JPH0546919Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （考案の属する技術分野） 本考案はレーザービームを用いて画像形成を行
なうレーザービームプリンタやレーザー複写機等
のレーザー記録装置に関する。

（従来技術） シリンドリカルレンズ等のレーザー光の傾き、
ピント等を調整するレンズは、レーザー出力部の
ばらつき、他の結像部材の精度むらなどから、そ
の取り付け位置が微小調整可能であることが望ま
れている。

従来は、この取り付け位置を調整するために薄
板の円環を装填し、この枚数を変えることにより
レーザー光路に沿つて調整する構成がとられてい
た。

（考案が解決する問題点） 而して、この従来技術においては、調整の度合
いが薄板の厚みに依存し、微少な調整のために
は、薄板を極めて薄くしなければならず、また薄
くしても結局はデイジタル的調整であり、アナロ
グ的微調整は不可能であつた。更にはこの薄板を
出し入れする作業は非常に手間がかかるばかり
か、光路と平行に行なわなければならない調整が
光路と不平行な方向に位置ずれを起こしてしま
い、光学的精度が悪化してしまい画像が乱れてし
まうなどの問題があつた。

（問題を解決するための手段） 本考案は上記問題を解決するため、レーザ光を
出射するレーザ出力部と、このレーザ出力部から
出射されたレーザ光を回転して偏向走査する光偏
向手段と、この光偏向手段におけるレーザ光のピ
ントを調整するためのレンズと、を有するレーザ
走査装置において、上記光偏向手段を保持する保
持部と、上記レンズを収容する収容部と、を有
し、この収容部は上記レンズの側部を沿わせるこ
とでレンズの取り付け位置調整が可能であるレー
ザ光と平行な壁部を備えており、この壁部と上記
保持部とは一体成形されていることを特徴とする
ものである。

（考案の実施例） 以下、本考案を図面に基づき説明する。

尚、同一機能を果たす部材には同一番号を符し
てある。

また、本考案を次の項目に分けて順次説明す
る。

(1) 光走査手段保持機構 (2) 結像部材保持機構 (3) レーザ出力部保持及びレンズ調整機構 (4) ビームデイテクター保持機構 (5) ノイズ防止対策 (6) 複数レーザービームによる光走査 (7) 光走査装置を用いた画像形成装置 まず、第５図を用いて本考案の全体にわたる簡
易的な概要を説明する。

レーザ出力部６より出射されたレーザービーム
はシリンドリカルレンズによりピント決定された
後、ポリゴンミラー２により走査され結像レンズ
３１，３２を通過し感光ドラム１上に結像され
る。

５はレーザ出力部６とポリゴンミラー２を有す
る光走査手段と結像レンズ３１，３２を一体的に
収容する光学箱であり、上部は第９図、第１０図
に示されるカバーにより密閉されてハウジングを
構成している。

この光学箱とカバーは合成樹脂からなるモール
ド成型品である。

この光学箱とカバーによるハウジングは、塵埃
により光束に悪影響、即ち、レンズにゴミが付着
して透過率が低下したり、レーザ出力部にゴミが
付着して記録情報が欠けたりすることを防止でき
有効である。

(1) 光走査手段保持機構 第１図は本考案の一実施例の断面図である。

図において、Ｌはレーザービームで回転多面鏡
２により走査される。この回転多面鏡２は駆動モ
ータ部１７により回転する。

この回転多面鏡２と駆動モータ部１７で光走査
手段を形成している。駆動モータ部１７には、基
板５と一体成形された保持部に保持されステータ
コイル２１に流す電流量を制御し回転ムラをなく
すためのプリント基板２４が設けられている。ま
た２２はロータマグネツトで回転支軸１０に固定
されており、ステータコイル２１により発生する
電磁界により回転する。

筒状の保持部２３は上端部と下端部でボールベ
アリング、ニードルベアリング等の回転支軸１０
を回転可能に支持する軸受１２を夫々保持する。
これらの軸受１２は、正確な水平度を保ち、かつ
同軸受１２に回転可能に軸支された回転多面鏡２
の回転支軸１０を直角に保つよう接着、圧入等に
より高精度に組付けられている。

このようなロータマグネツトとステータコイル
が水平に対向している構成は光走査手段の高さを
低く押えることができて好ましい。

このように基板５と一体成形された基板と同一
材料の保持部２３により軸受１２は支持されてい
る。これらの軸受１２を支持する保持部２３は基
板５に対して一体成形であるので高精度に設けら
れており、回転支軸１０の位置精度、垂直精度は
非常に高く、画像形成装置に用いた場合でも鮮明
な画像が得られ、且つ、組立てにおいても非常に
簡単である。

また、上記同一材料は樹脂にカーボンを混入し
たものであり、僅かに導電性をもたせている。

次に、第２図、第３図、第４図を用いて別の実
施例について説明する。

第２図、第３図、第４図は基板５が光学箱を成
しており、この基板５とカバー１１とでハウジン
グを形成し、このハウジングは不図示のレーザ出
力部と光走査手段と、結像レンズを一体的に収容
している。

レーザービームは微細なゴミによつても大きく
影響を受けるため、このハウジングは非常に有効
である。またハウジングの基枠となる光学箱は型
枠によりモールド成形しており製造が簡単で、且
つ、製品ムラが少ない。

第２図は、いわゆるインナーロータ型の光走査
手段を構成している。ステータコイル２１は基板
５に、ロータマグネツト２２を回転多面鏡２の回
転支軸１０に夫々固定している。また、回転支軸
１０の下部は、基板５と一体成形され高精度に位
置決めされている保持部２３に保持された下部軸
受１２により精度良く支持される。また、回転支
軸１０の上部は基板５にビスで取りつけられた別
の支持部材２５に保持された上部軸受１２により
支持されている。この回転支軸１０は基板５と一
体成形された保持部２３により優れた位置精度で
保たれているが、更に、回転多面鏡２の平行度及
び直角度の精度を高くするために、ビス止めに微
調整をもたせる等の周知の方法により調整可能に
支持することが更に好ましい。

図中１３は回転軸１０の下端に固定された回転
制御用エンコーダ、１４は回転多面鏡２の回転制
御信号検知素子を示す。

また、この光学箱はその成形精度を高精度に保
つ意味から、高精度なプラスチツクモールド成形
により成形するのが望ましいが、通常のダイヤキ
ヤスト成形でも構うところでなく、特に、ダイキ
ヤスト成形したものを二次加工したものでもその
精度を出すことは可能である。

この光学箱も樹脂にカーボンを混入した材料で
ある。カーボンを混入することにより光学箱は黒
くなり、レーザーの反射率は低下し、不慮の事故
等によるレーザービームの危険性をも減少してい
る。

第３図はいわゆるアウターローター型の光走査
手段を構成している。

回転多面鏡２の回転支軸１０の下部と下部を支
持する軸受１２は２つとも、基板５と一体成形に
より高精度に設けられた保持部２３により保持さ
れている。

このように保持部が少なくとも回転支軸の上方
と下方の軸受を保持することは、位置決め精度が
高いのはもちろんのこと、回転多面鏡の平行度及
び直角度も高精度であり、更に好ましい実施例で
ある。

第４図は第１図に示す水平対向型の光走査手段
を構成しているもので、保持部２３は回転支軸の
上方と下方の支持部である軸受を保持していて好
ましい。また前述した様に高さを低くできるため
小型化が図れる。また、このプリント基板２４は
第６図に示されるように基板５に設けられたビス
止め部２４１にビス止めされる。また２４２は基
板５と一体成形された突出ピンであり、プリント
基板２４に設けられた穴に嵌合し、プリント基板
の位置決めを行なつている。

次に第６図、第７図を用いて、別の実施例につ
いて説明する。

第６図は光学箱を上方から見た断面図である。

図において基板５と一体成形された筒状の保持
部２３の内側には軸受１２と金属ブツシユ１２１
から成る支持部が設けられている。この金属ブツ
シユ１２１を設けることにより高速回転する回転
多面鏡の影響による保持部２３の摩耗を防止し、
長寿命化が図れる他、保持部と回転支軸の支持部
との接触面積が増大し、更に高精度が実現でき
た。

この金属ブツシユは保持部と同時成形、即ち、
基板の製造時に、型枠にあらかじめ金属ブツシユ
を入れておき、この型枠でモールド成形すること
により、更に高精度化を果たしている。

この光学箱に前述水平対向型の光走査手段を用
いた実施例を第７図を用いて説明する。

第７図はＡの一点鎖線での断面図である。

回転支軸１０は軸受１２により回転可能に支持
され、この２つの軸受１２は金属ブツシユ１２１
により位置決めされる。更に、この軸受１２と金
属ブツシユ１２１から成る支持部は保持部２３に
より保持されている。

金属ブツシユには突出部２３２が設けられてお
り、保持部による保持能力をアツプさせると共に
位置決めを行なつている。

また基板５と保持部２３との連結部は２３１で
示すように周辺より厚く設けられており、強化さ
れている。この厚くすることによる強化処理はモ
ールド成形時にできるため非常に簡単であり有効
である。この強化処理により強度のばらつきによ
る保持部２３の損傷を防止でき、更には耐久性に
優れ、且つ、高速回転にも耐え、振動しない等の
効果が得られる。また、この強化処理は、厚くす
る他にも金属環を同時成形する等の構成でも構わ
ないが厚くする構成が特に好ましい。

また基板５には、一体成形された円筒状の突出
部５１が設けられている。この突出部の形状には
とらわれることはないが、強度の観点から円筒状
が特に好ましい。この突出部５１は回転支軸１０
より下方に延びておりハウジングの取り付け時や
ハウジングを置いたとき等に回転支軸１０に衝撃
が加わり、回転多面鏡の光学精度が狂うのを防止
している。

更には、上記強化処理による強化を尚一層高め
られる。また金属ブツシユ１２１を光学箱成形後
に挿入した際に、保持部２３が破損する場合があ
つた。この筒状の突出部５１を設けた場合、実質
的に保持部２３を強化していることにもなり、こ
の破損もなくなり、金属ブツシユ後から挿入する
際の問題をも解決できた。

レーザ光学系は非常に高い精度が望まれ、微少
な光学精度の狂いも大きな影響となつて現れるも
ので、上記構成の様にハウジングを置いても回転
支軸がぶつからないような構成は非常に好まし
い。

更には、回転仮面鏡の一部が露出することによ
り、高速回転に伴う昇熱を押さえ放熱効果が高い
ため、熱によりハウジングがゆがんだり弱くなる
ことがなく好ましい。この放熱効果はハウジング
下方にフアンによる空気流を形成することで尚一
層効果の大きいものとなる。

尚、第７図ではプリント基板の下に鉄板２１１
を設けてあるが、これはステータコイル２１によ
る電磁界を増強するものである。

また、光偏向部材を精度良く位置決めする保持
部２３の中心、即ち光偏向部材の回転中心はレン
ズ３１，３２の光学中心に関してレーザ出力部６
とは反対側に設けられている。この構成により回
転多面鏡２をレンズ３１，３２に近づけることが
でき装置の小型化が実現できる。

以上、光走査手段は回転多面鏡で光走査するも
のを代表的に用いて説明したが、本考案はホログ
ラム等の回転することにより光走査するものであ
れば、全てに適用可能であることは言うまでもな
い。

また、軸受も空気、液体の流体軸受等でも構わ
ないことはもちろんである。この場合、保持部２
３が流体を導く路壁となる構成となつても、本考
案では、支持部を保持するという表現に含めるも
のとする。

このように、本考案によれば光走査手段を非常
に簡単に、且つ、低コストで更には非常に高精度
に設けられることは上記説明で明らかである。

もし、この光走査手段の取り付け精度が悪い
と、レーザービームは所望しない方向を走査した
り、ひどい時には走査できなくなつてしまう。

これを考えるに高精度が簡単な構成で得られる
本考案は非常に有効であることが理解できるであ
ろう。

尚、光学精度は光走査手段の他の光学部材にも
依存される。故にレンズやレーザ出力部も高精度
に支持されていることが非常に好ましい。この観
点に基づき以下、説明を続ける。

(2) 結像部材保持機構 まず、第６図を用いて概略を説明する。

図中、３１′，３２′，３３′にはレーザービー
ムを結像するための３つの結像レンズが夫々収容
されている。

収容部３１′，３２′の保持機構を第８図を用い
て説明する。

第６図はこの保持機構の平面図である。

レンズ３１は３１１によつて３点支持されると
共に３１２により両側部のレンズ３１の前端、後
端、側端を位置決めされる。

また３１３はレンズ３１の保持部３１１よりも
約50μm程度、高さの低い領域であり、この領域
とレンズ３１との間には接着剤層が設けられ、レ
ンズ３１をしつかりと固定している。レンズ保持
部３１１には接着剤は塗付されておらず、領域３
１１で接着固定しているためレンズが接着剤によ
り浮き上がることやレンズが傾いたりすることが
なく高い位置精度が得られる。

このようなレンズ保持の部材は基板５と一体成
形されており、レンズ自体の位置精度が高いだけ
ではなく、保持部２３と一体成形であり、光走査
手段との相対位置関係は非常に高精度であり、結
像位置は狂うことがない。更には光学系の基準と
なる光学中心も光走査手段とレンズでしつかり合
致する。

故に、光走査装置は光路精度が高く信頼性の優
れた光走査が実現できた。

また、この３１３をつなぐようにはり部３１５
が設けられている。このはり部３１５は光学箱の
レンズ長手方向にわたつて延びており、光学箱を
強化している。このはり部３１５も基板５と一体
成形されている。

このはり部は光学箱の強化ばかりではなく、レ
ンズ下部の空間をふさぎ防じんをも行なう。

レンズ３２の保持もレンズ３１と同様であり、
レンズ保持部３２１により３点保持され、３２２
により位置決めされる。また接着剤は領域３２３
に塗付されている。このレンズ保持の部材も基板
５と一体成形されている。

次にレンズ３１の保持に付随した防じん機構に
ついて説明する。レンズ下部の防じんは、はり部
３１５によつて行なわれている。

レンズ３１の両側端には基板５と一体成形され
た突出部３１４が設けられている。この突出部３
１４はレンズ３１と当接している。この突出部３
１４はレンズ３１に対して当接することが一番好
ましいが、わずかに離れていても実用上構わな
い。

次にこのレンズの上部の防じんについて説明す
る。

第９図、第１０図は基板５が構成している光学
箱のカバー２９を示す。

第９図はカバーの下面図である。このカバーは
カバーと一体成形された突出部３１６が設けられ
ている。このカバー２７には４つの結合部が設け
られており、第６図に示される光学箱の結合部２
７２と結合してハウジングを構成する。

この突出部３１６は第１０図の断面図にみられ
るように先端が細くなつており、且つ、先端は傾
斜している。

突出部３１６はレンズ３１の上面に接し、レン
ズ上方も防じんされる。この突出部３１６も当
接、もしくは圧接していた方が好ましいが、わず
かに離間していても実用上構うところではない。

また、突出部３１６は先端が傾斜しているため
圧接効果が高く密着度が大きい。また、カバーと
光学箱との組み込みムラがおきて、レンズと突出
部３１６との相対的高さ関係が変化して、近づき
すぎても、この傾斜により圧力を吸収できる。こ
の効果は突出部３１６の先端を細くすることでも
達成され、これらの組合せも尚一層大きいものと
なる。

レーザ光学系は微小なゴミによつても、一部レ
ーザが欠けてしまつたり、透過率、反射率の変化
により、走査ムラが生ずるため、このように、レ
ンズの上方、側方、下方をしつかりと防じんして
いるため、ハウジング内にはゴミはほとんど侵入
せず、もしくは全く侵入せず、常に信頼性の高い
レーザービームの走査が実現できた。

レンズ３３の保持については調整機構に含めて
次の項で説明する。

(3) レーザ出力部保持及びレンズ調整機構 第６図、第７図を用いて説明する。

第７図において、レーザ出力部はレーザーチツ
プ６１とレーザービームを集光するレンズ６２と
レーザーチツプ６１とレンズ６２を収容する部材
６３，６４から成る。

このレーザ出力部６は第６図中、点線で示され
る嵌合穴部６５に差し込まれ収容、位置決めされ
る。

この嵌合穴部６５を形成する収容部６６は基板
５と一体成形されており、レーザ出力部６は収容
部６６にしつかりとビス止めされている。

レーザ出力部６と光走査手段との位置精度、特
にはレーザ出力部から回転多面鏡に向かうレーザ
ービームは光学的精度が非常に要求される。も
し、この精度が狂うと回転多面鏡は所望しない方
向へレーザービームを走査することになつてしま
い、光学走査装置としては使用できないものにな
つてしまう。

本考案によれば保持部２３とレーザ出力部の収
容部６６は一体成形されているため光学的精度は
非常に高い。

このように高精度に保持されたレーザ出力部６
から出力されたレーザービームはシリンドリカル
レンズ３３によりレンズの高さ方向における径、
即ち結像面におけるピントを決定されてから回転
多面鏡に向かう。

このシリンドリカルレンズ３３も基板５と一体
成形された収容部３３′により支持されている。
第６図に示されるように収容部３３′はレンズ３
１，３２の保持機構と同様にシリンドリカルレン
ズ３３を保持する保持部３３１と支持部３３１よ
り50μm程高さが低い領域３３２を有し、シリン
ドリカルレンズ３３と領域３３２の間には接着剤
層が設けられ、しつかり固定されている。

保持部３３１は接着剤の塗付領域３３２をはさ
んで両側に設けられている。両側に保持部３３１
を有することによりシリンドリカルレンズ３３の
水平度は高精度に保持される。

レーザ出力部をいかに高精度に支持しても、レ
ーザーチツプ事態のバラツキは押さえられない。

レーザーチツプからの出力ビームの出射角度が
異なるとレーザービームの走査精度は極端に低下
する。

シリンドリカルレンズ３３は、このレーザーチ
ツプのばらつきによりビームの出射角のばらつき
を補正して、光走査手段にレーザービームを向か
わしめる。

また、このシリンドリカルレンズ３３はレーザ
ービームのレンズの高さ方向における径を決定す
る、即ち、レーザービームのピントを決定するも
のである。

このシリンドリカルレンズの位置によりレーザ
ービームは調整される。この調整というのは前述
一般のことを言う。

前述したレーザーチツプのばらつきやシリンド
リカルレンズ自体のばらつきによりレーザービー
ムのピントは微妙に異なつてくる。それ故、シリ
ンドリカルレンズ３３を取り付ける際に取り付け
位置の調整が可能であることが好ましい。また、
この調整はレーザービームの出射方向に行なうこ
とにより調整される。このピント調整のためのシ
リンドリカルレンズの取り付け位置調整はレーザ
ービームとの平行度が非常に望まれる。この平行
度が狂うと、前述の回転多面鏡に向かうレーザー
ビームの補正効果を減じてしまうからである。

このシリンドリカルレンズ３３の取り付け位置
調整機構を次に説明する。

第６図、第７図に示されるように、シリンドリ
カルレンズ３３の収容部３３′と一体成形即ち基
板５と一体成形されたレーザービームと平行な壁
部３３３が設けられている。この壁部は別体で設
けられていても構わないが保持部２３と一体成形
されていることにより精度は高く更にはシリンド
リカルレンズの収容部３３′、レーザ出力部６の
収容部６６と一体成形されており、レーザービー
ムとの平行度は非常に高精度である。

シリンドリカルレンズ３３は取り付ける際にそ
の側部を壁部３３３に沿つて位置調整することに
より、レーザービームと平行に微小なアナログ的
調整ができる。

この調整により回転多面鏡に向かうレーザービ
ームの角度補正能力を全く損なうことなく、レー
ザービームのピント調整ができるため、走査され
るレーザービームは非常に優れた、精度の良いも
のとなる。

(4) ビーム検知機構 光走査装置においては、一般にレーザービーム
の走査位置を検知することが広く行なわれてい
る。

而して、このビームを検知するためのビームデ
イテクターは精度良く保持されなくてはならな
い。

このビームデイテクターの取り付け精度が悪い
と、ビームデイテクターは間違つた走査位置を検
知していることになる。

本発明の実施例のビームデイテクターの保持機
構を第６図、第１１図を用いて説明する。

第１１図Ａは第６図の一点鎖線Ｂ，Ｃ，Ｄに沿
つた断面図である。

回転多面鏡により走査されたレーザービームＬ
は結像レンズ３２，３１を通過し、通過したレー
ザービームの内、走査位置がミラー３５２にある
とき、このミラー３５２により反射され、この反
射された走査レーザービームの一部がビーム検知
手段３６により検知され、光フアイバー３６１に
入射される。

ミラー３５２を有する反射手段３５は、ミラー
３５２が取りつけられる金具３５３とミラー３５
２を保持する板バネ３５４とから成る。

この反射手段は基板５と一体成形された基準ピ
ンが金具３５３の嵌合穴が差し込まれ位置決めさ
れビス３５５によりビス止めされる。

この位置決めのもようを第１１図Ｂに示す。

金具３５３は基準ピン３５１を回動の中心とし
たビス止め用の穴を有し、反射手段３５が基準ピ
ン３５１を中心として回動可能となつている。

この基準ピンは基板５と一体成形しているた
め、位置精度、及び、レンズや回転多面鏡との相
対位置精度が非常に高く、反射手段の取り付け精
度は非常に優れている。また基準ピンを中心とし
て回動可能であるため反射手段自体のばらつきに
も対応でき、更に精度はアツプする。また、異な
るビーム走査位置を検出したい場合、この回動す
る構成により、簡単に調整できる。

次にビーム検知手段の保持機構について説明す
る。

ビーム検知手段３６はレーザービームを通す光
フアイバー３６１とフアイバーにレーザービーム
を通すためのコネクト部３６３とレーザービーム
を集光するための集光レンズ３６２とからなる。
このビーム検知手段３６は基板５と一体成形され
位置精度の高い収容部３６′に位置決め、且つ保
持される。

この保持機構を第６図を用いて更に詳しく説明
する。

収容部３６′は光フアイバーを収容する第１収
容部３６１′とコネクト部を収容する第２収容部
３６２′と、レンズを収容する第３収容部３６
３′から成る。また、収容部３６′は自らスリツト
３６４を形成しており、レンズに入射されるレー
ザービームを絞つて、更に検知精度をアツプして
いる。

このように基板５と一体成形された収容部３
６′にビーム検知手段は保持、且つ、位置決めさ
れるため、反射手段３５に対しての位置精度も非
常に高く、確実にビーム走査位置を検知できる。

(5) ノイズ防止対策 回転多面鏡は高速回転するため、摩擦帯電して
しまい、このチヤージによりレイズとなり回転ム
ラが起きたり、ひどいときには制御回路を誤動作
させてしまうことがある。

このノイズ対策における本発明の実施例を説明
する。

第１２図Ａに示されるリング状で端子３７１を
有する電極３７を金属ブツシユにはめこみ、保持
部２３と同時成形する。この電極３７のリング部
は保持部２３にうめこまれており、保持部２３か
らは端子３７１だけが露出している。この端子３
７１を接地することにより、軸受１２と回転支軸
１０とで発生したチヤージは金属ブツシユを介し
て端子３７１から流れ出してしまい、ノイズは発
生しない。また、金属ブツシユ１２１自体に端子
を設け、この端子から接地しても良いし、更に構
成は簡単となる。

また、この光走査手段の周辺にたまつたチヤー
ジによつても、回転多面鏡の回転ムラ等が発生す
る場合があり、基板５とカバー部材２７の少なく
とも光走査手段近傍を導電性塗装して接地する
か、基板５を導電性にし、更には接地すれば良
い。本実施例では基板５はカーボンが混入されて
いるため、導電性であり、このようにノイズ防止
効果も持ち合わせている。

このように本考案実施例によれば、摩擦帯電に
よる回転多面鏡の回転ムラ、制御回路の誤動作等
も防止できる。

(6) 複数レーザービームによる光走査 光走査装置の光走査を高速化する上で、昨今、
複数のレーザービームにより光走査することが考
えられている。

この複数のレーザービームによる光走査を、第
１３図を用いて説明する。

第１３図はレーザービームプリンタの簡易斜視
図である。

レーザ出力部６は半導体レーザチツプ６ａ，６
ｂ，６ｃを有するレーザアレイである。この半導
体レーザチツプ６ａ，６ｂ，６ｃは記録情報に応
じて夫々独立に光変調される。レーザ出力部６よ
り出力された３本のレーザービームLa，Lb，Lc
は同一の回転多面鏡２により光走査され走査面３
８上をＥ方向に走査しつつ、走査面はＦ方向に移
動して２次元的に走査される。

この２次元的走査により、走査面３８上には記
録情報に応じた像が形成される。

このように、図中Ｅ方向の走査を３本のビーム
で走査することにより、走査面３８における２次
元的な走査スピードは単一ビームにくらべ３倍と
なる。

この様に複数ビームによる光走査は高速である
一方、複数のビームの光学部材を同一の光走査手
段レンズ等の光学部材を用いることや、また、
夫々のビームの相対的位置精度等がもとめられる
ため、単一ビームにもまして更に光学的精度が要
求される。

それ故、保持部２３と他の光学部材の保持部、
収容部を一体成形して、高い光学的精度の得られ
る本考案は、この様に非常に高精度が要求される
複数のレーザービームによる光走査においては特
に有効であることがわかる。

また、複数の半導体レーザチツプをもつレーザ
アレイによる光走査では光走査の解像度をアツプ
するためにレーザアレイを傾けることが考えられ
ている。

このレーザアレイを傾けることについて第８図
を用いて説明する。

いかにレーザアレイといえども、レーザチツプ
間を非常に近接させることは困難であり、複数ビ
ームで走査する場合、第８図Ａに示すように各ビ
ームでd₁の間隔があいてしまう。このビーム間隔
d₁は光走査できないために、高速化は図れても光
走査の解像度は向上できない。

これに対し、レーザアレイを第８図Ｂに示すよ
うに傾けることにより、ビーム間隔d₂はd₂＜d₁と
なり、解像度をも向上させることができる。

而して、この傾け角θはバラツキが生じると解
像度にもバラツキがでてしまい、極端に解像度が
低下したりする。

また、傾け角θに応じて、ビームの走査開始位
置を制御すること等が必要であり、このθにばら
つきがあると、解像度は低下してしまい、信頼性
の低い光走査となつてしまう。

故に、レーザ出力部６の保持、且つ、位置決め
を保持部２３と一体成形された収容部で高精度に
保持、且つ、位置決めする本考案が特に有効であ
ることがわかる。また、シリンドリカルレンズ調
整機構、ビーム検知機構にも全く同様のことが言
えることは当然である。

(7) 光走査装置を用いた画像形成装置 次に光走査装置を用いて像担持体上に像形成す
る画像形成装置について説明する。

第１４図は本考案を適用したレーザービームに
より記録する画像形成装置であるレーザービーム
プリンタの断面図である。

この第１４図について説明する。

図において、３９は図中矢印方向に回転する感
光体ドラムである。感光体ドラム３９の周りには
ドラム表面を均一に帯電する帯電器４０、感光体
ドラム上の潜像を現像する現像器４１、現像器４
１により現像された現像像を紙に転写する転写帯
電器４４、転写後残余している不要な現像剤を除
去するクリーナー４６が順次設けられている。４
２は記録紙を収容する給紙カセツト、４３はレジ
ストローター、４５は転写後の像を半永久化する
定着器である。４９はフアンでありハウジング下
面に空気流を形成し光学系の昇温を防止する。基
板５と一体成形された収容部に収容されたレーザ
ー出力部６は外部信号により、記録情報に応じて
光変調されたレーザービームを出力し、このレー
ザービームは基板５と一体成形された支持部及び
収容部により高精度に保持及び位置決めされてい
るシリンドリカルレンズ３３、回転多面鏡２、結
像レンズ３２，３１を介して基板５とカバー部材
２７で構成されているハウンジングから出射し、
ミラー４８を介して感光体ドラム３９上を走査
し、感光体ドラム３９上には記録情報に応じた電
荷パターンが形成される。

３４は基板５の下面に基板と一体成形で設けら
れたハウジングの位置決め部材である。この位置
決め部材は結像レンズの光学中心線即ち、第６図
に示す一点鎖線Ｇ上に一致するように設けられて
おり、感光体ドラム３９及びミラー４８と高精度
に位置決めされている。この位置決め部材で位置
決め精度を高めることにより感光体ドラムに対す
る相対的位置精度が高くなるため更に優れた画像
を得ることが可能となつた。

ドラム上の電荷パターンは現像器４１によつて
顕画化される。この顕画化された現像像は転写帯
電器４４により給紙カセツト４２から送られる記
録紙上に転写された後、記録紙は定着器４５へと
送られ定着される。転写後に感光体ドラム上に残
余した現像剤はクリーナー４６により除去され次
回の使用に備えられる。

このような本考案を適用した画像形成装置は、
光走査位置感光体上でのレーザービームのピント
等の光学的精度が非常に高いため鮮明で乱れのな
い画像が得られる。

以上、本考案を項目順に詳細に説明したが、本
考案はその組合せを自由に行つてもいいことは当
然である。

〔考案の効果〕

以上説明した様に本考案によれば、光路との平
行度を高精度に保ちながら簡単にレンズの取り付
け位置の微調整が可能で鮮明な画像が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図、第４図は夫々本考案
の光走査手段を示す実施例の断面図、第５図は本
考案の光学走査装置の実施例であり本考案の概要
を説明する図、第６図は本考案の光学箱の実施例
の上面図、第７図は本考案の実施例のレーザ出力
部から光走査手段を示す断面図、第８図Ａ、第８
図Ｂは夫々本考案の複数のレーザービームの発生
を説明するための図、第９図は本考案実施例のカ
バー部材の下面図、第１０図は第９図に示される
実施例の断面図、第１１図Ａは本考案の実施例の
ビーム検知機構を示す断面図、第１１図Ｂは本考
案の実施例のビーム検知機構を説明する上面図、
第１２図Ａは本考案の実施例の接地するためであ
る電極を示す上面図、第１２図Ｂは第１２図Ａに
示される電極を用いた接地機構の実施例の断面
図、第１３図は本考案の複数のレーザービームに
よる光走査の説明図、第１４図は本考案の画像形
成装置の断面図である。 図においてＬはレーザービーム、２は回転多面
鏡、５は基板、１０は回転支軸、１２は軸受、２
３は保持部である。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 レーザ光を出射するレーザ出力部と、このレー
   ザ出力部から出射されたレーザ光を回転して偏向
   走査する光偏向手段と、この光偏向手段における
   レーザ光のピントを調整するためのレンズと、を
   有するレーザ走査装置において、 上記光偏向手段を保持する保持部と、上記レン
   ズを収容する収容部と、を有し、この収容部は上
   記レンズの側部を沿わせることでレンズの取り付
   け位置調整が可能であるレーザ光と平行な壁部を
   備えており、この壁部と上記保持部とは一体成形
   されていることを特徴とするレーザ走査装置。