JP2000249945A - 光ビーム走査装置 - Google Patents
光ビーム走査装置Info
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- JP2000249945A JP2000249945A JP11047356A JP4735699A JP2000249945A JP 2000249945 A JP2000249945 A JP 2000249945A JP 11047356 A JP11047356 A JP 11047356A JP 4735699 A JP4735699 A JP 4735699A JP 2000249945 A JP2000249945 A JP 2000249945A
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のレーザビームのビーム間隔の調整を高
精度に行なうとともに、マルチビーム光源ユニットの互
換性を向上させる。 【解決手段】 マルチビーム半導体レーザ１１から発生
される２つのレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、光学箱８内の
回転多面鏡によって走査され、結像レンズを経て回転ド
ラム上の感光体に結像する。感光体上のライン間隔Ｔ等
を調整するために、マルチビーム光源ユニット１を光学
箱８に組み付けるときに、レーザアレイＮが所定の傾斜
角度θになるように調整する回転位置決めが必要であ
る。そこで、レーザホルダ１１ａと光学箱８に基準部材
９，１０を設け、これらの取付位置を予め治具等を用い
て調整しておき、組立現場において両基準部材９，１０
を互いに当接することで回転位置決めを行なう。使用現
場におけるマルチビーム光源ユニットの交換も容易であ
る。
精度に行なうとともに、マルチビーム光源ユニットの互
換性を向上させる。 【解決手段】 マルチビーム半導体レーザ１１から発生
される２つのレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、光学箱８内の
回転多面鏡によって走査され、結像レンズを経て回転ド
ラム上の感光体に結像する。感光体上のライン間隔Ｔ等
を調整するために、マルチビーム光源ユニット１を光学
箱８に組み付けるときに、レーザアレイＮが所定の傾斜
角度θになるように調整する回転位置決めが必要であ
る。そこで、レーザホルダ１１ａと光学箱８に基準部材
９，１０を設け、これらの取付位置を予め治具等を用い
て調整しておき、組立現場において両基準部材９，１０
を互いに当接することで回転位置決めを行なう。使用現
場におけるマルチビーム光源ユニットの交換も容易であ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタやデジタル複写機等に用いられる光ビーム走査装置
に関するものである。
ンタやデジタル複写機等に用いられる光ビーム走査装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザビームプリンタ等の電子写
真装置において、複数のレーザビームを用いて複数のラ
インを同時に書き込む光ビーム走査装置が開発されてい
る。
真装置において、複数のレーザビームを用いて複数のラ
インを同時に書き込む光ビーム走査装置が開発されてい
る。
【０００３】これは、互いに離間した複数のレーザビー
ムを同時に走査するもので、図８に示すように、マルチ
ビーム光源ユニット１０１の光源であるマルチビーム半
導体レーザ１１１から２本の光ビームであるレーザビー
ムＰ1 ，Ｐ2 を発生させ、それぞれコリメータレンズ１
１２によって平行化したうえで、シリンドリカルレンズ
１０２を経て、回転多面鏡１０３の反射面１０３ａに照
射し、結像レンズ１０４を経て回転ドラム１０５上の感
光体に結像させる。
ムを同時に走査するもので、図８に示すように、マルチ
ビーム光源ユニット１０１の光源であるマルチビーム半
導体レーザ１１１から２本の光ビームであるレーザビー
ムＰ1 ，Ｐ2 を発生させ、それぞれコリメータレンズ１
１２によって平行化したうえで、シリンドリカルレンズ
１０２を経て、回転多面鏡１０３の反射面１０３ａに照
射し、結像レンズ１０４を経て回転ドラム１０５上の感
光体に結像させる。
【０００４】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は回転多面
鏡１０３の反射面１０３ａに入射し、それぞれ主走査方
向に走査され、回転多面鏡１０３の回転による主走査と
回転ドラム１０５の回転による副走査に伴なって感光体
に静電潜像を形成する。
鏡１０３の反射面１０３ａに入射し、それぞれ主走査方
向に走査され、回転多面鏡１０３の回転による主走査と
回転ドラム１０５の回転による副走査に伴なって感光体
に静電潜像を形成する。
【０００５】なお、シリンドリカルレンズ１０２は、各
レーザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡１０３の反射面１
０３ａに線状に集光する。これは、前述のように感光体
に結像する点像が、回転多面鏡１０３の面倒れによって
歪を発生するのを防止する機能を有し、また、結像レン
ズ１０４は、球面レンズ部とトーリックレンズ部からな
り、シリンドリカルレンズ１０２と同様に感光体上の点
像の歪を防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光体
上で主走査方向に等速度で走査されるように補正する機
能を有する。
レーザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡１０３の反射面１
０３ａに線状に集光する。これは、前述のように感光体
に結像する点像が、回転多面鏡１０３の面倒れによって
歪を発生するのを防止する機能を有し、また、結像レン
ズ１０４は、球面レンズ部とトーリックレンズ部からな
り、シリンドリカルレンズ１０２と同様に感光体上の点
像の歪を防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光体
上で主走査方向に等速度で走査されるように補正する機
能を有する。
【０００６】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、それぞ
れ、主走査面の末端で検出ミラー１０６によって分離さ
れ、主走査面の反対側の光センサ１０７に導入され、図
示しないコントローラにおいて書き込み開始信号に変換
されてマルチビーム半導体レーザ１１１に送信される。
マルチビーム半導体レーザ１１１は書き込み開始信号を
受けて両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開始
する。
れ、主走査面の末端で検出ミラー１０６によって分離さ
れ、主走査面の反対側の光センサ１０７に導入され、図
示しないコントローラにおいて書き込み開始信号に変換
されてマルチビーム半導体レーザ１１１に送信される。
マルチビーム半導体レーザ１１１は書き込み開始信号を
受けて両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開始
する。
【０００７】このように両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
１０５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始
（書き出し）位置を制御する。
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
１０５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始
（書き出し）位置を制御する。
【０００８】シリンドリカルレンズ１０２、回転多面鏡
１０３、結像レンズ１０４等は、光学箱１０８の底壁に
組み付けられる。各光学部品を光学箱１０８に組み付け
たうえで、光学箱１０８の上部開口を図示しないふた部
材によって閉塞する。
１０３、結像レンズ１０４等は、光学箱１０８の底壁に
組み付けられる。各光学部品を光学箱１０８に組み付け
たうえで、光学箱１０８の上部開口を図示しないふた部
材によって閉塞する。
【０００９】マルチビーム半導体レーザ１１１は、前述
のように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を同時に発光す
るもので、レーザホルダ１１１ａを介してコリメータレ
ンズ１１２を内蔵する鏡筒１１２ａと一体的に結合され
たユニットとして、レーザ駆動回路基板１１３とともに
光学箱１０８の側壁１０８ａに組み付けられる。
のように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を同時に発光す
るもので、レーザホルダ１１１ａを介してコリメータレ
ンズ１１２を内蔵する鏡筒１１２ａと一体的に結合され
たユニットとして、レーザ駆動回路基板１１３とともに
光学箱１０８の側壁１０８ａに組み付けられる。
【００１０】マルチビーム光源ユニット１０１の組み付
けに際しては、マルチビーム半導体レーザ１１１を保持
するレーザホルダ１１１ａを光学箱１０８の側壁１０８
ａに設けられた開口１０８ｂに挿入し、レーザホルダ１
１１ａにコリメータレンズ１１２の鏡筒１１２ａをかぶ
せてコリメータレンズ１１２のピント調整や光軸合わせ
を行なったうえで、鏡筒１１２ａをレーザホルダ１１１
ａに接着し、図９の（ａ）に示すように、レーザホルダ
１１１ａを含むマルチビーム光源ユニット１０１全体を
回転させることで、各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点
を結ぶ直線すなわちレーザアレイＮの傾斜角度θの調整
を行なう。
けに際しては、マルチビーム半導体レーザ１１１を保持
するレーザホルダ１１１ａを光学箱１０８の側壁１０８
ａに設けられた開口１０８ｂに挿入し、レーザホルダ１
１１ａにコリメータレンズ１１２の鏡筒１１２ａをかぶ
せてコリメータレンズ１１２のピント調整や光軸合わせ
を行なったうえで、鏡筒１１２ａをレーザホルダ１１１
ａに接着し、図９の（ａ）に示すように、レーザホルダ
１１１ａを含むマルチビーム光源ユニット１０１全体を
回転させることで、各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点
を結ぶ直線すなわちレーザアレイＮの傾斜角度θの調整
を行なう。
【００１１】これは、図９の（ｂ）に示すように、マル
チビーム半導体レーザ１１１から発生される２つのレー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 のビーム間隔の調整すなわち、回転
ドラム１０５上の結像点Ａ1 ，Ａ2 の主走査方向の離間
距離Ｓと副走査方向の離間距離すなわちライン間隔Ｔを
設計値に一致させる調整作業である。この作業を行なっ
たうえで、ビス等を用いてレーザホルダ１１１ａを光学
箱１０８の側壁１０８ａに固定する。
チビーム半導体レーザ１１１から発生される２つのレー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 のビーム間隔の調整すなわち、回転
ドラム１０５上の結像点Ａ1 ，Ａ2 の主走査方向の離間
距離Ｓと副走査方向の離間距離すなわちライン間隔Ｔを
設計値に一致させる調整作業である。この作業を行なっ
たうえで、ビス等を用いてレーザホルダ１１１ａを光学
箱１０８の側壁１０８ａに固定する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、マルチビーム光源ユニットを光学箱に
対して回転させて目標のライン間隔を得る作業を、各マ
ルチビーム光源ユニットを光学箱に組み付ける工程ごと
に、レーザビームを発光させて感光体上の結像点をモニ
タしながら行なうものであるため、組立現場でマルチビ
ーム光源ユニットの回転角度を高精度で調整するための
高度の技能や特殊な工具等が必要である。また、製品と
して完成した光ビーム走査装置の、マルチビーム光源ユ
ニットのみを使用現場でユーザ等が交換する場合にも、
やはり上記と同様に高度の技能や特殊な工具を必要とす
る。
の技術によれば、マルチビーム光源ユニットを光学箱に
対して回転させて目標のライン間隔を得る作業を、各マ
ルチビーム光源ユニットを光学箱に組み付ける工程ごと
に、レーザビームを発光させて感光体上の結像点をモニ
タしながら行なうものであるため、組立現場でマルチビ
ーム光源ユニットの回転角度を高精度で調整するための
高度の技能や特殊な工具等が必要である。また、製品と
して完成した光ビーム走査装置の、マルチビーム光源ユ
ニットのみを使用現場でユーザ等が交換する場合にも、
やはり上記と同様に高度の技能や特殊な工具を必要とす
る。
【００１３】すなわち、マルチビーム光源ユニットの組
付作業が複雑であり、使用現場等における互換性がない
という未解決の課題があった。
付作業が複雑であり、使用現場等における互換性がない
という未解決の課題があった。
【００１４】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、マルチビーム光源ユ
ニットの互換性があって、しかも組立工程の簡略化によ
る組立コストの低減にも貢献できる安価で高性能な光ビ
ーム走査装置を提供することを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、マルチビーム光源ユ
ニットの互換性があって、しかも組立工程の簡略化によ
る組立コストの低減にも貢献できる安価で高性能な光ビ
ーム走査装置を提供することを目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の光ビーム走査装置は、複数の光ビームを発
生するマルチビーム光源ユニットと、前記複数の光ビー
ムをそれぞれ偏向走査して感光体に結像させる走査結像
手段と、該走査結像手段と前記マルチビーム光源ユニッ
トを支持する筐体と、該筐体に対して前記マルチビーム
光源ユニットを所定の回転角度に位置決めするための回
転位置決め手段と、該回転位置決め手段によって位置決
めされた状態で前記マルチビーム光源ユニットの回転位
置を固定するための当接手段と、前記マルチビーム光源
ユニットを前記筐体に固着するための固着手段を有する
ことを特徴とする。
めに本発明の光ビーム走査装置は、複数の光ビームを発
生するマルチビーム光源ユニットと、前記複数の光ビー
ムをそれぞれ偏向走査して感光体に結像させる走査結像
手段と、該走査結像手段と前記マルチビーム光源ユニッ
トを支持する筐体と、該筐体に対して前記マルチビーム
光源ユニットを所定の回転角度に位置決めするための回
転位置決め手段と、該回転位置決め手段によって位置決
めされた状態で前記マルチビーム光源ユニットの回転位
置を固定するための当接手段と、前記マルチビーム光源
ユニットを前記筐体に固着するための固着手段を有する
ことを特徴とする。
【００１６】回転位置決め手段が、マルチビーム光源ユ
ニットと筐体の少なくとも一方に固着された基準部材を
有するとよい。
ニットと筐体の少なくとも一方に固着された基準部材を
有するとよい。
【００１７】当接手段が、マルチビーム光源ユニットと
筐体の少なくとも一方に固着された基準部材の当接部に
よって構成されていてもよい。
筐体の少なくとも一方に固着された基準部材の当接部に
よって構成されていてもよい。
【００１８】回転位置決め手段が、マルチビーム光源ユ
ニットと筐体の少なくとも一方に設けられた基準形状部
を有するものでもよい。
ニットと筐体の少なくとも一方に設けられた基準形状部
を有するものでもよい。
【００１９】当接手段が、マルチビーム光源ユニットと
筐体の少なくとも一方に設けられた基準形状部の当接部
によって構成されていてもよい。
筐体の少なくとも一方に設けられた基準形状部の当接部
によって構成されていてもよい。
【００２０】回転位置決め手段が、マルチビーム光源ユ
ニットと筐体の少なくとも一方に設けられたマーキング
を有するものでもよい。
ニットと筐体の少なくとも一方に設けられたマーキング
を有するものでもよい。
【００２１】
【作用】マルチビーム光源ユニットと筐体をそれぞれ部
品として製作する部品現場において、治具となる光学箱
（基準箱）や治具光源（基準光源）等を用いてマルチビ
ーム光源ユニットの回転位置決めのための基準部材の取
り付けや基準形状部の加工を行なう。マルチビーム光源
ユニットを筐体に組み付ける組立工程においては、マル
チビーム光源ユニットと筐体の基準部材や基準形状部を
整合させるだけで、マルチビーム光源ユニットを所定の
回転角度に位置決めし、光ビームを所定のビーム間隔に
調整できる。
品として製作する部品現場において、治具となる光学箱
（基準箱）や治具光源（基準光源）等を用いてマルチビ
ーム光源ユニットの回転位置決めのための基準部材の取
り付けや基準形状部の加工を行なう。マルチビーム光源
ユニットを筐体に組み付ける組立工程においては、マル
チビーム光源ユニットと筐体の基準部材や基準形状部を
整合させるだけで、マルチビーム光源ユニットを所定の
回転角度に位置決めし、光ビームを所定のビーム間隔に
調整できる。
【００２２】マルチビーム光源ユニットを筐体に組み付
ける組立工程でマルチビーム光源ユニットの回転角度を
調整する場合に比べて、組立現場の作業が簡単で、組立
コストを大幅に低減できる。
ける組立工程でマルチビーム光源ユニットの回転角度を
調整する場合に比べて、組立現場の作業が簡単で、組立
コストを大幅に低減できる。
【００２３】加えて、ビーム間隔の調整精度も大幅に向
上する。
上する。
【００２４】また、光ビーム走査装置の使用現場でマル
チビーム光源ユニットのみをユーザー等が交換するとき
も、マルチビーム光源ユニットを発光させてマルチビー
ム光源ユニットの回転角度を調整する作業が不必要で、
このための高度の技能や特殊な工具等も必要とせず、従
って、マルチビーム光源ユニットの互換性が大幅に向上
する。
チビーム光源ユニットのみをユーザー等が交換するとき
も、マルチビーム光源ユニットを発光させてマルチビー
ム光源ユニットの回転角度を調整する作業が不必要で、
このための高度の技能や特殊な工具等も必要とせず、従
って、マルチビーム光源ユニットの互換性が大幅に向上
する。
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００２６】図１は第１の実施の形態による光ビーム走
査装置を示すもので、これは、マルチビーム光源ユニッ
ト１の光源であるマルチビーム半導体レーザ１１から２
本の光ビームであるレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を発生さ
せ、それぞれコリメータレンズ１２によって平行化した
うえで、シリンドリカルレンズ２を経て、回転多面鏡３
の反射面３ａに照射し、回転多面鏡３とともに走査結像
手段を構成する結像レンズ４を経て回転ドラム５上の感
光体に結像させる。
査装置を示すもので、これは、マルチビーム光源ユニッ
ト１の光源であるマルチビーム半導体レーザ１１から２
本の光ビームであるレーザビームＰ1 ，Ｐ2 を発生さ
せ、それぞれコリメータレンズ１２によって平行化した
うえで、シリンドリカルレンズ２を経て、回転多面鏡３
の反射面３ａに照射し、回転多面鏡３とともに走査結像
手段を構成する結像レンズ４を経て回転ドラム５上の感
光体に結像させる。
【００２７】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は回転多面
鏡３の反射面３ａに入射し、それぞれ主走査方向に走査
され、回転多面鏡３の回転による主走査と回転ドラム５
の回転による副走査に伴なって感光体に静電潜像を形成
する。
鏡３の反射面３ａに入射し、それぞれ主走査方向に走査
され、回転多面鏡３の回転による主走査と回転ドラム５
の回転による副走査に伴なって感光体に静電潜像を形成
する。
【００２８】なお、シリンドリカルレンズ２は、各レー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡３の反射面３ａに線状
に集光する。これは、前述のように感光体に結像する点
像が、回転多面鏡３の面倒れによって歪を発生するのを
防止する機能を有し、また、結像レンズ４は、球面レン
ズ部とトーリックレンズ部からなり、シリンドリカルレ
ンズ２と同様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有する
とともに、前記点像が感光体上で主走査方向に等速度で
走査されるように補正する機能を有する。
ザビームＰ1 ，Ｐ2 を回転多面鏡３の反射面３ａに線状
に集光する。これは、前述のように感光体に結像する点
像が、回転多面鏡３の面倒れによって歪を発生するのを
防止する機能を有し、また、結像レンズ４は、球面レン
ズ部とトーリックレンズ部からなり、シリンドリカルレ
ンズ２と同様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有する
とともに、前記点像が感光体上で主走査方向に等速度で
走査されるように補正する機能を有する。
【００２９】２本のレーザビームＰ1 ，Ｐ2 は、それぞ
れ、主走査面の末端で検出ミラー６によって分離され、
主走査面の反対側の光センサ７に導入され、図示しない
コントローラにおいて書き込み開始信号に変換されてマ
ルチビーム半導体レーザ１１に送信される。マルチビー
ム半導体レーザ１１は書き込み開始信号を受けて両レー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開始する。
れ、主走査面の末端で検出ミラー６によって分離され、
主走査面の反対側の光センサ７に導入され、図示しない
コントローラにおいて書き込み開始信号に変換されてマ
ルチビーム半導体レーザ１１に送信される。マルチビー
ム半導体レーザ１１は書き込み開始信号を受けて両レー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 の書き込み変調を開始する。
【００３０】このように両レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の書
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始（書
き出し）位置を制御する。
き込み変調のタイミングを調節することで、回転ドラム
５上の感光体に形成される静電潜像の書き込み開始（書
き出し）位置を制御する。
【００３１】シリンドリカルレンズ２、回転多面鏡３、
結像レンズ４等は、筐体である光学箱８の底壁に組み付
けられる。各光学部品を光学箱８に組み付けたうえで、
光学箱８の上部開口を図示しないふた部材によって閉塞
する。
結像レンズ４等は、筐体である光学箱８の底壁に組み付
けられる。各光学部品を光学箱８に組み付けたうえで、
光学箱８の上部開口を図示しないふた部材によって閉塞
する。
【００３２】マルチビーム半導体レーザ１１は、前述の
ように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ 2 を同時に発光する
もので、レーザホルダ１１ａを介してコリメータレンズ
１２を内蔵する鏡筒１２ａと一体的に結合されたユニッ
トとして、レーザ駆動回路基板１３とともに光学箱８の
側壁８ａに組み付けられる。
ように複数のレーザビームＰ1 ，Ｐ 2 を同時に発光する
もので、レーザホルダ１１ａを介してコリメータレンズ
１２を内蔵する鏡筒１２ａと一体的に結合されたユニッ
トとして、レーザ駆動回路基板１３とともに光学箱８の
側壁８ａに組み付けられる。
【００３３】マルチビーム光源ユニット１の組み付けに
際しては、マルチビーム半導体レーザ１１を保持するレ
ーザホルダ１１ａを光学箱８の側壁８ａに設けられた開
口８ｂに挿入し、レーザホルダ１１ａにコリメータレン
ズ１２の鏡筒１２ａをかぶせてコリメータレンズ１２の
ピント調整や光軸合わせ等の３次元的調整を行なったう
えで、鏡筒１２ａをレーザホルダ１１ａに接着する。
際しては、マルチビーム半導体レーザ１１を保持するレ
ーザホルダ１１ａを光学箱８の側壁８ａに設けられた開
口８ｂに挿入し、レーザホルダ１１ａにコリメータレン
ズ１２の鏡筒１２ａをかぶせてコリメータレンズ１２の
ピント調整や光軸合わせ等の３次元的調整を行なったう
えで、鏡筒１２ａをレーザホルダ１１ａに接着する。
【００３４】マルチビーム半導体レーザ１１は、図２に
示すように、ステム２１と一体である台座２１ａに固定
されたレーザチップ２２と、レーザチップ２２の２つの
発光点２２ａ，２２ｂから発光されるレーザビームＰ
1 ，Ｐ2 の発光量をモニタするフォトダイオード２３
と、レーザチップ２２等に通電するための通電端子２４
を有し、レーザチップ２２等はキャップ２５によって覆
われている。
示すように、ステム２１と一体である台座２１ａに固定
されたレーザチップ２２と、レーザチップ２２の２つの
発光点２２ａ，２２ｂから発光されるレーザビームＰ
1 ，Ｐ2 の発光量をモニタするフォトダイオード２３
と、レーザチップ２２等に通電するための通電端子２４
を有し、レーザチップ２２等はキャップ２５によって覆
われている。
【００３５】マルチビーム光源ユニット１を光学箱８に
組み付ける工程では、図３に示すように、走査面を含む
平面Ｖに対して、マルチビーム半導体レーザ１１を回転
させることで、各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点を結
ぶ直線すなわちレーザアレイＮの傾斜角度θの調整を行
なう回転位置決めが必要である。これは、マルチビーム
半導体レーザ１１から発生される２つのレーザビームＰ
1 ，Ｐ2 のそれぞれの回転ドラム５上の結像点Ａ1 ，Ａ
2 の主走査方向の離間距離Ｓと副走査方向の離間距離す
なわちライン間隔Ｔを設計値に一致させるビーム間隔の
調整作業である（図３の（ｂ）参照）。この調整作業の
ために、レーザホルダ１１ａと光学箱８に回転位置決め
手段である基準部材９，１０が固着されている。
組み付ける工程では、図３に示すように、走査面を含む
平面Ｖに対して、マルチビーム半導体レーザ１１を回転
させることで、各レーザビームＰ1 ，Ｐ2 の発光点を結
ぶ直線すなわちレーザアレイＮの傾斜角度θの調整を行
なう回転位置決めが必要である。これは、マルチビーム
半導体レーザ１１から発生される２つのレーザビームＰ
1 ，Ｐ2 のそれぞれの回転ドラム５上の結像点Ａ1 ，Ａ
2 の主走査方向の離間距離Ｓと副走査方向の離間距離す
なわちライン間隔Ｔを設計値に一致させるビーム間隔の
調整作業である（図３の（ｂ）参照）。この調整作業の
ために、レーザホルダ１１ａと光学箱８に回転位置決め
手段である基準部材９，１０が固着されている。
【００３６】レーザホルダ１１ａの基準部材９と光学箱
８の基準部材１０は、それぞれ、レーザホルダ１１ａ、
光学箱８に対する取付位置が矢印Ａ，Ｂで示すように調
整自在に構成されており、両者の当接部（接触部）９
ａ，１０ａを接触させたときにレーザビームＰ1 ，Ｐ2
の発光点を結ぶ直線（レーザアレイ）Ｎが平面Ｖに対し
て所定の傾斜角度θになるように予め部品現場で調整ず
みである。
８の基準部材１０は、それぞれ、レーザホルダ１１ａ、
光学箱８に対する取付位置が矢印Ａ，Ｂで示すように調
整自在に構成されており、両者の当接部（接触部）９
ａ，１０ａを接触させたときにレーザビームＰ1 ，Ｐ2
の発光点を結ぶ直線（レーザアレイ）Ｎが平面Ｖに対し
て所定の傾斜角度θになるように予め部品現場で調整ず
みである。
【００３７】すなわち、図４に示すように治具となる光
学箱すなわち基準箱５０や図５に示す基準光源５１等を
用いて、マルチビーム光源ユニット１や光学箱８を部品
として製作する工程で、各基準部材９，１０の取付位置
が予め調整される。
学箱すなわち基準箱５０や図５に示す基準光源５１等を
用いて、マルチビーム光源ユニット１や光学箱８を部品
として製作する工程で、各基準部材９，１０の取付位置
が予め調整される。
【００３８】レーザホルダ１１ａに対する基準部材９の
取付位置の調整は以下のように行なわれる。
取付位置の調整は以下のように行なわれる。
【００３９】図４に示すように、基準箱５０は、治具レ
ンズ５０ａやエリアセンサ５０ｂ等を有し、基準箱５０
にマルチビーム光源ユニット１を取り付けて発光させな
がら回転させて所定のビーム間隔を得る回転位置に仮止
めし、レーザホルダ１１ａ上で基準部材９を矢印Ａの方
向に移動させ、基準箱５０上の基準マーク等に合わせて
取付位置を調整したうえで、基準部材９をレーザホルダ
１１ａにビス止め等によって固着する。また、光学箱８
の基準部材１０は、図５に示すように光学箱８に基準光
源５１を組み付けて、回転多面鏡３と結像レンズ４を経
て回転ドラム５上に結像するレーザビームの結像点をモ
ニタしながら基準部材１０を矢印Ｂの方向へ移動させて
調整する。
ンズ５０ａやエリアセンサ５０ｂ等を有し、基準箱５０
にマルチビーム光源ユニット１を取り付けて発光させな
がら回転させて所定のビーム間隔を得る回転位置に仮止
めし、レーザホルダ１１ａ上で基準部材９を矢印Ａの方
向に移動させ、基準箱５０上の基準マーク等に合わせて
取付位置を調整したうえで、基準部材９をレーザホルダ
１１ａにビス止め等によって固着する。また、光学箱８
の基準部材１０は、図５に示すように光学箱８に基準光
源５１を組み付けて、回転多面鏡３と結像レンズ４を経
て回転ドラム５上に結像するレーザビームの結像点をモ
ニタしながら基準部材１０を矢印Ｂの方向へ移動させて
調整する。
【００４０】マルチビーム光源ユニットの場合には、複
数のレーザビームのビーム間隔の誤差がシリンドリカル
レンズや結像レンズ内のビーム通過位置に大きく依存す
る。
数のレーザビームのビーム間隔の誤差がシリンドリカル
レンズや結像レンズ内のビーム通過位置に大きく依存す
る。
【００４１】そこで、基準光源５１の各レーザビームを
これらの光学系を通過させることで確認し、最適位置が
みつかった段階で光学箱８に対して基準部材１０を矢印
Ｂの方向へ移動して、図示しない基準ピン等に当てて位
置決めし、光学箱８に固着する。実際には、回転ドラム
５の感光体の相当位置に置いたＣＣＤセンサ等のエリア
センサでビーム間隔を確認して上記の調整作業が行なわ
れる。
これらの光学系を通過させることで確認し、最適位置が
みつかった段階で光学箱８に対して基準部材１０を矢印
Ｂの方向へ移動して、図示しない基準ピン等に当てて位
置決めし、光学箱８に固着する。実際には、回転ドラム
５の感光体の相当位置に置いたＣＣＤセンサ等のエリア
センサでビーム間隔を確認して上記の調整作業が行なわ
れる。
【００４２】このように、マルチビーム光源ユニット１
側の基準部材９と、光学箱８側の基準部材１０はそれぞ
れの部品製造現場で独自に位置決めされるため、両者に
よるビーム間隔調整の公差はミクロン単位となる。この
ようにして予め組立基準が高精度で調整ずみであるか
ら、マルチビーム光源ユニット１を光学箱８に組み付け
るときには、図３の（ａ）に示すように、基準部材９，
１０の当接部９ａ，１０ａを互いに当接するだけでレー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 のライン間隔Ｔの調整は完了し、固
着手段であるビス１１ｂによってレーザホルダ１１ａを
光学箱８に固着するだけでよい。
側の基準部材９と、光学箱８側の基準部材１０はそれぞ
れの部品製造現場で独自に位置決めされるため、両者に
よるビーム間隔調整の公差はミクロン単位となる。この
ようにして予め組立基準が高精度で調整ずみであるか
ら、マルチビーム光源ユニット１を光学箱８に組み付け
るときには、図３の（ａ）に示すように、基準部材９，
１０の当接部９ａ，１０ａを互いに当接するだけでレー
ザビームＰ1 ，Ｐ2 のライン間隔Ｔの調整は完了し、固
着手段であるビス１１ｂによってレーザホルダ１１ａを
光学箱８に固着するだけでよい。
【００４３】両基準部材９，１０の接触部９ａ，１０ａ
の位置は、図３に示す擬似回転中心Ｏから接触部９ａ，
１０ａまでを偏角距離ＤS とし、レーザビームＰ1 ，Ｐ
2 の発光点の間隔をＤo とすれば、ＤS ≧１１０・Ｄo
に設定するのが望ましい。これは実験的に導いたもので
あり、これ以下の倍率では原理的には調整可能ではあっ
ても、部品の配置位置やビス止め時の連れまわりによっ
て大きく影響を受けてズレが発生しやすい。
の位置は、図３に示す擬似回転中心Ｏから接触部９ａ，
１０ａまでを偏角距離ＤS とし、レーザビームＰ1 ，Ｐ
2 の発光点の間隔をＤo とすれば、ＤS ≧１１０・Ｄo
に設定するのが望ましい。これは実験的に導いたもので
あり、これ以下の倍率では原理的には調整可能ではあっ
ても、部品の配置位置やビス止め時の連れまわりによっ
て大きく影響を受けてズレが発生しやすい。
【００４４】基準部材の接触部は１点でなく複数でもよ
いが、全て上記の倍率の範囲の位置であるのが望まし
い。必要以上に離れてもレーザホルダ等が大型化するた
め、上限は設計上の都合で決めてよい。
いが、全て上記の倍率の範囲の位置であるのが望まし
い。必要以上に離れてもレーザホルダ等が大型化するた
め、上限は設計上の都合で決めてよい。
【００４５】また、基準部材の接触部は、これらが互い
に当接されて位置決めされた状態でマルチビーム光源ユ
ニットの回転位置を固定する当接手段を構成するもので
あるから、それぞれの基準部材の一部である必要はな
く、基準部材をもとに新たに設定された接触部等であっ
てもよい。
に当接されて位置決めされた状態でマルチビーム光源ユ
ニットの回転位置を固定する当接手段を構成するもので
あるから、それぞれの基準部材の一部である必要はな
く、基準部材をもとに新たに設定された接触部等であっ
てもよい。
【００４６】さらに、レーザホルダに基準部材を設ける
替わりに、レーザホルダに隣接して配置する回路基板等
に基準部材を設けてもよい。
替わりに、レーザホルダに隣接して配置する回路基板等
に基準部材を設けてもよい。
【００４７】なお、発光点が３個以上の場合には、Ｄ0
は最も近い隣接している発光点間の距離を指す。例え
ば、発光点が３個のときは、最大距離が１４０μｍであ
るがＤ O は７０μｍとなる。
は最も近い隣接している発光点間の距離を指す。例え
ば、発光点が３個のときは、最大距離が１４０μｍであ
るがＤ O は７０μｍとなる。
【００４８】擬似回転中心は、光学箱に対するレーザホ
ルダの嵌合部（インロー部）によって決まるものである
が、ほとんどの場合は発光点近傍に位置するため、発光
点を含むと言い換えてもよい。また、擬似回転中心はレ
ーザホルダの嵌合部以外に設けてもよい。このように擬
似回転中心が発光点近傍にない場合でも、基準部材の接
触部が安定して接触できる構成であれば大きく離れた仮
想の支点を設けてもよい。
ルダの嵌合部（インロー部）によって決まるものである
が、ほとんどの場合は発光点近傍に位置するため、発光
点を含むと言い換えてもよい。また、擬似回転中心はレ
ーザホルダの嵌合部以外に設けてもよい。このように擬
似回転中心が発光点近傍にない場合でも、基準部材の接
触部が安定して接触できる構成であれば大きく離れた仮
想の支点を設けてもよい。
【００４９】なお、基準部材の替わりに、光学箱やマル
チビーム光源ユニットに切欠部等の基準形状部を設けて
もよいし、あるいは、ポンチ等によって打痕状にマーキ
ングを施したものや、罫書き状のマーキング等を用いて
もよい。基準形状部やマーキングの位置は、前述のよう
に基準箱等の治具や基準光源等を用いて決定する。
チビーム光源ユニットに切欠部等の基準形状部を設けて
もよいし、あるいは、ポンチ等によって打痕状にマーキ
ングを施したものや、罫書き状のマーキング等を用いて
もよい。基準形状部やマーキングの位置は、前述のよう
に基準箱等の治具や基準光源等を用いて決定する。
【００５０】光学箱に対するレーザホルダの組み付けは
ビス等の締結手段に限らず紫外線硬化型等の接着剤を用
いてもよい。
ビス等の締結手段に限らず紫外線硬化型等の接着剤を用
いてもよい。
【００５１】また、マルチビーム光源ユニットの形態を
限定するものではないが、上記のように、コリメータレ
ンズと鏡筒を紫外線硬化型接着剤等によって接着し、そ
の層厚を利用してピントや照射位置調整を３次元的に行
なうものが最もコンパクトでよい。
限定するものではないが、上記のように、コリメータレ
ンズと鏡筒を紫外線硬化型接着剤等によって接着し、そ
の層厚を利用してピントや照射位置調整を３次元的に行
なうものが最もコンパクトでよい。
【００５２】本実施の形態によれば、マルチビーム光源
ユニットと光学箱にビーム間隔調整のための基準部材等
の回転位置決め手段を付加することにより、マルチビー
ム光源ユニットの交換をユーザー等の使用現場で自由に
行なうことができ、いわゆるマルチビーム光源ユニット
の互換性を向上させることができる。また光ビーム走査
装置の製造現場における組立工程も大幅に簡略化され、
組立精度も向上する。
ユニットと光学箱にビーム間隔調整のための基準部材等
の回転位置決め手段を付加することにより、マルチビー
ム光源ユニットの交換をユーザー等の使用現場で自由に
行なうことができ、いわゆるマルチビーム光源ユニット
の互換性を向上させることができる。また光ビーム走査
装置の製造現場における組立工程も大幅に簡略化され、
組立精度も向上する。
【００５３】図６は第２の実施の形態を示す。これは、
マルチビーム光源ユニット３１のマルチビーム半導体レ
ーザ４１を保持するレーザホルダ４１ａを回転させるた
めの支点Ｑをレーザホルダ４１ａの一端部に設けたもの
である。レーザホルダ４１ａと一体であるピン４１ｃを
光学箱３８の側壁３８ａに設けられた長溝３８ｂに沿っ
て矢印Ｃの方向に移動できるように構成する。レーザホ
ルダ４１ａの他端は、フライス加工装置を用いた切削加
工等によって形成された基準形状部４１ｂを有する。こ
れは、第１の実施の形態と同様に、他の治具を用いて回
転角度の調整すなわち発光点Ｐ1 ，Ｐ2 の傾斜角度θの
調整を行なって、基準部材９と同様に履歴として残され
たものである。他方、光学箱３８の側にも一体的に形成
された基準形状部３８ｃが設けられる。これも、基準光
源等を用いて位置出しを行ない、研削等の加工を施すこ
とによって形成される。レーザホルダ４１ａと光学箱３
８の基準形状部４１ｂ，３８ｃの当接部４１ｃ，３８ｄ
を当接させた状態でレーザホルダ４１ａを光学箱３８に
ビス止め等の固着手段によって固着する。
マルチビーム光源ユニット３１のマルチビーム半導体レ
ーザ４１を保持するレーザホルダ４１ａを回転させるた
めの支点Ｑをレーザホルダ４１ａの一端部に設けたもの
である。レーザホルダ４１ａと一体であるピン４１ｃを
光学箱３８の側壁３８ａに設けられた長溝３８ｂに沿っ
て矢印Ｃの方向に移動できるように構成する。レーザホ
ルダ４１ａの他端は、フライス加工装置を用いた切削加
工等によって形成された基準形状部４１ｂを有する。こ
れは、第１の実施の形態と同様に、他の治具を用いて回
転角度の調整すなわち発光点Ｐ1 ，Ｐ2 の傾斜角度θの
調整を行なって、基準部材９と同様に履歴として残され
たものである。他方、光学箱３８の側にも一体的に形成
された基準形状部３８ｃが設けられる。これも、基準光
源等を用いて位置出しを行ない、研削等の加工を施すこ
とによって形成される。レーザホルダ４１ａと光学箱３
８の基準形状部４１ｂ，３８ｃの当接部４１ｃ，３８ｄ
を当接させた状態でレーザホルダ４１ａを光学箱３８に
ビス止め等の固着手段によって固着する。
【００５４】このようにして基準部材を付加することな
くミクロン単位での回転位置決めすなわちビーム間隔の
調整を行なうこともできる。偏角距離ＤS はレーザホル
ダ４１ａの支点Ｑから基準形状部４１ｂ，３８ｃの当接
部４１ｃ，３８ｄまでの距離となる。発光点Ｐ1 ，Ｐ2
の距離Ｄ0 に対する倍率は前述した数値関係と同様であ
る。
くミクロン単位での回転位置決めすなわちビーム間隔の
調整を行なうこともできる。偏角距離ＤS はレーザホル
ダ４１ａの支点Ｑから基準形状部４１ｂ，３８ｃの当接
部４１ｃ，３８ｄまでの距離となる。発光点Ｐ1 ，Ｐ2
の距離Ｄ0 に対する倍率は前述した数値関係と同様であ
る。
【００５５】レーザホルダの回転位置を固定する当接手
段としては、各基準形状部が必ずしも直接に接触するも
のに限らず、両者の間にスペーサ等を介在させてもよい
し、あるいは当接手段が回転位置決め手段である基準形
状部４１ｂ，３８ｃから離れた接触部であってもよい。
段としては、各基準形状部が必ずしも直接に接触するも
のに限らず、両者の間にスペーサ等を介在させてもよい
し、あるいは当接手段が回転位置決め手段である基準形
状部４１ｂ，３８ｃから離れた接触部であってもよい。
【００５６】その他の点は第１の実施の形態と同様であ
る。
る。
【００５７】また、複数の発光点が直線状に配設された
端面発光型のマルチビーム半導体レーザ１１，３１に替
えて、図７に示すように、複数の発光点４２ａが２次元
的に配列された面発光型のレーザチップ４２を有するマ
ルチビーム半導体レーザを用いてもよい。これは、コリ
メータレンズの光軸に対してすべての発光点を近接させ
ることができるため、光学的収差を低減できるという特
筆すべき長所がある。
端面発光型のマルチビーム半導体レーザ１１，３１に替
えて、図７に示すように、複数の発光点４２ａが２次元
的に配列された面発光型のレーザチップ４２を有するマ
ルチビーム半導体レーザを用いてもよい。これは、コリ
メータレンズの光軸に対してすべての発光点を近接させ
ることができるため、光学的収差を低減できるという特
筆すべき長所がある。
【００５８】また、面発光レーザを用いることによって
発光点の位置等の自由度が増し、組み付け公差の配分が
容易になるという利点もある。
発光点の位置等の自由度が増し、組み付け公差の配分が
容易になるという利点もある。
【００５９】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００６０】マルチビーム光源ユニットを光学箱等の筐
体に組み付ける組立現場においてマルチビーム光源ユニ
ットを発光させ、マルチビーム光源ユニットを回転させ
てビーム間隔の調整を行なうめんどうな作業を省略し、
組立コストの低減、組立精度の向上に大きく貢献でき
る。
体に組み付ける組立現場においてマルチビーム光源ユニ
ットを発光させ、マルチビーム光源ユニットを回転させ
てビーム間隔の調整を行なうめんどうな作業を省略し、
組立コストの低減、組立精度の向上に大きく貢献でき
る。
【００６１】また、光ビーム走査装置の使用現場でユー
ザー等がマルチビーム光源ユニットを交換するときも、
マルチビーム光源ユニットを発光させてマルチビーム光
源ユニットの回転角度を調整するための高度の技能や特
殊な工具等を必要とせず、マルチビーム光源ユニットの
互換性を大幅に向上させることができる。
ザー等がマルチビーム光源ユニットを交換するときも、
マルチビーム光源ユニットを発光させてマルチビーム光
源ユニットの回転角度を調整するための高度の技能や特
殊な工具等を必要とせず、マルチビーム光源ユニットの
互換性を大幅に向上させることができる。
【図１】一実施の形態による光ビーム走査装置を示す模
式平面図である。
式平面図である。
【図２】図１の装置のマルチビーム半導体レーザを拡大
して示す拡大斜視図である。
して示す拡大斜視図である。
【図３】ビーム間隔の調整作業を説明する図である。
【図４】基準箱を用いてマルチビーム光源ユニットの基
準部材の取付位置を定める工程を説明する図である。
準部材の取付位置を定める工程を説明する図である。
【図５】基準光源を用いて光学箱の基準部材の取付位置
を定める工程を説明する図である。
を定める工程を説明する図である。
【図６】第２の実施の形態を示す模式図である。
【図７】面発光型のマルチビーム光源ユニットを説明す
る図である。
る図である。
【図８】一従来例による光ビーム走査装置を示す模式平
面図である。
面図である。
【図９】図８の光ビーム走査装置におけるビーム間隔の
調整作業を説明する図である。
調整作業を説明する図である。
１，３１ マルチビーム光源ユニット ２ シリンドリカルレンズ ３ 回転多面鏡 ４ 結像レンズ ８，３８ 光学箱 ９，１０ 基準部材 １１ａ，４１ａ レーザホルダ １１ｂ ビス １２ コリメータレンズ １２ａ 鏡筒 ３８ｃ，４１ｂ 基準形状部
Claims (9)
- 【請求項１】 複数の光ビームを発生するマルチビーム
光源ユニットと、前記複数の光ビームをそれぞれ偏向走
査して感光体に結像させる走査結像手段と、該走査結像
手段と前記マルチビーム光源ユニットを支持する筐体
と、該筐体に対して前記マルチビーム光源ユニットを所
定の回転角度に位置決めするための回転位置決め手段
と、該回転位置決め手段によって位置決めされた状態で
前記マルチビーム光源ユニットの回転位置を固定するた
めの当接手段と、前記マルチビーム光源ユニットを前記
筐体に固着するための固着手段を有する光ビーム走査装
置。 - 【請求項２】 回転位置決め手段が、マルチビーム光源
ユニットと筐体の少なくとも一方に固着された基準部材
を有することを特徴とする請求項１記載の光ビーム走査
装置。 - 【請求項３】 当接手段が、マルチビーム光源ユニット
と筐体の少なくとも一方に固着された基準部材の当接部
によって構成されていることを特徴とする請求項１また
は２記載の光ビーム走査装置。 - 【請求項４】 回転位置決め手段が、マルチビーム光源
ユニットと筐体の少なくとも一方に設けられた基準形状
部を有することを特徴とする請求項１ないし３いずれか
１項記載の光ビーム走査装置。 - 【請求項５】 当接手段が、マルチビーム光源ユニット
と筐体の少なくとも一方に設けられた基準形状部の当接
部によって構成されていることを特徴とする請求項１な
いし４いずれか１項記載の光ビーム走査装置。 - 【請求項６】 回転位置決め手段が、マルチビーム光源
ユニットと筐体の少なくとも一方に設けられたマーキン
グを有することを特徴とする請求項１ないし５いずれか
１項記載の光ビーム走査装置。 - 【請求項７】 マルチビーム光源ユニットが２次元的に
配設された複数の発光点を有することを特徴とする請求
項１ないし６いずれか１項記載の光ビーム走査装置。 - 【請求項８】 マルチビーム光源ユニットが、各光ビー
ムを平行化するコリメータレンズを備えていることを特
徴とする請求項１ないし７いずれか１項記載の光ビーム
走査装置。 - 【請求項９】 光ビームがレーザビームであることを特
徴とする請求項１ないし８いずれか１項記載の光ビーム
走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047356A JP2000249945A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 光ビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047356A JP2000249945A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 光ビーム走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000249945A true JP2000249945A (ja) | 2000-09-14 |
Family
ID=12772867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11047356A Pending JP2000249945A (ja) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | 光ビーム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000249945A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012252125A (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-20 | Brother Ind Ltd | 光走査装置およびその製造方法 |
| JP2014013349A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Canon Inc | 光ビーム出射装置及び画像形成装置 |
-
1999
- 1999-02-25 JP JP11047356A patent/JP2000249945A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012252125A (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-20 | Brother Ind Ltd | 光走査装置およびその製造方法 |
| JP2014013349A (ja) * | 2012-07-05 | 2014-01-23 | Canon Inc | 光ビーム出射装置及び画像形成装置 |
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