JPS5933591B2 - γ−ブチロラクトン化合物の製造法 - Google Patents

γ−ブチロラクトン化合物の製造法

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JPS5933591B2
JPS5933591B2 JP49107159A JP10715974A JPS5933591B2 JP S5933591 B2 JPS5933591 B2 JP S5933591B2 JP 49107159 A JP49107159 A JP 49107159A JP 10715974 A JP10715974 A JP 10715974A JP S5933591 B2 JPS5933591 B2 JP S5933591B2
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JP
Japan
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benzofuranone
chloro
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hexahythro
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JP49107159A
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JPS51125066A (en
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由茂元 清島
守公 三口
猛 山田
輝也 赤
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Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規r−ブチロラグ 造法に関し、更に詳しくは 一般式 トン化合物の製 (式中、Rは低級アルキル基を示す。
)にて表わされる3−アルコキシカルボニルーJメ[クロ
ロ3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2ベン
ゾフラノンと一般式 (式中、R1およびR2は同じかあるいは異なつて、水
素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしくはキ
ノリル基を示すか、ハロゲン原子、低級アルキル基もし
くは低級アルコキシ基で置換されていることがあるフエ
ニル基を示し、または隣接する窒素原子とともに、低級
アルキル基で置換されていることがあるビペリジノ基、
モルホリノ基もしくはチアモルホリノ基を示す。
)にて表わされるアミン類とを反応させ、一般式 (式中、R1およびR2は前記と同じ。
)にて表わされる3−(N一置換)カルバモイルーJメ
[クロロ一3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロ
ー2−ベンゾフラノリンを製造する方法に関する。上記
一般式においてR..RlおよびR2で示される低級ア
ルキル基はメチル、エチル、プロピル、ブチル基などで
ある。R1およびR2で示される低級アルケニル基はプ
ロペニル、ブテニル、ペンテニル基などである。
上記フエニル基、キノリル基または複素環基は、その核
環の任意の位置に1個またはそれ以上のハロゲン原子ま
たはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基などの核置換基を有するものであつてもよい。本発明
を詳細に説明すると、 一般式 (式中、Rは前記と同じ。
)にて表わされる3一アルコキシカルボニルーJメ[クロ
ロ一3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2−
ベンゾフラノンに、一般式 (式中、R1およびR2は前記と同じ。
)にて表わされるアミン類を1当量あるいは少過剰量加
え、その混合物をトルエン、キシレンなどの適当な溶媒
に溶解して還流せしめるか、あるいは攪拌下溶媒の沸点
以下で加熱する。上記アミン類が液体である場合は溶媒
の使用は特に必要としないが、気体である場合は予めア
ルコール、エーテルなどの適当な溶媒に溶解し、これに
3−アルコキシカルボニルーJメ[クロロ一3a・4・5
・6・7・7a−ヘキサヒドロベンゾフラノリンを加え
て密封し、室温下放置するか、場合によつては加熱する
。上記アミン類が加熱により着色し易い場合は窒素ガス
、炭酸ガスなどの不活性ガス雰囲気中で反応を行うこと
が望ましい。
本発明において用いられる3−アルコキシカルボニルー
Jメ[クロロ一3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒト
ロー2−ベンゾフラノンは、シクロヘキセン−2−イル
ーマロン酸エチルに次亜塩素酸を付加させた後、加熱に
よる閉環反応によつて製造することができる。
本発明において得られるγ−ブチロラクトン化合物は、
動物実験においてカラゲニンによる後肢水腫に対して顕
著な抑制作用を示し、鎮痛解熱作用を併有するものを含
めて抗炎症作用を有し解熱鎮痛、消炎剤として有用なも
のである。
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実加?山 7ークロロ一3−エトキシカルボニル−3a゜4・5・
6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン27
(8.1ミリモル)とp−トルイジン0.877(8.
1ミリモル)を15m1の無水キシレン中、浴温132
〜135℃で16時間加熱した後容器を冷却し、析出す
る結晶を▲取し、エタノールで再結晶して、無色針状晶
として3−〔N(p−トリル)〕カルバモイルーJメ[ク
ロロ3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2ー
ベンゾフラノン2.187を得る。
収率 86.4% M.p.l82〜183℃元素分析
C6Hl8O3NClとして理論値(%)C62.4
4H5.89N4.55実験値(%)C62.45H5
.89N4.55p−トルイジンの代りに、アニリン、
m−フルオロアニリン、p−フルオロアニリン、m−ク
ロロアニリン、p−クロロアニリン、m−ブロモアニリ
ンおよびp−アニシジンを用い、同様にしてそれぞれ3
−(N−フエニル)カルバモイル〜7ークロロ一3a・
4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラ
ノン、M.p.l8l〜182℃:3−〔N−(m−フ
ルオロフエニル)〕カルバモイルーJメ[クロロ一3a・
4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラ
ノン、M.p.l86〜187℃;3−〔N−(p−フ
ルオロフエニル)〕カルバモイルーJメ[クロロ一3a・
4・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2ーベンゾフラ
ノン、M.p.l74〜175℃;3一〔N−(m−ク
ロロフエニル)〕カルバモイルーJメ[クロロ一3a・4
・5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノ
ン、M.p.l75〜176℃;3−〔N−(p−クロ
ロフエニル)〕カルバモイルーJメ[クロロ一3a・4・
5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン
、M.p.l93〜194℃;3−〔N−(m−ープロ
モフエニル)〕カルバモイルーJメ[クロロ一3a・4・
5・6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン
、M.p.l7l〜173℃:3−〔N一(p−メトキ
シフエニル)〕カルバモイルーJ■■ヒトロー2−ベン
ゾフラノン、M.p.l83〜184℃を得る。
実施例 2 7−クロロ−3−エトキシカルボニル−3a・4・5・
6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン2.
007(8.1ミリモル)と8−アミノキノリン1.1
77(8.1ミリモル)を無水キシレン15m1に溶解
し、容器内の空気を窒素ガスと置換し、浴温127〜1
32℃で16時間加熱した後容器を冷却し、析出する結
晶を沢取し、エタノール−ベンゼン混合溶媒で再結晶し
、淡褐色結晶として3−〔N−(キノリ一8−イル)〕
カルバモイルーJメ[クロロ一3a・4・5・6・7・7
a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン2.10を得る
収率 74.1% M.p.l48〜149℃8−アミ
ノキノリンの代りに、メチルエチルアミンまたはジアリ
ルアミンを用い、同様にしてそれぞれ3−(N−N−メ
チルエチル)カルバモイルーJメ[クロロ一3a・4・5
・6・7・7aヘキサヒトロー2−ベンゾフラノリン、
M.p.ll2〜113℃または3−(N−N−ジアワ
ル)カルバモイルーJメ[クロロ一3a・4・5・6・7
・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン、M.p.
l28〜129℃を得る。
実施例 3 7−クロロ−3−エトキシカルボニル−3a・4・5・
6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン2.
007(8.1ミリモル)と3−メチルピペリジン0.
967(9.7ミリモル)を無水キシレン15m1に溶
解し、容器内の空気を窒素ガスと置換し、浴温135〜
140℃で16時間加熱後溶媒を減圧溜去し、粘性残渣
をベンゼンに溶解し、希塩酸で洗滌する。
水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を溜去し、
残渣を水−エタノール混合溶媒で再結晶して、無色針状
晶として3−(3−メチルピペリジノ)カルボニルーJ
メ[クロロ一3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒト
ロー2−ベンゾフラノン2.00tを得る。
収率 81.5% M.p.l4l〜142℃元素分析
Cl5H22O3NClとして理論値(%)C6O.
lOH7.4ON4.57実験値(%)C6O.l6H
7.37N4.683−メチルピペリジンの代りに4−
メチルピペリジンを用い、同様にして3−(4−メチル
ピペリジノ)カルボニルーJメ[クロロ一3a・4・5・
6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン、M
.p.l2l〜122℃を得る。
実施例 4 7−クロロ−3−エトキシカルボニル−3a・4・5・
6・7・7a−ヘキサヒトロー2−ベンゾフラノン2.
00f7(8.1ミリモル)とモルホリン0.85y(
9.8ミリモル)を無水キシレン15m1に溶解し、浴
温140〜145℃で10時間加熱還流した後、溶媒を
減圧溜去し、残渣を酢酸エチルに溶解して希塩酸で洗浄
し、水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を溜去
し、残渣を水エタノール混合溶媒で再結晶し、無色の結
晶として7ークロロ一3a・4・5・6・7・7aヘキ
サヒトロー3−モルホリノカルボニル−2ベンゾフラノ
ン1.96tを得る。
収率 84.0% M.p.l55〜156℃元素分析
Cl3Hl8O4NClとして理論値(%)C54.
26H6.26N4.86実験値(%)C54.23H
6.22N4.85モルホリンの代りにチアモルホリン
を用い、同様にして7ークロロ一3a・4・5・6・7
・7a−ヘキサヒトロー3−チアモルホリノカルボニル
一2−ベンゾフラノン、M.p.l85〜186℃を得
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは低級アルキル基を示す。 )にて表わされる3−アルコキシカルボニル−7−クロ
    ロ−3a・4・5・6・7・7a−ヘキサヒドロ−2−
    ベンゾフラノンと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は同じかあるいは異なつて
    、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしく
    はキノリル基を示すか、ハロゲン原子、低級アルキル基
    もしくは低級アルコキシ基で置換されていることがある
    フェニル基を示し、または隣接する窒素原子とともに、
    低級アルキル基で置換されていることがあるピペリジノ
    基、モルホリノ基もしくはチアモルホリノ基を示す。 )にて表わされるアミン類とを縮合させることを特徴と
    する一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は前記と同じ。 )にて表わされるγ−ブチロラクトン化合物の製造法。
JP49107159A 1974-09-19 1974-09-19 γ−ブチロラクトン化合物の製造法 Expired JPS5933591B2 (ja)

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JPS51125066A JPS51125066A (en) 1976-11-01
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6146692U (ja) * 1984-08-25 1986-03-28 松下電工株式会社 火報システム
JPS61185194U (ja) * 1985-05-07 1986-11-18
US10756505B2 (en) 2017-09-21 2020-08-25 Qioptiq Photonics Gmbh & Co. Kg Tunable light source with broadband output

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6146692U (ja) * 1984-08-25 1986-03-28 松下電工株式会社 火報システム
JPS61185194U (ja) * 1985-05-07 1986-11-18
US10756505B2 (en) 2017-09-21 2020-08-25 Qioptiq Photonics Gmbh & Co. Kg Tunable light source with broadband output

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