JPH0717055Y2

JPH0717055Y2 - 光走査装置

Info

Publication number: JPH0717055Y2
Application number: JP1986060313U
Authority: JP
Inventors: 照夫小松; 義則杉浦; 秀樹佐藤
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1986-04-22
Filing date: 1986-04-22
Publication date: 1995-04-19
Anticipated expiration: 2001-04-22
Also published as: JPS62173715U

Description

【考案の詳細な説明】（考案の属する技術分野）本考案はレーザービーム等の光束を走査して画像形成を
行なうレーザービーム・プリンタ、レーザ複写機等の画
像形成装置やバーコードリーダ・レーザー測長器等の光
束を走査する測定器等に用いられる光走査装置に関す
る。

（背景技術）本出願人は光走査装置の光学的精度を簡単な構成で高め
る考案を特願昭60−54763号で先に提案した。

而して、この特願昭60−54763号で提案した考案で高い
光学的精度、低コスト化は得られるものの、軸受を受け
ている部分の強度にムラが生じ、耐久性の低いものや、
高速回転に耐えられず損傷するものが発生し、更に信頼
性の高いものが要求されている。

（考案の目的）本考案の目的は、上記問題を解消し、低コストで、高い
光学的精度が得られ、且つ耐久性，高速回転にも耐えう
る信頼性の高い光走査装置を提供するものである。

（考案の概要）上述の目的を達成するための本考案は、光源から出射さ
れた光を偏向走査する回転多面鏡と、前記回転多面鏡の
回転軸を回転可能に支持する軸受けと、前記軸受けを保
持する保持部と、前記保持部と一体成型されている基板
と、を有し、前記保持部は基板面から前記回転多面鏡の
回転軸と平行な方向に突出しており、前記保持部と前記
基板の連結部は周辺より厚みが厚い傾斜面を有すること
を特徴とする光走査装置を提供するものである。

（考案の実施例）以下、本考案を図面に基づき説明する。

尚、同一機能を果たす部材には同一番号を符してある。

また、本考案を次の項目に分けて順次説明する。

（１）光走査手段保持機構（２）結像部材保持機構（３）レーザ出力部保持及びレンズ調整機構（４）ビームデイテクター保持機構（５）ノイズ防止対策（６）複数レーザービームによる光走査（７）光走査装置を用いた画像形成装置まず、第５図を用いて本考案の全体にわたる簡易的な概
要を説明する。

レーザ出力部６より出射されたレーザービームはシリン
ドリカルレンズによりピント決定された後、ポリゴンミ
ラー２により走査され結像レンズ31,32を通過し感光ド
ラム１上に結像される。

５はレーザ出力部６とポリゴンミラー２を有する光走査
手段と結像レンズ31,32を一体的に収容する光学箱であ
り、上部は第９図，第10図に示されるカバーにより密閉
されてハウジングを構成している。

この光学箱とカバーは合成樹脂からなるモールド成型品
である。

この光学箱とカバーによるハウジングは、塵埃により光
束に悪影響、即ち、レンズにゴミが付着して透過率が低
下したり、レーザ出力部にゴミが付着して記録情報が欠
けたりすることを防止でき有効である。

（１）光走査手段保持機構第１図は本考案の一実施例の断面図である。

図において、Ｌはレーザービームで回転多面鏡２により
走査される。この回転多面鏡２は駆動モータ部17により
回転する。

この回転多面鏡２と駆動モータ部17で光走査手段を形成
している。駆動モータ部17には、基板５と一体成形され
た保持部に保持されステータコイル21に流す電流量を制
御し回転ムラをなくすためのプリント基板24が設けられ
ている。また22はロータマグネツトで回転支軸10に固定
されており、ステータコイル21により発生する電磁界に
より回転する。

筒状の保持部23は上端部と下端部でボールベアリング、
ニードルベアリング等の回転支軸10を回転可能に支持す
る軸受12を夫々保持する。これらの軸受12は、正確な水
平度を保ち、かつ同軸受12に回転可能に軸支された回転
多面鏡２の回転支軸10を直角に保つよう接着、圧入等に
より高精度に組付けられている。

このようなロータマグネツトとステータコイルが水平に
対向している構成は光走査手段の高さを低く押えること
ができて好ましい。

このように基板５と一体成形された基板と同一材料の保
持部23により軸支12は支持されている。これらの軸受12
を支持する保持部23は基板５に対して一体成形であるの
で高精度に設けられており、回転支軸10の位置精度、垂
直精度は非常に高く、画像形成装置に用いた場合でも鮮
明な画像が得られ、且つ、組立てにおいても非常に簡単
である。

また、上記同一材料は樹脂にカーボンを混入したもので
あり、僅かに導電性をもたせている。

次に、第２図，第３図，第４図を用いて別の実施例につ
いて説明する。

第２図，第３図，第４図は基板５が光学箱を成してお
り、この基板５とカバー11とでハウジングを形成し、こ
のハウジングは不図示のレーザ出力部と光走査手段と、
結像レンズを一体的に収容している。

レーザービームは微細なゴミによっても大きく影響を受
けるため、このハウジングは非常に有効である。またハ
ウジングの基枠となる光学箱は型枠によりモールド成形
しており製造が簡単で、且つ、製品ムラが少ない。

第２図は、いわゆるインナーロータ型の光走査手段を構
成している。ステータコイル21は基板５に、ロータマグ
ネツト22を回転多面鏡２の回転支軸10に夫々固定してい
る。また、回転支軸10の下部は、基板５と一体成形され
高精度に位置決めされている保持部23に保持された下部
軸受12により精度良く支持される。また、回転支軸10の
上部は基板５にビスで取りつけられた別の支持部材25に
保持された上部軸受12により支持されている。この回転
支軸10は基板５と一体成形された保持部23により優れた
位置精度で保たれているが、更に、回転多面鏡２の平行
度及び直角度の精度を高くするために、ビス止めに微調
整をもたせる等の周知の方法により調整可能に支持する
ことが更に好ましい。

図中13は回転軸10の下端に固定された回転制御用エンコ
ーダ、14は回転多面鏡２の回転制御信号検知素子を示
す。

また、この光学箱はその成形精度を高精度に保つ意味か
ら、高精度なプラスチックモールド成形により成形する
のが望ましいが、通常のダイヤキヤスト成形でも構うと
ころでなく、特に、ダイキヤスト成形したものを二次加
工したものでもその精度を出すことは可能である。

この光学箱も樹脂にカーボンを混入した材料である。カ
ーボンを混入することにより光学箱は黒くなり、レーザ
ーの反射率は低下し、不慮の事故等によるレーザービー
ムの危険性をも減少している。

第３図はいわゆるアウターローター型の光走査手段を構
成している。

回転多面鏡２の回転支軸10の下部と下部を支持する軸受
12は２つとも、基板５と一体成形により高精度に設けら
れた保持部23により保持されている。

このように保持部が少なくとも回転支軸の上方と下方の
軸受を保持することは、位置決め精度が高いのはもちろ
んのこと、回転多面鏡の平行度及び直角度も高精度であ
り、更に好ましい実施例である。

第４図は第１図に示す水平対向型の光走査手段を構成し
ているもので、保持部23は回転支軸の上方と下方の支持
部である軸受を保持していて好ましい。また前述した様
に高さを低くできるため小型化が図れる。また、このプ
リント基板24は第６図に示されるように基板５に設けら
れたビス止め部241にビス止めされる。また242は基板５
と一体成形された突出ピンであり、プリント基板24に設
けられた穴に嵌合し、プリント基板の位置決めを行なっ
ている。

次に第６図、第７図を用いて、別の実施例について説明
する。

第６図は光学箱を上方から見た断面図である。

図において基板５と一体成形された筒状の保持部23の内
側には軸受12と金属ブツシユ121から成る支持部が設け
られている。この金属ブツシユ121を設けることにより
高速回転する回転多面鏡の影響による保持部23の摩耗を
防止し、長寿命化が図れる他、保持部と回転支軸の支持
部との接触面積が増大し、更に高精度が実現できた。

この金属ブツシユは保持部と同時成形、即ち、基板の製
造時に、型枠にあらかじめ金属ブツシユを入れておき、
この型枠でモールド成形することにより、更に高精度化
を果たしている。

この光学箱に前述水平対向型の光走査手段を用いた実施
例を第７図を用いて説明する。

第７図はＡの一点鎖線での断面図である。

回転支軸10は軸受12により回転可能に支持され、この２
つの軸受12は金属ブツシユ121により位置決めされる。
更に、この軸受12と金属ブツシユ121から成る支持部は
保持部23により保持されている。

金属ブツシユには突出部232が設けられており、保持部
による保持能力をアツプさせると共に位置決めを行なっ
ている。

また基板５と保持部23との連結部は231で示すように周
辺より厚く設けられており、強化されている。この厚く
することによる強化処理はモールド成形時にできるため
非常に簡単であり有効である。この強化処理により強度
のばらつきによる保持部23の損傷を防止でき、更には耐
久性に優れ、且つ、高速回転にも耐え、振動しない等の
効果が得られる。また、この強化処理は、厚くする他に
も金属環を同時成形する等の構成でも構わないが厚くす
る構成が特に好ましい。

また基板５には、一体成形された円筒状の突出部51が設
けられている。この突出部の形状にはとらわれることは
ないが、強度の観点から円筒状が特に好ましい。この突
出部51は回転支軸10より下方に延びておりハウジングの
取り付け時やハウジングを置いたとき等に回転支軸10に
衝撃が加わり、回転多面鏡の光学精度が狂うのを防止し
ている。

更には、上記強化処理による強化を尚一層高められる。
また金属ブツシユ121を光学箱成形後に挿入した際に、
保持部23が破損する場合があった。この筒状の突出部51
を設けた場合、実質的に保持部23を強化していることに
もなり、この破損もなくなり、金属ブツシユ後から挿入
する際の問題をも解決できた。

レーザ光学系は非常に高い精度が望まれ、微小な光学精
度の狂いも大きな影響となって現れるもので、上記構成
の様にハウジングを置いても回転支軸がぶつからないよ
うな構成は非常に好ましい。

更には、回転多面鏡の一部が露出することにより、高速
回転に伴う昇熱を押さえ放熱効果が高いため、熱により
ハウジングはゆがんだり弱くなることがなく好ましい。
この放熱効果はハウジング下方にフアンによる空気流を
形成することで尚一層効果の大きいものとなる。

尚、第７図ではプリント基板の下に鉄板211を設けてあ
るが、これはステータコイル21による電磁界を増強する
ものである。

また、光偏向部材を精度良く位置決めする保持部23の中
心、即ち光偏向部材の回転中心はレンズ31,32の光学中
心に関してレーザ出力部６とは反対側に設けられてい
る。この構成により回転多面鏡２をレンズ31,32に近づ
けることができ装置の小型化が実現できる。

以上、光走査手段は回転多面鏡で光走査するものを代表
的に用いて説明したが、本考案はホログラム等の回転す
ることにより光走査するものであれば、全てに適用可能
であることは言うまでもない。

また、軸受も空気、液体の流体軸受等でも構わないこと
はもちろんである。この場合、保持部23が流体を導く路
壁となる構成となっても、本考案では、支持部を保持す
るという表現に含めるものとする。

このように、本考案によれば光走査手段を非常に簡単
に、且つ、低コストで更には非常に高精度に設けられる
ことは上記説明で明らかである。

もし、この光走査手段の取り付け精度が悪いと、レーザ
ービームは所望しない方向を走査したり、ひどい時には
走査できなくなってしまう。

これを考えるに高精度が簡単な構成で得られる本考案は
非常に有効であることが理解できるであろう。

尚、光学精度は光走査手段の他の光学部材にも依存され
る。故にレンズやレーザ出力部も高精度に支持されてい
ることが非常に好ましい。この観点に基づき以下、説明
を続ける。

（２）結像部材保持機構まず、第６図を用いて概略を説明する。

図中、31′,32′,33′にはレーザービームを結像するた
めの３つの結像レンズが夫々収容されている。

収容部31′,32′の保持機構を第８図を用いて説明す
る。

第８図はこの保持機構の斜視図である。

レンズ31は311によって３点支持されると共に312により
両側部のレンズ31の前端、後端、側端を位置決めされ
る。

また313はレンズ31の保持部311よりも約50μｍ程度、高
さの低い領域であり、この領域とレンズ31との間には接
着剤層が設けられ、レンズ31をしっかりと固定してい
る。レンズ保持部311には接着剤は塗布されておらず、
領域311で接着固定しているためレンズが接着剤により
浮き上がることやレンズが傾いたりすることがなく高い
位置精度が得られる。

このようなレンズ保持の部材は基板５と一体成形されて
おり、レンズ自体の位置精度が高いだけではなく、保持
部23と一体成形であり、光走査手段との相対位置関係は
非常に高精度であり、結像位置は狂うことがない。更に
は光学系の基準となる光学中心も光走査手段とレンズで
しっかり合致する。

故に、光走査装置は光路精度が高く信頼性の優れた光走
査が実現できた。

また、この313をつなぐようにはり部315が設けられてい
る。このはり部315は光学箱のレンズ長手方向にわたっ
て延びており、光学箱を強化している。このはり部315
も基板５と一体成形されている。

このはり部は光学箱の強化ばかりではなく、レンズ下部
の空間をふさぎ防じんをも行なう。

レンズ32の保持もレンズ31と同様であり、レンズ保持部
321により３点保持され、322により位置決めされる。ま
た接着剤は領域323に塗付されている。このレンズ保持
の部材も基板５と一体成形されている。

次にレンズ31の保持に付随した防じん機構について説明
する。レンズ下部の防じんは、はり部315によって行な
われている。

レンズ31の両側端には基板５と一体成形された突出部31
4が設けられている。この突出部314はレンズ31と当接し
ている。この突出部314はレンズ31に対して当接するこ
とが一番好ましいが、わずかに離れていても実用上構わ
ない。

次にこのレンズの上部の防じんについて説明する。

第９図，第10図は基板５が構成している光学箱のカバー
29を示す。

第９図はカバーの下面図である。このカバーはカバーと
一体成形された突出部316が設けられている。このカバ
ー27には４つの結合部が設けられており、第６図に示さ
れる光学箱の結合部272と結合してハウジングを構成す
る。

この突出部316は第10図の断面図にみられるように先端
が細くなっており、且つ、先端は傾斜している。

突出部316はレンズ31の上面に接し、レンズ上方も防じ
んされる。この突出部316も当接、もしくは圧接してい
た方が好ましいが、わずかに離間していても実用上構う
ところではない。

また、突出部316は先端が傾斜しているため圧接効果が
高く密着度が大きい。また、カバーと光学箱との組み込
みムラがおきて、レンズと突出部316との相対的高さ関
係が変化して、近づきすぎても、この傾斜により圧力を
吸収できる。この効果は突出部316の先端を細くするこ
とでも達成され、これらの組合せも尚一層大きいものと
なる。

レーザー光学系は微小なゴミによっても、一部レーザー
が欠けてしまったり、透過率、反射率の変化により、走
査ムラが生ずるため、このように、レンズの上方、側
方、下方をしっかりと防じんしているため、ハウジング
内にはゴミはほとんど侵入せず、もしくは全く侵入せ
ず、常に信頼性の高いレーザービームの走査が実現でき
た。

レンズ33の保持については調整機構に含めて次の項で説
明する。

（３）レーザ出力部保持及びレンズ調整機構第６図，第
７図を用いて説明する。

第７図において、レーザ出力部はレーザーチップ61とレ
ーザービームを収光するレンズ62とレーザーチップ61と
レンズ62を収容する部材63,64から成る。

このレーザ出力部６は第６図中、点線で示される嵌合穴
部65に差し込まれ収容、位置決めされる。

この嵌合穴部65を形成する収容部66は基板５と一体成形
されており、レーザ出力部６は収容部66にしっかりとビ
ル止めされている。

レーザ出力部６と光走査手段との位置精度、特にはレー
ザ出力部から回転多面鏡に向かうレーザービームは光学
的精度が非常に要求される。もし、この精度が狂うと回
転多面鏡は所望しない方向へレーザービームを走査する
ことになってしまい、光学走査装置としては使用できな
いものになってしまう。

本考案によれば保持部23とレーザ出力部の収容部66は一
体成形されているため光学的精度は非常に高い。

このように高精度に保持されたレーザ出力部６から出力
されたレーザービームはシリンドリカルレンズ33により
レンズの高さ方向における径、即ち結像面におけるピン
トを決定されてから回転多面鏡に向かう。

このシリンドリカルレンズ33も基板５と一体成形された
収容部33′により支持されている。第６図に示されるよ
うに収容部33′はレンズ31,32の保持機構と同様にシリ
ンドリカルレンズ33を保持する保持部331と支持部331よ
り50μｍ程高さが低い領域332を有し、シリンドリカル
レンズ33と領域332の間には接着剤層が設けられ、しっ
かり固定されている。

保持部331は接着剤の塗付領域332をはさんで両側に設け
られている。両側に保持部331を有することによりシリ
ンドリカルレンズ33の水平度は高精度に保持される。

レーザ出力部をいかに高精度に支持しても、レーザーチ
ップ自体のバラツキは押さえられない。

レーザーチップからの出力ビームの出射角度が異なると
レーザービームの走査精度は極端に低下する。

シリンドリカルレンズ33は、このレーザーチップのばら
つきによりビームの出射角のばらつきを補正して、光走
査手段にレーザービームを向かわしめる。

また、このシリンドリカルレンズ33はレーザービームの
レンズの高さ方向における径を決定する、即ち、レーザ
ービームのピントを決定するものである。

このシリンドリカルレンズの位置によりレーザービーム
は調整される。この調整というのは前述一般のことを言
う。

前述したレーザーチップのばらつきやシリンドリカルレ
ンズ自体のばらつきによりレーザービームのピントは微
妙に異なってくる。それ故、シリンドリカルレンズ33を
取り付ける際に取り付け位置の調整が可能であることが
好ましい。また、この調整はレーザービームの出射方向
に行なうことにより調整される。このピント調整のため
のシリンドリカルレンズの取り付け位置調整はレーザー
ビームとの平行度が非常に望まれる。この平行度が狂う
と、前述の回転多面鏡に向かうレーザービームの補正効
果を減じてしまうからである。

このシリンドリカルレンズ33の取り付け位置調整機構を
次に説明する。

第６図、第７図に示されるように、シリンドリカルレン
ズ33の収容部33′と一体成形即ち基板５と一体成形され
たレーザービームと平行な壁部333が設けられている。
この壁部は別体で設けられていても構わないが保持部23
と一体成形されていることにより精度は高く更にはシリ
ンドリカルレンズの収容部33′、レーザ出力部６の収容
部66と一体成形されており、レーザービームとの平行度
は非常に高精度である。

シリンドリカルレンズ33は取り付ける際にその側部を壁
部333に沿って位置調整することにより、レーザービー
ムと平行に微小なアナログ的調整ができる。

この調整により回転多面鏡に向かうレーザービームの角
度補正能力を全く損なうことなく、レーザービームのピ
ント調整ができるため、走査されるレーザービームは非
常に優れた、精度の良いものとなる。

（４）ビーム検知機構光走査装置においては、一般にレーザービームの走査位
置を検知することが広く行なわれている。

而して、このビームを検知するためのビームデイテクタ
ーは精度良く保持されなくてはならない。

このビームデイテクターの取り付け精度が悪いと、ビー
ムデイテクターは間違った走査位置を検知していること
になる。

本考案の実施例のビームデイテクターの保持機構を第６
図，第11図を用いて説明する。

第11図Ａは第６図の一点鎖線B,C,Dに沿った断面図であ
る。

回転多面鏡により走査されたレーザービームＬは結像レ
ンズ32,31を通過し、通過したレーザービームの内、走
査位置がミラー352にあるとき、このミラー352により反
射され、この反射された走査レーザービームの一部がビ
ーム検知手段36により検知され、光フアイバー361に入
射される。

ミラー352を有する反射手段35は、ミラー352が取りつけ
られる金具353とミラー352を保持する板バネ354とから
成る。

この反射手段は基板５と一体成形された基準ピンが金具
353の嵌合穴が差し込まれた位置決めされたビス355によ
りビス止めされる。

この位置決めのもようを第11図Ｂに示す。

金具353は基準ピン351を回動の中心としたビス止め用の
穴を有し、反射手段35が基準ピン351を中心として回動
可能となっている。

この基準ピンは基板５と一体成形しているため、位置精
度、及び、レンズや回転多面鏡との相対位置精度が非常
に高く、反射手段の取り付け精度は非常に優れている。
また基準ピンを中心として回動可能であるため反射手段
自体のばらつきにも対応でき、更に精度はアツプする。
また、異なるビーム走査位置を検出したい場合、この回
動する構成により、簡単に調整できる。

次にビーム検知手段の保持機構について説明する。

ビーム検知手段36はレーザービームを通す光フアイバー
361とフアイバーにレーザービームを通すためのコネク
ト部363とレーザービームを集光するための集光レンズ3
62とからなる。このビーム検知手段36は基板５と一体成
形され位置精度の高い収容部36′に位置決め、且つ保持
される。

この保持機構を第６図を用いて更に詳しく説明する。

収容部36′は光フアイバーを収容する第１収容部361′
とコネクト部を収容する第２収容部362′と、レンズを
収容する第３収容部363′から成る。また、収容部36′
は自らスリツト364を形成しており、レンズに入射され
るレーザービームを絞って、更に検知精度をアツプして
いる。

このように基板５と一体成形された収容部36′にビーム
検知手段は保持、且つ、位置決めされるため、反射手段
35に対しての位置精度も非常に高く、確実にビーム走査
位置を検知できる。

（５）ノイズ防止対策回転多面鏡は高速回転するため、摩擦帯電してしまい、
このチヤージによりレイズとなり回転ムラが起きたり、
ひどいときには制御回路を誤動作させてしまうことがあ
る。

このノイズ対策における本発明の実施例を説明する。

第12図Ａに示されるリング状で端子371を有する電極37
を金属ブツシユにはめこみ、保持部23と同時成形する。
この電極37のリング部は保持部23にうめこまれており、
保持部23からは端子371だけが露出している。この端子3
71を接地することにより、軸受12と回転支軸10とで発生
したチヤージは金属ブツシユを介して端子371から流れ
出してしまい、ノイズは発生しない。また、金属ブツシ
ユ121自体に端子を設け、この端子から接地しても良い
し、更に構成は簡単となる。

また、この光走査手段の周辺にたまったチヤージによっ
ても、回転多面鏡の回転ムラ等が発生する場合があり、
基板５とカバー部材27の少なくとも光走査手段近傍を導
電性塗装して接地するか、基板５を導電性にし、更には
接地すれば良い。本実施例では基板５はカーボンが混入
されているため、導電性であり、このようにノイズ防止
効果も持ち合わせている。

このように本考案実施例によれば、摩擦帯電による回転
多面鏡の回転ムラ、制御回路の誤動作等も防止できる。

（６）複数レーザービームによる光走査光走査装置の光走査を高速化する上で、昨今、複数のレ
ーザービームにより光走査することが考えられている。

この複数のレーザービームによる光走査を、第13図を用
いて説明する。

第13図はレーザービームプリンタの簡易斜視図である。

レーザー出力部６は半導体レーザチツプ6a,6b,6cを有す
るレーザアレイである。この半導体レーザチップ6a,6b,
6cは記録情報に応じて夫々独立に光変調される。レーザ
出力部６より出力された３本のレーザービームLa,Lb,Lc
は同一の回転多面鏡２により光走査され走査面38上をＥ
方向に走査しつつ、走査面はＦ方向に移動して２次元的
に走査される。

この２次元的走査により、走査面38上には記録情報に応
じた像が形成される。

このように、図中Ｅ方向の走査を３本のビームで走査す
ることにより、走査面38における２次元的な走査スピー
ドは単一ビームにくらべ３倍となる。

この様に複数ビームによる光走査は高速である一方、複
数のビームの光学部材を同一の光走査手段レンズ等の光
学部材を用いることや、また、夫々のビームの相対的位
置精度等がもとめられるため、単一ビームにもまして更
に光学的精度が要求される。

それ故、保持部23と他の光学部材の保持部、収容部を一
体成形して、高い光学的精度の得られる本考案は、この
様に非常に高精度が要求される複数のレーザービームに
よる光走査においては特に有効であることがわかる。

また、複数の半導体レーザーチップをもつレーザアレイ
による光走査では光走査の解像度をアツプするためにレ
ーザアレイを傾けることが考えられている。

このレーザアレイを傾けることについて第８図を用いて
説明する。

いかにレーザアレイといえども、レーザチツプ間を非常
に近接させることは困難であり、複数ビームで走査する
場合、第８図Ａに示すように各ビームでd₁の間隔があい
てしまう。このビーム間隔d₁は光走査できないために、
高速化は図れても光走査の解像度は向上できない。

これに対し、レーザーアレイを第８図Ｂに示すように傾
けることにより、ビーム間隔d₂はd₂＜d₁となり、解像度
をも向上させることができる。

而して、この傾け角θはバラツキが生じると解像度にも
バラツキがでてしまい、極端に解像度が低下したりす
る。

また、傾け角θに応じて、ビームの走査開始位置を制御
すること等が必要であり、このθにばらつきがあると、
解像度は低下してしまい、信頼性の低い光走査となって
しまう。

故に、レーザ出力部６の保持、且つ、位置決めを保持部
23と一体成形された収容部で高精度に保持、且つ、位置
決めする本考案が特に有効であることがわかる。また、
シリンドリカルレンズ調整機構、ビーム検知機構にも全
く同様のことが言えることは当然である。

（７）光走査装置を用いた画像形成装置次に光走査装置を用いて像担持体上に像形成する画像形
成装置について説明する。

第14図は本考案を適用したレーザービームにより記録す
る画像形成装置であるレーザービームプリンタの断面図
である。

この第14図について説明する。

図において、39は図中矢印方向に回転する感光体ドラム
である。感光体ドラム39の周りにはドラム表面を均一に
帯電する帯電器40、感光体ドラム上の潜像を現像すう現
像器41、現像器41により現像された現像像を紙に転写す
る転写帯電器44、転写後残余している不要な現像剤を除
去するクリーナー46が順次設けられている。42は記録紙
を収容する給紙カセツト、43はレジストローター、45は
転写後の像を半永久化する定着器である。49はフアンで
ありハウジング下面に空気流を形成し光学系の昇温を防
止する。基板５と一体成形された収容部に収容されたレ
ーザー出力部６は外部信号により、記録情報に応じて光
変調されたレーザービームを出力し、このレーザービー
ムは基板５と一体成形された支持部及び収容部により高
精度に保持及び位置決めされているシリンドリカルレン
ズ33、回転多面鏡２、結像レンズ32,33を介して基板５
とカバー部材27で構成されているハウンジングから出射
し、ミラー48を介して感光体ドラム39上を走査し、感光
体ドラム39上には記録情報に応じた電荷パターンが形成
される。

34は基板５の下面に基板と一体成形で設けられたハウジ
ングの位置決め部材である。この位置決め部材は結像レ
ンズの光学中心線即ち、第６図に示す一点鎖線Ｇ上に一
致するように設けられており、感光体ドラム39及びミラ
ー48と高精度に位置決めされている。この位置決め部材
で位置決め精度を高めることにより感光体ドラムに対す
る相対的位置精度が高くなるため更に優れた画像を得る
ことが可能となった。

ドラム上の電荷パターンは現像器41によって顕画化され
る。この顕画化された現像像は転写帯電器44により給紙
カセツト42から送られる記録紙上に転写された後、記録
紙は定着器45へと送られ定着される。転写後に感光体ド
ラム上に残余した現像剤はクリーナー46により除去され
次回の使用に備えられる。

このような本考案を適用した画像形成装置は、光走査位
置感光体上でのレーザービームのピント等の光学的精度
が非常に高いため鮮明で乱れのない画像が得られる。

以上、本考案を項目順に詳細に説明したが、本考案はそ
の組合せを自由に行ってもいいことは当然である。

〔効果〕

以上説明した様に、本考案によれば、高い光学的精度が
安価に得られ、且つ、耐久性及び高速回転にも強く、光
偏向部材の振動のない信頼性の高い光走査装置が得られ
た。

【図面の簡単な説明】

第１図，第２図，第３図，第４図は夫々本考案の光走査
手段を示す実施例の断面図、第５図は本考案の光学走査
装置の実施例であり本考案の概要を説明する図、第６図
は本考案の光学箱の実施例の上面図、第７図は本考案の
実施例のレーザ出力部から光走査手段を示す断面図、第
８図Ａ、第８図Ｂは夫々本考案の複数のレーザービーム
の発生を説明するための図、第９図は本考案実施例のカ
バー部材の下面図、第10図は第９図に示される実施例の
断面図、第11図Ａは本考案の実施例のビーム検知機構を
示す断面図、第11図Ｂは本考案の実施例のビーム検知機
構を説明する上面図、第12図Ａは本考案の実施例の接地
するためである電極を示す上面図、第12図Ｂは第12図Ａ
に示される電極を用いた接地機構の実施例の断面図、第
13図は本考案の複数のレーザービームによる光走査の説
明図、第14図は本考案の画像形成装置の断面図、であ
る。図においてＬはレーザービーム、２は回転多面鏡、５は
基板、10は回転支軸、12は軸受、23は保持部である。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】光源から出射された光を偏向走査する回転
多面鏡と、前記回転多面鏡の回転軸を回転可能に支持す
る軸受けと、前記軸受けを保持する保持部と、前記保持
部と一体成型されている基板と、を有し、前記保持部は
基板面から前記回転多面鏡の回転軸と平行な方向に突出
しており、前記保持部と前記基板の連結部は周辺より厚
みが厚い傾斜面を有することを特徴とする光走査装置。