JPS5943955B2 - 新規なジベンゾピラン中間体およびその製造法 - Google Patents
新規なジベンゾピラン中間体およびその製造法Info
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- C07D311/08—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なジベンゾピランの製造に有用な中間体
およびその製法に関する。
およびその製法に関する。
現在多数の鎮痛剤が入手できるにもかかわらず、新らし
い改良された鎮痛剤の研究が続けられている。
い改良された鎮痛剤の研究が続けられている。
このことは広い意味の痛みを抑制しかつ副作用が最小で
ある鎮痛剤が不足していることを意味する。最も普通に
使用されている鎮痛剤のアスピリンは、激しい痛みの抑
制に実際的価値がなく、いろいろの望ましくない副作用
を示すことが知られている。他のいつそう効力のある鎮
痛剤、たとえばｄ−プロポキシフエン、コデインやモル
ヒネは習慣性を与える傾向がある。したがつて、改良さ
れた効力のある鎮痛剤が要求されていることは、明らか
である。９−ノル−９β−ヒドロキシヘキサヒドロカン
ナビノ一ルや他のカンナビノイド構造体、たとえばΔ８
−テトラヒドロカンナビノ一ル（Δ８ＴＨＣ）およびそ
の一次代謝物の１１−ヒドロキシーΔ８−ＴＨＣの鎮痛
性は、ＷｉｌｓｏｎおよびＭａｙ．．Ａｂｓｔｓ．．Ｐ
ａｐｅｒ，．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１６８Ｍｅｅ
ｔ．、ＭＥＤＩ １１（１８７４）およびＪ．Ｍｅｄ．
Ｃｈｅｍ．、１７、４７５−４７６（１９７４）に報告
されている。
ある鎮痛剤が不足していることを意味する。最も普通に
使用されている鎮痛剤のアスピリンは、激しい痛みの抑
制に実際的価値がなく、いろいろの望ましくない副作用
を示すことが知られている。他のいつそう効力のある鎮
痛剤、たとえばｄ−プロポキシフエン、コデインやモル
ヒネは習慣性を与える傾向がある。したがつて、改良さ
れた効力のある鎮痛剤が要求されていることは、明らか
である。９−ノル−９β−ヒドロキシヘキサヒドロカン
ナビノ一ルや他のカンナビノイド構造体、たとえばΔ８
−テトラヒドロカンナビノ一ル（Δ８ＴＨＣ）およびそ
の一次代謝物の１１−ヒドロキシーΔ８−ＴＨＣの鎮痛
性は、ＷｉｌｓｏｎおよびＭａｙ．．Ａｂｓｔｓ．．Ｐ
ａｐｅｒ，．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１６８Ｍｅｅ
ｔ．、ＭＥＤＩ １１（１８７４）およびＪ．Ｍｅｄ．
Ｃｈｅｍ．、１７、４７５−４７６（１９７４）に報告
されている。
１９７０年４月２１日付けの米国特許
３５０７８８５および１９７２年１月１８日付の米国特
許３６３６０５８は、９位置にオキソ、ヒドロカルビル
、ヒドロキシ、クロロおよびヒドロカルビリデンのよう
な置換基をもつ種々の１−ヒドロキシ−３−アルキル−
６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランならびにそれらの中間
体を記載している。
許３６３６０５８は、９位置にオキソ、ヒドロカルビル
、ヒドロキシ、クロロおよびヒドロカルビリデンのよう
な置換基をもつ種々の１−ヒドロキシ−３−アルキル−
６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランならびにそれらの中間
体を記載している。
１９７２年３月１４日付けの米国特許
３６４９６５０は、精神治療剤として、１位置にω−ジ
アルキルアミノアルコキシ基をもつ一連のテトラヒドロ
−６・６・９−トリアルキル−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ
〕ピラン誘導体を開示している。
アルキルアミノアルコキシ基をもつ一連のテトラヒドロ
−６・６・９−トリアルキル−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ
〕ピラン誘導体を開示している。
１９７５年５月７日付けのドイツ国特許明細書２４５１
９３４は、血圧低下、向精神薬、鎮痛剤および鎮痛剤と
して、３位置にアルキルまたはアルケニル基をもつ１・
９−ジヒドロキシーヘキサヒドロジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピ
ランおよびそのある種の１−アシル誘導体を開始してい
る。
９３４は、血圧低下、向精神薬、鎮痛剤および鎮痛剤と
して、３位置にアルキルまたはアルケニル基をもつ１・
９−ジヒドロキシーヘキサヒドロジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピ
ランおよびそのある種の１−アシル誘導体を開始してい
る。
それらの製造に使用しかつ対応する９−ヒドロキル化合
物として同じ利用性をもつと報告されている前駆物質の
ヘギサヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン−９−
オンは、１９７５年５月７日付けのドイツ国特許明細書
２４５１９３２に記載されている。１９７４年１０月１
７日付けのドイツ国特許明細書２４１５６９７は、３位
置にアラルキル、（置換されたアラルキル）またはピリ
ジルアルキル基をもつ１−ヒドロキシ−６・６・９−ト
リメチルーヘキサヒドロジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン誘導
体およびその中間体を記載している。
物として同じ利用性をもつと報告されている前駆物質の
ヘギサヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン−９−
オンは、１９７５年５月７日付けのドイツ国特許明細書
２４５１９３２に記載されている。１９７４年１０月１
７日付けのドイツ国特許明細書２４１５６９７は、３位
置にアラルキル、（置換されたアラルキル）またはピリ
ジルアルキル基をもつ１−ヒドロキシ−６・６・９−ト
リメチルーヘキサヒドロジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン誘導
体およびその中間体を記載している。
それらは鎮痛剤およびききめのゆるやかな精神安定剤と
して有用である。１９７４年１２月２４日付けの米国特
許 ３８５６８２１は、抗関節炎活性、抗炎症活性および中
枢神経系活性をもつ一連の３−アルコキシ置換ジベンゾ
〔ｂ−ｄ〕ピランを記載している。
して有用である。１９７４年１２月２４日付けの米国特
許 ３８５６８２１は、抗関節炎活性、抗炎症活性および中
枢神経系活性をもつ一連の３−アルコキシ置換ジベンゾ
〔ｂ−ｄ〕ピランを記載している。
（ヘ）−Δ１−テトラヒドロカンナビノ一ルとしてより
いつそう普通に知られている（ヘ）トランス６ａ・７・
８・１０ａ、−テトラヒドロ−３−ぺンチル−６・６・
９−トリメチル−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン−１
−オールの立体特異性的合成は、Ｒａｚｄａｎｅｔａｌ
．（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、９６、５８６０−
５、１９７４）により報告された。この１工程合成法は
、塩化メチレン中で１％の三フッ化ホウ素エーチレート
および無水硫酸マグネシウムの存在でＯ℃においてシス
／トランスー（ト）−ｐ−メンタ−２・８−ジエン−１
−オールをオリベトールと反応させることからなる。こ
のようにして生成したテトラヒドロ化合物リ、Ｗ１１ｄ
ｅｓ ｅ１ ａｌ．、Ｊ．０ｒｇ．Ｃｌ］ｅｍ．、３６
、７２１−３（１９７１）の方法により、対応する９−
ケトヘキサヒドロ化合物に転化する。この方法は、この
１−ヒドロキシーテトラヒドロ化合物のそのメチルエー
テルへのメチル化、次いでクロロホルム中０℃における
塩化亜鉛およびＨＣｌとの反応による塩化水素付加物へ
の転化を含む。次いで、この付加物をカリウムトリシク
ロペンチルカルビノレートとの反応により脱・・ロゲン
化水素化して、対応する６ａ・７・８・９・１０・１０
ａ−ヘキサヒドロ−３−ペンチル−６・６ージメチル−
９−メチレン−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピラン−１−
オールメチルエーテルを生成する。その９−メチレン基
を過マンガン酸カリウム−過ヨウ素酸塩で酸化すると、
９−ケトンが得られる。塩化ピリジニウムまたは他の酸
性試薬でそのメチルエーテルを脱メチル化すると、アル
コールが得られる。Ｂｅｒｇｅｌｅｔａｌ．、Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．ＳＯｃ．、２８６−７（１９４３）は、７・８・
９・１０−テトラヒトロー３−ペンチル一６・６・９−
トリメチル−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン一１−オ
ールの３位置のペンチル基をアルコキシ（ブトキシ、ペ
ントキシ、ヘキソキシおよびオクトキシ）で置換するこ
とを研究することを研究し、この置換によりこの化合物
は生物学的に不活性となることを発見した。
いつそう普通に知られている（ヘ）トランス６ａ・７・
８・１０ａ、−テトラヒドロ−３−ぺンチル−６・６・
９−トリメチル−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン−１
−オールの立体特異性的合成は、Ｒａｚｄａｎｅｔａｌ
．（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、９６、５８６０−
５、１９７４）により報告された。この１工程合成法は
、塩化メチレン中で１％の三フッ化ホウ素エーチレート
および無水硫酸マグネシウムの存在でＯ℃においてシス
／トランスー（ト）−ｐ−メンタ−２・８−ジエン−１
−オールをオリベトールと反応させることからなる。こ
のようにして生成したテトラヒドロ化合物リ、Ｗ１１ｄ
ｅｓ ｅ１ ａｌ．、Ｊ．０ｒｇ．Ｃｌ］ｅｍ．、３６
、７２１−３（１９７１）の方法により、対応する９−
ケトヘキサヒドロ化合物に転化する。この方法は、この
１−ヒドロキシーテトラヒドロ化合物のそのメチルエー
テルへのメチル化、次いでクロロホルム中０℃における
塩化亜鉛およびＨＣｌとの反応による塩化水素付加物へ
の転化を含む。次いで、この付加物をカリウムトリシク
ロペンチルカルビノレートとの反応により脱・・ロゲン
化水素化して、対応する６ａ・７・８・９・１０・１０
ａ−ヘキサヒドロ−３−ペンチル−６・６ージメチル−
９−メチレン−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピラン−１−
オールメチルエーテルを生成する。その９−メチレン基
を過マンガン酸カリウム−過ヨウ素酸塩で酸化すると、
９−ケトンが得られる。塩化ピリジニウムまたは他の酸
性試薬でそのメチルエーテルを脱メチル化すると、アル
コールが得られる。Ｂｅｒｇｅｌｅｔａｌ．、Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．ＳＯｃ．、２８６−７（１９４３）は、７・８・
９・１０−テトラヒトロー３−ペンチル一６・６・９−
トリメチル−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン一１−オ
ールの３位置のペンチル基をアルコキシ（ブトキシ、ペ
ントキシ、ヘキソキシおよびオクトキシ）で置換するこ
とを研究することを研究し、この置換によりこの化合物
は生物学的に不活性となることを発見した。
このヘキソキシ誘導体は、１０〜２０η／Ｋｇにおいて
弱いハシツシユ活性を示すと報告された。残りのエーテ
ル類は、２０即／Ｋ９までの投与量において活性を示さ
なかつた。最近の研究において、ＬＯＯｖＯｔａｌ．、
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、１６、１２００−６（１９７
３）は、３位置の置換基が−０ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ５Ｈｌ
ｌ、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ５ＨｌｌまたはＣＨ（Ｃ
Ｈ３）Ｃ５Ｈｌｌである７・８・９・１０−テトラヒト
ロー３一置換−６・６・９−トリメチル−６Ｈ−ジベン
ゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン一１−オールの比較について報告し
ている。
弱いハシツシユ活性を示すと報告された。残りのエーテ
ル類は、２０即／Ｋ９までの投与量において活性を示さ
なかつた。最近の研究において、ＬＯＯｖＯｔａｌ．、
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、１６、１２００−６（１９７
３）は、３位置の置換基が−０ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ５Ｈｌ
ｌ、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｃ５ＨｌｌまたはＣＨ（Ｃ
Ｈ３）Ｃ５Ｈｌｌである７・８・９・１０−テトラヒト
ロー３一置換−６・６・９−トリメチル−６Ｈ−ジベン
ゾ〔ｂ−ｄ〕ピラン一１−オールの比較について報告し
ている。
このエーテル側鎖含有化合物は、中枢神経系活性おいい
て、アルキル側鎖が介在酸素原子を経なくて芳香族環に
直接に結合する対応する化合物より活性が５０％少なく
、そして酸素がメチレンで置換されている化合物より活
性が５倍強かつた。さて、本発明によれば、鎮痛剤、血
圧低下剤、抗分泌剤、抗不安剤、免疫抑制剤および精神
安定剤として有効なある群の化合物、すなわち非麻酔性
かつ非習慣性の１・９−ジヒドロキシジベンゾ〔ｂ−ｄ
〕ピラン（式１）の製造における価値ある中間体（式）
が見出された。
て、アルキル側鎖が介在酸素原子を経なくて芳香族環に
直接に結合する対応する化合物より活性が５０％少なく
、そして酸素がメチレンで置換されている化合物より活
性が５倍強かつた。さて、本発明によれば、鎮痛剤、血
圧低下剤、抗分泌剤、抗不安剤、免疫抑制剤および精神
安定剤として有効なある群の化合物、すなわち非麻酔性
かつ非習慣性の１・９−ジヒドロキシジベンゾ〔ｂ−ｄ
〕ピラン（式１）の製造における価値ある中間体（式）
が見出された。
これらの化合物は、次式を有する。（式中Ｒは水素およ
び炭素数１〜４のアルカノイルからなる・群よりえらば
れ、Ｒ４およびＲ５のおのおのは水素またはメチルから
なる群よりえらばれ、Ｚは炭素数１〜９のアルキレンで
あり、 そしてｗはフエニルである。
び炭素数１〜４のアルカノイルからなる・群よりえらば
れ、Ｒ４およびＲ５のおのおのは水素またはメチルから
なる群よりえらばれ、Ｚは炭素数１〜９のアルキレンで
あり、 そしてｗはフエニルである。
）前記式を有する化合物は、６ａ位置および／または１
０ａ位置に不整中心を含む。
０ａ位置に不整中心を含む。
３位置の置換基（−Ｚ−Ｗ）、６位置および９位置に追
加の不整中心が存在しうる。
加の不整中心が存在しうる。
９β立体配置をもつジアステレオマ一は、生物学的活性
がより大き℃・（定量的に）ため、９α異性体より好適
である。
がより大き℃・（定量的に）ため、９α異性体より好適
である。
同様に、トランス（６ａ・１０ａ）ジアステレオマ一は
シス（６ａ・１０ａ）ジアステレオマ一より好ましい前
記式において、波状線は９位置および６ａ・１０ａ位置
におけるジアステレオマ一を示す。
シス（６ａ・１０ａ）ジアステレオマ一より好ましい前
記式において、波状線は９位置および６ａ・１０ａ位置
におけるジアステレオマ一を示す。
一般に、天然に産出するカンナビノールと同じ絶対配置
を６ａ位置および１０ａ位置の両方に含む光学的に活性
な鏡像体は、生物学的活性がより大きい（定量的に）た
め、好ましい。これらの化合物のラセミ体はより活性な
鏡像体を５０％含有するため、そのまま使用できる。ラ
セミ混合物、ジアステレオマ一混合物ならびに純粋な鏡
像体およびジアステレオマ一の有用性は、下記の生物学
的評価によつて決定する。下記図式Ａに式から式１に至
る経路を示す。
を６ａ位置および１０ａ位置の両方に含む光学的に活性
な鏡像体は、生物学的活性がより大きい（定量的に）た
め、好ましい。これらの化合物のラセミ体はより活性な
鏡像体を５０％含有するため、そのまま使用できる。ラ
セミ混合物、ジアステレオマ一混合物ならびに純粋な鏡
像体およびジアステレオマ一の有用性は、下記の生物学
的評価によつて決定する。下記図式Ａに式から式１に至
る経路を示す。
式の化合物は、塩基、たとえばアルカリ金属の水酸化物
もしくはアルコキシドまたは第三級有機塩基、たとえば
トリエチルアミンの存在下に適当な本発明の化合物５−
ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２−Ｒ４Ｒ５−
Jヨ黶iＺ−Ｗ）−４ークロマノン（式）とメチルビニル
ケトンとの環縮合により、Ｍｉｃｈａｅｌ付加を行い、
次いで塩基、たとえばアルカリ金属の水酸化物またはア
ルコキシド（ナトリウムまたはカリウムの水酸化物、工
トキシドまたはメトキシド）で処理してアルドール環化
を完結することによつて、容易に製造される。次いで、
生成した６ａ・７ージヒドロ一１−ヒドロキシ−６ ・
６−Ｒ４Ｒ５−３−（Ｚ−Ｗ）−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−
ｄ〕 ピラン一９（８Ｈ）オンを、Ｂｉｒｃｈ還元によ
り、対応する６ａβ・７・１０・１０ａα−テトラヒド
ロ化合物（式）に変える。
もしくはアルコキシドまたは第三級有機塩基、たとえば
トリエチルアミンの存在下に適当な本発明の化合物５−
ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２−Ｒ４Ｒ５−
Jヨ黶iＺ−Ｗ）−４ークロマノン（式）とメチルビニル
ケトンとの環縮合により、Ｍｉｃｈａｅｌ付加を行い、
次いで塩基、たとえばアルカリ金属の水酸化物またはア
ルコキシド（ナトリウムまたはカリウムの水酸化物、工
トキシドまたはメトキシド）で処理してアルドール環化
を完結することによつて、容易に製造される。次いで、
生成した６ａ・７ージヒドロ一１−ヒドロキシ−６ ・
６−Ｒ４Ｒ５−３−（Ｚ−Ｗ）−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ−
ｄ〕 ピラン一９（８Ｈ）オンを、Ｂｉｒｃｈ還元によ
り、対応する６ａβ・７・１０・１０ａα−テトラヒド
ロ化合物（式）に変える。
この還元は金属としてリチウムを用いて都合よく実施さ
れる。また、ナトリウムまたはカリウムを使用できる。
この反応は約−３５℃〜一８０゜Ｃの温度において行う
。このＢｊｒｃｈ還元は、式の所望のトランス−ケトン
の生成を引き起こす立体特異性を与えるため、好適であ
る。式およびの化合物を、脱水剤、たとえばｐ−トルエ
ンスルホン酸またはケタール化で使用する他の酸（シユ
ウ酸、アジピン酸）の存在下に、炭素数２〜４の適当な
アルキレングリコールで処理すると、対応するケタール
が得られる。
れる。また、ナトリウムまたはカリウムを使用できる。
この反応は約−３５℃〜一８０゜Ｃの温度において行う
。このＢｊｒｃｈ還元は、式の所望のトランス−ケトン
の生成を引き起こす立体特異性を与えるため、好適であ
る。式およびの化合物を、脱水剤、たとえばｐ−トルエ
ンスルホン酸またはケタール化で使用する他の酸（シユ
ウ酸、アジピン酸）の存在下に、炭素数２〜４の適当な
アルキレングリコールで処理すると、対応するケタール
が得られる。
式およびの化合物の９−オキソ基を水素化金属で還元す
ると、式１（Ｒ−Ｈ）の化合物が得られる。
ると、式１（Ｒ−Ｈ）の化合物が得られる。
このような転化に有用な水素化金属の代表例は、水素化
リチウムアルミニウム、水素化ホ★ｒウ素リチウムおよ
び水素化ホウ素ナトリウムである。水素化ホウ素ナトリ
ウムは、所望生成物の満足すべき収率を与えるのみなら
ず、かつまたヒドロキシル溶媒（メタノール、エタノー
ル、水）と十分にゆつくり反応してヒドロキシル溶媒を
溶媒として使用できるので、この工程における還元剤と
して好適である。約０〜３０℃の温度を一般に使用する
。これより低い温度、たとえば約−７０℃までの温度で
さえも、還元の選択性を増加させるために使用できる。
温度が前記範囲より高いと、水素化ホウ素ナトリウムと
ヒドロキシル溶媒との反応が起こりうる。一定の還元に
より高い温度が望ましいかまたは必要であるとき、イソ
プロピルアルコールまたはジエチレングリコールのジメ
チルエーテルを溶媒として使用する。水素化ホウ素リチ
ウムまたは水素化リチウムアルミニウムのような還元剤
は、無水条件と非ヒドロキシル溶媒（１・２−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、エーテル、ジエチレン
グリコールのジメチルエーテル）を必要とする。
リチウムアルミニウム、水素化ホ★ｒウ素リチウムおよ
び水素化ホウ素ナトリウムである。水素化ホウ素ナトリ
ウムは、所望生成物の満足すべき収率を与えるのみなら
ず、かつまたヒドロキシル溶媒（メタノール、エタノー
ル、水）と十分にゆつくり反応してヒドロキシル溶媒を
溶媒として使用できるので、この工程における還元剤と
して好適である。約０〜３０℃の温度を一般に使用する
。これより低い温度、たとえば約−７０℃までの温度で
さえも、還元の選択性を増加させるために使用できる。
温度が前記範囲より高いと、水素化ホウ素ナトリウムと
ヒドロキシル溶媒との反応が起こりうる。一定の還元に
より高い温度が望ましいかまたは必要であるとき、イソ
プロピルアルコールまたはジエチレングリコールのジメ
チルエーテルを溶媒として使用する。水素化ホウ素リチ
ウムまたは水素化リチウムアルミニウムのような還元剤
は、無水条件と非ヒドロキシル溶媒（１・２−ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、エーテル、ジエチレン
グリコールのジメチルエーテル）を必要とする。
異性体の９α−ヒドロキシ化合物と９β−ヒドロキシ化
合物は、この工程において製造される。
合物は、この工程において製造される。
本発明の５−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２
−Ｒ４Ｒ５−Jヨ黶iＺ−Ｗ）−４−クロマノン（）は、
次の概略化した図式Ｂで表わされるようにして３・５製
造される。
−Ｒ４Ｒ５−Jヨ黶iＺ−Ｗ）−４−クロマノン（）は、
次の概略化した図式Ｂで表わされるようにして３・５製
造される。
ジヒドロキシ安息香酸から
本発明の方法は上記図式Ｂ中→に示す工程からなる。
出発物質の３・５−ジヒドロキシ安息香酸（）は、文献
に記載されている方法により、Ｙ２がアルコキシ基、好
ましくは製造容易性の観点からメトキシもしくはエトキ
シ、またはアミノ基であり、そしてＹ１がヒドロキシ保
護基である式（）の化合物に変える。
に記載されている方法により、Ｙ２がアルコキシ基、好
ましくは製造容易性の観点からメトキシもしくはエトキ
シ、またはアミノ基であり、そしてＹ１がヒドロキシ保
護基である式（）の化合物に変える。
Ｙ１は好ましくは炭素数１〜４のアルキルまたはベンジ
ルである。
ルである。
基Ｙ１の機能は、引き続く反応の間ヒドロキシ基を保護
することである。特定の機能、すなわちヒドロキシ基の
保護を行うのは、の基の重要な構造であるよりはむしろ
その基の能力である。適当な保護基の選択および確認は
、この分野の専門家であれば、容易になすことができる
。ヒドロキシ基の保護基として、ある基が適切かつ有効
であるかどうかは、このような基を前述の反応に使用す
ることによつて決定する。したがつて、この基は容易に
除去されていてヒドロキシ基を保存できる基であるべき
である。メチルはピリジン塩酸塩による処理によつて除
去されやすいので、保護アルキル基として好ましい。ペ
ンジル基は、これを保護基として使用する場合、接触水
添分解または酸性加水分解によつて除去される。次いで
、２個のヒドロキシ基が保護された安息香酸誘導体（）
は、知られている技術によつて、式（）の化合物に転化
する。一つの方法において、を対応する酸（Ｙ−０Ｈ）
またはワチウム塩に加水分解し、適当なアルキルリチウ
ムと反応させて、アルキルジ置換フエニルケトン（Ｙ２
アルキル）を生成する。メチルリチウムを使用するとき
、生成するアセトフエノン誘導体をグリニヤール試薬（
Ｗ−Ｚ″−ＭｇＢｒ）で処理する。この中間付加物を加
水分解して対応するアルコールにし、次いでこれを水素
化してヒドロキシ基を水素と置換する。この方法はこと
に有用である。エーテル基は適当な手段、たとえばピリ
ジン塩酸塩による処理（Ｙ１−メチル）または接触水添
分解（Ｙ，−ベンジル）、あるいはトリフルオロ酢酸、
塩酸、臭化水素酸もしくは硫酸のような酸、またはピリ
ジン塩酸塩による処理、によつて分離する。式の化合物
を式の化合物に変える他の方法は、式（Ｙ２＝アルキル
）のケトンを適当な臭化トリフエニノＴスホニウム▲体
〔（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ−Ｚ−Ｗ，ｌＢｒと塩基（たとえば
、水素化ナトリウム）の存在で反応させることからなる
。
することである。特定の機能、すなわちヒドロキシ基の
保護を行うのは、の基の重要な構造であるよりはむしろ
その基の能力である。適当な保護基の選択および確認は
、この分野の専門家であれば、容易になすことができる
。ヒドロキシ基の保護基として、ある基が適切かつ有効
であるかどうかは、このような基を前述の反応に使用す
ることによつて決定する。したがつて、この基は容易に
除去されていてヒドロキシ基を保存できる基であるべき
である。メチルはピリジン塩酸塩による処理によつて除
去されやすいので、保護アルキル基として好ましい。ペ
ンジル基は、これを保護基として使用する場合、接触水
添分解または酸性加水分解によつて除去される。次いで
、２個のヒドロキシ基が保護された安息香酸誘導体（）
は、知られている技術によつて、式（）の化合物に転化
する。一つの方法において、を対応する酸（Ｙ−０Ｈ）
またはワチウム塩に加水分解し、適当なアルキルリチウ
ムと反応させて、アルキルジ置換フエニルケトン（Ｙ２
アルキル）を生成する。メチルリチウムを使用するとき
、生成するアセトフエノン誘導体をグリニヤール試薬（
Ｗ−Ｚ″−ＭｇＢｒ）で処理する。この中間付加物を加
水分解して対応するアルコールにし、次いでこれを水素
化してヒドロキシ基を水素と置換する。この方法はこと
に有用である。エーテル基は適当な手段、たとえばピリ
ジン塩酸塩による処理（Ｙ１−メチル）または接触水添
分解（Ｙ，−ベンジル）、あるいはトリフルオロ酢酸、
塩酸、臭化水素酸もしくは硫酸のような酸、またはピリ
ジン塩酸塩による処理、によつて分離する。式の化合物
を式の化合物に変える他の方法は、式（Ｙ２＝アルキル
）のケトンを適当な臭化トリフエニノＴスホニウム▲体
〔（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ−Ｚ−Ｗ，ｌＢｒと塩基（たとえば
、水素化ナトリウム）の存在で反応させることからなる
。
この反応はアルケンを経て進行し、このアルケンを引き
続いて接触的に水添して対応するアルカン（Ｚ−Ｗ）に
し、これを分離してジヒドロキシ化合物（）とする。別
法として、構造の化合物の構造の化合物への転化は、反
応過程→→によつて実現できる。
続いて接触的に水添して対応するアルカン（Ｚ−Ｗ）に
し、これを分離してジヒドロキシ化合物（）とする。別
法として、構造の化合物の構造の化合物への転化は、反
応過程→→によつて実現できる。
この反応において、２個のヒドロキシ基が保護されたベ
ンズアミド（、Ｙ２−ＮＨ２）を適当なグリニヤール試
薬（ＢｒＭｇ−Ｚ′−Ｗ）との反応によりケトン（、Ｚ
′＝Ｚ１個より少ないＣＨ２基）に変え、次いでハロゲ
ン化メチルマグネシウムまたはハロゲン化エチルマグネ
シウムとの反応により対応するカルビノールを生成する
。このカルビノールを、たとえばｐ−トルエンスルホン
酸で脱水すると、対応するアルケンが得られ、次いでこ
れを触媒により水添（Ｐｉ／ｃ）してアルカン（）にす
る。エーテル基は前述のように分離するヒドロキシに変
える）。の４−クロマノン（）への転化は、をク ロトン酸または式Ｒ４Ｒ５−Ｃ−ＣＨ−ＣＯＯＨの酸と
三フツ化ホウ素エーテレートの存在下に約２０〜約１２
５℃において反応させることによつて行う。
ンズアミド（、Ｙ２−ＮＨ２）を適当なグリニヤール試
薬（ＢｒＭｇ−Ｚ′−Ｗ）との反応によりケトン（、Ｚ
′＝Ｚ１個より少ないＣＨ２基）に変え、次いでハロゲ
ン化メチルマグネシウムまたはハロゲン化エチルマグネ
シウムとの反応により対応するカルビノールを生成する
。このカルビノールを、たとえばｐ−トルエンスルホン
酸で脱水すると、対応するアルケンが得られ、次いでこ
れを触媒により水添（Ｐｉ／ｃ）してアルカン（）にす
る。エーテル基は前述のように分離するヒドロキシに変
える）。の４−クロマノン（）への転化は、をク ロトン酸または式Ｒ４Ｒ５−Ｃ−ＣＨ−ＣＯＯＨの酸と
三フツ化ホウ素エーテレートの存在下に約２０〜約１２
５℃において反応させることによつて行う。
構造の生成物のほかに、（７ーヒドロキシ一２・２−Ｒ
４Ｒ５−５−Ｚ−Ｗ−４−クロマノン）に対して異性体
である第２生成物も生成する。次いで、式の４−クロマ
ノンを、ギ酸エチルおよび水素化ナトリウムとの反応に
より、式のヒドロキシメチレン誘導体に変える。前記反
応の第一工程（Ｗｉｔｔｉｇ反応）は、適当な反応成分
の選択により、直鎖または分岐鎖のアルキレン基を有す
る化合物を生成する。
４Ｒ５−５−Ｚ−Ｗ−４−クロマノン）に対して異性体
である第２生成物も生成する。次いで、式の４−クロマ
ノンを、ギ酸エチルおよび水素化ナトリウムとの反応に
より、式のヒドロキシメチレン誘導体に変える。前記反
応の第一工程（Ｗｉｔｔｉｇ反応）は、適当な反応成分
の選択により、直鎖または分岐鎖のアルキレン基を有す
る化合物を生成する。
上の式において、ｋがメチルまたはエチルであるとき、
フエニル基に隣接する炭素原子（α）にアルキル置換基
を有する化合物が生成する。他の部位、たとえばアルキ
レン基のβ一炭素原子におけるメチルまたはエチル基の
置換は、適当なカルボアルコキシアルキリデントリフエ
ニルホスホラン、たとえば（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ−Ｃ（Ｖ）
−ＣＯＯＣ２Ｈ５の選択によつて行なう。このように生
成した不飽和エステルは、一般に少量の塩化アルミニウ
ムの存在で、水素化リチウムアルミニウムとの反応によ
り対応する飽和アルコールに還元する。別法として、Ｙ
１がベンジル以外（たとえば、メチル）であるとき、パ
ラジウム一炭素を用いて不飽和エステルを触媒により還
元し、次いでこのように生成した飽和エステルを水素化
リチウムアルミニウムで処理することによつてアルコー
ルを生成する。このアルコールを対応するトンレートま
たはタンレートに変え、次いでこのトンレートまたはタ
ンレートを適当なＨＸ″−（Ａｅｋ）−Ｗ反応成分のア
ルカリ金属塩でアルキル化し、最後に保護基（Ｙ１ ）
を除去すると、所望のレゾルシノールが得られる。前記
反応の変更は、アルコールをトンレートまたはタンレー
トに変えないでこれを臭素化することからなる。三臭化
リンは好適な臭素化剤である。次いで、このブロモ誘導
体を適当な塩基の存在で適当なＨＸ−（Ａｅｋ）−Ｗと
反応させる（ＷｉｌｌｉａｍｓＯｎ反応）。
フエニル基に隣接する炭素原子（α）にアルキル置換基
を有する化合物が生成する。他の部位、たとえばアルキ
レン基のβ一炭素原子におけるメチルまたはエチル基の
置換は、適当なカルボアルコキシアルキリデントリフエ
ニルホスホラン、たとえば（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ−Ｃ（Ｖ）
−ＣＯＯＣ２Ｈ５の選択によつて行なう。このように生
成した不飽和エステルは、一般に少量の塩化アルミニウ
ムの存在で、水素化リチウムアルミニウムとの反応によ
り対応する飽和アルコールに還元する。別法として、Ｙ
１がベンジル以外（たとえば、メチル）であるとき、パ
ラジウム一炭素を用いて不飽和エステルを触媒により還
元し、次いでこのように生成した飽和エステルを水素化
リチウムアルミニウムで処理することによつてアルコー
ルを生成する。このアルコールを対応するトンレートま
たはタンレートに変え、次いでこのトンレートまたはタ
ンレートを適当なＨＸ″−（Ａｅｋ）−Ｗ反応成分のア
ルカリ金属塩でアルキル化し、最後に保護基（Ｙ１ ）
を除去すると、所望のレゾルシノールが得られる。前記
反応の変更は、アルコールをトンレートまたはタンレー
トに変えないでこれを臭素化することからなる。三臭化
リンは好適な臭素化剤である。次いで、このブロモ誘導
体を適当な塩基の存在で適当なＨＸ−（Ａｅｋ）−Ｗと
反応させる（ＷｉｌｌｉａｍｓＯｎ反応）。
また、このブロモ化合物は、前記反応においてアルキレ
ン部分の鎖長を増加してｚがーアルキレン−Ｗである化
合物を生成するための価値ある中間体として役立つ。
ン部分の鎖長を増加してｚがーアルキレン−Ｗである化
合物を生成するための価値ある中間体として役立つ。
この方法は、ブロモ誘導体をトリJャGニルホスフインで
処理して対応する臭化トリフエニルホスホニウムを生成
することからなる。この臭化トリフエニルホスホニウム
を水素化ナトリウムまたはｎ−ブチルリチウムのような
塩基の存在で適当なアルデヒドまたはケトンと反応させ
ると、不飽和誘導体が得られ、次いでこれを触媒により
水素化して対応する飽和化合物にする。この変法におい
て、保護基（Ｙ１ ）は特定の反応過程に応じて選択す
る。右側の垂直の反応過程を採用するとき、接触的水素
化工程の理由からベンジルは好ましい保護基である、左
側の垂直の反応過程を用いるとき、メチルはここに記載
する酸の処理により都合よく除去されるので、好ましい
保護基である。参考例 １ ｄ１−５−ヒドロキシ−２・２−ジメチルー７（１−メ
チル−４−フエニルブチル）−４クロマノン ２−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−５ーフエニル
ペンタン（９．６７）と３−メチルクロトン酸（４．５
７）との混合物を窒素ふん囲気中で１２５℃に加熱し、
三フツ化エーテレート（８．７ｍ０を加える。
処理して対応する臭化トリフエニルホスホニウムを生成
することからなる。この臭化トリフエニルホスホニウム
を水素化ナトリウムまたはｎ−ブチルリチウムのような
塩基の存在で適当なアルデヒドまたはケトンと反応させ
ると、不飽和誘導体が得られ、次いでこれを触媒により
水素化して対応する飽和化合物にする。この変法におい
て、保護基（Ｙ１ ）は特定の反応過程に応じて選択す
る。右側の垂直の反応過程を採用するとき、接触的水素
化工程の理由からベンジルは好ましい保護基である、左
側の垂直の反応過程を用いるとき、メチルはここに記載
する酸の処理により都合よく除去されるので、好ましい
保護基である。参考例 １ ｄ１−５−ヒドロキシ−２・２−ジメチルー７（１−メ
チル−４−フエニルブチル）−４クロマノン ２−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−５ーフエニル
ペンタン（９．６７）と３−メチルクロトン酸（４．５
７）との混合物を窒素ふん囲気中で１２５℃に加熱し、
三フツ化エーテレート（８．７ｍ０を加える。
１時間還流した後、反応混合物を冷却し、水（１０ｍ０
、次いで６Ｎの水酸化ナトリウム（４０ｍ０を加える。
、次いで６Ｎの水酸化ナトリウム（４０ｍ０を加える。
この反応混合物を水蒸気浴上で５分間加熱し、６Ｎの塩
酸で酸性にする。水層をエーテル（３×１００ｍ０で抽
出し、合わせたエーテル抽出液を１０％の重炭酸ナトリ
ウム（１×２５ｍ０と水（１×２５ｍ１）で洗う。有機
相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮すると１２．
７ｔの粗油が得られ、これをシリカゲルのクロマトグラ
フイ・−により精製すると、５，０７のｄｌ −５−ヒ
ドロキシ−２・２−ジメチルー７（１−メチル−４−フ
エニルブチル）−４−クロマノンが無色の油として得ら
れる。エチレン）、１．５（Ｓ、６、Ｇｅｍジメチル）
、２．３−２．９（Ｍ、３、ベンジルーメチレン、メチ
ニル）、２．６５（Ｓ、２、α−メチレン）、６．１−
６．３５（Ｍ、２、芳香族）、６．９ー７，４（Ｍ、５
、芳香族）、１１．５３、１１，６３、（ｄ、１、ヒド
ロキシル）。
酸で酸性にする。水層をエーテル（３×１００ｍ０で抽
出し、合わせたエーテル抽出液を１０％の重炭酸ナトリ
ウム（１×２５ｍ０と水（１×２５ｍ１）で洗う。有機
相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮すると１２．
７ｔの粗油が得られ、これをシリカゲルのクロマトグラ
フイ・−により精製すると、５，０７のｄｌ −５−ヒ
ドロキシ−２・２−ジメチルー７（１−メチル−４−フ
エニルブチル）−４−クロマノンが無色の油として得ら
れる。エチレン）、１．５（Ｓ、６、Ｇｅｍジメチル）
、２．３−２．９（Ｍ、３、ベンジルーメチレン、メチ
ニル）、２．６５（Ｓ、２、α−メチレン）、６．１−
６．３５（Ｍ、２、芳香族）、６．９ー７，４（Ｍ、５
、芳香族）、１１．５３、１１，６３、（ｄ、１、ヒド
ロキシル）。
同様に、２−（３・５−ジヒドロキシフエニル）６−フ
エニルヘキサンをｄｌ −５−ヒドロキシ−２・２−ジ
メチルーJヨ黶i１−メチル−５−フェニルペンチル）−
４−クロマノン（油）に変える。
エニルヘキサンをｄｌ −５−ヒドロキシ−２・２−ジ
メチルーJヨ黶i１−メチル−５−フェニルペンチル）−
４−クロマノン（油）に変える。
７ｃｐｓ）、１．４（Ｓ、６、Ｇｅｍジメチル）、１，
０−１．９〔Ｍ、６、ψ−ＣＨ２−（ＣＨ２）３Ｃ（Ｃ
Ｈ３）−ＡｒＬ２．３−２．８（Ｍ、３、べンジルーメ
チレン、メチニル）、２．７（Ｓ、２、α−メチレン）
、６．２−６．４（Ｍｌ２、芳香族）、７．１−７．３
（Ｍ、５、芳香族）、１１．６（Ｓｌｌ、ヒドロキシル
）；１−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−２−フ
．゛エニルコタンを５−ヒドロキシ−２・２−ジメチル
ーJヨ黶i２−フエニルエチル）−４−クロマノン（油）
に変える。
０−１．９〔Ｍ、６、ψ−ＣＨ２−（ＣＨ２）３Ｃ（Ｃ
Ｈ３）−ＡｒＬ２．３−２．８（Ｍ、３、べンジルーメ
チレン、メチニル）、２．７（Ｓ、２、α−メチレン）
、６．２−６．４（Ｍｌ２、芳香族）、７．１−７．３
（Ｍ、５、芳香族）、１１．６（Ｓｌｌ、ヒドロキシル
）；１−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−２−フ
．゛エニルコタンを５−ヒドロキシ−２・２−ジメチル
ーJヨ黶i２−フエニルエチル）−４−クロマノン（油）
に変える。
２．６５（Ｓｌ２、α−メチレン）、２．６５（Ｓｌ４
、エチレン）、６．２５、３．３（２ｄ１２、芳香族）
、７．２（Ｓ、５、芳香族）、１１．６（Ｓ、１、ヒド
ロキシル−Ｄ２Ｏ重なり）。
、エチレン）、６．２５、３．３（２ｄ１２、芳香族）
、７．２（Ｓ、５、芳香族）、１１．６（Ｓ、１、ヒド
ロキシル−Ｄ２Ｏ重なり）。
ＭＳ：（分子イオン）２９６
２−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−４フエニルブ
タンをｄ１ −５−ヒドロキシ−２・２−ジメチルーJ
ヨ黶i１−メチル−３−フエニルプロピル）−４−クロ
マノン（油）に変える。
タンをｄ１ −５−ヒドロキシ−２・２−ジメチルーJ
ヨ黶i１−メチル−３−フエニルプロピル）−４−クロ
マノン（油）に変える。
１．４５（Ｓｌ６、Ｇｅｍジメチル）、１．５５２．１
（Ｍｌ２、メチレン）、２．２５２．７５（Ｍ、３、ベ
ンジル−メチレン、メチニル）、６．１５（ｄ、２、芳
香族）、７．１（Ｓ、５、芳香族）、１１．６（Ｓｌｌ
、ヒドロキシＤ２Ｏ重なり）。
（Ｍｌ２、メチレン）、２．２５２．７５（Ｍ、３、ベ
ンジル−メチレン、メチニル）、６．１５（ｄ、２、芳
香族）、７．１（Ｓ、５、芳香族）、１１．６（Ｓｌｌ
、ヒドロキシＤ２Ｏ重なり）。
ＭＳ：（分子イオン）３２４
２−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−５フエニルペ
ンタン（５．２７７）を、３−メチルクロトン酸の代わ
りに三フツ化ホウ素エーテレート（４．８１ｍ１）およ
びクロトン酸（２．０８７の新らしく蒸留したもの）と
反応させて、ｄ１ −５−ヒドロキシ−２−メチルーJ
ヨ黶i１−メチル−４フエニルブチル）−４−クロマノ
ンに変える。
ンタン（５．２７７）を、３−メチルクロトン酸の代わ
りに三フツ化ホウ素エーテレート（４．８１ｍ１）およ
びクロトン酸（２．０８７の新らしく蒸留したもの）と
反応させて、ｄ１ −５−ヒドロキシ−２−メチルーJ
ヨ黶i１−メチル−４フエニルブチル）−４−クロマノ
ンに変える。
Ｊ−７Ｈｚ）、１．４（Ｄｌ３、２−メチル、Ｊ７Ｈｚ
）、１．３−１．８（Ｍ、４−メチレン）、２，２−２
．９（Ｍｌ５、α−メチレン、ベンジル−メチレン、メ
チニル）、４．５（Ｍ、１、メチルエーテル）、６．１
、６．２（２Ｄ、２、芳香族、Ｊ＝１Ｈｚ）、０．９−
７．４（Ｍｌ５、芳香族）、１１．７（Ｓｌｌ、フエノ
ール性０Ｈ）。４−（３・５−ジヒドロキシフエニル）
−１フエノキシペンタンを、ｄｌ −５−ヒドロキシ２
・２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル−４−フエノキシブ
チル）−４−クロマノン、淡黄色油に変える。
）、１．３−１．８（Ｍ、４−メチレン）、２，２−２
．９（Ｍｌ５、α−メチレン、ベンジル−メチレン、メ
チニル）、４．５（Ｍ、１、メチルエーテル）、６．１
、６．２（２Ｄ、２、芳香族、Ｊ＝１Ｈｚ）、０．９−
７．４（Ｍｌ５、芳香族）、１１．７（Ｓｌｌ、フエノ
ール性０Ｈ）。４−（３・５−ジヒドロキシフエニル）
−１フエノキシペンタンを、ｄｌ −５−ヒドロキシ２
・２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル−４−フエノキシブ
チル）−４−クロマノン、淡黄色油に変える。
ＭＳ：（分子イオン）３５４
Ｒｆ−０．６１（シリカゲル、１８−ベンゼン：１酢酸
エチル）４−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−１一
（４−ピリジル）ペンタンを、ｄｌ −５−ヒドロキシ
−２・２−ジメチルーJヨ黶k１−メチル−４一（４−ピ
リジル）ブチル〕−４−クロマノン、油に変える。
エチル）４−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−１一
（４−ピリジル）ペンタンを、ｄｌ −５−ヒドロキシ
−２・２−ジメチルーJヨ黶k１−メチル−４一（４−ピ
リジル）ブチル〕−４−クロマノン、油に変える。
Ｒｆ−０．３９（シリカゲル、１−ベンゼン：１酢酸エ
チルメチレン、１．２０においてメチルの二重線、Ｊー
７Ｈ２、ぉょびＧ８ｍジメチル−重線、１．５）；２．
４３−２。
チルメチレン、１．２０においてメチルの二重線、Ｊー
７Ｈ２、ぉょびＧ８ｍジメチル−重線、１．５）；２．
４３−２。
８６（Ｍ、５−Ｈ、メチレン、メチニル、一重線を含む
（２本のＣ−３Ｈ、２．７１）；６．２６（Ｂ，．ｄ．
．Ｓｌｌ−Ｈ、芳香族）；６．３３（Ｂ．．ｄ．Ｓ、１
−Ｈ、芳香族）；７．００−７．２０（Ｂ，．ｄ，．Ｄ
ｌ２−Ｈ、ピリジン芳香族）；７．２５（Ｂ．．ｄ．．
Ｓｌｌ−Ｈ１ヒドロキシル）；８．４１−８．６１（Ｂ
．ｄ，．Ｄ、２−Ｈ、ピリジン芳香族）。
（２本のＣ−３Ｈ、２．７１）；６．２６（Ｂ，．ｄ．
．Ｓｌｌ−Ｈ、芳香族）；６．３３（Ｂ．．ｄ．Ｓ、１
−Ｈ、芳香族）；７．００−７．２０（Ｂ，．ｄ，．Ｄ
ｌ２−Ｈ、ピリジン芳香族）；７．２５（Ｂ．．ｄ．．
Ｓｌｌ−Ｈ１ヒドロキシル）；８．４１−８．６１（Ｂ
．ｄ，．Ｄ、２−Ｈ、ピリジン芳香族）。
ｄｌ −ヒドロキシ−２・２−ジメチルー７（１−メチ
ル−３−フエノキシピリジル）−４ークロマノンを、３
−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−１−フエノキシ
ブタンから油として調製する。
ル−３−フエノキシピリジル）−４ークロマノンを、３
−（３・５−ジヒドロキシフエニル）−１−フエノキシ
ブタンから油として調製する。
Ｒｆ−０．７（シリカゲル、１８−ベンゼン：１一酢酸
エチル）ｄｌ −２−（３・５−ジヒドロキシフエニル
）−１−（２−フエニルエトキシ）プロパンを、ｄｌ一
２・２−ジメチル−５−ヒドロキシーJヨ黶k１メチル−
２−（２−フエニルエトキシ）エチル〕４−クロマノン
（油）に変える。
エチル）ｄｌ −２−（３・５−ジヒドロキシフエニル
）−１−（２−フエニルエトキシ）プロパンを、ｄｌ一
２・２−ジメチル−５−ヒドロキシーJヨ黶k１メチル−
２−（２−フエニルエトキシ）エチル〕４−クロマノン
（油）に変える。
ＮＭＲ：
ＴＭＳ
δρＮｒｌ．．ｌ２ｌ（Ｄｌ７Ｈｚｌチル）、１．４８
（Ｓ．ｇｅｍジメチル）、２．７３（Ｓ．．Ｃ−３メチ
レン）、２．８６（＋、Ｊ−７Ｈｚ．ＣＨ２Ｐｈ）、２
．９（ｍ１メチン）、３．５０（Ｄ，．Ｊ−７Ｈｚｌ−
ＣＨ２Ｏ−）、３．６５（Ｔ．Ｊ−７Ｈｚ、−０ＣＨ２
−）、６．３１（Ｄ．Ｊ−１Ｈｚ．ＡｒＨ）、６，３８
（ｄ、Ｊ−１Ｈｚ，．ＡｒＨ）、７．２６（Ｓ，．Ｐｈ
）および１３．３３（Ｓ１フエノール）。
（Ｓ．ｇｅｍジメチル）、２．７３（Ｓ．．Ｃ−３メチ
レン）、２．８６（＋、Ｊ−７Ｈｚ．ＣＨ２Ｐｈ）、２
．９（ｍ１メチン）、３．５０（Ｄ，．Ｊ−７Ｈｚｌ−
ＣＨ２Ｏ−）、３．６５（Ｔ．Ｊ−７Ｈｚ、−０ＣＨ２
−）、６．３１（Ｄ．Ｊ−１Ｈｚ．ＡｒＨ）、６，３８
（ｄ、Ｊ−１Ｈｚ，．ＡｒＨ）、７．２６（Ｓ，．Ｐｈ
）および１３．３３（Ｓ１フエノール）。
実施例 １
ｄ１−５−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２・
２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル−４−フエニルブチル
）−４−クロマノンｄｌ −５−ヒドロキシ−２・２−
ジメチルーロマノン（４．７７）およびギ酸エチル（２
３．１７）の溶液を、水素化ナトリウムの５０％鉱油分
散物（６．６７７）をペンタンで洗つて得られた水素化
ナトリウムに、３０分間にわたつて滴々加える。
２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル−４−フエニルブチル
）−４−クロマノンｄｌ −５−ヒドロキシ−２・２−
ジメチルーロマノン（４．７７）およびギ酸エチル（２
３．１７）の溶液を、水素化ナトリウムの５０％鉱油分
散物（６．６７７）をペンタンで洗つて得られた水素化
ナトリウムに、３０分間にわたつて滴々加える。
次いで、この反応混合物を室温に冷却し、エーテノｋ（
３５０ｍ０を加える。
３５０ｍ０を加える。
生じた混合物を１８時間還流し、室温に冷却し、１Ｎの
塩酸で酸性にする。エーテル層を分離し、水層をエーテ
ル（３×１００ｍ１）で抽出する。一緒にしたエーテル
抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮すると、
５．７７のｄｌ −５−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメ
チレン−２・２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル４−フエ
ニルブチル）−４−クロマノンが油として得られる。Ｎ
ＭＲ： １１Ｖ１ｋ）δＲｓｎρ１１．０５１．８（Ｍｌｌ、？
ｍジメチル、α−メチル、エチレ）、２．４５（Ｍ、３
、ベンジル−メチレン、メチニル）、６．２−６．５（
Ｍ、２、芳香族）、７．０−７．６（Ｍｌ６、芳香族、
メチニルエーテル）、１１，３、１１．３６（２ｂｄ，
．Ｓ１１、フエノール性ヒドロキシル）、１３．３、１
３．５（２ｂｄ１Ｓ１１、ヒドロキシル）。
塩酸で酸性にする。エーテル層を分離し、水層をエーテ
ル（３×１００ｍ１）で抽出する。一緒にしたエーテル
抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、真空濃縮すると、
５．７７のｄｌ −５−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメ
チレン−２・２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル４−フエ
ニルブチル）−４−クロマノンが油として得られる。Ｎ
ＭＲ： １１Ｖ１ｋ）δＲｓｎρ１１．０５１．８（Ｍｌｌ、？
ｍジメチル、α−メチル、エチレ）、２．４５（Ｍ、３
、ベンジル−メチレン、メチニル）、６．２−６．５（
Ｍ、２、芳香族）、７．０−７．６（Ｍｌ６、芳香族、
メチニルエーテル）、１１，３、１１．３６（２ｂｄ，
．Ｓ１１、フエノール性ヒドロキシル）、１３．３、１
３．５（２ｂｄ１Ｓ１１、ヒドロキシル）。
１Ｒ：（ＣＨＣｌ３）Ｃ−０１６２５？−１同様に、参
考例１の生成物をｄｌ −５−ヒドロキシ−３−ヒドロ
キシメチレン−２・２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル−
５−フエニルペンチル）−４−クロマノンに変える。
考例１の生成物をｄｌ −５−ヒドロキシ−３−ヒドロ
キシメチレン−２・２−ジメチルーJヨ黶i１−メチル−
５−フエニルペンチル）−４−クロマノンに変える。
． ＴＭＳＮＭＲ：δ １．２（Ｄ、３、α
゜ＣｎＣ１０ ゝ ゝメチルＪ−７Ｃｐｓ）
、１．６（Ｓｌ６、Ｇｅｍジメチル）、１．０２．０（
Ｍｌ６、ＣＨ２−（ＣＨ２）３ＣＨ（ＣＨ３）Ａｒ〕、
２．３−２．８（Ｍ、３、ベンジン−メチレン、メチニ
ル）、６．２６．４（Ｍ、２、芳香族）、７、１−７．
４（Ｍ、６、芳香族、ビニル性）、１１．４（Ｂｄ，．
Ｓｌｌ、フエノール性ヒドロキシル）；ｄ１ −５−ヒ
ドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２・２−ジメチル
ーJヨ黶i１−メチル−３フエニルプロピル）−４−クロ
マノン（油）。
゜ＣｎＣ１０ ゝ ゝメチルＪ−７Ｃｐｓ）
、１．６（Ｓｌ６、Ｇｅｍジメチル）、１．０２．０（
Ｍｌ６、ＣＨ２−（ＣＨ２）３ＣＨ（ＣＨ３）Ａｒ〕、
２．３−２．８（Ｍ、３、ベンジン−メチレン、メチニ
ル）、６．２６．４（Ｍ、２、芳香族）、７、１−７．
４（Ｍ、６、芳香族、ビニル性）、１１．４（Ｂｄ，．
Ｓｌｌ、フエノール性ヒドロキシル）；ｄ１ −５−ヒ
ドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２・２−ジメチル
ーJヨ黶i１−メチル−３フエニルプロピル）−４−クロ
マノン（油）。
ＮＭＲ：δ″１゛Ｍ８ｌ．ｌ５（Ｄｌ３、メチル）゛
ＣＤＣｌ３゛ ゝ ） ・１．５（Ｓｌ６
、Ｇｅｍジメチル）、１．６５２．１（Ｍｌ２、メチレ
ン）、２．２５２．７５（Ｍｌ３、ベンジルーメチレン
、メチニル）、６．１５、６．３（２ｄ、２、芳香族）
、７．１（Ｍ、６、芳香族、オレフイン性プロトン１１
．３（Ｓ、１、ヒドロキシル−Ｄ２Ｏ重なり）、１３．
３、１３８（Ｄｌｌ、ヒドロキシルＤ２Ｏ重なり）。
ＣＤＣｌ３゛ ゝ ） ・１．５（Ｓｌ６
、Ｇｅｍジメチル）、１．６５２．１（Ｍｌ２、メチレ
ン）、２．２５２．７５（Ｍｌ３、ベンジルーメチレン
、メチニル）、６．１５、６．３（２ｄ、２、芳香族）
、７．１（Ｍ、６、芳香族、オレフイン性プロトン１１
．３（Ｓ、１、ヒドロキシル−Ｄ２Ｏ重なり）、１３．
３、１３８（Ｄｌｌ、ヒドロキシルＤ２Ｏ重なり）。
ＭＳ：（分子イオン）３５２
ｄ１−５−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチレン−２−
メチルーJヨ黶i１−メチル−４−フエニルブチル）−４
−クロマノン。
メチルーJヨ黶i１−メチル−４−フエニルブチル）−４
−クロマノン。
ＮＭＲ：δ゛１゛Ｍゝ １．１（Ｄ３α゜ＣＤＣ１３゛
ゝ ゝメチル、Ｊ−７Ｈｚ）、１５（Ｄ、３、２
−メチル、Ｊ７Ｈｚ）、１．３−１，８（Ｍｌ４−エチ
レン）、２，３−２．９（Ｍ、３、ベンジル）、４，９
（Ｍｌｌ、メチニルエーテル、Ｊ−５Ｈｚ）、６．２、
６３（２Ｄ、２、芳香族、Ｊ−１Ｈｚ）、６．９７．４
（Ｍ、６、芳香族、ビニル性）、１１．２（Ｂｄ．Ｓ、
１、フエノール性０Ｈ）。
ゝ ゝメチル、Ｊ−７Ｈｚ）、１５（Ｄ、３、２
−メチル、Ｊ７Ｈｚ）、１．３−１，８（Ｍｌ４−エチ
レン）、２，３−２．９（Ｍ、３、ベンジル）、４，９
（Ｍｌｌ、メチニルエーテル、Ｊ−５Ｈｚ）、６．２、
６３（２Ｄ、２、芳香族、Ｊ−１Ｈｚ）、６．９７．４
（Ｍ、６、芳香族、ビニル性）、１１．２（Ｂｄ．Ｓ、
１、フエノール性０Ｈ）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿４およびＲ＿５のおのおのは水素またはメチ
ルであり、Ｚは炭素数１〜９のアルキレンであり、 Ｗはフェニルである） を有する、ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランの製造に有用な中
間体。 ２ ジベンゾ〔ｂ・ｄ〕ピランの製造における中▲数式
、化学式、表等があります▼（式中Ｒ＿４およびＲ＿５
のおのおのは水素またはメチルであり、Ｚは炭素数１〜
９のアルキレンであり、 Ｗはフェニルである） の化合物を製造するにあたり、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は水素、炭素数１〜５のアルカノイルま
たは−ＣＯ−（ＣＨ＿２）＿ｐ−ＮＲ＿２Ｒ＿３であり
、ここでｐは０または１〜４の整数であり、Ｒ＿２およ
びＲ＿３のおのおのは独立に水素または炭素数１〜４の
アルキルであり、あるいはＲ＿２およびＲ＿３は一緒に
なつてそれらが結合する窒素原子とともにピペリジノ、
ピロロ、ピロリジノ、モルホリノおよびアルキル基の炭
素数が１〜４であるＮ−アルキルピペラジノからえらば
れた５員または６員の複素環を形成し、Ｒ＿４、Ｒ＿５
、Ｚ、およびＷのおのおのは上記定義のとおりである。 ）の化合物を水素化ナトリウムの存在でギ酸エチルと反
応させることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US62821075A | 1975-11-03 | 1975-11-03 | |
| US628210 | 1975-11-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56103173A JPS56103173A (en) | 1981-08-18 |
| JPS5943955B2 true JPS5943955B2 (ja) | 1984-10-25 |
Family
ID=24517939
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51132264A Granted JPS5277065A (en) | 1975-11-03 | 1976-11-02 | Novel dibenzopyran and its preparation |
| JP54148293A Expired JPS5943958B2 (ja) | 1975-11-03 | 1979-11-15 | 新規なジベンゾピラン類 |
| JP55177955A Expired JPS5943955B2 (ja) | 1975-11-03 | 1980-12-16 | 新規なジベンゾピラン中間体およびその製造法 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51132264A Granted JPS5277065A (en) | 1975-11-03 | 1976-11-02 | Novel dibenzopyran and its preparation |
| JP54148293A Expired JPS5943958B2 (ja) | 1975-11-03 | 1979-11-15 | 新規なジベンゾピラン類 |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (3) | JPS5277065A (ja) |
| AR (1) | AR220521A1 (ja) |
| BG (3) | BG27552A3 (ja) |
| CA (1) | CA1099269A (ja) |
| CH (1) | CH622790A5 (ja) |
| CS (1) | CS207571B2 (ja) |
| DD (3) | DD129214A5 (ja) |
| DK (1) | DK495876A (ja) |
| EG (1) | EG12648A (ja) |
| ES (3) | ES452772A1 (ja) |
| FI (1) | FI763131A (ja) |
| GR (1) | GR65202B (ja) |
| HU (1) | HU178321B (ja) |
| IE (1) | IE43700B1 (ja) |
| IL (1) | IL50717A (ja) |
| NO (1) | NO148745C (ja) |
| NZ (1) | NZ182368A (ja) |
| PH (3) | PH14811A (ja) |
| PL (1) | PL125297B1 (ja) |
| PT (1) | PT65781B (ja) |
| RO (4) | RO76124A (ja) |
| SE (1) | SE432251B (ja) |
| SU (4) | SU843748A3 (ja) |
| YU (1) | YU268176A (ja) |
| ZA (1) | ZA766281B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3926214A1 (en) | 2020-06-16 | 2021-12-22 | Aisin Seiki Kabushiki Kaisha | Shift device |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPH0765890A (ja) * | 1993-08-26 | 1995-03-10 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | コネクタ |
| JP2988237B2 (ja) * | 1994-01-31 | 1999-12-13 | 住友電装株式会社 | 簡易防水コネクタ |
| JP5037799B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2012-10-03 | パナソニック株式会社 | テレビコンセント |
-
1976
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- 1976-10-11 SE SE7611275A patent/SE432251B/xx unknown
- 1976-10-18 GR GR51965A patent/GR65202B/el unknown
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- 1976-11-01 RO RO7695639A patent/RO75876A/ro unknown
- 1976-11-01 RO RO7688274A patent/RO71411A/ro unknown
- 1976-11-01 YU YU02681/76A patent/YU268176A/xx unknown
- 1976-11-01 DD DD76203283A patent/DD137837A5/xx unknown
- 1976-11-01 RO RO7695637A patent/RO76006A/ro unknown
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- 1976-11-02 HU HU76PI550A patent/HU178321B/hu unknown
- 1976-11-02 FI FI763131A patent/FI763131A/fi not_active Application Discontinuation
- 1976-11-02 CS CS767070A patent/CS207571B2/cs unknown
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- 1976-11-03 BG BG036486A patent/BG28057A4/xx unknown
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- 1976-11-03 EG EG680/76A patent/EG12648A/xx active
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1977
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- 1977-07-26 SU SU772506503A patent/SU677661A3/ru active
- 1977-07-29 SU SU772505754A patent/SU677660A3/ru active
- 1977-09-29 ES ES462783A patent/ES462783A1/es not_active Expired
- 1977-09-29 ES ES462784A patent/ES462784A1/es not_active Expired
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1978
- 1978-02-16 SU SU782579903A patent/SU784772A4/ru active
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1979
- 1979-09-21 CH CH852079A patent/CH622790A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-11-15 JP JP54148293A patent/JPS5943958B2/ja not_active Expired
-
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- 1980-05-29 PH PH24092A patent/PH16788A/en unknown
- 1980-12-16 JP JP55177955A patent/JPS5943955B2/ja not_active Expired
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|---|---|---|---|---|
| EP3926214A1 (en) | 2020-06-16 | 2021-12-22 | Aisin Seiki Kabushiki Kaisha | Shift device |
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