JPS5927856A - α−クロロアセトアミド化合物 - Google Patents
α−クロロアセトアミド化合物Info
- Publication number
- JPS5927856A JPS5927856A JP13775482A JP13775482A JPS5927856A JP S5927856 A JPS5927856 A JP S5927856A JP 13775482 A JP13775482 A JP 13775482A JP 13775482 A JP13775482 A JP 13775482A JP S5927856 A JPS5927856 A JP S5927856A
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- JP
- Japan
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- compound
- group
- chloroacetamide
- mmol
- alpha
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、植物生長抑制作用を有する新規なα−クロロ
アセトアミドに関するものである。
アセトアミドに関するものである。
N−シクロアルケニル−α−ハロアセトアミドは、例え
ば特公昭−45−880、特公昭49−30098、特
開昭55−92351等に於て公知であり、それらが除
草効果を有することも知られている。しかし、ハロアセ
トアミド化合物は、その置換基の種類、数または位置な
どの化学構造上のイVかな相違により植物に対する効果
が著しく異なる。例えば、特開昭53−25564、特
開昭52−59153等は除草剤の解毒剤である。この
ように公知のハロアセトアミド系化合物との化学構造の
類似性によって、これらの化合物の殺草性を予測するこ
とは極めて困難である。
ば特公昭−45−880、特公昭49−30098、特
開昭55−92351等に於て公知であり、それらが除
草効果を有することも知られている。しかし、ハロアセ
トアミド化合物は、その置換基の種類、数または位置な
どの化学構造上のイVかな相違により植物に対する効果
が著しく異なる。例えば、特開昭53−25564、特
開昭52−59153等は除草剤の解毒剤である。この
ように公知のハロアセトアミド系化合物との化学構造の
類似性によって、これらの化合物の殺草性を予測するこ
とは極めて困難である。
本発明者は、不飽和脂環基をもつ各種のα−クロロアセ
トアミド化合物を種々合成し、その植物に対する生理活
性を検討した結果、一群の新規化合物が植物生長抑制作
用または使用量によっては殺草作用を有することを見出
し、本発明を完成した。
トアミド化合物を種々合成し、その植物に対する生理活
性を検討した結果、一群の新規化合物が植物生長抑制作
用または使用量によっては殺草作用を有することを見出
し、本発明を完成した。
本発明の化合物は窒素原子上の2個の水素原子がR−及
びAOCnH2n−で表わされる2つの基によって置換
されたα−クロロアセトアミドである。
びAOCnH2n−で表わされる2つの基によって置換
されたα−クロロアセトアミドである。
こ匁でR−はトリメチルシクロへキセニル基またはトリ
メチルシクロへキサジェニル基であるトリメチル置換不
飽和脂環基である。他の置換基AOCnHHl−はオキ
シアルキル基であり、n−2または3に応じてオキシエ
チル基またはオキシプロピル基である。オキシアルキル
基は酸素原子上に置換基をもたないもの、即ちAが水素
原子であるヒドロキシエチル基またはヒドロキシプロピ
ル基でもよく、またA 7!l’ CI CH2C0−
であるクロロアセトキシアルキル基、Aが(CH3)3
si−であるトリメチルシリルオキシアルキル基、Aが
HOCH2CH2−であるヒドロキシエトキシアルキル
基のいずれでもよい。
メチルシクロへキサジェニル基であるトリメチル置換不
飽和脂環基である。他の置換基AOCnHHl−はオキ
シアルキル基であり、n−2または3に応じてオキシエ
チル基またはオキシプロピル基である。オキシアルキル
基は酸素原子上に置換基をもたないもの、即ちAが水素
原子であるヒドロキシエチル基またはヒドロキシプロピ
ル基でもよく、またA 7!l’ CI CH2C0−
であるクロロアセトキシアルキル基、Aが(CH3)3
si−であるトリメチルシリルオキシアルキル基、Aが
HOCH2CH2−であるヒドロキシエトキシアルキル
基のいずれでもよい。
従って、本発明の化合物は、一般式
%式%
(こ〜でRはトリメチルシクロヘキセニル基またはトリ
メチルシクロへキサジェニル基を表わし、Aは水素原子
、クロロアセチル基、トリメチルシリル基または2−ヒ
ドロキシエチル基を表わし、そしてnは2または3であ
る)で表わされるα−クロロアセトアミド化合物として
表わされる。
メチルシクロへキサジェニル基を表わし、Aは水素原子
、クロロアセチル基、トリメチルシリル基または2−ヒ
ドロキシエチル基を表わし、そしてnは2または3であ
る)で表わされるα−クロロアセトアミド化合物として
表わされる。
本発明の化合物の合成法を反応式と実施例を用いて説明
する。
する。
Rで表わされるトリメチルシクロヘキセニル基の好都合
な供給源はトリメチルシクロヘキサノン(イ)である。
な供給源はトリメチルシクロヘキサノン(イ)である。
(イ)をアミノアルコールまたはその誘導体(ロ)と不
活性溶媒(例えば、ベンゼンまたはトルエン)中で加熱
還流させ、生成する水を共沸脱水で除去し、イミン誘導
体(ハ)を中間体として得る。
活性溶媒(例えば、ベンゼンまたはトルエン)中で加熱
還流させ、生成する水を共沸脱水で除去し、イミン誘導
体(ハ)を中間体として得る。
イミン誘導体(ハ)を不活性溶媒(例えば、トルエン、
クロロホルム、ジエチルエーテル)中、トリエチルアミ
ン存在下にクロロアセチルクロライドと反応させると、
クロロアセチル化されたエナミン化合物(ホ)が得られ
る。
クロロホルム、ジエチルエーテル)中、トリエチルアミ
ン存在下にクロロアセチルクロライドと反応させると、
クロロアセチル化されたエナミン化合物(ホ)が得られ
る。
A=水素原子、n=2の場合、即ち(ロ)としてアミノ
エタノールを用いた場合、(ホ)として例1に示す通り
化合物/161が得られる。
エタノールを用いた場合、(ホ)として例1に示す通り
化合物/161が得られる。
アミンエタノールの代りにアミノプロパツール(n=3
)、)リメチルシリルオキシエチルアミ7 (A =
(CH3)3S i −)及びヒドロキシエトキシエチ
ルアミン(A = HOCH2CH2)など、一般式(
ロ)で表わされる他の化合物を使うとそれぞれ化合物A
2.5及び6が得られる。
)、)リメチルシリルオキシエチルアミ7 (A =
(CH3)3S i −)及びヒドロキシエトキシエチ
ルアミン(A = HOCH2CH2)など、一般式(
ロ)で表わされる他の化合物を使うとそれぞれ化合物A
2.5及び6が得られる。
Aがクロロアセチル基である化合物/163及び4は、
(イ)とアミノアルコールとから得られたトリメチルシ
クロヘキシリデンアルカノールアミン()1、A=H)
に2モル倍のクロロアセチルクロライドを反応させて得
られる(例2)。
(イ)とアミノアルコールとから得られたトリメチルシ
クロヘキシリデンアルカノールアミン()1、A=H)
に2モル倍のクロロアセチルクロライドを反応させて得
られる(例2)。
Rがトリメチルシクロヘキサジェニル基の場合は、(イ
)の代りにトリメチルシクロヘキセノンを用いる(例4
)。
)の代りにトリメチルシクロヘキセノンを用いる(例4
)。
このようにして得られた本発明の化合物の具体例を、そ
の物性と共に第1表に示す。
の物性と共に第1表に示す。
これらの新規化合物は、使用例に示すように植物生長抑
制効果を示し、除草剤としての利用が期待できる。
制効果を示し、除草剤としての利用が期待できる。
例1. 中間体
3.3.5−)リメチルシクロヘキサノン34,09
(0,24モル)と2−アミンエタノール12.29(
o、zoモル)を無水ベンゼン50−に溶解させ、共沸
脱水しながら5時間加熱還流する(水3.8 mlが水
分離器に分離された)。反応終了後室温まで冷却し、溶
媒を減圧下留去し、残渣を蒸留することにより、中間体
の3.3.5−)リメチルシクロへキシリデン、β−ヒ
ドロキシエチルアミン(1)p88〜96°/2〜3龍
Hg)を得る。
(0,24モル)と2−アミンエタノール12.29(
o、zoモル)を無水ベンゼン50−に溶解させ、共沸
脱水しながら5時間加熱還流する(水3.8 mlが水
分離器に分離された)。反応終了後室温まで冷却し、溶
媒を減圧下留去し、残渣を蒸留することにより、中間体
の3.3.5−)リメチルシクロへキシリデン、β−ヒ
ドロキシエチルアミン(1)p88〜96°/2〜3龍
Hg)を得る。
収! 29.89゜
この化合物(ハ)は異性体のスピロ環化合物に)との平
惰混合物として得られ、そのま〜次工程に用いることが
できる。
惰混合物として得られ、そのま〜次工程に用いることが
できる。
例2.化合物/161
例1で得た中間体(ハ)1 g(5,46ミIJモル)
とトリエチルアミン0.76m1(5,43ミリモル)
を無水クロロホルム10rn1.に溶解し、クロロアセ
チルクロライド0.62g(5,46ミリモル)の無水
クロロホルム溶液(200)中へ水冷下で30分間で滴
下する。さらに1時間攪拌し、−晩室温にて放置した後
、溶媒を減圧下留去する。得られた残渣にジエチルエー
テルを加え、よく攪拌した後、不溶物をP別し、r液を
濃縮することによりN−(2−ヒドロキシエチル)−N
−3,5,5−)ジメチル−1−シクロヘキセン−1−
イル)−α−クロロアセトアミド(化合物41)1.3
8gを得る。
とトリエチルアミン0.76m1(5,43ミリモル)
を無水クロロホルム10rn1.に溶解し、クロロアセ
チルクロライド0.62g(5,46ミリモル)の無水
クロロホルム溶液(200)中へ水冷下で30分間で滴
下する。さらに1時間攪拌し、−晩室温にて放置した後
、溶媒を減圧下留去する。得られた残渣にジエチルエー
テルを加え、よく攪拌した後、不溶物をP別し、r液を
濃縮することによりN−(2−ヒドロキシエチル)−N
−3,5,5−)ジメチル−1−シクロヘキセン−1−
イル)−α−クロロアセトアミド(化合物41)1.3
8gを得る。
例3.化合物腐3
例1で得た中間体(ハ)2.0 g(10,14ミリモ
ル)に対して倍モルのトリエチルアミン(284−)と
クロロアセチルクロライド(2,27g)を用いた他は
、例2と同様の方法で反応を行う。
ル)に対して倍モルのトリエチルアミン(284−)と
クロロアセチルクロライド(2,27g)を用いた他は
、例2と同様の方法で反応を行う。
得られた粗生成物をシリカゲルヵラムクロマトグラフィ
ー(ワコーゲル(ニア100、ベンゼン;ジエチルエー
テル−1:1展開)にて精製し、N−(2−クロロアセ
チルオキシエチル)−N−(3,5,5−)ジメチル−
1−シクロヘキセン−1−イル)−α−クロロアセトア
ミド(化合物43 ) 1.25 gを得る。
ー(ワコーゲル(ニア100、ベンゼン;ジエチルエー
テル−1:1展開)にて精製し、N−(2−クロロアセ
チルオキシエチル)−N−(3,5,5−)ジメチル−
1−シクロヘキセン−1−イル)−α−クロロアセトア
ミド(化合物43 ) 1.25 gを得る。
例4
上記化合物/163は以下の反応によっても合成するこ
とができる。すなわち、例1で得られた化合物/161
.0.37 jJ (3,35ミリモル)を無水トルエ
ン20m1とクロロホルム3−の混合溶媒に溶解し、ト
リエチルアミン0.137 jj (1,35ミリモル
)を加え、水冷下攪拌しつつ、クロロアセチルクロライ
ド0.153g(1,35ミリモル)の無水トルエン溶
液(10rnl)を滴下する。
とができる。すなわち、例1で得られた化合物/161
.0.37 jJ (3,35ミリモル)を無水トルエ
ン20m1とクロロホルム3−の混合溶媒に溶解し、ト
リエチルアミン0.137 jj (1,35ミリモル
)を加え、水冷下攪拌しつつ、クロロアセチルクロライ
ド0.153g(1,35ミリモル)の無水トルエン溶
液(10rnl)を滴下する。
滴下終了後1時間、さらに室温で2時間攪拌を続ける。
反応終了後p)(7,0のリン酸緩衝液で洗い、水洗し
、有機層を芒硝で乾燥したのち溶媒を減圧で留去する。
、有機層を芒硝で乾燥したのち溶媒を減圧で留去する。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ワコーゲルC−100、ベンゼン:ジエチルエーテ
ル−1:1展開)で精製して化合物、463が得られる
。収量0.14,9゜ 例5 化合物A、5 3.3.5−)リメチルシクロヘキサノンと2−トリメ
チルシリルオキシエチルアミンとの脱水反応で得られる
3、3.5−)リメチルシクロへキシリデン−β−トリ
メチルシリルオキシエチルアミン1.0 g(3,90
ミリモル)とトリエチルアミン0.49.!9(4,8
0ミリモル)の無水トルエン溶液(307)に、水冷下
でクロロアセチルクロライド0.44 、!9 (3,
90ミリモル)の無水トルエン溶液(tomx)を攪拌
しつ\滴下する。滴下終了後室温にて3時間半攪拌する
。
ー(ワコーゲルC−100、ベンゼン:ジエチルエーテ
ル−1:1展開)で精製して化合物、463が得られる
。収量0.14,9゜ 例5 化合物A、5 3.3.5−)リメチルシクロヘキサノンと2−トリメ
チルシリルオキシエチルアミンとの脱水反応で得られる
3、3.5−)リメチルシクロへキシリデン−β−トリ
メチルシリルオキシエチルアミン1.0 g(3,90
ミリモル)とトリエチルアミン0.49.!9(4,8
0ミリモル)の無水トルエン溶液(307)に、水冷下
でクロロアセチルクロライド0.44 、!9 (3,
90ミリモル)の無水トルエン溶液(tomx)を攪拌
しつ\滴下する。滴下終了後室温にて3時間半攪拌する
。
反応終了後p)(7,0のリン酸緩衝液10m1を加え
分液する。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後
溶媒を減圧下留去してN−(2−)リメチルシリルオキ
シエチル)−N−(3,5,5−トリメチル−1−シク
ロヘキセン−1−イノリーα−クロロアセトアミド(化
合物/%、5)を得る。収量t、4iy。
分液する。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後
溶媒を減圧下留去してN−(2−)リメチルシリルオキ
シエチル)−N−(3,5,5−トリメチル−1−シク
ロヘキセン−1−イノリーα−クロロアセトアミド(化
合物/%、5)を得る。収量t、4iy。
例6 化合物A67及び渣8
3.5.5−トリメチル−2−シクロヘキセン−2−シ
クロヘキセン−1−オン30.4 g(0,22モル)
と2−アミノエタノール12r/d2(0,20モル)
を無水トルエン70rnlに溶解させ、共沸脱水しなが
ら4時間加熱還流する。反応終了後溶媒を減圧下留去し
て得られた残渣をガラスチューブオープンで蒸留しくバ
ス温度 〜160゜10.2關:H,)23.6gの3
.5,5−)ジメチル−2−シクロヘキセン−1−イリ
デン−β−ヒドロキシエチルアミンを得る。
クロヘキセン−1−オン30.4 g(0,22モル)
と2−アミノエタノール12r/d2(0,20モル)
を無水トルエン70rnlに溶解させ、共沸脱水しなが
ら4時間加熱還流する。反応終了後溶媒を減圧下留去し
て得られた残渣をガラスチューブオープンで蒸留しくバ
ス温度 〜160゜10.2關:H,)23.6gの3
.5,5−)ジメチル−2−シクロヘキセン−1−イリ
デン−β−ヒドロキシエチルアミンを得る。
次に、上記生成化合物1.0 g(5,51ミIJモル
)とトリエチルアミン0.71 yd (5,51ミリ
モル)を無水クロロホルム溶液10ゴに溶解しクロロア
セチルクロライド0.58 g(5,51ミリモル)の
無水クロロホルム溶液(20yd)中へ、水冷下40分
間で攪拌しつ\滴下する。
)とトリエチルアミン0.71 yd (5,51ミリ
モル)を無水クロロホルム溶液10ゴに溶解しクロロア
セチルクロライド0.58 g(5,51ミリモル)の
無水クロロホルム溶液(20yd)中へ、水冷下40分
間で攪拌しつ\滴下する。
滴下終了後、さらに7時間攪拌を続ける。反応終了後、
溶媒を減圧下留去し、ジエチルエーテルを加えて析出す
る固体をf別する。P液よりジエチルエーテルを留去す
ることにより1.64gの褐色油状物が得られる。この
油状物をシリカゲルクロマトグラフィー(ワコーゲル
C−100、ベンゼン:ジエチルエーテル=1:1展開
)で精製してN−(2−クロロアセトキシエチル)−N
−(3,3,5−トリメチルシクロヘキサ−1,5−ジ
エン−1−イル)−α−クロロアセトアミド(化合物/
l671.・収量0.50g)と化合物/168(収量
0.09g)とを得る。
溶媒を減圧下留去し、ジエチルエーテルを加えて析出す
る固体をf別する。P液よりジエチルエーテルを留去す
ることにより1.64gの褐色油状物が得られる。この
油状物をシリカゲルクロマトグラフィー(ワコーゲル
C−100、ベンゼン:ジエチルエーテル=1:1展開
)で精製してN−(2−クロロアセトキシエチル)−N
−(3,3,5−トリメチルシクロヘキサ−1,5−ジ
エン−1−イル)−α−クロロアセトアミド(化合物/
l671.・収量0.50g)と化合物/168(収量
0.09g)とを得る。
化合物/168は先に示した一般式においてR=トリメ
チルシクロヘキサジェニル、A=水素原子、n=2に相
当する化合物であり、第1表でも便宜上そのように表示
したが、実際は主゛としてスピロ型の異性体として存在
することが、そのスペクトルから判断される。
チルシクロヘキサジェニル、A=水素原子、n=2に相
当する化合物であり、第1表でも便宜上そのように表示
したが、実際は主゛としてスピロ型の異性体として存在
することが、そのスペクトルから判断される。
例7 使用例
タルク:50部、ベントナイト:25部、ツルポール−
9047(東邦化学工業社製界面活性剤)=2部、ソル
ボ−ルー5039(同上):3部を良く混合し、キャリ
ヤーとした。
9047(東邦化学工業社製界面活性剤)=2部、ソル
ボ−ルー5039(同上):3部を良く混合し、キャリ
ヤーとした。
テスト化合物50部と前記キャリヤー:200部を混合
し、20%永和剤を作った。この水和剤を純水に分散さ
せ、所定濃度とした。
し、20%永和剤を作った。この水和剤を純水に分散さ
せ、所定濃度とした。
別にイネ、タイヌビエ、二十日ダイコン種子を催芽させ
たシャーレを用意し、上記水和剤分散液を投入し、25
°Cの照明付定温jホで7日間育苗して生長程度を観察
した。その結果を第2表に示す。
たシャーレを用意し、上記水和剤分散液を投入し、25
°Cの照明付定温jホで7日間育苗して生長程度を観察
した。その結果を第2表に示す。
また、別のシャーレに水田土壌を入れ、約1αの湛水状
態とし、それにイネ、タイヌビエの催芽様を播種し、さ
らに前記水利剤を所定濃度になるように加え、25℃の
照明付定温圧で10日間育苗して生長程度を観察した。
態とし、それにイネ、タイヌビエの催芽様を播種し、さ
らに前記水利剤を所定濃度になるように加え、25℃の
照明付定温圧で10日間育苗して生長程度を観察した。
その結果を第3表に示す。
表示法 無影響−1、約25多生長抑制−2,4、完全
枯死−5とする。
枯死−5とする。
比較に用いた化合物はN−(3,3,5−) IJメチ
ルシクロヘキシル)−クロロアセトアミドである。
ルシクロヘキシル)−クロロアセトアミドである。
第3表
比較に用℃・た化合物はN −(3,5,s −) I
Jメチtv−1−’/クヨー□キャ7−1−イ/l/
) −N −”−キシル−クロロアセトアミドである。
Jメチtv−1−’/クヨー□キャ7−1−イ/l/
) −N −”−キシル−クロロアセトアミドである。
特許出願人
ダイセル化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ClCH2CN CnHznOAI 1 R (こ匁でRはトリメチルシクロヘキセニル基又はトリメ
チルシクロヘキサジェニル基を表わし、Aは水素原子、
クロロアセチル基、トリメチルシリル基又は2−ヒドロ
キシエチル基を表わし、そしてnは2又は3である。) で表わされるα−クロロアセトアミド化合物
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13775482A JPS5927856A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | α−クロロアセトアミド化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13775482A JPS5927856A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | α−クロロアセトアミド化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5927856A true JPS5927856A (ja) | 1984-02-14 |
JPH0318611B2 JPH0318611B2 (ja) | 1991-03-13 |
Family
ID=15206047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13775482A Granted JPS5927856A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | α−クロロアセトアミド化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5927856A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0736836A2 (en) | 1995-04-04 | 1996-10-09 | Nec Corporation | Fingerprint fingertip orientation detection method and device |
-
1982
- 1982-08-06 JP JP13775482A patent/JPS5927856A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0736836A2 (en) | 1995-04-04 | 1996-10-09 | Nec Corporation | Fingerprint fingertip orientation detection method and device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0318611B2 (ja) | 1991-03-13 |
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