JPS593716A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、ギャップ形成を容易に
する薄膜磁気−＼ラドに関する。

従来、第１図に示すように非磁性基板１上に第１の磁性
膜２なスパッタ等によシ成膜し、この膜にｒ字状の１１
５加工を施し、溝の１斜面にギャップスペーサ膜４を成
膜し、さらにその上から第２磁注目ａ５を溝を埋めるよ
うに成膜し、ギャップスペーサを被着させた溝の斜面直
上の部位でのみ第２の磁性膜を除却することによシギャ
ップ形成する薄膜磁気ヘッドがある。

しかし、ｒ字状の溝に第２磁性膜を不連続なくく埋める
ことが困難であυ、この不連続面６が不要なギャップと
して機能し、主ギャップに対して妨害を与える欠点があ
った。

本発明の目的は従来技術の欠点をなくし、第２の磁性膜
を成膜するときにｒ字溝部に不連続面を生じさせず、こ
の不連続面による妨害をなくした薄膜磁気ヘッドを提供
することにある。

上記した不連続の発生はｒ字溝のふたつの斜面のなす角
θに依存し、θを大きくしたとき程この不連続面を無く
すことができることがわかった。

本発明の要点はとのθを大きくするために基板に段差あ
るいは自みな設け、ギャップ面（ｒ・溝）がこの段差あ
るいは窪みの稜線部に位置する構造とし、ｒ溝のギャッ
プ面でない他方の斜面を基板面よシも下になるようにし
たことてある。

以下、本発明の一実施例を第２図にょシ説明する。基板
１には感光性ガラスを用いフォトエツチングにより段差
７がつけられている。基板１に￥′１ＳＵＳ　３　ｊ　
Ｏ材８および第１のセンダスト膜２がそれぞれ６μｍ、
２０μｍの厚さで成膜されている。

段差７の稜でｒ溝３が形成されておシ、ｒ溝の一斜面は
ギャップ面としてギャップスペーサ４が成膜されておシ
基板面の法線に対してアジマス角だけ傾むいており、他
面は基板面に対して負の角をなし１段差−上部と下部の
間に位置している。これに第２のセンダスト膜５が成膜
されギャップ上部のみ除却されている。保穫基板９が接
着されている。これに巻線穴加工を施こし、巻線を巻い
て薄膜磁気ヘッドを得る。

以上本実施例によればｒ溝のふたつの斜面がなす角なθ
とするとき、従来の段差なし基板を用いた場合のθｌに
対して本実施例のθ２がθｌくθ２とでき、Ｖ溝部での
第２センダスト膜の埋込みに不連続をなくすことができ
る。

本発明によれば、第２磁性膜のｒ溝部への成膜時の合否
にかかわるｒ溝のふたつの斜面のなす角０を従来技術の
限界であるアジマス角＋９０以上にできるので、主たる
ギャップに妨害を与える疑似ギャップのない薄膜磁気ヘ
ッドを製告することに効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の薄膜磁気ヘッドのテープ摺動面を示す図
、第２図は本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドのテープ
摺動面を示す図である。 １・・・非磁性基板、　　　２・・・第１の磁性膜。 ５・・・溝、 ４・・・ギャップスペーサ、 ５・・・第２の磁性膜、　６・・・不連続面。 ７・・・段差、　　　　　　８・・・非磁性下地膜。 ９・・・保護板。 代理人弁理士　薄　１）利　幸

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　非磁性基板上に第１の磁性膜を成膜し、この第１
   の磁気膜に溝加工を施こし、その溝の側面にギャップス
   ペーサを被着させ、さらに第２の磁性膜を成膜し、キャ
   ップスペーサを被着させた溝の測面の上部位の第２の磁
   性膜のみ除却してなる薄膜磁気ヘッドにおいて。 非磁性基板のギヤラグ近傍部位に段差あるいはよみを設
   けたことを特徴とする薄膜磁気へッ　　ド　。