚染なとを防いている。
は、防塵ケース内に広かり、回転多面鏡ｌ、収束レンズ
２３、反射ミラー２５、ガラス板１９等か飛散した潤滑
剤により曇り、実用的で（弓なかった０ 上述の如く回転多面鏡を一用いる光ビーノ、走査装置は
非常に高い精度か要求されるため超精密な光学部品か使
用される。これら光学部品は空気中に含−ＨｌＪ、る塵
や機構部の軸受から飛散する渇゛１滑剤をきらう。その
ため、光ビーム走査装置δは防塵ケースで覆う必要か生
じ、これにより、回転多面鏡の回転機（１４にけ許１ｍ
剤を使用しない特殊な軸受である気体軸受か使用された
り、防塵ケース内の空気を清ａトに保つため清浄空気強
制循環装置などで防卯ケース内への塵等の浸入や防塵ケ
ース内の空気汚染なとを防いている。
しかし、気体軸受を使用する場合に（ｄ］、静圧気体Ｉ
ｌｌ＋受では清浄な圧縮空気を軸受に供給する圧縮空気
供給装置か必要であり、動圧気体軸受では軸受動作可能
となる捷での間回転多面鏡と回転軸から成る回転体を回
転支持する補助回転支持装置か必要と斤る。このように
気体軸受を使用した光ビーム走査装置は周辺装置か必要
となり装置全体か枚雑（てなるばかりか気体軸受本体は
現在のところ量産性か両立されておらず非常にコスト高
と庁−〕でし寸う。
ｌｌ＋受では清浄な圧縮空気を軸受に供給する圧縮空気
供給装置か必要であり、動圧気体軸受では軸受動作可能
となる捷での間回転多面鏡と回転軸から成る回転体を回
転支持する補助回転支持装置か必要と斤る。このように
気体軸受を使用した光ビーム走査装置は周辺装置か必要
となり装置全体か枚雑（てなるばかりか気体軸受本体は
現在のところ量産性か両立されておらず非常にコスト高
と庁−〕でし寸う。
本発明は、外部空気中に含せれる塵の浸入を防止してい
るだけでなく、回転多面鏡の回転機構にｆｌｔ′、１滑
剤を封入した軸受を使用した場合でも、軸受内の潤滑剤
による鏡面やレンズ表面の曇りか発生しない光ビーム走
査装置を提供するものである。
るだけでなく、回転多面鏡の回転機構にｆｌｔ′、１滑
剤を封入した軸受を使用した場合でも、軸受内の潤滑剤
による鏡面やレンズ表面の曇りか発生しない光ビーム走
査装置を提供するものである。
第５図は本発明における光ビーム走査装置の一員体例を
示す断面図であって、第１図及び第２図等の従来と同一
部分は同一符号を付しておりその説明は省略する。１だ
第６図は第５図の要部の詳細を示す断面図、第７図は第
６図の更に要部拡大断面図である。図に示す様に回転多
面鏡１を覆う多面鏡カバー１１を設けており、該カバー
１１は光ビームを透過するだめの入出射窓１３に無反射
処理を施した窓ガラス１２を光ビーム人出面に設け、上
部に防塵ケース内の空気を吸込むための吸気口１４か形
成されている。上記多面鏡カバー１１は、光学系取付台
２１に固定された下部多面鏡カバー２６」−に固定さｆ
’しており、該カバー２６に同転軸２を回転自在に保持
するための回転機横取付合５０が固定されている。
示す断面図であって、第１図及び第２図等の従来と同一
部分は同一符号を付しておりその説明は省略する。１だ
第６図は第５図の要部の詳細を示す断面図、第７図は第
６図の更に要部拡大断面図である。図に示す様に回転多
面鏡１を覆う多面鏡カバー１１を設けており、該カバー
１１は光ビームを透過するだめの入出射窓１３に無反射
処理を施した窓ガラス１２を光ビーム人出面に設け、上
部に防塵ケース内の空気を吸込むための吸気口１４か形
成されている。上記多面鏡カバー１１は、光学系取付台
２１に固定された下部多面鏡カバー２６」−に固定さｆ
’しており、該カバー２６に同転軸２を回転自在に保持
するための回転機横取付合５０が固定されている。
上述の様に多面鏡１を覆うカバー１１及び２６を設ける
理由は、多面鏡の回転を利用してポンプ作用を行わしめ
、軸受７より飛散する潤／［１剤を防塵ケース内より外
部へ排気するためである。そのために、下部多面鏡カバ
ー２６の下位置に回転する固定台３０端而３１か位置す
るように排気路２７を形成する。つ捷り、軸受７の潤滑
剤か多面鏡１側へ飛散するのを防止するために固定台３
０に垂下部３２全形成しており、垂下部３２の端面３１
を囲うように上面にカバー２６を配置させている。
理由は、多面鏡の回転を利用してポンプ作用を行わしめ
、軸受７より飛散する潤／［１剤を防塵ケース内より外
部へ排気するためである。そのために、下部多面鏡カバ
ー２６の下位置に回転する固定台３０端而３１か位置す
るように排気路２７を形成する。つ捷り、軸受７の潤滑
剤か多面鏡１側へ飛散するのを防止するために固定台３
０に垂下部３２全形成しており、垂下部３２の端面３１
を囲うように上面にカバー２６を配置させている。
甘だ、上記排気路２７と連通する排気１］２８は、回転
機横取付合５０の上面に多数の四部を形成し、核取刊台
５０をカバー２６に固定することで構成している。
機横取付合５０の上面に多数の四部を形成し、核取刊台
５０をカバー２６に固定することで構成している。
一方、第５図に示す如く反射ミラー２５のミラ一台２４
も対向する光学系取付台２１の側面には、外部空気取入
れ用の取入口１５か形成されており、この取入「１１５
は、塵等が防塵ケース内に入いるのを防止するフィルタ
部材か取伺けらｉｔでいる。
も対向する光学系取付台２１の側面には、外部空気取入
れ用の取入口１５か形成されており、この取入「１１５
は、塵等が防塵ケース内に入いるのを防止するフィルタ
部材か取伺けらｉｔでいる。
以」二の機構において以下にその作用を説明する。
回転多面鏡１は、モータロータユニット９かモータロ−
タユニット 転され軸２を介して固定台３０及びバランス調整部材４
共々回転さ、ｆｔ、光源２２、収束レンズ２３全通して
出射される光ビームを反射ミラー２４側へ偏向反射し感
光体又Ｃ１，原稿上に走査する。この多面鏡１の回転に
より防塵ケース内の空気は、上部多面鏡防塵カバー１１
の吸気口１４より矢印すの方向に吸込捷れる。吸気口１
４全通して吸込１汎た空気は、多面鏡防塵カバーＩ＋、
２６とで構成されたカバー内を矢印ｃ、ｄの方向に沿っ
て流れ、更にカバー内と連通した排気路２７を矢印ｅ方
向に流れる。更に上記排気路２７と夕１部とを連通ずる
排気口２８を介し２て矢印ｆに示す様に防塵ケース内の
空気か外部へ排気される。
タユニット 転され軸２を介して固定台３０及びバランス調整部材４
共々回転さ、ｆｔ、光源２２、収束レンズ２３全通して
出射される光ビームを反射ミラー２４側へ偏向反射し感
光体又Ｃ１，原稿上に走査する。この多面鏡１の回転に
より防塵ケース内の空気は、上部多面鏡防塵カバー１１
の吸気口１４より矢印すの方向に吸込捷れる。吸気口１
４全通して吸込１汎た空気は、多面鏡防塵カバーＩ＋、
２６とで構成されたカバー内を矢印ｃ、ｄの方向に沿っ
て流れ、更にカバー内と連通した排気路２７を矢印ｅ方
向に流れる。更に上記排気路２７と夕１部とを連通ずる
排気口２８を介し２て矢印ｆに示す様に防塵ケース内の
空気か外部へ排気される。
この様に防塵ケース内の空気は、回転多面鏡１の回転時
のポンプ作用に１す、外部へ排出さ！上る。
のポンプ作用に１す、外部へ排出さ！上る。
そのため排出された空気の計と同量の空気か、光学系取
付台２１に設けられた外部空気取入口１５から防塵ケー
ス内に補給されるのである。このとき補給される外部空
気に塵等を含丑めように外部空気取入口１５にはフィル
タ部材１６か取付けられ５ているので防塵ケース内の空
気は常にＭ浄に保たれるのである。
付台２１に設けられた外部空気取入口１５から防塵ケー
ス内に補給されるのである。このとき補給される外部空
気に塵等を含丑めように外部空気取入口１５にはフィル
タ部材１６か取付けられ５ているので防塵ケース内の空
気は常にＭ浄に保たれるのである。
一方、回転多面鏡１’（ｉｚ固固定る固定台３（）は図
に示すように軸受７に被さるように垂下部３２を形成し
ていることから、４１＋受７から飛散した肋滑剤か、多
面鏡カバー内及び防塵ケース内に広がることかない〇万
か一軸受７から矢印ｇの様に４“ｌ′ｌｌ１ｉ？剤か飛
散したとしても、潤滑剤は固定台３０の下面に付着する
か、排気路２７を矢印ｅの様に流ノ］、る空気と共に排
気口２８を介して外部へ１．１１出されて］−まう。し
たかって回転多面鏡カバー内及び防塵ケース内は常に清
浄空気で４１４され、塵や潤Ｐｉｔ剤による回転多面鏡
１、収束レンズ２３、反射ミラー２５、ガラス板１９、
窓ガラス１２等の光学部品の汚染を防止することかでき
る。
に示すように軸受７に被さるように垂下部３２を形成し
ていることから、４１＋受７から飛散した肋滑剤か、多
面鏡カバー内及び防塵ケース内に広がることかない〇万
か一軸受７から矢印ｇの様に４“ｌ′ｌｌ１ｉ？剤か飛
散したとしても、潤滑剤は固定台３０の下面に付着する
か、排気路２７を矢印ｅの様に流ノ］、る空気と共に排
気口２８を介して外部へ１．１１出されて］−まう。し
たかって回転多面鏡カバー内及び防塵ケース内は常に清
浄空気で４１４され、塵や潤Ｐｉｔ剤による回転多面鏡
１、収束レンズ２３、反射ミラー２５、ガラス板１９、
窓ガラス１２等の光学部品の汚染を防止することかでき
る。
以上Ｈ）１．明した実施例によね、ば、回転多面鏡及び
その回転機構か回転多面鏡カバー１１．２６ｋ（”ｌ加
するσｒとにより防塵ケース内の空気を排出するポンプ
となり、同回転多面鏡カバーと回転多面鏡を固定する固
定台３０と回転機構取付台５０等とで（１４成される入
組んだ排気路２７全通して、防塵ケース内の空気を防塵
ケース外へ排出し、代りにフィルタ部利１６を通過させ
た清浄な空気を防塵ケース外から防１夷ケース内へ取入
れる。この時、回転機（１４の軸受７より潤滑剤か飛散
したとしても、入組んだ排気路のため潤滑剤は、排気路
の内壁に付着するか排気路２７内を流れる空気流により
防塵ケース外へと排出されてし捷う。したがって防塵ケ
ース内は厘−や潤滑剤によって汚染されることなく常に
空気か清浄に保たれる訳である。
その回転機構か回転多面鏡カバー１１．２６ｋ（”ｌ加
するσｒとにより防塵ケース内の空気を排出するポンプ
となり、同回転多面鏡カバーと回転多面鏡を固定する固
定台３０と回転機構取付台５０等とで（１４成される入
組んだ排気路２７全通して、防塵ケース内の空気を防塵
ケース外へ排出し、代りにフィルタ部利１６を通過させ
た清浄な空気を防塵ケース外から防１夷ケース内へ取入
れる。この時、回転機（１４の軸受７より潤滑剤か飛散
したとしても、入組んだ排気路のため潤滑剤は、排気路
の内壁に付着するか排気路２７内を流れる空気流により
防塵ケース外へと排出されてし捷う。したがって防塵ケ
ース内は厘−や潤滑剤によって汚染されることなく常に
空気か清浄に保たれる訳である。
本発明は回転多面鏡を覆うカバーを設け、該カバーに空
気吸込口及び吸込んだ空気をカバー外に排気する排気ｎ
ｋ影形成、回転する多面＠を利用して上記吸込口より排
気口へ空気の流れを形成しており、多面鏡を含む光ビー
ム走査のための光学系を防塵ケースで棲ったケース内を
常に清浄された空気状態に保つことができる。
気吸込口及び吸込んだ空気をカバー外に排気する排気ｎ
ｋ影形成、回転する多面＠を利用して上記吸込口より排
気口へ空気の流れを形成しており、多面鏡を含む光ビー
ム走査のための光学系を防塵ケースで棲ったケース内を
常に清浄された空気状態に保つことができる。
又、回転多面鏡の回転機構に気体１ｔｆｂ受の様な特殊
な軸受を使用しなくてもよく、ごく一般的に使用されて
いるころかυ軸受を使用した場合でも軸受内の潤滑剤に
よる光学部品の汚染を心配しなくともよい。
な軸受を使用しなくてもよく、ごく一般的に使用されて
いるころかυ軸受を使用した場合でも軸受内の潤滑剤に
よる光学部品の汚染を心配しなくともよい。
第１図及び第２図は従来の防塵ケース内に収容された光
ビーム走査装置の一具体例を示す十面図及び側断面図、
第３図は第２図の要部断面図、第４図は第３図の拡大要
部断面図、第５図は本発明による防塵ケース内に設けら
れる光ビーム走査装置の一具体例を示す側断面図、第６
図は第５図の回転機構部の詳細を示す断面図、第７図は
第６図の拡大要部断面図である。
ビーム走査装置の一具体例を示す十面図及び側断面図、
第３図は第２図の要部断面図、第４図は第３図の拡大要
部断面図、第５図は本発明による防塵ケース内に設けら
れる光ビーム走査装置の一具体例を示す側断面図、第６
図は第５図の回転機構部の詳細を示す断面図、第７図は
第６図の拡大要部断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光ビームを出射する光源と、同光ビームを収束させ
る収束レンズと、同光ビームを偏向する回転多面鏡と、
同毘ビームを目的の方向に反射させる反射ミラー等を一
つの防塵ケース内に構成した光ビーム走査装置において 防塵ケース内に位置する回転多面鏡を覆うカバーを設け
、同カバーと上記回転多面鏡の回転により防塵ケース内
の空気を上記カバー内に吸込む吸込口を上記カバーに設
は且つ該カバー内に吸込んだ空気を上記ケース外に排気
する排気口を設けると共に上記防塵ケースの一部にフィ
ルタ部材を介して外部空気を取入れる取入口を設けたこ
とを特徴とする光ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57160466A JPS5948728A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 光ビ−ム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57160466A JPS5948728A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 光ビ−ム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5948728A true JPS5948728A (ja) | 1984-03-21 |
Family
ID=15715550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57160466A Pending JPS5948728A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 光ビ−ム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5948728A (ja) |
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-
1982
- 1982-09-13 JP JP57160466A patent/JPS5948728A/ja active Pending
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