JPS5925997A - 金属ストリツプの電解処理装置 - Google Patents
金属ストリツプの電解処理装置Info
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- JPS5925997A JPS5925997A JP13405482A JP13405482A JPS5925997A JP S5925997 A JPS5925997 A JP S5925997A JP 13405482 A JP13405482 A JP 13405482A JP 13405482 A JP13405482 A JP 13405482A JP S5925997 A JPS5925997 A JP S5925997A
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- JP
- Japan
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- strip
- electrode
- electrolytic
- metal strip
- roll
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属ストリップの電解処理装置に係り、特に作
業の高速化が可能な電解処理装置に関する。
業の高速化が可能な電解処理装置に関する。
電解処理装置は電解処理は勿論、電気めっき、電解脱脂
などの金属表面処理分野に広く使用されている。従来の
電解処理装置は第1表および第1〜3図に示す如く、横
型(I)、縦型(■)、ラジアル型(ト)の3種に大別
される。
などの金属表面処理分野に広く使用されている。従来の
電解処理装置は第1表および第1〜3図に示す如く、横
型(I)、縦型(■)、ラジアル型(ト)の3種に大別
される。
これらの装置に関しては、従来高速化のため第2表およ
び第4〜6図に示す如き研究開発が行われてきた。
び第4〜6図に示す如き研究開発が行われてきた。
第2表
しかし従来のこれらの装置や高速化の手段には次の如き
問題点がある。
問題点がある。
(イ)A、B、C方式の如く電解液の液流を高速化し、
高電流密度を得る方法は■、■型の電解槽においては、
コンダクタ−ロール4の電流供給能力にアークスポット
の発生などによシ限界があり、高速化の難点となってい
る。
高電流密度を得る方法は■、■型の電解槽においては、
コンダクタ−ロール4の電流供給能力にアークスポット
の発生などによシ限界があり、高速化の難点となってい
る。
(ロ) I、[1型の電解槽においては片面めっきの際
、裏面へのめっきの回シ込みを生ずる。
、裏面へのめっきの回シ込みを生ずる。
(ハ) ■型においては、ストリップへの電流供給能力
は大きいが、ス) IJツブの進行方向と液流との方向
がダウンパスとアップパスで異なり、アップパスではス
トリップと電解液との相対速度がダウンパスに比して小
さいため、最高許容電流はアップパスによシ制限される
。
は大きいが、ス) IJツブの進行方向と液流との方向
がダウンパスとアップパスで異なり、アップパスではス
トリップと電解液との相対速度がダウンパスに比して小
さいため、最高許容電流はアップパスによシ制限される
。
に) ■型の両面めっきにおいて、片面順次めっきとす
るとパスラインが最短であるが・後からめつきされる面
は事前にめつき液との接触時間が長くなるため、ストリ
ップ表面の表面処理性の低下、および先にめっきされた
面はめつき表面の再溶解や不純物金属の化学析出を生じ
めっき品質の劣化をきだすことがある。
るとパスラインが最短であるが・後からめつきされる面
は事前にめつき液との接触時間が長くなるため、ストリ
ップ表面の表面処理性の低下、および先にめっきされた
面はめつき表面の再溶解や不純物金属の化学析出を生じ
めっき品質の劣化をきだすことがある。
(へ) I、II型の電解槽にA、B、Cのいずれの手
段を採用しても極間距離はストリップ張力や噴流の圧力
によシ安定し難い。
段を採用しても極間距離はストリップ張力や噴流の圧力
によシ安定し難い。
())I、II型の電解槽において高電流を使用すると
ストリップ内をストリップの長さ方向に流れる電流が犬
きくなシストリップの抵抗加熱を生じエネルギーの損失
だけでなく品質上も問題を生じる。
ストリップ内をストリップの長さ方向に流れる電流が犬
きくなシストリップの抵抗加熱を生じエネルギーの損失
だけでなく品質上も問題を生じる。
(イ) 夏型の電解槽ではコンダクタ−ロールは槽外に
設置されているが、槽に近いだめ、ストリップもコンダ
クタ−ロールも多量の液でぬれており、ストリップのめ
つき面とコンダクタ−ロール面が一致する場合(両面め
っきでは避けられず、また夏型の場合には下面に片面め
っきする時)コンダクタ−ロールにめっき付着によシ、
ストリップに押込み疵を生じやすい。
設置されているが、槽に近いだめ、ストリップもコンダ
クタ−ロールも多量の液でぬれており、ストリップのめ
つき面とコンダクタ−ロール面が一致する場合(両面め
っきでは避けられず、また夏型の場合には下面に片面め
っきする時)コンダクタ−ロールにめっき付着によシ、
ストリップに押込み疵を生じやすい。
本発明の目的は上記従来技術の問題点を解決し高電流密
度電解の可能な金属ス) IJツブの電解処理装置を提
供するにある。
度電解の可能な金属ス) IJツブの電解処理装置を提
供するにある。
本発明の要旨とするところは次のとおシである。
すなわち、電解槽と、前記電解槽内に設けられ金属スト
リップを案内するターンロールと、前記金属ストリップ
を電解処理する電極と、を有して成る金属ストリップの
電解処理装置において、前記電解槽の上下に配置された
前記ターンロールをコンタクタ−ロール、!:L、前記
コンタクターロールに接する前記金属ストリップの外表
面に前記電極を対極させたことを特徴とする金属ストリ
ップの電解処理装置である。
リップを案内するターンロールと、前記金属ストリップ
を電解処理する電極と、を有して成る金属ストリップの
電解処理装置において、前記電解槽の上下に配置された
前記ターンロールをコンタクタ−ロール、!:L、前記
コンタクターロールに接する前記金属ストリップの外表
面に前記電極を対極させたことを特徴とする金属ストリ
ップの電解処理装置である。
本発明の詳細を実施例およびその図面により説明する。
第7図は本発明の電解処理装置を示す断面図である。電
解槽14内には上下を往復する縦パスを有し、上下のタ
ーンロールをコンダクタ−ロール4としストリップ2の
曲がる部分でのみ電極6と対面し、極間を電解液10で
満して電解する装置である。電解液10は極間を流出し
て電解槽14底部で捕集される。
解槽14内には上下を往復する縦パスを有し、上下のタ
ーンロールをコンダクタ−ロール4としストリップ2の
曲がる部分でのみ電極6と対面し、極間を電解液10で
満して電解する装置である。電解液10は極間を流出し
て電解槽14底部で捕集される。
また、電極から噴出し、ストリップ面に付着して・落下
もしくは」二昇する電解液を通して流れる電流によって
、隣のコンダクタ−ロール上へ電着が生ずるととを避け
るために、上下ロール間の距離を大きくするか、もしく
はスクレーパー15を用いて付着して流れる電解液を少
なくするのが望オしい、スクレーパー〕5は鋼板でめっ
き表面に疵を力見ないものでなければならないのは勿論
である。
もしくは」二昇する電解液を通して流れる電流によって
、隣のコンダクタ−ロール上へ電着が生ずるととを避け
るために、上下ロール間の距離を大きくするか、もしく
はスクレーパー15を用いて付着して流れる電解液を少
なくするのが望オしい、スクレーパー〕5は鋼板でめっ
き表面に疵を力見ないものでなければならないのは勿論
である。
次に本発明の各種の実施態様を図面により説明する。
コンダクタ−ロール4は第8図に示す如く、ロール面の
中央帯にストリップ2め1幅より狭い導電部1Gとその
両側にストリップ2の幅より広い絶縁性弾性部18が設
けられ、電解電流がストリップ2の裏面に回り込む隙間
を生じない構造となっ−Cいる。通電シーVフト20の
電解室内に露出する部分は被覆2−が施されている。
中央帯にストリップ2め1幅より狭い導電部1Gとその
両側にストリップ2の幅より広い絶縁性弾性部18が設
けられ、電解電流がストリップ2の裏面に回り込む隙間
を生じない構造となっ−Cいる。通電シーVフト20の
電解室内に露出する部分は被覆2−が施されている。
電極6は不溶性であり、第7図、第9図に示される如く
、コンダクタ−ロール4と同心の半円筒に形成され、コ
ンダクタ−ロール4のロール面の1/4もしくは1/2
を覆う形状となっている。
、コンダクタ−ロール4と同心の半円筒に形成され、コ
ンダクタ−ロール4のロール面の1/4もしくは1/2
を覆う形状となっている。
電極6は電極6と対面するコンダクタ−ロール4が構成
する電解空間を高速のM、 M液10で充満できる噴流
口24を有している。電解液10はポンプ26、電解液
配管28を経て電極6の背面から入シ噴流口24から極
間に噴射される。なお噴流口24は第9図に示される如
く電極表面と傾斜しストリップ2に対しtM液10噴流
が対向流となることが好ましい。
する電解空間を高速のM、 M液10で充満できる噴流
口24を有している。電解液10はポンプ26、電解液
配管28を経て電極6の背面から入シ噴流口24から極
間に噴射される。なお噴流口24は第9図に示される如
く電極表面と傾斜しストリップ2に対しtM液10噴流
が対向流となることが好ましい。
第9〜13図は電極6と噴流口24の処理の実施態様を
示している。第11図け1/2周を覆う電極6の形状を
示し、ガス発生の少ない電解処理の場合には層流が維持
され、より高い電流密度で処理できる。
示している。第11図け1/2周を覆う電極6の形状を
示し、ガス発生の少ない電解処理の場合には層流が維持
され、より高い電流密度で処理できる。
i12.13図は、1本のコンダクタ−ロール4に2個
の1/4周を覆う電極6の隙間25の形状を示し、第1
2図は第11図と同様ガス発生が少なく2個の電極6を
一体化した方が噴流の効果が得られる場合であり、第1
3図はガス発生が多くて電解液10中のガス気泡含有、
はが多くなり見掛電導度の低下が大きく電解液10を電
極6間の隙間25から排出した方がより高い平均電流密
度で正常な処理ができる場合である。
の1/4周を覆う電極6の隙間25の形状を示し、第1
2図は第11図と同様ガス発生が少なく2個の電極6を
一体化した方が噴流の効果が得られる場合であり、第1
3図はガス発生が多くて電解液10中のガス気泡含有、
はが多くなり見掛電導度の低下が大きく電解液10を電
極6間の隙間25から排出した方がより高い平均電流密
度で正常な処理ができる場合である。
第14図はめつき面を摩擦するブラシ30を電極6に取
付けたもので、第15図は電極6へ取付けるブラシ30
および絶縁性弾性体のブレード32とそれらの取付は交
換を容易にできる電−極の断面構造を示している。いず
れの場合にもストリップ2の全幅にわたり均一に摩擦し
かつその際すでに析出しためつき金属などを研削、除去
するような砥粒を含まないのが望ましい。
付けたもので、第15図は電極6へ取付けるブラシ30
および絶縁性弾性体のブレード32とそれらの取付は交
換を容易にできる電−極の断面構造を示している。いず
れの場合にもストリップ2の全幅にわたり均一に摩擦し
かつその際すでに析出しためつき金属などを研削、除去
するような砥粒を含まないのが望ましい。
第16〜19図はコンダクタ−ロール4および電極4の
エツジに設けられたエツジシール34を示したもので第
17〜19図は第16図の丸で囲んだエツジ部分Xの拡
大図である。第17図はコンタ゛クターロール4のエツ
ジにエツジシール34を有する場合、第18図は電極6
のエツジにエツジシール34を設けた場合、第19図は
コンダクタ−ロール4と電極6の両方のエツジにエツジ
シール34を設けた場合である。なおエツジシール34
の材質は絶縁性弾性体であることが望ましい。
エツジに設けられたエツジシール34を示したもので第
17〜19図は第16図の丸で囲んだエツジ部分Xの拡
大図である。第17図はコンタ゛クターロール4のエツ
ジにエツジシール34を有する場合、第18図は電極6
のエツジにエツジシール34を設けた場合、第19図は
コンダクタ−ロール4と電極6の両方のエツジにエツジ
シール34を設けた場合である。なおエツジシール34
の材質は絶縁性弾性体であることが望ましい。
上記の如き構成を有する本発明の金属ス) IJツブの
電解処理装置は次の如きすぐれた作用効果を有している
。
電解処理装置は次の如きすぐれた作用効果を有している
。
A1ストリップ2がコンダクタ−ロール4で保持されて
いる部分で電解するだめ、噴流の圧力変動やス) IJ
ツブ2の張力変動、そり等のストリップ形状の多少の不
良にかかわりなく極間距離が安定するので極間距離を小
さくして電M電力を節減できる。
いる部分で電解するだめ、噴流の圧力変動やス) IJ
ツブ2の張力変動、そり等のストリップ形状の多少の不
良にかかわりなく極間距離が安定するので極間距離を小
さくして電M電力を節減できる。
B、コンダクタ−ロール4の両側が絶縁性弾性体テする
ためコンダクタ−ロール4へのめつ含金属の析出がなく
、製品の押込みきすがなくなる。
ためコンダクタ−ロール4へのめつ含金属の析出がなく
、製品の押込みきすがなくなる。
C1ストリップ2のコンダクタ−ロール4との接触部か
らストリップ2裏面への電解液の回り込みがないだめ、
裏面の回り込みのない片面めっきができる。
らストリップ2裏面への電解液の回り込みがないだめ、
裏面の回り込みのない片面めっきができる。
D%ストリップ2へのめつき電流の供給はストリップ2
の電解部分の裏面からコンダクタ−ロールによシ行われ
るためストリップ2の電気抵抗による発熱を生じない。
の電解部分の裏面からコンダクタ−ロールによシ行われ
るためストリップ2の電気抵抗による発熱を生じない。
E、両面めっきにおいて交互にめっきされるだめ・片面
順次めっきにおけるような表裏のめっき品質の差を生じ
ない。
順次めっきにおけるような表裏のめっき品質の差を生じ
ない。
丁゛、片面めっきへの切替えは上側に位置したコンダク
タ−ロール4、電極6間の電解を停止するだけで容易に
実施できる。
タ−ロール4、電極6間の電解を停止するだけで容易に
実施できる。
G、縦パスおよび片面めっき時の非1!解部分の湿潤状
態を保つのが容易であるため良好な電析状態が得易い。
態を保つのが容易であるため良好な電析状態が得易い。
II、コンダクタ−ロール4とストリップ2の通電面積
が大きいため高電流密度めっきに必要な高電流をストリ
ップ2に供給するのが有利であシ。
が大きいため高電流密度めっきに必要な高電流をストリ
ップ2に供給するのが有利であシ。
アークスポットの発生が少ない。
■、コンダクタ−ロール接触部分において、従来のラジ
アル型槽で生ずるようなアップパスとダウンパスのスト
リップ2と電解rffllOの相対速度が異なるだめの
不利は避けることができる。
アル型槽で生ずるようなアップパスとダウンパスのスト
リップ2と電解rffllOの相対速度が異なるだめの
不利は避けることができる。
J、従来の横型やラジアル型めっき槽の配列よシも同一
電極長さに対するめっき槽合計長さけ短かくなる。同一
電流密度の場合横型めっき槽のの1/2〜1/3の槽長
で同一目的のめっきが可能であシ、高電流密度化でさら
に短縮できる。
電極長さに対するめっき槽合計長さけ短かくなる。同一
電流密度の場合横型めっき槽のの1/2〜1/3の槽長
で同一目的のめっきが可能であシ、高電流密度化でさら
に短縮できる。
K1コンダクタ−ロール4の通電部16はスl−IJツ
ブ2幅よシ狭くかつ極間距離を小さくできるためストリ
ップ2自体の電気抵抗および電解液10の電気抵抗の効
果にょシエッジのオーバコートを生じにくい。
ブ2幅よシ狭くかつ極間距離を小さくできるためストリ
ップ2自体の電気抵抗および電解液10の電気抵抗の効
果にょシエッジのオーバコートを生じにくい。
L%電解中のストリップ2はコンダクタ−ロール4に接
触し、コンダクタ−ロール4の両側は絶縁性弾性体であ
シ、エツジシール34が電解液10の噴流方向をライン
の長さ方向に揃えるためコンダクタ−ロール4の両側へ
の放流が防止できるので、電解液の循環効率がよく高電
流密度電解ができる。これはコンダクタ−ロール4と電
極6が対向している本発明においてのみ可能である。
触し、コンダクタ−ロール4の両側は絶縁性弾性体であ
シ、エツジシール34が電解液10の噴流方向をライン
の長さ方向に揃えるためコンダクタ−ロール4の両側へ
の放流が防止できるので、電解液の循環効率がよく高電
流密度電解ができる。これはコンダクタ−ロール4と電
極6が対向している本発明においてのみ可能である。
M、1!極4にブラシ3o−!、たはブレード32を設
けることによって、めっき面に接しためっき液の電着金
属濃度の低下した拡散層や、異常析出型めっきにおいて
はめつき面に接して形成されるといわれる水酸化物析出
層を除去もしくは減少できるので、高速めつきを行うだ
めの品質上適正電流密度範囲の上限を拡大することがで
きる。
けることによって、めっき面に接しためっき液の電着金
属濃度の低下した拡散層や、異常析出型めっきにおいて
はめつき面に接して形成されるといわれる水酸化物析出
層を除去もしくは減少できるので、高速めつきを行うだ
めの品質上適正電流密度範囲の上限を拡大することがで
きる。
N、電解液10は′電極6の噴流口24から供給されて
電極間を満しているが IfK解液10は電解槽14の
底部に落下して貯液され、常にその一部がポンプ26に
よって電極6に送シ込捷れる構造であるのでポンプ26
を停止してラインストップするのみで電解槽14内の調
整、修理などの整備が容易である。
電極間を満しているが IfK解液10は電解槽14の
底部に落下して貯液され、常にその一部がポンプ26に
よって電極6に送シ込捷れる構造であるのでポンプ26
を停止してラインストップするのみで電解槽14内の調
整、修理などの整備が容易である。
本発明は上記実施例から明らかな如く、コンダクタ−ロ
ールと対向して電極を設け、電極よシミ解液を供給する
ことにより高電流密度電解が可能となり、更に上記列挙
した多くの利点を有している。
ールと対向して電極を設け、電極よシミ解液を供給する
ことにより高電流密度電解が可能となり、更に上記列挙
した多くの利点を有している。
本発明の電解処理装置は、高速めっき以外に高電流密度
電解脱脂その他の電解処理に広く適用され高速化をはか
ることができる。
電解脱脂その他の電解処理に広く適用され高速化をはか
ることができる。
第1〜3図は従来の電解処理装置の模式断面図でそれぞ
れ横型、縦型およびラジアル型を示しており、第4〜6
図は従来の電解高速化の手段を示す模式断面図、第7図
は本発明の電jvF処理装置の全体を示す断面図、第8
図は本発明のコンダクタ−ロールの実施態様を示す正面
図、第9図、および第11〜13図は本発明の電極およ
び一噴流口の各種の実施態様を示す断面図、第10図は
第9図の正面図、第14図は電極にブラシを取伺けた本
発明の実施態様を示す断面図、第15図は本発明の電極
に取付けるブラシおよびブレードとその取付は交換を容
易にする電極構成の実施態様を示す断面図、第16図は
本発明のコンダクタ−ロールおよび電極のエツジに設け
られたエツジシールを示す正面図、第17〜19図は本
発明のエツジシールの各種の実施態様を示す第16図の
エツジ部分の拡大正面図である。 2°°・金属ストリップ 4・・・コンダクタ−ロー
ル6・・・MAN ’ 8・・・ターンロ
ールコ0・・・電解液 14・・・電解槽16
・・・2#1電部 18・・・絶縁性弾性部2
4・・・噴流口 30・・・ブラシ32・・・
ブレード 34・・・エツジシール代理人 中
路 武 雄 第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 第7図 第9図 第10図 第11図 第12図 第13図 1″141 第15図 第16図 第17図
れ横型、縦型およびラジアル型を示しており、第4〜6
図は従来の電解高速化の手段を示す模式断面図、第7図
は本発明の電jvF処理装置の全体を示す断面図、第8
図は本発明のコンダクタ−ロールの実施態様を示す正面
図、第9図、および第11〜13図は本発明の電極およ
び一噴流口の各種の実施態様を示す断面図、第10図は
第9図の正面図、第14図は電極にブラシを取伺けた本
発明の実施態様を示す断面図、第15図は本発明の電極
に取付けるブラシおよびブレードとその取付は交換を容
易にする電極構成の実施態様を示す断面図、第16図は
本発明のコンダクタ−ロールおよび電極のエツジに設け
られたエツジシールを示す正面図、第17〜19図は本
発明のエツジシールの各種の実施態様を示す第16図の
エツジ部分の拡大正面図である。 2°°・金属ストリップ 4・・・コンダクタ−ロー
ル6・・・MAN ’ 8・・・ターンロ
ールコ0・・・電解液 14・・・電解槽16
・・・2#1電部 18・・・絶縁性弾性部2
4・・・噴流口 30・・・ブラシ32・・・
ブレード 34・・・エツジシール代理人 中
路 武 雄 第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 第7図 第9図 第10図 第11図 第12図 第13図 1″141 第15図 第16図 第17図
Claims (5)
- (1) fi電解槽、前記電解槽内に設けられ金−ス
トリップを案内するターンロールと、前記金属ストリッ
プを電解処理する電極と、を有して成る金属ストリップ
の電解処理において、前記電解槽の上下に配置された前
記ターンロールをコンダクタ−ロールとし、前記コンダ
クタ−ロールに接する前記金属ストリップの外表面に前
記電極を対極させたことを特徴とする金属ストリップの
電解処理装置。 - (2)前記コンダクタ−ロールは、該ロール面の中央帯
に前記金属ストリップの幅より狭く設けられた導電部と
、前記導電部の両側に前記金属ストリップの幅より広く
設けられた絶縁性弾性部と、を有する特許請求の範囲の
第1項に記載の金属ストリップの電解処理装置。 - (3)前記電極は不溶性であり、前記コンダクタ−ロー
ルと同心の半円筒形に形成され、前記コンダクタ−ロー
ルのロール面の1/4もしくは1/2を、覆い前記コン
ダクタ−ロールと該電極が構成する電解空間を高速の電
解液で充満できる噴流口を有する特許請求の範囲の第1
項に記載の金属ストリップの電解処理装置。 - (4)前記電極は電解面の前記噴流口のない部分に前記
金属ストリップ表面の全幅を均一に摩擦できるプラγも
しくはブレードを有する特許請求の範囲の第3項に記載
の金属ストリップの電解処理装置。 - (5)前記コンダクタ−ロールおよび前記電極のいずれ
か一方もしくは双方にそのエツジ部に前記電解液が側面
に流出するのを防止するエツジシールを有する特許請求
の範囲の第1項に記載の金属ス) IJツブの電解処理
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13405482A JPS5925997A (ja) | 1982-07-31 | 1982-07-31 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13405482A JPS5925997A (ja) | 1982-07-31 | 1982-07-31 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5925997A true JPS5925997A (ja) | 1984-02-10 |
Family
ID=15119281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13405482A Pending JPS5925997A (ja) | 1982-07-31 | 1982-07-31 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5925997A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5188719A (en) * | 1990-09-11 | 1993-02-23 | Yoshida Kogyo K. K. | Electrolytic processing system |
-
1982
- 1982-07-31 JP JP13405482A patent/JPS5925997A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5188719A (en) * | 1990-09-11 | 1993-02-23 | Yoshida Kogyo K. K. | Electrolytic processing system |
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