JP2000162535A - 光ビーム走査装置 - Google Patents
光ビーム走査装置Info
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- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 回転ドラム上のライン間隔の調整誤差が発生
するのを防ぐ。 【解決手段】 マルチビーム半導体レーザから発生され
る２つのレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、光学箱８内の回転
多面鏡によって走査され、結像レンズを経て回転ドラム
上の感光体に結像する。感光体上のライン間隔等を調整
するためにレーザホルダ１１ａを所定角度だけ回転させ
た状態で光学箱８の側壁８ａに固定する。ビス１４によ
る固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直線上あるいはこれらに
よって囲まれた平面領域Ｎ内にレーザビームＰ1 ，Ｐ2
の発光点と回転中心Ｏが位置するように固定部１４ａ〜
１４ｃを配設し、レーザホルダ１１ａを高い位置精度で
堅固に安定して組み付ける。
するのを防ぐ。 【解決手段】 マルチビーム半導体レーザから発生され
る２つのレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、光学箱８内の回転
多面鏡によって走査され、結像レンズを経て回転ドラム
上の感光体に結像する。感光体上のライン間隔等を調整
するためにレーザホルダ１１ａを所定角度だけ回転させ
た状態で光学箱８の側壁８ａに固定する。ビス１４によ
る固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直線上あるいはこれらに
よって囲まれた平面領域Ｎ内にレーザビームＰ1 ，Ｐ2
の発光点と回転中心Ｏが位置するように固定部１４ａ〜
１４ｃを配設し、レーザホルダ１１ａを高い位置精度で
堅固に安定して組み付ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタやデジタル複写機等に用いられる光ビーム走査装置
に関するものである。
ンタやデジタル複写機等に用いられる光ビーム走査装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザビームプリンタ等の電子写
真装置において、複数のレーザビームを用いて複数のラ
インを同時に書き込む光ビーム走査装置が開発されてい
る。
真装置において、複数のレーザビームを用いて複数のラ
インを同時に書き込む光ビーム走査装置が開発されてい
る。
【０００３】これは、互いに離間した複数のレーザビー
ムを同時に走査するもので、図７に示すように、マルチ
ビーム光源ユニット１０１の光源であるマルチビーム半
導体レーザ１１１から２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を
発生させ、それぞれコリメータレンズ１１２によって平
行化したうえで、シリンドリカルレンズ１０２を経て、
回転多面鏡１０３の反射面１０３ａに照射し、結像レン
ズ１０４を経て回転ドラム１０５上の感光体に結像させ
る。
ムを同時に走査するもので、図７に示すように、マルチ
ビーム光源ユニット１０１の光源であるマルチビーム半
導体レーザ１１１から２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を
発生させ、それぞれコリメータレンズ１１２によって平
行化したうえで、シリンドリカルレンズ１０２を経て、
回転多面鏡１０３の反射面１０３ａに照射し、結像レン
ズ１０４を経て回転ドラム１０５上の感光体に結像させ
る。
【０００４】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は回転多面
鏡１０３の反射面１０３ａに入射し、それぞれ主走査方
向に走査され、回転多面鏡１０３の回転による主走査と
回転ドラム１０５の回転による副走査に伴なって感光体
に静電潜像を形成する。
鏡１０３の反射面１０３ａに入射し、それぞれ主走査方
向に走査され、回転多面鏡１０３の回転による主走査と
回転ドラム１０５の回転による副走査に伴なって感光体
に静電潜像を形成する。
【０００５】なお、シリンドリカルレンズ１０２は、各
レーザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡１０３の反射面１
０３ａに線状に集光する。これは、前述のように感光体
に結像する点像が、回転多面鏡１０３の面倒れによって
歪を発生するのを防止する機能を有し、また、結像レン
ズ１０４は、球面レンズ部とトーリックレンズ部等から
なり、シリンドリカルレンズ１０２と同様に感光体上の
点像の歪を防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光
体上で主走査方向に等速度で走査されるように補正する
機能を有する。
レーザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡１０３の反射面１
０３ａに線状に集光する。これは、前述のように感光体
に結像する点像が、回転多面鏡１０３の面倒れによって
歪を発生するのを防止する機能を有し、また、結像レン
ズ１０４は、球面レンズ部とトーリックレンズ部等から
なり、シリンドリカルレンズ１０２と同様に感光体上の
点像の歪を防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光
体上で主走査方向に等速度で走査されるように補正する
機能を有する。
【０００６】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、それぞ
れ、主走査面（ＸＹ平面）の末端で検出ミラー１０６に
よって分離され、主走査面の反対側の光センサ１０７に
導入され、図示しないコントローラにおいて書き込み開
始信号に変換されてマルチビーム半導体レーザ１１１に
送信される。マルチビーム半導体レーザ１１１は書き込
み開始信号を受けて各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込
み変調を開始する。
れ、主走査面（ＸＹ平面）の末端で検出ミラー１０６に
よって分離され、主走査面の反対側の光センサ１０７に
導入され、図示しないコントローラにおいて書き込み開
始信号に変換されてマルチビーム半導体レーザ１１１に
送信される。マルチビーム半導体レーザ１１１は書き込
み開始信号を受けて各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込
み変調を開始する。
【０００７】このように両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
１０５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始
（書き出し）位置を制御する。
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
１０５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始
（書き出し）位置を制御する。
【０００８】シリンドリカルレンズ１０２、回転多面鏡
１０３、結像レンズ１０４等は、光学箱１０８の底壁に
組み付けられる。各光学部品を光学箱１０８に組み付け
たうえで、光学箱１０８の上部開口を図示しないふた部
材によって閉塞する。
１０３、結像レンズ１０４等は、光学箱１０８の底壁に
組み付けられる。各光学部品を光学箱１０８に組み付け
たうえで、光学箱１０８の上部開口を図示しないふた部
材によって閉塞する。
【０００９】マルチビーム半導体レーザ１１１は、前述
のように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を同時に発光す
るもので、レーザホルダ１１１ａを介してコリメータレ
ンズ１１２を内蔵する鏡筒１１２ａと一体的に結合され
たユニットとして、レーザ駆動回路基板１１３とともに
光学箱１０８の側壁１０８ａに組み付けられる。
のように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を同時に発光す
るもので、レーザホルダ１１１ａを介してコリメータレ
ンズ１１２を内蔵する鏡筒１１２ａと一体的に結合され
たユニットとして、レーザ駆動回路基板１１３とともに
光学箱１０８の側壁１０８ａに組み付けられる。
【００１０】マルチビーム光源ユニット１０１の組み付
けに際しては、マルチビーム半導体レーザ１１１を保持
するレーザホルダ１１１ａを光学箱１０８の側壁１０８
ａに設けられた開口１０８ｂに挿入し、レーザホルダ１
１１ａにコリメータレンズ１１２の鏡筒１１２ａをかぶ
せてコリメータレンズ１１２のピント調整や光軸合わせ
等の３次元的調整を行なったうえで、鏡筒１１２ａをレ
ーザホルダ１１１ａに接着する。このようにしてユニッ
ト化したうえで、図８の（ａ）に示すように、レーザホ
ルダ１１１ａを光学箱１０８の開口１０８ｂ内で回転さ
せることで、各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点を結ぶ
直線すなわちレーザアレイＮの傾斜角度θの調整を行な
う。
けに際しては、マルチビーム半導体レーザ１１１を保持
するレーザホルダ１１１ａを光学箱１０８の側壁１０８
ａに設けられた開口１０８ｂに挿入し、レーザホルダ１
１１ａにコリメータレンズ１１２の鏡筒１１２ａをかぶ
せてコリメータレンズ１１２のピント調整や光軸合わせ
等の３次元的調整を行なったうえで、鏡筒１１２ａをレ
ーザホルダ１１１ａに接着する。このようにしてユニッ
ト化したうえで、図８の（ａ）に示すように、レーザホ
ルダ１１１ａを光学箱１０８の開口１０８ｂ内で回転さ
せることで、各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点を結ぶ
直線すなわちレーザアレイＮの傾斜角度θの調整を行な
う。
【００１１】これは、図８の（ｂ）に示すように、マル
チビーム半導体レーザ１１１から発生される２つのレー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 のビーム間隔の調整すなわち、回転
ドラム１０５上の結像点Ａ1 ，Ａ2 の主走査方向のピッ
チＳと副走査方向のピッチいわゆるライン間隔Ｔを設計
値に一致させる調整作業である。この作業を行なったう
えで、ビス等を用いてレーザホルダ１１１ａを光学箱１
０８の側壁１０８ａに固着する。
チビーム半導体レーザ１１１から発生される２つのレー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 のビーム間隔の調整すなわち、回転
ドラム１０５上の結像点Ａ1 ，Ａ2 の主走査方向のピッ
チＳと副走査方向のピッチいわゆるライン間隔Ｔを設計
値に一致させる調整作業である。この作業を行なったう
えで、ビス等を用いてレーザホルダ１１１ａを光学箱１
０８の側壁１０８ａに固着する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、マルチビーム光源ユニットを光学箱に
組み付けるときに、マルチビーム光源ユニットを所定角
度だけ回転させるライン間隔の調整は、誤差の許容値が
数μｍ以下と極めて厳しいものであるため、ビス等によ
る締結部の配置等が悪いと、まず第１にマルチビーム光
源ユニットの光軸倒れ等を含めた設置位置精度が出な
い。また、衝撃等が加わったときにマルチビーム光源ユ
ニットの位置ずれが発生する。さらに、ライン間隔を調
整する作業を完了して各締結部のビスを締め付ける工程
でも、いわゆる連れまわりによるレーザホルダの回転ず
れ等のトラブルも発生するため作業効率が悪いという未
解決の課題がある。
の技術によれば、マルチビーム光源ユニットを光学箱に
組み付けるときに、マルチビーム光源ユニットを所定角
度だけ回転させるライン間隔の調整は、誤差の許容値が
数μｍ以下と極めて厳しいものであるため、ビス等によ
る締結部の配置等が悪いと、まず第１にマルチビーム光
源ユニットの光軸倒れ等を含めた設置位置精度が出な
い。また、衝撃等が加わったときにマルチビーム光源ユ
ニットの位置ずれが発生する。さらに、ライン間隔を調
整する作業を完了して各締結部のビスを締め付ける工程
でも、いわゆる連れまわりによるレーザホルダの回転ず
れ等のトラブルも発生するため作業効率が悪いという未
解決の課題がある。
【００１３】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、構造的にマルチビー
ム光源ユニットの設置位置精度を確保しやすくするとと
もに、マルチビームのライン間隔の調整精度を向上さ
せ、効率よくマルチビーム光源ユニットを組み付けるこ
とができるうえに、組み付け後に誤差を発生するおそれ
がなく高い画像性能を維持できる安価で高性能な光ビー
ム走査装置を提供することを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、構造的にマルチビー
ム光源ユニットの設置位置精度を確保しやすくするとと
もに、マルチビームのライン間隔の調整精度を向上さ
せ、効率よくマルチビーム光源ユニットを組み付けるこ
とができるうえに、組み付け後に誤差を発生するおそれ
がなく高い画像性能を維持できる安価で高性能な光ビー
ム走査装置を提供することを目的とするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の光ビーム走査装置は、マルチビーム半導体
レーザとこれを保持するレーザホルダを備えたマルチビ
ーム光源ユニットと、前記マルチビーム半導体レーザか
ら発生された複数のレーザビームをそれぞれ走査して感
光体に結像させる走査結像手段と、該走査結像手段と前
記マルチビーム光源ユニットを支持する筐体と、前記マ
ルチビーム光源ユニットの回転角度を調整したのちに該
マルチビーム光源ユニットを前記筐体に固定する固定手
段を有し、該固定手段が複数の固定部を備えており、該
複数の固定部のうちの２つを結ぶ直線上または前記複数
の固定部のすべてを結ぶ直線によって囲まれた平面領域
内に、前記マルチビーム光源ユニットの回転中心および
各レーザビームの発光点が位置するように構成されてい
ることを特徴とする。
めに本発明の光ビーム走査装置は、マルチビーム半導体
レーザとこれを保持するレーザホルダを備えたマルチビ
ーム光源ユニットと、前記マルチビーム半導体レーザか
ら発生された複数のレーザビームをそれぞれ走査して感
光体に結像させる走査結像手段と、該走査結像手段と前
記マルチビーム光源ユニットを支持する筐体と、前記マ
ルチビーム光源ユニットの回転角度を調整したのちに該
マルチビーム光源ユニットを前記筐体に固定する固定手
段を有し、該固定手段が複数の固定部を備えており、該
複数の固定部のうちの２つを結ぶ直線上または前記複数
の固定部のすべてを結ぶ直線によって囲まれた平面領域
内に、前記マルチビーム光源ユニットの回転中心および
各レーザビームの発光点が位置するように構成されてい
ることを特徴とする。
【００１５】固定手段が少なくとも３個の固定部を有す
るとよい。
るとよい。
【００１６】また、固定手段が、ビスによって締結され
る固定部を有するとよい。
る固定部を有するとよい。
【００１７】固定手段が、接着剤によって接着される固
定部を有するものでもよい。
定部を有するものでもよい。
【００１８】マルチビーム半導体レーザが、直線状に配
列された複数の発光点を備えているとよい。
列された複数の発光点を備えているとよい。
【００１９】マルチビーム半導体レーザが、２次元的に
配列された複数の発光点を備えていてもよい。
配列された複数の発光点を備えていてもよい。
【００２０】レーザホルダが、コリメータレンズを保持
する鏡筒と一体であるとよい。
する鏡筒と一体であるとよい。
【００２１】
【作用】マルチビーム半導体レーザを筐体に組み付ける
ときに、マルチビーム光源ユニット全体を回転させてラ
イン間隔の調整を行なう調整作業ののちに、ビス等を締
め付けてマルチビーム光源ユニットを筐体に固定する。
ときに、マルチビーム光源ユニット全体を回転させてラ
イン間隔の調整を行なう調整作業ののちに、ビス等を締
め付けてマルチビーム光源ユニットを筐体に固定する。
【００２２】ビス等による固定部は複数設けられてお
り、そのうちの２つを結ぶ直線上か、あるいはすべての
固定部を結ぶ直線によって囲まれた平面領域内に、各レ
ーザビームの発光点とマルチビーム光源ユニットの回転
中心を配設することで、マルチビーム光源ユニットを極
めて堅固に安定して筐体に固定できる。
り、そのうちの２つを結ぶ直線上か、あるいはすべての
固定部を結ぶ直線によって囲まれた平面領域内に、各レ
ーザビームの発光点とマルチビーム光源ユニットの回転
中心を配設することで、マルチビーム光源ユニットを極
めて堅固に安定して筐体に固定できる。
【００２３】従って、マルチビーム光源ユニットを筐体
に固定したのちに、衝撃等によってマルチビーム光源ユ
ニットに回転ずれを起こすおそれはない。
に固定したのちに、衝撃等によってマルチビーム光源ユ
ニットに回転ずれを起こすおそれはない。
【００２４】また、ビスを締結する作業中に連れまわり
によってマルチビーム光源ユニットの回転角度がずれた
りするトラブルもなく、組立作業の効率や精度の向上に
も貢献できる。
によってマルチビーム光源ユニットの回転角度がずれた
りするトラブルもなく、組立作業の効率や精度の向上に
も貢献できる。
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００２６】図１は一実施の形態による光ビーム走査装
置を示すもので、これは、マルチビーム光源ユニット１
の光源であるマルチビーム半導体レーザ１１から２本の
光ビームであるレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を発生させ、そ
れぞれコリメータレンズ１２によって平行化したうえ
で、シリンドリカルレンズ２を経て、回転多面鏡３の反
射面３ａに照射し、回転多面鏡３とともに走査結像手段
を構成する結像レンズ４を経て回転ドラム５上の感光体
に結像させる。
置を示すもので、これは、マルチビーム光源ユニット１
の光源であるマルチビーム半導体レーザ１１から２本の
光ビームであるレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を発生させ、そ
れぞれコリメータレンズ１２によって平行化したうえ
で、シリンドリカルレンズ２を経て、回転多面鏡３の反
射面３ａに照射し、回転多面鏡３とともに走査結像手段
を構成する結像レンズ４を経て回転ドラム５上の感光体
に結像させる。
【００２７】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は回転多面
鏡３の反射面３ａに入射し、それぞれ主走査方向に走査
され、回転多面鏡３の回転による主走査と回転ドラム５
の回転による副走査に伴なって感光体に静電潜像を形成
する。
鏡３の反射面３ａに入射し、それぞれ主走査方向に走査
され、回転多面鏡３の回転による主走査と回転ドラム５
の回転による副走査に伴なって感光体に静電潜像を形成
する。
【００２８】なお、シリンドリカルレンズ２は、各レー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡３の反射面３ａに線状
に集光する。これは、前述のように感光体に結像する点
像が、回転多面鏡３の面倒れによって歪を発生するのを
防止する機能を有し、また、結像レンズ４は、球面レン
ズ部とトーリックレンズ部等からなり、シリンドリカル
レンズ２と同様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有す
るとともに、前記点像が感光体上で主走査方向に等速度
で走査されるように補正する機能を有する。
ザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡３の反射面３ａに線状
に集光する。これは、前述のように感光体に結像する点
像が、回転多面鏡３の面倒れによって歪を発生するのを
防止する機能を有し、また、結像レンズ４は、球面レン
ズ部とトーリックレンズ部等からなり、シリンドリカル
レンズ２と同様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有す
るとともに、前記点像が感光体上で主走査方向に等速度
で走査されるように補正する機能を有する。
【００２９】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、それぞ
れ、主走査面（ＸＹ平面）の末端で検出ミラー６によっ
て分離され、主走査面の反対側の光センサ７に導入さ
れ、図示しないコントローラにおいて書き込み開始信号
に変換されてマルチビーム半導体レーザ１１に送信され
る。マルチビーム半導体レーザ１１は書き込み開始信号
を受けて各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開
始する。
れ、主走査面（ＸＹ平面）の末端で検出ミラー６によっ
て分離され、主走査面の反対側の光センサ７に導入さ
れ、図示しないコントローラにおいて書き込み開始信号
に変換されてマルチビーム半導体レーザ１１に送信され
る。マルチビーム半導体レーザ１１は書き込み開始信号
を受けて各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開
始する。
【００３０】このように両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始（書
き出し）位置を制御する。
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始（書
き出し）位置を制御する。
【００３１】シリンドリカルレンズ２、回転多面鏡３、
結像レンズ４等は、筐体である光学箱８の底壁に組み付
けられる。各光学部品を光学箱８に組み付けたうえで、
光学箱８の上部開口を図示しないふた部材によって閉塞
する。
結像レンズ４等は、筐体である光学箱８の底壁に組み付
けられる。各光学部品を光学箱８に組み付けたうえで、
光学箱８の上部開口を図示しないふた部材によって閉塞
する。
【００３２】マルチビーム半導体レーザ１１は、前述の
ように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を同時に発光する
もので、レーザホルダ１１ａを介してコリメータレンズ
１２を内蔵する鏡筒１２ａと一体的に結合されたユニッ
トとして、レーザ駆動回路基板１３とともに光学箱８の
側壁８ａに組み付けられる。
ように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を同時に発光する
もので、レーザホルダ１１ａを介してコリメータレンズ
１２を内蔵する鏡筒１２ａと一体的に結合されたユニッ
トとして、レーザ駆動回路基板１３とともに光学箱８の
側壁８ａに組み付けられる。
【００３３】マルチビーム光源ユニット１の組み付けに
際しては、マルチビーム半導体レーザ１１を保持するレ
ーザホルダ１１ａを光学箱８の側壁８ａに設けられた開
口８ｂに挿入し、レーザホルダ１１ａにコリメータレン
ズ１２の鏡筒１２ａをかぶせてコリメータレンズ１２の
ピント調整や光軸合わせ等の３次元的調整を行なったう
えで、鏡筒１２ａをレーザホルダ１１ａに接着する。
際しては、マルチビーム半導体レーザ１１を保持するレ
ーザホルダ１１ａを光学箱８の側壁８ａに設けられた開
口８ｂに挿入し、レーザホルダ１１ａにコリメータレン
ズ１２の鏡筒１２ａをかぶせてコリメータレンズ１２の
ピント調整や光軸合わせ等の３次元的調整を行なったう
えで、鏡筒１２ａをレーザホルダ１１ａに接着する。
【００３４】マルチビーム半導体レーザ１１は、図２に
示すように、ステム２１と一体である台座２１ａに固定
されたレーザチップ２２と、レーザチップ２２の２つの
発光点２２ａ，２２ｂから発光されるレーザビームＰ
1 ，Ｐ2 の発光量をモニタするフォトダイオード２３
と、レーザチップ２２等に通電するための通電端子２４
を有し、レーザチップ２２等はキャップ２５によって覆
われている。
示すように、ステム２１と一体である台座２１ａに固定
されたレーザチップ２２と、レーザチップ２２の２つの
発光点２２ａ，２２ｂから発光されるレーザビームＰ
1 ，Ｐ2 の発光量をモニタするフォトダイオード２３
と、レーザチップ２２等に通電するための通電端子２４
を有し、レーザチップ２２等はキャップ２５によって覆
われている。
【００３５】コリメータレンズ１２の鏡筒１２ａをレー
ザホルダ１１ａに接着したのち、レーザホルダ１１ａの
孔に嵌合する固定手段であるビス１４（図４参照）によ
ってレーザホルダ１１ａを光学箱８の側壁８ａに仮止め
し、レーザビームＰ1 ，Ｐ2を発光させながら、図３に
示すようにライン間隔Ｔの調整のためにレーザホルダ１
１ａを回転させ、傾斜角度θを調整する。
ザホルダ１１ａに接着したのち、レーザホルダ１１ａの
孔に嵌合する固定手段であるビス１４（図４参照）によ
ってレーザホルダ１１ａを光学箱８の側壁８ａに仮止め
し、レーザビームＰ1 ，Ｐ2を発光させながら、図３に
示すようにライン間隔Ｔの調整のためにレーザホルダ１
１ａを回転させ、傾斜角度θを調整する。
【００３６】この作業は、マルチビーム半導体レーザ１
１から発生される２つのレーザビームＰ1 ，Ｐ2 のビー
ム間隔の調整すなわち、回転ドラム５上の結像点Ａ1 ，
Ａ2の主走査方向のピッチＳと副走査方向のピッチいわ
ゆるライン間隔Ｔを設計値に一致させる調整作業であ
る。
１から発生される２つのレーザビームＰ1 ，Ｐ2 のビー
ム間隔の調整すなわち、回転ドラム５上の結像点Ａ1 ，
Ａ2の主走査方向のピッチＳと副走査方向のピッチいわ
ゆるライン間隔Ｔを設計値に一致させる調整作業であ
る。
【００３７】このような角度調整の後に、ビス１４を締
め付けてレーザホルダ１１ａを光学箱８に固定する。
め付けてレーザホルダ１１ａを光学箱８に固定する。
【００３８】上記の作業においては、２つのレーザビー
ムＰ1 ，Ｐ2 のサブミクロン単位で変位するスポット位
置すなわち結像点Ａ1 ，Ａ2 をＣＣＤカメラ等でモニタ
しながら、レーザホルダ１１ａを回転調整することとな
る。
ムＰ1 ，Ｐ2 のサブミクロン単位で変位するスポット位
置すなわち結像点Ａ1 ，Ａ2 をＣＣＤカメラ等でモニタ
しながら、レーザホルダ１１ａを回転調整することとな
る。
【００３９】図４の（ａ）に示すように、レーザホルダ
１１ａを光学箱８の側壁８ａに締結するビス１４は３個
配設されており、各ビス１４による固定部１４ａ〜１４
ｃは、レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点を取り囲むよう
に配置されている。すなわち、レーザビームＰ1 ，Ｐ2
の発光点が各固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直線Ｌ1 〜Ｌ
3 上か、あるいはこれらの直線Ｌ1 〜Ｌ3 で囲まれた平
面領域Ｎ（シャドウ部）内になるように３個のビス１４
を配設する。
１１ａを光学箱８の側壁８ａに締結するビス１４は３個
配設されており、各ビス１４による固定部１４ａ〜１４
ｃは、レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点を取り囲むよう
に配置されている。すなわち、レーザビームＰ1 ，Ｐ2
の発光点が各固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直線Ｌ1 〜Ｌ
3 上か、あるいはこれらの直線Ｌ1 〜Ｌ3 で囲まれた平
面領域Ｎ（シャドウ部）内になるように３個のビス１４
を配設する。
【００４０】レーザホルダ１１ａは筒状のボス部１１ｂ
を有し、図４の（ｂ）に示すように、これを光学箱８の
側壁８ａの円筒状の開口８ｂに嵌合させてレーザホルダ
１１ａを回転させるように構成されているが、その回転
中心Ｏもまた、各固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直線Ｌ1
〜Ｌ3 上か、これらによって区切られる平面領域Ｎ内に
位置するように構成される。
を有し、図４の（ｂ）に示すように、これを光学箱８の
側壁８ａの円筒状の開口８ｂに嵌合させてレーザホルダ
１１ａを回転させるように構成されているが、その回転
中心Ｏもまた、各固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直線Ｌ1
〜Ｌ3 上か、これらによって区切られる平面領域Ｎ内に
位置するように構成される。
【００４１】このように配設することで、各固定部１４
ａ〜１４ｃを結ぶ間隔を主走査方向と副走査方向の成分
に置き換えた長さの範囲内に、必ず２つのレーザビーム
Ｐ1，Ｐ2 の発光点が位置し、しかも、回転中心Ｏを含
む広い範囲を堅固に固定して、マルチビーム光源ユニッ
ト１の上下方向と左右方向の倒れを効果的に阻止でき
る。
ａ〜１４ｃを結ぶ間隔を主走査方向と副走査方向の成分
に置き換えた長さの範囲内に、必ず２つのレーザビーム
Ｐ1，Ｐ2 の発光点が位置し、しかも、回転中心Ｏを含
む広い範囲を堅固に固定して、マルチビーム光源ユニッ
ト１の上下方向と左右方向の倒れを効果的に阻止でき
る。
【００４２】特に固定手段としてビス１４を用いた場合
は、レーザホルダ１１ａと光学箱８の側壁８ａは締結面
Ｍにおいて互いに押し当てられる。角度調整のための回
転に伴なう調整しろはクリアランスＫであり、この範囲
でレーザホルダ１１ａを移動する。
は、レーザホルダ１１ａと光学箱８の側壁８ａは締結面
Ｍにおいて互いに押し当てられる。角度調整のための回
転に伴なう調整しろはクリアランスＫであり、この範囲
でレーザホルダ１１ａを移動する。
【００４３】締結面Ｍは、ビス１４の固定部１４ａ〜１
４ｃの位置にあることが最も確実に締結できるし、締結
圧力発生の位置で接するということからも安定性が高
い。ただし、締結面Ｍとビス１４の位置が完全に一致し
なくとも、近接していれば同様の効果は得られるため、
締結面Ｍの位置や形状や数を限定する必要はない。
４ｃの位置にあることが最も確実に締結できるし、締結
圧力発生の位置で接するということからも安定性が高
い。ただし、締結面Ｍとビス１４の位置が完全に一致し
なくとも、近接していれば同様の効果は得られるため、
締結面Ｍの位置や形状や数を限定する必要はない。
【００４４】本実施の形態は固定手段としてビスを用い
ているが紫外線硬化型の接着剤等を用いて接着する手段
を採用してもよい。また発光点の数を制限するものでも
なく２つ以上いくつでもよい。
ているが紫外線硬化型の接着剤等を用いて接着する手段
を採用してもよい。また発光点の数を制限するものでも
なく２つ以上いくつでもよい。
【００４５】コリメータレンズを鏡筒に接着する場合は
紫外線硬化接着剤を用いるのが好適であるが、他の接着
剤でもよい。
紫外線硬化接着剤を用いるのが好適であるが、他の接着
剤でもよい。
【００４６】本実施の形態によれば、マルチビーム光源
ユニットを光学箱の側壁に締結するビス等による固定部
を３箇所以上とすることと、マルチビーム光源ユニット
の回転中心と各レーザビームの発光点を、各固定部を結
ぶ直線上か、全ての固定部を結ぶ直線で区切られる平面
領域内に配設することにより、光学箱に対するマルチビ
ーム光源ユニットの組み付けを安定して堅固に行なうこ
とができる。
ユニットを光学箱の側壁に締結するビス等による固定部
を３箇所以上とすることと、マルチビーム光源ユニット
の回転中心と各レーザビームの発光点を、各固定部を結
ぶ直線上か、全ての固定部を結ぶ直線で区切られる平面
領域内に配設することにより、光学箱に対するマルチビ
ーム光源ユニットの組み付けを安定して堅固に行なうこ
とができる。
【００４７】極めて高精度なライン間隔調整後のマルチ
ビーム光源ユニットの回転ずれや、調整後の締結作業中
の連れまわり等のトラブルを効果的に回避して、安価で
高性能な光ビーム走査装置を実現できる。
ビーム光源ユニットの回転ずれや、調整後の締結作業中
の連れまわり等のトラブルを効果的に回避して、安価で
高性能な光ビーム走査装置を実現できる。
【００４８】図５は一変形例を示す。これは、マルチビ
ーム半導体レーザ１１の発光点の位置が、部品の精度的
に、レーザホルダ１１ａの回転中心Ｏに対して大きく離
れてしまっている場合に、マルチビーム半導体レーザ１
１を、レーザホルダ１１ａの中で再度調整できるよう
に、相対位置を調整するための調整部材１５を設け、こ
れをビス１６によってレーザホルダ１１ａに締結する。
ーム半導体レーザ１１の発光点の位置が、部品の精度的
に、レーザホルダ１１ａの回転中心Ｏに対して大きく離
れてしまっている場合に、マルチビーム半導体レーザ１
１を、レーザホルダ１１ａの中で再度調整できるよう
に、相対位置を調整するための調整部材１５を設け、こ
れをビス１６によってレーザホルダ１１ａに締結する。
【００４９】調整部材１５をマルチビーム半導体レーザ
１１とともにレーザホルダ１１ａに対して相対的に移動
させ、レーザビームＰ1 ，Ｐ2 を結ぶレーザアレイが回
転中心Ｏを通る位置に調整したうえで、ビス１６によっ
て調整部材１５をレーザホルダ１１ａに締結する。
１１とともにレーザホルダ１１ａに対して相対的に移動
させ、レーザビームＰ1 ，Ｐ2 を結ぶレーザアレイが回
転中心Ｏを通る位置に調整したうえで、ビス１６によっ
て調整部材１５をレーザホルダ１１ａに締結する。
【００５０】部品の状態で発光点の位置精度がばらつく
場合でも、調整部材１５によって発光点の位置を調整
し、図４に示すように各固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直
線Ｌ1〜Ｌ3 上か、全ての直線Ｌ1 〜Ｌ3 で区切られる
平面領域Ｎ内に位置させることができる。
場合でも、調整部材１５によって発光点の位置を調整
し、図４に示すように各固定部１４ａ〜１４ｃを結ぶ直
線Ｌ1〜Ｌ3 上か、全ての直線Ｌ1 〜Ｌ3 で区切られる
平面領域Ｎ内に位置させることができる。
【００５１】マルチビーム半導体レーザのパッケージの
形状も選択の幅が広がるという利点もある。
形状も選択の幅が広がるという利点もある。
【００５２】また、複数の発光点が直線状に配設された
端面発光型のマルチビーム半導体レーザ１１に替えて、
図６に示すように、複数の発光点４２ａ〜４２ｄが２次
元的に配列された面発光型のレーザチップ４２を有する
マルチビーム半導体レーザ４１を用いてもよい。これ
は、コリメータレンズの光軸に対してすべての発光点を
近接させることができるため、光学的収差を低減できる
という特筆すべき長所がある。円盤状のレーザホルダ４
１ａには位置決め穴４１ｂを設けて、ライン間隔Ｔ1 〜
Ｔ3 を調整するための傾斜角度θの調整を行なうときの
位置決め基準として用いる。
端面発光型のマルチビーム半導体レーザ１１に替えて、
図６に示すように、複数の発光点４２ａ〜４２ｄが２次
元的に配列された面発光型のレーザチップ４２を有する
マルチビーム半導体レーザ４１を用いてもよい。これ
は、コリメータレンズの光軸に対してすべての発光点を
近接させることができるため、光学的収差を低減できる
という特筆すべき長所がある。円盤状のレーザホルダ４
１ａには位置決め穴４１ｂを設けて、ライン間隔Ｔ1 〜
Ｔ3 を調整するための傾斜角度θの調整を行なうときの
位置決め基準として用いる。
【００５３】また、面発光レーザを用いることによって
発光点の位置等の自由度が増し、組み付け公差の配分が
容易になるという利点もある。
発光点の位置等の自由度が増し、組み付け公差の配分が
容易になるという利点もある。
【００５４】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００５５】マルチビーム半導体レーザから発光される
複数のレーザビームのライン間隔の調整作業を高精度に
行ない、安定して堅固に組み付けることができる。
複数のレーザビームのライン間隔の調整作業を高精度に
行ない、安定して堅固に組み付けることができる。
【００５６】マルチビームのライン間隔が狂うおそれの
ない高性能でしかも安価な光ビーム走査装置を実現でき
る。
ない高性能でしかも安価な光ビーム走査装置を実現でき
る。
【図１】一実施の形態による光ビーム走査装置を示す模
式平面図である。
式平面図である。
【図２】図１の装置のマルチビーム半導体レーザを拡大
して示す拡大斜視図である。
して示す拡大斜視図である。
【図３】ライン間隔の調整作業を説明する図である。
【図４】レーザホルダの固定部を示すもので、（ａ）は
３個の固定部の配置を示す立面図、（ｂ）は固定部を示
す断面図である。
３個の固定部の配置を示す立面図、（ｂ）は固定部を示
す断面図である。
【図５】一変形例を示す模式図である。
【図６】別の変形例を示す模式図である。
【図７】一従来例による光ビーム走査装置を示す模式平
面図である。
面図である。
【図８】図７の光ビーム走査装置におけるライン間隔の
調整作業を説明する図である。
調整作業を説明する図である。
１ マルチビーム光源ユニット ２ シリンドリカルレンズ ３ 回転多面鏡 ４ 結像レンズ ８ 光学箱 １１，４１ マルチビーム半導体レーザ １１ａ，４１ａ レーザホルダ １１ｂ ボス部 １２ コリメータレンズ １２ａ 鏡筒 １４，１６ ビス １５ 調整部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA14 AA43 AA48 BA61 BA90 DA03 2H045 AA01 BA23 BA33 CB65 DA02 5C072 AA03 BA04 CA06 CA09 DA21 DA23 HA02 HA06 HB08 JA07 XA01 XA05
Claims (8)
- 【請求項１】 マルチビーム半導体レーザとこれを保持
するレーザホルダを備えたマルチビーム光源ユニット
と、前記マルチビーム半導体レーザから発生された複数
のレーザビームをそれぞれ走査して感光体に結像させる
走査結像手段と、該走査結像手段と前記マルチビーム光
源ユニットを支持する筐体と、前記マルチビーム光源ユ
ニットの回転角度を調整したのちに該マルチビーム光源
ユニットを前記筐体に固定する固定手段を有し、該固定
手段が複数の固定部を備えており、該複数の固定部のう
ちの２つを結ぶ直線上または前記複数の固定部のすべて
を結ぶ直線によって囲まれた平面領域内に、前記マルチ
ビーム光源ユニットの回転中心および各レーザビームの
発光点が位置するように構成されていることを特徴とす
る光ビーム走査装置。 - 【請求項２】 固定手段が少なくとも３個の固定部を有
することを特徴とする請求項１記載の光ビーム走査装
置。 - 【請求項３】 固定手段が、ビスによって締結される固
定部を有することを特徴とする請求項１または２記載の
光ビーム走査装置。 - 【請求項４】 固定手段が、接着剤によって接着される
固定部を有することを特徴とする請求項１ないし２記載
の光ビーム走査装置。 - 【請求項５】 マルチビーム半導体レーザが、直線状に
配列された複数の発光点を備えていることを特徴とする
請求項１ないし４いずれか１項記載の光ビーム走査装
置。 - 【請求項６】 マルチビーム半導体レーザが、２次元的
に配列された複数の発光点を備えていることを特徴とす
る請求項１ないし４いずれか１項記載の光ビーム走査装
置。 - 【請求項７】 レーザホルダの中にマルチビーム半導体
レーザの相対位置を調整するための調整部材を具備した
ことを特徴とする請求項５または６記載の光ビーム走査
装置。 - 【請求項８】 レーザホルダが、コリメータレンズを保
持する鏡筒と一体であることを特徴とする請求項１ない
し７いずれか１項記載の光ビーム走査装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35535398A JP4336405B2 (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | 光ビーム走査装置 |
| US09/392,626 US6992690B2 (en) | 1998-09-14 | 1999-09-09 | Multi-beam scanning apparatus |
| KR1019990038917A KR100339802B1 (ko) | 1998-09-14 | 1999-09-13 | 멀티 빔 주사 장치 |
| DE69929009T DE69929009T2 (de) | 1998-09-14 | 1999-09-14 | Mehrstrahlabtastgerät |
| EP99118241A EP0987114B1 (en) | 1998-09-14 | 1999-09-14 | Multi-beam scanning apparatus |
| CNB991187369A CN1187949C (zh) | 1998-09-14 | 1999-09-14 | 多光束扫描装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35535398A JP4336405B2 (ja) | 1998-11-30 | 1998-11-30 | 光ビーム走査装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000162535A true JP2000162535A (ja) | 2000-06-16 |
| JP2000162535A5 JP2000162535A5 (ja) | 2006-02-09 |
| JP4336405B2 JP4336405B2 (ja) | 2009-09-30 |
Family
ID=18443447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35535398A Expired - Lifetime JP4336405B2 (ja) | 1998-09-14 | 1998-11-30 | 光ビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4336405B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005241686A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Canon Inc | 走査光学装置及び画像形成装置 |
| JP2007079513A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102511868B1 (ko) | 2017-12-20 | 2023-03-20 | 삼성전기주식회사 | 코일 전자부품 |
-
1998
- 1998-11-30 JP JP35535398A patent/JP4336405B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005241686A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Canon Inc | 走査光学装置及び画像形成装置 |
| JP2007079513A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 光走査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4336405B2 (ja) | 2009-09-30 |
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